CN106255945B - 触摸面板、触摸面板的制造方法以及光学薄膜 - Google Patents

触摸面板、触摸面板的制造方法以及光学薄膜 Download PDF

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Abstract

本发明的触摸面板具有：触摸面板基板；盖基板，重叠于所述触摸面板而设置；以及连接部，包括从所述盖基板侧向所述触摸面板基板侧层压而成的散射层，并在所述触摸面板基板与所述盖基板之间设置于除了显示区域之外的区域。

Description

触摸面板、触摸面板的制造方法以及光学薄膜
技术领域
本发明涉及适合用于触摸面板、触摸面板的制造方法以及光学薄膜的技术。
本申请基于2014年5月1日于日本申请的特愿2014-094890号主张优先权，在此援用其内容。
背景技术
近年来，作为以便携式电话机及便携式游戏机为首的各种各样的电子设备的显示装置，兼具输入装置功能的带触摸面板的液晶显示装置被广泛使用。
该触摸面板具有触摸面板基板，该触摸面板基板在透明基板上层压有透光性导电层等，并且在最表面侧层压有膜，通过静电电容的变化等来检测手指等的操作位置。
作为触摸面板，根据其结构及检测方式的不同，已知有电阻膜式及静电电容式等各种各样的触摸面板。
例如，已知有一种触摸面板基板，其具备膜状且具有透光性的上基板和下基板。在上基板的上表面，沿前后方向排列并形成有多个氧化铟锡等的具有透光性的大致带状的上导电层。此外，在氧化铟锡等之上通过蒸镀等重叠铜或银等导电金属箔而成的多个上电极沿与上导电层相正交的方向即左右方向形成。在下基板的上表面，沿与上导电层相正交的方向即左右方向排列形成有氧化铟锡等的具有透光性的大致带状的多个下导电层。此外，一端连结到下导电层端部的、与上电极同样的多个下电极沿与下导电层相平行的方向即左右方向形成。
进而，在触摸面板基板上，膜状且具有透光性的盖基板重叠于上基板上表面并通过粘接剂被贴合。
图7是现有的触摸面板的截面图。在图7中，符号P为触摸面板基板，符号C为盖基板。在盖基板C上，在与触摸面板基板P相对置的面，在位于进行操作的触摸区域(显示区域)T的外周或外侧的缘部E处设置有非透光性遮光膜th。
已知该遮光膜th如专利文献1所述在盖基板C上通过印刷等形成为5μm～20μm左右的厚度。
但是，若将缘部E处的非透射性遮光膜th在盖基板C的与触摸面板基板P相对置的面上通过印刷而形成为上述的厚度尺寸左右，则如图7中以Air所示，在盖基板C与触摸面板基板P之间产生间隙，在盖基板C背面及触摸面板基板P表面产生反射，因此存在如下问题：可视性降低，且因该可视性降低而阻碍显示单元的输出。
进而，如专利文献1所述将金属等导体设置于缘部E时，由于盖基板C及面板部P与导体的介电常数不同，因此存在电波特性等特性发生劣化的可能性，故而并不优选。
此外，作为触摸面板，公开了专利文献2。
专利文献1：日本专利公开2012-226688号公报
专利文献2：国际公报WO2015/005437
发明内容
本发明除了三个课题(1.防止可视性降低；2.实现缘部厚度减薄；3.得到维持遮光性能不变而具有与设为玻璃等的基板同等程度的介电常数的缘部)之外，还要一同达成得到白色缘部(连接部)这样的第四个课题。
本发明人根据上述情况而找到了解决前述三个课题的方法(专利文献2)。根据专利文献2，能够提供一种触摸面板，该触摸面板能够实现：防止可视性降低；使缘部(连接部)厚度减薄；以及维持遮光性能不变而具有与由玻璃等形成的基板同等程度的介电常数的缘部。而且，关于触摸面板的缘部(连接部)的颜色，也确认出通过在彩色层的层压结构上下功夫，从而能够实现黑色、红色、黄色、蓝色、绿色等。然而，若是专利文献2公开的彩色层的层压结构，则无法得到在触摸面板市场上需求较高的白色缘部(连接部)。
为了解决上述的四个课题，发明人找到了以下办法。
本发明的第一方式所涉及的触摸面板具有：触摸面板基板；盖基板，重叠于所述触摸面板而设置；以及连接部，包括从所述盖基板侧向所述触摸面板基板侧层压而成的散射层，并在所述触摸面板基板与所述盖基板之间设置于除了显示区域之外的区域，所述散射层可以由交替层压的第一介质层与第二介质层的多层结构体形成，所述第一介质层和所述第二介质层各自的膜厚可以为10nm以下，在所述散射层的多层结构体中，由所述第一介质层和所述第二介质层形成的介质层压体的数量可以为50以上。
在上述第一方式中，所述连接部可以具备所述散射层以及以覆盖所述散射层的方式形成的反射层。
本发明的第二方式所涉及的触摸面板的制造方法是如下触摸面板的制造方法，所述触摸面板具有：触摸面板基板；盖基板，重叠于所述触摸面板基板而设置；以及连接部，在所述触摸面板基板与所述盖基板之间设置于除了显示区域之外的区域，并包括散射层，所述触摸面板的制造方法具备：在真空中形成由第一介质层与第二介质层交替层压而成的多层结构体形成的所述散射层的工序，在形成所述散射层的工序中，以使所述第一介质层和所述第二介质层各自具有10nm以下的膜厚的方式进行层压。
本发明的第三方式所涉及的光学薄膜，包括散射层，所述散射层由交替层压的第一介质层与第二介质层的多层结构体形成。
在上述第三方式中，所述第一介质层和所述第二介质层各自的膜厚可以为10nm以下。
在上述第三方式中，在所述散射层的多层结构体中，由所述第一介质层和所述第二介质层形成的介质层压体的数量可以为50以上。
上述第三方式所涉及的光学薄膜可以进一步具备以覆盖所述散射层的方式设置的反射层。
上述第三方式所涉及的光学薄膜可以形成于透明基板。
在上述第三方式中，所述透明基板可以由玻璃或树脂形成。
根据本发明的上述方式所涉及的触摸面板，能够：防止可视性降低、使缘部厚度减薄、以及形成维持遮光性能不变而具有与由玻璃等形成的基板同等程度的介电常数的缘部，散射层的存在带来缘部(连接部)的白色化。因此，本发明有助于提供能够解决上述四个课题的触摸面板。
尤其是在所述散射层由交替层压的第一介质层与第二介质层的多层结构体形成，且所述第一介质层和所述第二介质层的膜厚均为10nm以下时，在触摸面板中，所要求的可见光区域中的散射效果显著提高。
根据本发明的上述方式所涉及的触摸面板的制造方法，在防止可视性降低、能够使缘部厚度减薄、能够形成维持遮光性能不变而具备与设为玻璃等的基板同等程度的介电常数的缘部的同时，还能够稳定地制作具有白色缘部(连接部)的触摸面板。
根据本发明的上述方式所涉及的光学薄膜，在能够防止可视性降低、使厚度减薄、能够形成维持遮光性能不变而具备与基板同等程度的介电常数的散射层的同时，散射层的存在还带来白色化。
附图说明
图1是示出本发明的第一实施方式所涉及的触摸面板的立体图。
图2A是示出本发明的第一实施方式所涉及的触摸面板的结构例的截面图。
图2B是示出本发明的第一实施方式所涉及的触摸面板的结构例的一部分的放大截面图。
图3是示出本发明的第一实施方式所涉及的触摸面板的制造方法的一例的工序图。
图4A是示出本发明的第一实施方式所涉及的触摸面板的另一结构例的截面图。
图4B是示出本发明的第一实施方式所涉及的触摸面板的另一结构例的一部分的放大截面图。
图5是示出本发明的第一实施方式所涉及的触摸面板的另一结构例的制造方法的工序图。
图6是示出在本发明的第一实施方式所涉及的触摸面板的制造中所使用的制造装置的示意图。
图7是示出现有的触摸面板的一个结构例的截面图。
具体实施方式
以下基于附图对本发明的第一实施方式所涉及的触摸面板进行说明。
图1是示出本发明的第一实施方式中的触摸面板的立体图。图2A是示出图1的触摸面板的结构例的截面图。图2B是示出图1的触摸面板的结构例的一部分(缘部)的放大截面图。在图1及图2A中，符号M为触摸面板。
本实施方式的触摸面板M如图1、图2A所示由触摸面板基板P与盖基板C重叠而形成，该触摸面板基板P具有显示区域T，且能够实现显示及触摸动作，该盖基板C由玻璃等透射性基板形成。在这些基板之间，在除了显示区域T之外的区域(非显示区域)中的显示区域T周围的缘部E，设置有连接部。
触摸面板基板P适合用于手机等移动终端设备，作为其代表性的结构，可以举出以下三种：
(1)将触摸面板传感部与液晶显示装置相组合的结构；
(2)在具备透明接触式开关和液晶显示元件的显示装置中，在所述液晶显示元件的显示面与所述接触式开关的输入区域背面之间填充透明粘接剂以使所述接触式开关与液晶显示元件被粘结的结构；
(3)通过粘接剂层使显示面板与触摸面板的界面粘合而一体化的带触摸面板的图像显示装置的结构。
进一步地，触摸面板基板P也可以采用除了上述(1)～(3)之外的结构以及投影式的静电电容方式、电阻膜式及静电电容式等各种各样的类型中的任何一种。
盖基板C例如为玻璃或树脂层压玻璃等透明基板，重叠于触摸面板基板P以形成触摸面板M的最表面。
显示区域T具有在与可视方向相正交的基板面内方向上具有规定大小和形状的区域。显示区域T例如可以是在触摸面板基板P的面内中央位置处配置的矩形区域。
基板面内的显示区域T的外侧是缘部(边框部)E。在该缘部E，作为使得在视觉辨认触摸面板M时能够识别出白色并且与盖基板C和触摸面板基板P这两者连接(接触)的连接部，从盖基板C侧向触摸面板基板P侧，仅层压有散射层D或者层压有散射层D和反射层R这两者。
作为连接部，可以举出在盖基板C的与触摸面板基板P对置的面仅层压散射层D的结构(图2B)。此外，也可以采用层压散射层D并在该散射层D层压反射层R的结构(图4B)。通过图2B的结构能够得到白色，但如果希望提高其白色的浓度，则优选将反射层R附加于散射层D的图4B所示的结构。另外，连接部的位置不限于缘部E，可以形成在所期望的区域。
散射层D是具有非透光性(遮光性)的膜，并且是为了呈现出白色而由具有不同折射率的多层膜形成的光学薄膜。具体而言，散射层D是由高折射率材料形成的高折射率层D1与由低折射率材料形成的低折射率层D2交替层压多次而成的多层结构体。也就是说，散射层D是层压多个介质层压体11而成的多层结构体，该介质层压体11由第一介质层D1和第二介质层D2形成。
散射层D(Dispersion layer)是在触摸面板M的显示区域T将发挥功能的光学波长区域即可见光区域中散射能力优异的膜，并且是为了呈现出白色而由具有不同介电常数的多层膜形成的光学薄膜。具体而言，是由介电常数较高的介质材料形成的第一介质层D1与由介电常数比该第一介质层D1低的介质材料形成的第二介质层D2交替层压多次而成的多层结构体。
形成第一介质层D1和第二介质层D2的介质材料例如可以选自：SiOx、SiN、SiOxNy、Al2O3、AlN、MgO、MgF2、HfO2、Ta2O5、NbxOy、TiO2、Ti3O5、ZnO、ZrO2。
此外，也可以选择它们之中的两种或三种进行组合。
在此，介电常数的高低是通过比较所选择的材料之间的介电常数而设定的。因此，根据所选择的材料的组合，一种材料存在着成为介电常数较高的介质材料的情况以及成为介电常数较低的介质材料的情况。
为了使用于得到白色的散射能力得以发挥，第一介质层D1的膜厚和第二介质层D2的膜厚优选为10nm以下，更优选为5nm以下。两者无需为相同膜厚，也可以不同。为了得到白色，第一介质层D1与第二介质层D2重复层压的次数(重复次数、层压数)优选为50次以上。也就是说，为了得到白色，优选形成50个以上的介质层压体。另外，通过将第一介质层D1的膜厚和第二介质层D2的膜厚设定为针对每次层压不一致而成为不同，从而能够将层压数缩减(设定得较少)。
但是，本实施方式所涉及的散射层D并不限定于多层膜，只要具备散射功能，即使是单层膜也没关系。作为具备散射功能的单层膜，可以举出在单层膜的内部包含散射因子(例如，粒状结构、凹凸结构、晶体结构、缺陷结构)的膜、单层膜的内部在厚度方向上发生组成异常(例如，杂质的扩散及掺杂)的膜等。
选择氧化硅与氧化钛的组合作为构成散射层D的第一介质层D1和第二介质层D2。通过适当变更第一介质层D1和第二介质层D2的膜厚及层压数，从而制作出散射层D的表面反射率与雾度(haze)的组合不同的试样。表1是针对使表面反射率在0～7.2(％)、雾度(haze)在0～7.2(％)的范围内变化的散射层D来评价白色度后的结果。在表1中，符号○表示浓的白色，符号△表示淡的白色，符号×表示透明。分别在表面反射率的测定中使用了“岛津制作所制的MultiSpec1500”，在雾度(haze)的测定中使用了“村上色彩技术研究所制的HM150”。
[表1]
根据表1，以下事项变得显而易见。
(A1)在表面反射率为3.4以下且雾度(haze)为3.0以下的组合中，散射层D是透明的。即使在表面反射率为3.4以下或雾度(haze)为3.0以下的情况下，散射层D也是透明的。
(A2)在表面反射率为4.2以上且雾度(haze)为4.1以上的组合中，散射层D为淡的白色。
(A3)以表面反射率与雾度(haze)的组合为(7.2，5.3)、(6.5，6.1)、(5.4，7.2)的地点为边界，在表面反射率与雾度(haze)具有这些值以上的数值的区域中，散射层D为浓的白色。
因此，如果根据上述(A1)～(A3)所示的趋势来确定第一介质层D1和第二介质层D2的制作条件(膜厚、层压数等)，则能够得到本实施方式所涉及的白色的散射层D。
对于表1所示的白色，基于CIE1976(L*，a*，b*)色彩空间进行了评价。根据CIE1976(L*，a*，b*)色彩空间的显示，L*越接近100，意味着白色度越高。对于a*和b*，如果分别满足“-3<a*<3”、“-3<b*<3”的条件，则意味着是白色系。
在本发明中，散射层D为“淡的白色(符号△)”表示L＊低的情况，散射层D为“浓的白色(符号○)”表示L＊高的情况。
接着，对具备重叠于漫射层D的反射层R(reflection layer)的情况进行描述。
表2是基于CIE1976(L*，a*，b*)色彩空间并针对仅设置漫射层D的情况(图2B的结构：样品1)以及除了漫射层D之外还具备以覆盖该散射层的方式配设的反射层R的情况(图4B的结构：样品2)这两种情况来评价白色度后的结果。
[表2]
散射层D 反射层R L* a* b*
样品1 有 无 50 2 2
样品2 有 有 70 2 -2
根据表2，本实施方式所涉及的样品1、2均为白色是显而易见的。
可知尤其在具备重叠于散射层D的反射层R的情况下(样品2)，与仅设置漫射层D的情况(样品1)相比，能够进一步提高白色度。
作为反射层R，例如可以举出由铝或金等形成的金属膜以及由氧化物或氟化物等形成的介质多层膜。然而，由于本发明的触摸面板是用于便携终端用途等，因此本发明中的重叠于漫射层D而设置的反射层R还需要满足不阻碍通信功能的条件。如果考虑这个条件，则与金属膜相比，反射层R更优选介质多层膜。
因此，反射层R是在触摸面板M的显示区域T将发挥功能的光学波长区域即可见光区域中反射能力优异的膜，并且是介电常数与玻璃等的基板同等程度而不遮断电波的膜。为了得到具有所期望的介电常数的反射层R，该反射层R是由具有不同介电常数的多层膜形成的光学薄膜。具体而言，反射层R是由折射率高的介质材料形成的第一反射层R1与由折射率比该第一反射层R1低的介质材料形成的第二反射层D2交替层压多次而成的多层结构体。也就是说，反射层R是层压多个反射层压体12而成的多层结构体，该反射层压体12由第一反射层R1和第二反射层R2形成。
形成第一反射层R1和第二反射层R2的介质材料例如可以选自：SiOx、SiN、SiOxNy、Al2O3、AlN、MgO、MgF2、HfO2、Ta2O5、NbxOy、TiO2、Ti3O5、ZnO、ZrO2。
此外，也可以选择它们之中的两种或三种进行组合。
在此，折射率的高低是通过比较所选择的材料之间的折射率而设定的。因此，根据所选择的材料的组合，一种材料存在着成为折射率较高的介质材料的情况以及成为折射率较低的介质材料的情况。
例如，在上述材料之中，可以选择作为折射率较高的介质材料的氧化钛(n＝2.4)与作为折射率较低的介质材料的氧化硅(n＝1.46)的组合。
为了在可见光区域中使反射能力得到发挥，作为第一反射层R1和第二反射层R2各自的膜厚，优选为100nm～200nm左右。第一反射层R1与第二反射层R2无需为相同膜厚，也可以不同。为了得到反射能力，第一反射层R1与第二反射层R2重复层压的次数(重复次数、层压数)优选为3～10次以上。也就是说，为了得到反射能力，优选形成3～10个以上的反射层压体。另外，通过将第一反射层R1和第二反射层R2各自的膜厚设定为针对每次层压不一致而成为不同，从而能够将层压数缩减(设定得较少)。
而且，层压的第一反射层R1与第二反射层R2的合计膜厚(即反射层R的膜厚)被设定为能够反射可见光并且不遮断电波。
这样，通过形成以重叠于散射层D的方式层压有反射层R的连接部，将要透过散射层D的光线也因反射层R的存在而重新返回到散射层D中，因此能够更加提高散射层D的散射能力。进一步地，可以不使用诸如印刷工序(print工序)之类的湿式工序而是通过溅射来形成这样的连接部。
接着，对本实施方式所涉及的触摸面板的制造方法进行说明。
图3是示出本实施方式中的触摸面板的制造方法的一例的流程图，示出了仅设置散射层D的情况(设为图2B的结构的情况)。
在本实施方式中的触摸面板的制造方法中，准备由玻璃形成的盖基板C，在将掩膜设置于显示区域T的盖基板C上，如图3所示，作为散射层成膜工序S10，使散射层D成膜。之后，去除掩膜，并使形成有散射层D的盖基板C与触摸面板基板贴合。
在散射层成膜工序S10中，使用适当选择的材料作为散射层D，层压第一介质层D1和第二介质层D2以成为规定的膜厚。此时，重复多次第一介质层成膜工序S11和第二介质层成膜工序S12，对散射层D进行溅射成膜。
图5是示出本实施方式中的触摸面板的制造方法的一例的流程图，示出了设置重叠于散射层D的反射层R的情况(设为图4B的结构的情况)。
在本实施方式中的触摸面板的制造方法中，准备由玻璃形成的盖基板C，在将掩膜设置于显示区域T的盖基板C上，如图3所示，作为散射层成膜工序S10，使散射层D成膜。之后，作为反射层成膜工序S20，使反射层R成膜。之后，去除掩膜，并使以重叠于散射层D的方式形成有反射层R的盖基板C与触摸面板基板贴合。
在散射层成膜工序S10中，使用适当选择的材料作为散射层D，层压第一介质层D1和第二介质层D2以成为规定的膜厚。此时，重复多次第一介质层成膜工序S11和第二介质层成膜工序S12，对散射层D进行溅射成膜。
在反射层成膜工序S20中，使用适当选择的材料作为反射层R，层压第一反射层R1和第二反射层R2以成为规定的膜厚。此时，重复多次第一反射层成膜工序S21和第二反射层成膜工序S22，对反射层R进行溅射成膜。
此时，可以通过能够对两种材料或三种材料交替进行层压成膜的蒸镀装置或平行平板磁控溅射装置等进行成膜。作为本实施方式中的装置例，将圆盘传送带型溅射装置示于图6。
图6是示出在本实施方式所涉及的触摸面板的一实施方式的制造中所使用的制造装置的示意图。
本实施方式所涉及的制造装置是圆盘传送带型溅射装置，如图6所示，在腔室1内，具有安装有基板保持器10并进行旋转的圆筒2，与该圆筒2的外周相面对地设置有能够对不同材料进行溅射的CA1烟囱3和CA2烟囱4，以及连接有在进行反应性溅射时能够供给氧气等氧化源的气体导入口9的氧化源供给部5。
在CA1烟囱3和CA2烟囱4，如图6所示，设置有：AC阴极6，分别设置于与旋转的圆筒2的基板保持器10相对应的位置的周围，并且连接到AC电源7；以及气体导入口8，将Ar等气氛气体供给到烟囱内部。
另外，将在与显示区域T相对应的表面部分形成有掩膜的盖基板C或者进一步形成有散射层D的盖基板C安装于基板保持器10。
在散射层成膜工序S10中，在CA1烟囱3和CA2烟囱4的阴极6中，分别设置作为氧化硅源的硅以作为第一介质层D1的母材的例子，以及作为氧化钛源的钛以作为第二介质层D2的母材的例子。之后，将形成有掩膜的盖基板C固定于圆筒2的基板保持器10，从气体导入口8供给氩气等气氛气体，同时经由气体导入口9向氧化源供给部5供给氧气等氧化源，并使圆筒2旋转。在该氧化气氛状态下，通过从AC电源7向阴极6供给电力，从而通过反应性溅射而在CA1烟囱3中能够使氧化硅成膜，且在CA2烟囱4中能够使氧化钛成膜。
构成散射层D的第一介质层D1及第二介质层D2各自需要形成为10nm以下的极薄的厚度。为此，在形成第一介质层D1及第二介质层D2时，例如可以采用提高圆筒2的转速并且降低溅射功率的组合条件等。
在散射层成膜工序S10中，如图2B和图4B所示，使用适当选择的材料作为散射层D，层压第一介质层D1和第二介质层D2以成为规定的膜厚。此时，通过重复多次第一介质层成膜工序S11和第二介质层成膜工序S12，从而使第一介质层D1与第二介质层D2被交替层压多次。
此时，通过进行控制以交替切换向CA1烟囱3与CA2烟囱4的阴极6供给的电力，从而能够将第一介质层成膜工序S11和第二介质层成膜工序S12重复所需要的次数。
在反射层成膜工序S20中，如图4B所示，使用适当选择的材料作为反射层R，层压第一反射层R1和第二反射层R2以成为规定的膜厚。此时，重复多次第一反射层成膜工序S21和第二反射层成膜工序S22，将反射层R溅射成膜为多层结构体。
在反射层成膜工序S20中，在CA1烟囱3和CA2烟囱4的阴极6中，分别设置作为氧化硅源的硅以作为第一反射层R1的母材的例子，以及作为氧化钛源的钛以作为第二反射层R2的母材的例子。之后，将形成有掩膜的盖基板C固定于圆筒2的基板保持器10，从气体导入口8供给氩气等气氛气体，同时经由气体导入口9向氧化源供给部5供给氧气等氧化源，并使圆筒2旋转。在该氧化气氛状态下，通过从AC电源7向阴极6供给电力，从而通过反应性溅射而在CA1烟囱3中能够使氧化硅成膜，且在CA2烟囱4中能够使氧化钛成膜。
相对于构成散射层D的第一介质层D1及第二介质层D2为10nm以下的极薄，构成反射层R的第一反射层R1及第二反射层R2各自为100nm以上，成为10倍以上的厚度。例如，在形成100nm的第一反射层R1时，通过停止用于形成第二反射层R2的放电(等离子体)，并使圆筒2旋转多次，从而形成由100nm以上的厚膜形成的第一反射层R1。然后，在形成100nm的第二反射层R2时，通过停止用于形成第一反射层R1的放电(等离子体)，并使圆筒2旋转多次，从而形成由100nm以上的厚膜形成的第二反射层R2。通过重复这样的操作，从而形成如图4B所示的具有多层结构的反射层R。
如上所述，在散射层形成工序S10和反射层形成工序S20中，通过使用相同组合的靶而仅变更成膜条件，从而能够在一个腔室内层压出多层膜。
也就是说，根据本实施方式，能够连续执行散射层形成工序S10和反射层形成工序S20，因此能够执行量产性优异的制造工序。
根据本实施方式，由于具有由如上所述从盖基板C侧向触摸面板基板P侧层压的散射层D和反射层R构成的连接部，因此在缘部E处，在实现白色的显色的同时，还具有可见光的遮光性，并且能够保持与玻璃同等程度的介电常数，能够使电波也通过。而且，由于能够使这些连接部的厚度小于2μm，因此在盖基板C与触摸面板基板P之间不会再产生间隙，从而能够实现防止漫反射而可视性提高的触摸面板M。
<实施例>
以下对本发明的实施例进行说明。
使用图6所示的将硅和钛作为靶6的圆盘传送带型溅射装置，通过向硅侧和钛侧分别、同时供给电力，从而设为在硅侧和钛侧双方均能够进行溅射成膜的状态，并使圆筒2以200rpm旋转。此时，供给氧气作为氧化源以使散射层D成膜。
接着，使用图6所示的将硅和钛作为靶6的圆盘传送带型溅射装置，在将硅和钛作为靶6的圆盘传送带型溅射装置中，使圆筒2以200rpm旋转，在该圆筒2旋转三圈期间向硅侧供给电力，然后停止放电，并向钛侧供给电力。此时，供给氧气作为氧化源以使反射层R成膜。
具体而言，通过上述步骤，得到在由氧化硅形成的第一介质层D1(3nm)与由氧化钛形成的第二介质层D2(5nm)重复层压50次而成的散射层D之上，设置有由氧化硅形成的第一反射层R1(100nm)与由氧化钛形成的第二反射层R2(150nm)重复层压5次而成的反射层R的膜结构。
据此，由于散射层D的存在，从而能够使白色显色。通过在该散射层D之上重叠设置反射层R，从而能够加深白色的程度。此外，根据上述结构，能够将散射层D和反射层R的介电常数设为与玻璃相同的介电常数，并且能够将可见光的透射率遮蔽为1％以下。
进而，根据本发明，能够比利用印刷工序形成的连接部的厚度(大约5μm左右)更薄地形成。
作为本发明的实际应用例，可以应用于嵌入到手机、智能手机、平板电脑、带触摸功能的笔记本PC、带触摸功能的自动售货机等中的触摸面板。此外，可以作为在房屋或大厦的窗玻璃，汽车或电车、飞机、船舶的窗玻璃，招牌或照明等的前玻璃等中设置的光学薄膜来应用。
符号说明
M触摸面板，C盖基板，D散射层(连接部)，D1第一介质层，D2第二介质层，E缘部，P触摸面板基板，R反射层(连接部)，R1第一反射层，R2第二反射层，T显示区域，11介质层压体。

Claims (7)

1.一种触摸面板，具有：
触摸面板基板；
盖基板，重叠于所述触摸面板基板而设置；以及
连接部，包括从所述盖基板侧向所述触摸面板基板侧层压而成的散射层，并在所述触摸面板基板与所述盖基板之间设置于除了显示区域之外的区域，
所述散射层由交替层压的第一介质层与第二介质层的多层结构体形成，
所述第一介质层和所述第二介质层各自的膜厚为10nm以下，
在所述散射层的多层结构体中，由所述第一介质层和所述第二介质层形成的介质层压体的数量为50以上。
2.根据权利要求1所述的触摸面板，
所述连接部具备所述散射层以及以覆盖所述散射层的方式形成的反射层。
3.一种触摸面板的制造方法，所述触摸面板具有：触摸面板基板；盖基板，重叠于所述触摸面板基板而设置；以及连接部，在所述触摸面板基板与所述盖基板之间设置于除了显示区域之外的区域，并包括散射层，
所述触摸面板的制造方法具备在真空中形成由第一介质层与第二介质层交替层压而成的多层结构体形成的所述散射层的工序，在形成所述散射层的工序中，以使所述第一介质层和所述第二介质层各自具有10nm以下的膜厚的方式进行层压，
在形成所述散射层的工序中，由所述第一介质层和所述第二介质层形成的介质层压体的数量为50以上。
4.一种光学薄膜，
包括散射层，所述散射层由交替层压的第一介质层与第二介质层的多层结构体形成，
所述第一介质层和所述第二介质层各自的膜厚为10nm以下，
在所述散射层的多层结构体中，由所述第一介质层和所述第二介质层形成的介质层压体的数量为50以上。
5.根据权利要求4所述的光学薄膜，
进一步具备以覆盖所述散射层的方式设置的反射层。
6.根据权利要求4所述的光学薄膜，
所述光学薄膜形成于透明基板。
7.根据权利要求6所述的光学薄膜，
所述透明基板由玻璃或树脂形成。
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