CN1484231A - 光学记录介质和将数据光学记录在其中的方法 - Google Patents

光学记录介质和将数据光学记录在其中的方法 Download PDF

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Abstract

一种光学记录介质，包括：基底、在基底上形成的含有选自C、Si、Ge和Sn的元素作为主要成分的第一记录层、位于第一记录层附近的并含有选自C、Si、Ge和Sn的但是与第一记录层中含有的主要成分不同的元素作为主要成分的第二记录层。根据这样形成的光学记录介质，通过在其上投射波长为350nm－450nm的激光束，可以在其中光学记录数据和从其中重现数据，该光学记录介质包括两个或者多个记录层，它能够减少重现信号的噪声电平，并提高C/N比。

Description

光学记录介质和将数据光学记录在其中的方法
技术领域
本发明涉及一种光学记录介质和将数据光学记录在该光学记录介质中的方法，尤其涉及通过在其上投射波长为350nm-450nm的激光束而在其中记录数据和从其中重现(reproduce)数据的光学记录介质，它包括两层或多层记录层，并能够降低所重现的信号的噪声电平和提高其C/N比，还涉及在其中光学记录数据的方法。
背景技术
光学记录介质例如CD、DVD等已经广泛用作记录数字数据的记录介质。这些光学记录介质可以粗略的分为不能写入和重新写入数据的光学记录介质例如CD-ROM和DVD-ROM(ROM类型的光学记录介质)、可以写入但是不能重新写入数据的光学记录介质例如CD-R和DVD-R(一次写入型光学记录介质)、以及可以重新写入数据的光学记录介质例如CD-RW和DVD-RW(可重写数据型光学记录介质)。
在该领域已经知道，通常利用在光学记录介质制造过程中在基底上预先形成的凹坑来在ROM光学记录介质中记录数据，而在可重写数据型光学记录介质中，通常利用相变材料作为记录层的材料，利用相变材料中相变导致的光学特性的变化来记录数据。
在另一方面，在一次写入型光学记录介质中，通常采用有机染料例如花青染料、酞菁染料或者偶氮染料来作为记录层的材料，利用有机染料中化学变化导致的光学特性变化来记录数据，其中这种化学变化通常伴随着物理变形。
但是，由于有机染料在暴露在太阳光等之下时会降解，所以在使用有机染料作为记录层材料的情况下难以改善长期保存的稳定性。因此希望提高一次写入型光学记录介质的长期保存稳定性以形成有机染料之外的材料的记录层。
如日本专利申请公开No.62-204442中披露了一种将无机材料形成的两个记录层层压而制成的光学记录材料，这是一种公知的其记录层是由有机染料之外的材料形成的光学记录介质示例。
另一方面，已经提出了一种新型光学记录介质，它能够改善记录密度并具有极高的数据传送速率。
在这种新型光学记录介质中，要实现记录容量提高和极高的数据传送速率将不可必避免的要求用于记录和重现数据的激光束光斑直径减小到非常小的尺寸。
为了减小激光束光斑直径，必须将会聚激光束的物镜的数值孔径提高到0.7或更高，例如提高至大约0.85，并将激光束的波长缩短到450nm或更少，例如缩短至400nm。
因此，在形成无机材料的多个记录层的过程中，必须选择能够充分吸收波长等于或者小于450nm的蓝色激光束的无机材料。
发明内容
因此本发明的一个目的是提供一种通过在其上投射波长为350nm-450nm的激光束而在其中记录数据和从其中重现数据的光学记录介质，它包括两个或多个记录层，并能够降低所重现的信号的噪声电平和提高其C/N比，还提供在其中光学记录数据的方法。
本发明的发明人为实现上述目的进行了大量的研究，结果发现，C、Si、Ge和Sn中的每一种是相对于波长为350nm-450nm的激光束具有高光吸收的无机材料，当激光束用于在由含有选自C、Si、Ge和Sn的一种元素作为主要成分的第一记录层和含有选自C、Si、Ge和Sn的一种与第一记录层中的主要成分不同的元素作为主要成分并在第一记录层附近形成的第二记录层构成的光学记录介质中记录数据时，形成包括第一记录层中的主要成分元素和第二记录层中的主要成分元素的混合区，以显著改变该区的反射系数，并以高灵敏度来记录数据。发明人还发现，通过利用包括第一记录层中的主要成分元素和第二记录层中的主要成分元素的混合区和其他区之间反射系数的大的差异可以降低重现信号的噪声电平以改善C/N比。
本发明的上述和其他目的可以通过以下光学记录介质来实现，该光学记录介质包括：基底、在基底上形成的含有选自C、Si、Ge和Sn的一种元素作为主要成分的第一记录层、以及位于第一记录层附近的含有选自C、Si、Ge和Sn的一种与第一记录层中的主要成分不同的元素作为主要成分的第二记录层。
在本发明中，第一记录层中含有特定的元素作为主要成分意味着该元素的含量在第一记录层中所含的元素中是最大的，而第二记录层含有特定的元素作为主要成分意味着该元素的含量在第二记录层中所含元素中是最大的。
在本发明中，不是绝对要求第二记录层要与第一记录层相接触，只要第二记录层位于第一记录层附近以在激光辐射的时候能够形成包括有第一记录层的主要成分和第二记录层的主要成分的混合区就足够了。另外，在第一记录层和第二记录层之间可以插入一层或多层其它层例如介电层。但是当一层或多层其它层例如介电层插入到第一记录层和第二记录层之间时，该插入层的厚度必须等于30nm或比其薄，优选等于20nm或比其薄。
在本发明中，优选的是形成第二记录层使其与第一记录层相接触。
在本发明中，光学记录介质可以包括一层或多层含有选自C、Si、Ge和Sn的一种元素作为主要成分的记录层。
尽管在照射激光束时为什么能够形成包括第一记录层的主要成分和第二记录层的主要成分的混合区的原因还不完全清楚，但是合理的推测是第一和第二记录层的主要成分会部分或者全部熔化或扩散，由此形成一个第一和第二记录层的主要成分混合的区。
混合第一和第二记录层的主要成分而形成的区相对于重现数据的激光束的反射系数、以及其他区相对于重现数据的激光束的反射系数极为不同，因此通过利用反射系数中这种大的差异可以高灵敏度的重现所记录的数据。
另外，发明人发现，C、Si、Ge和Sn对于环境仅有很轻的影响，并且由于C和Si不是昂贵的材料，因此可以降低该光学记录介质的成本。
在本发明的一个优选方面，光学记录介质还包括设置在基底的与第一记录层和第二记录层相对一侧上的透光层。
在本发明另一个优选方面，光学记录介质还包括设置在透光层、以及第一记录层和第二记录层之间的第一介电层，和在第一记录层及第二记录层、以及基底之间的第二介电层。
根据本发明的这个优选方面，可以可靠地防止基底或者透光层因为在其中辐射激光束来记录数据时产生的热量而导致的变形。另外，根据本发明的这个优选方面，由于可以防止在第二记录层中含有的作为主要成分的元素被腐蚀，因此可以更有效地防止所记录的数据经过长时间以后会变差。
在本发明的再一个优选方面，光学记录介质还包括设置在基底和第二介电层之间的反射层。
根据本发明的这个优选方面，可以通过多重干涉效应而提高记录区和非记录区之间反射系数的差异，由此获得更高的重现信号(C/N比)。
在本发明中，优选形成第一记录层和第二记录层而使得其总厚度为2nm-30nm，更优选的是3-24nm，最优选的是5-12nm。
在本发明中，优选将选自Cu、Au、Ag、Pd、Pt、Fe、Ti、Mo、W和Mg的至少一种元素加入到第一记录层和/或第二记录层中。通过向第一记录层和/或第二记录层中加入选自Cu、Au、Ag、Pd、Pt、Fe、Ti、Mo、W和Mg的至少一种元素，可以改善第一记录层和/第二记录层的表面平滑度，并减少所重现的信号的噪声电平。
在本发明中，光学记录介质优选被构成为一次写入型光学记录介质。
本发明的上述和其他目的也可以通过以下所述的在光学记录介质中光学记录数据的方法来实现，该方法包括：将波长为350nm-450nm的激光束投射在光学记录介质上，所述光学记录介质包括：基底、在基底上形成的含有选自C、Si、Ge和Sn的一种元素作为主要成分的第一记录层、以及位于第一记录层附近的含有选自C、Si、Ge和Sn的一种与第一记录层中的主要成分不同的元素作为主要成分的第二记录层；从而将第一记录层中含有的作为主要成分的元素和第二记录层中含有的作为主要成分的元素混合起来而形成记录标记。
在本发明的一个优选方面，用于在光学记录介质中光学记录数据的方法包括利用其数值孔径NA和光波长λ满足λ/NA≤640nm的物镜和激光束，并通过该物镜将激光束投射在光学记录介质上，由此在第一记录层和第二记录层中记录数据。
根据本发明的这个优选方面，由于可以减少投射在光学记录介质上的激光束的束斑，因此可以极大的提高数据的记录密度。
本发明的上述和其他目的可以从以下结合附图的详细描述中清楚的了解。
附图说明
图1是表示本发明优选实施方案的光学记录介质结构的示意截面图；
图2(a)是表示图1所示光学记录介质的示意放大截面图；
图2(b)是表示其中已经记录有数据的光学记录介质的示意放大截面图。
具体实施方式
图1是表示本发明优选实施方案的光学记录介质结构的示意截面图。
如图1所示，该实施方案的光学记录介质10被构成为一次写入型光学记录介质，包括：基底11、在基底11表面上形成的反射层12、在反射层12表面上形成的第二介电层13、在第二介电层13表面上形成的第二记录层32、在第二记录层32表面上形成的第一记录层31、在第一记录层31表面上形成的第一介电层15、以及在第一介电层15表面上形成的透光层16。
如图1所示，在光学记录介质10的中心部分形成有中心孔。
在该实施方案中，如图1所示，激光束L10投射在透光层16的表面上，由此在光学记录介质10上记录数据或者从该光学记录介质10重现数据。
基底11用作支撑体，用于确保光学记录介质10所需要的机械强度。
用于形成基底11的材料没有特别的限制，只要该基底11能够作为光学记录介质10的支撑体即可。基底11可以由玻璃、陶瓷、树脂等形成。在这些材料中，树脂是优选用于形成该基底11的，因为树脂易于成形。适合于形成基底40的树脂的示例包括聚碳酸酯树脂、丙烯酸类树脂、环氧树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、有机硅树脂、氟聚合物、丙烯腈丁二烯苯乙烯树脂、氨基甲酸乙酯树脂等。在这些树脂中，从容易加工性、光学特性等方面而言，聚碳酸酯树脂是最优选用于形成基底11的。
在该实施方案中，基底11的厚度大约是1.1mm。
基底11的形状没有特别的限制，但是通常是盘形的、卡形的或片形的。
如图1所示，在基底11的表面上交替形成沟纹11a和纹间表面11b。当记录数据或当重现数据的时候，沟纹11a和/或纹间表面11b用作激光束L10的引导轨迹。
反射层12用于反射通过透光层16进入的激光束L10，从而使其从透光层16射出。
反射层12的厚度没有特别的限制，但是优选在10nm-300nm之间，更优选在20nm-200nm之间。
用于形成反射层12的材料没有特别的限制，只要它能够反射激光束即可，反射层12可以由Mg、Al、Ti、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、Ag、Pt、Au等形成。在这些材料中，优选由具有高反射特性的金属材料来形成反射层12，这些材料例如是Al、Au、Ag、Cu或者含有至少一种这些金属的合金，例如可以是Al和Ti的合金。
设置反射层12从而在用激光束L10从第一记录层31和第二记录层32光学重现数据的时候通过多重干涉效应而提高记录区和非记录区之间的反射系数差异，由此获得高的重现信号(C/N比)。
第一介电层15和第二介电层13用于保护第一记录层31和第二记录层32。通过第一介电层15和第二介电层13可以防止长时间之后光学记录数据的变劣。另外，由于第二介电层13也用于防止基底11等因为热而变形，因此可以有效地防止因为基底11等的变形而导致的信号抖动(jitter)等变得更差。
用于形成第一介电层15和第二介电层13的介电材料没有特别的限制，只要它是透明的即可，第一介电层15和第二介电层13可以由含有氧化物、硫化物、氮化物或其结合例如作为主要成分的介电材料形成。更具体的说，为了防止基底11等因为热而变形，并由此保护第一记录层31和第二记录层32，第一介电层15和第二介电层13优选含有选自Al2O3、AlN、ZnO、ZnS、GeN、GeCrN、CeO、SiO、SiO2、SiN和SiC中的至少一种作为主要成分的介电材料，更优选的是第一介电层15和第二介电层13含有ZnS·SiO2作为主要成分。
第一介电层15和第二介电层13可以由相同的介电材料和不同的介电材料形成。另外，第一介电层15和第二介电层13中的至少一个可以含有包括多个介电膜的多层结构。
在本说明书中，介电层含有特定的介电材料作为主要成分的含义是该介电材料在该介电层中所含介电材料中含量是最大的，ZnS·SiO2意味着是ZnS和SiO2的混合物。
第一介电层15和第二介电层13的厚度没有特别的限制，优选是3nm-200nm。如果第一介电层15或者第二介电层13比3nm薄，则难以获得上述优点。另一方面，如果第一介电层15或者第二介电层13比200nm厚，则要花费很长时间来形成第一介电层15和第二介电层13，由此降低了光学记录介质10的生产率，并且由于在第一介电层15和/或第二介电层13中存在应力(stress)而会导致在光学记录介质10中产生裂纹(crack)。
第一记录层31和第二记录层32可以用于在其中对记录标记和数据进行记录。在该实施方案中，第一记录层31设置在透光层16的一侧上，第二记录层32设置在基底11的一侧上。
在该实施方案中，第一记录层31含有选自C、Si、Ge和Sn的元素作为主要成分，第二记录层32含有选自C、Si、Ge和Sn的但是与第一记录层中所含有的作为主要成分的元素不同的元素作为主要成分。
由于C、Si、Ge和Sn中的每一种相对于波长λ为550nm-850nm的红色激光束的光吸收等于或者低于约20％，关于波长λ为350nm-450nm的蓝色激光束的光吸收等于或者高于约40％，因此C、Si、Ge和Sn中的每一种适用于形成在其中利用波长λ为350nm-450nm的蓝色激光束记录数据的新型光学记录介质。
另外，C、Si、Ge和Sn中的每一种对于环境仅有很轻的负担，并且C和Si不是昂贵的材料，因此可以降低光学记录介质10的成本。
优选将选自Cu、Au、Ag、Pd、Pt、Fe、Ti、Mo、W和Mg的至少一种元素加入到第一记录层和第二记录层中的一个或者两者都加入。通过向第一记录层和/或第二记录层中加入选自Cu、Au、Ag、Pd、Pt、Fe、Ti、Mo、W和Mg的至少一种元素，可以改善第一记录层或第二记录层的表面平滑度，并减少所重现的信号的噪声电平。另外这些元素对环境仅有很轻的负担，因此没有损害地球大气的危险。
随着第一记录层31和第二记录层32变厚，辐射有激光束L10的第一记录层31的表面平滑度变得更差。结果，所重现的信号的噪声电平变得更高，记录灵敏度降低。另一方面，当第一记录层31和第二记录层32的整体厚度过小时，在激光束L10辐射之前和之后的反射系数变化小，从而不能获得具有高强度(C/N比)的重现信号。另外，难以控制第一记录层31和第二记录层32的厚度。
因此，在该实施方案种，形成第一记录层31和第二记录层32而使其总体厚度为2nm-30nm。为了获得具有高强度(C/N比)的重现信号，并且降低重现信号的噪声电平，第一记录层31和第二记录层32的总体厚度优选在3nm-24nm，更优选在5nm-12nm。
第一记录层31和第二记录层32的各自厚度没有特别的限制，但是为了显著提高记录灵敏度和极大提高激光束L10辐射前后的反射系数变化，第一记录层31的厚度优选是1nm-30nm，第二记录层32的厚度优选是1nm-30nm。另外，优选将第一记录层31的厚度与第二记录层32的厚度之比(第一记录层31的厚度/第二记录层32的厚度)设定在0.2-5.0。
透光层16用于透射激光束L10，优选的厚度是10μm-300μm。更优选的是，透光层16的厚度是50μm-150μm。
用于形成透光层16的材料没有特别的限制，但是当透光层是采用旋涂方法等方式形成的情况下，优选采用紫外线固化树脂、电子束固化树脂等。更优选的是，透光层16由紫外线固化树脂形成。
通过将透光树脂制成的片利用粘合剂粘在第一介电层的表面上，可以形成透光层16。
具有上述结构的光学记录介质10例如可以采用下面的方法来制造。
首先在形成有沟纹11a和纹间表面11b的基底11上形成反射层12。
可以利用含有形成反射层12的化学材料采用气相生长法来形成反射层12。这种气相生长法的示例包括真空沉积法、溅射法等。
然后在反射层12的表面上形成第二介电层13。
也可以利用含有形成第二介电层13的化学材料采用气相生长法来形成第二介电层13。这种气相生长法的示例包括真空沉积法、溅射法等。
在第二介电层13上还形成第二记录层32。也可以利用含有形成第二记录层32的化学材料采用气相生长法来形成第二记录层31。
然后在第二记录层32上形成第一记录层31。也可以利用含有形成第一记录层31的化学材料采用气相生长法来形成第一记录层32。
在该实施方案种，由于第一记录层31和第二记录层32被形成为总体厚度是2nm-30nm，因此可以改善第一记录层31的表面平滑性。
然后在第一记录层31上形成第一介电层15。也可以利用含有形成第一介电层15的化学材料采用气相生长法来形成第一介电层15。
最后，在第一介电层15上形成透光层16。例如可以通过在第二介电层15的表面上施加已经被调整为适当粘度的丙烯酸类紫外线固化树脂或者环氧紫外线固化树脂、采用旋涂以形成涂层、然后利用紫外线辐射该涂层，从而固化该涂层。
由此制造光学记录介质10。
例如按照以下方式在上述结构的光学记录介质10中记录数据。
如图1和2(a)所示，利用具有预定功率的激光束L10通过透光层16首先辐射第一记录层31和第二记录层32。
为了以高记录密度来记录数据，优选通过数值孔径NA为0.7或者更高的物镜(未显示)在光学记录介质10上投射波长λ在350nm-450nm之间的激光束L10，其中更优选的是λ/NA等于或者小于640nm。
在该实施方案中，波长λ为405nm的激光束L10通过数值孔径NA为0.85的物镜投射在光学记录介质10上。
如图2(b)所示，这样导致在激光束L10辐射的区域形成由第一记录层31的主要成分元素和第二记录层32的主要成分元素的混合物构成的记录标记M。
当第一记录层31和第二记录层32的主要成分元素混合时，该区域的反射系数发生明显变化。由于这样形成的记录标记M的区域的反射系数与该记录标记M周围区域的反射系数有极大的不同，因此当重现光学记录信息时可以获得高的重现信号(C/N比)。
当投射激光束L10时，激光束L10加热第一记录层31和第二记录层32。但是在该实施方案中，第一介电层15和第二介电层12设置在第一记录层31和第二记录层32的外面，因此可以有效的防止基底和透光层16因为受热而变形。
根据该实施方案，第一记录层31含有选自C、Si、Ge和Sn的元素作为主要成分，第二记录层32含有选自C、Si、Ge和Sn的但是与第一记录层中所含有的作为主要成分的元素不同的元素作为主要成分，并且当第一记录层31和第二记录层32用预定功率的激光束L10通过透光层16来辐射时，在第一记录层31中含有的作为主要成分的元素和在第二记录层32中含有的作为主要成分的元素在激光束L10辐射的区域发生混合，如图2(b)所示，由此形成由第一记录层31的主要成分元素和第二记录层32的主要成分元素的混合物构成的记录标记M，并且因为这样形成的记录标记M的区域的反射系数与该记录标记M周围区域的反射系数有极大的不同，因此当重现光学记录信息时可以获得高的重现信号(C/N比)。
另外，由于C、Si、Ge和Sn中的每一种相对于波长λ为350nm-450nm的蓝色激光束的光吸收等于或者高于约40％，因此该实施方案光学记录介质10的第一记录层31和第二记录层32能有效吸收用于在新型光学记录介质中记录数据的波长λ为350nm-450nm的蓝色激光束，由此可以快速形成记录标记以在其中记录数据。
另外，根据该实施方案，由于在第一记录层31中含有的作为主要成分的元素和在第二记录层32中含有的作为主要成分的元素对环境仅由很轻的负担，因此没有破坏地球大气的危险。
工作实例
为了进一步了解本发明的这些优点，下面将对工作实例进行说明。
工作实例1
按照如下方式制造光学记录介质。
首先将厚度为1.1mm、直径为120mm的聚碳酸酯基底放置在溅射设备上。然后，采用溅射方法在该聚碳酸酯基底上顺次形成：含有Ag、Pd和Cu的混合物的厚度为100nm的反射层、含有ZnS和SiO2的混合物的厚度为28nm的第二介电层、含Zn作为主要成分的厚度为4nm的第二记录层、含Si作为主要成分的厚度为8nm的第一记录层、以及含有ZnS和SiO2的混合物的厚度为22nm的第一介电层。
在第一介电层和第二介电层中所含有的ZnS和SiO2的混合物中，ZnS和SiO2的摩尔比是80∶20。
另外，采用旋涂方法利用将丙烯酸类紫外线固化树脂溶解在溶剂中制成的树脂溶液形成涂层来在第一介电层上形成涂层，然后利用紫外光对该涂层进行辐射，由此固化该丙烯酸类紫外线固化树脂，以形成厚度为100μm的透光层。
工作实例2
按照工作实例1的方式制造光学记录介质，但是其中形成含有Si作为主要成分的第一记录层和含有Ge作为主要成分的第二记录层。
工作实例3
按照工作实例1的方式制造光学记录介质，但是其中形成含有C作为主要成分的第二记录层。
工作实例4
按照工作实例1的方式制造光学记录介质，但是其中形成含有C作为主要成分的第一记录层和含有Ge作为主要成分的第二记录层。
工作实例5
按照工作实例1的方式制造光学记录介质，但是其中形成含有Si作为主要成分的第一记录层和含有C作为主要成分的第二记录层。
工作实例6
按照工作实例1的方式制造光学记录介质，但是其中形成含有C作为主要成分的第一记录层。
工作实例7
按照工作实例1的方式制造光学记录介质，但是其中形成含有Sn作为主要成分的第一记录层。
工作实例8
按照与工作实例1类似的方式制造光学记录介质，但是其中形成含有Sn作为主要成分的第一记录层和含有Ge作为主要成分的第二记录层。
工作实例9
按照与工作实例1类似的方式制造光学记录介质，但是其中形成含有Si作为主要成分的第一记录层和含有Sn作为主要成分的第二记录层。
工作实例10
按照与工作实例1类似的方式制造光学记录介质，但是其中形成含有Sn作为主要成分的第一记录层和含有Si作为主要成分的第二记录层。
按照以下方式在工作实例1-10所制造的光学记录介质中记录数据。
具体的说，将根据工作实例1-10所制造的光学记录介质顺次放置在Pulstec Industrial Co.，Ltd制造的DDU1000光学记录介质评估设备中，在以下条件下光学记录数据。
采用波长为405nm的蓝色激光束作为激光束来记录数据，利用数值孔径为0.85的物镜将该激光束通过透光层会聚在每个光学记录介质上，在其中记录数据。
通过对工作实例1-10中的每个光学记录介质改变激光束的功率来记录数据。激光束的功率定义为在透光层表面上的激光束的功率。
记录信号条件如下：
调制码：(1.7)RLL
信道比特长度：0.12μm
记录线性速率：5.3m/sec
信道时钟：66MHz
记录信号：2T信号和8T信号
然后利用上述光学记录介质评估设备对在每个光学记录介质中记录的数据进行重现，并测量所重现的信号的C/N比。当重现数据时，激光束的波长设定在405nm，物镜的数值孔径设置在0.85。
如此测量每个光学记录介质的最大C/N比和获得该重现信号的最大C/N比时的激光束功率。
测量结果如表1所示。
用于进行试验的光学记录介质评估设备的激光束最大功率为10.0mW。因此当即使将激光束的功率提高至10.0mW时C/N比也不饱和的情况下，则认为重现信号会具有最大C/N比的激光束功率将超过10.0mW。这一点通过将激光束的功率值表示为带*的10.mW来表示。
表1
  第一记录层   第二记录层   2TC/N(dB)     8TC/N(dB)   激光束功率(mW)
  工作实例1   Ge   Si   24.0     46.6     10.0*
  工作实例2   Si   GE   31.8     41.3     8.0
  工作实例3   Ge   C   25.2     46.1     7.0
  工作实例4   C   Ge   24.2     45.4     9.0
  工作实例5   Si   C   31.5     42.1     7.0
  工作实例6   C   Si   31.6     43.9     10.0*
  工作实例7   GE   Sn   29.0     41.4     8.5
  工作实例8   Sn   Ge   21.0     50.6     10.0*
  工作实例9   Si   Sn   34.4     49.6     6.0
  工作实例10   Sn   Si   32.6     42.1     5.0
从表1中很清楚，在工作实例1-10所制造的每一种光学记录介质中可以测量重现信号的C/N比，并且可以利用波长为405nm的激光束在其中记录数据。
另外，能使在工作实例2-5、7、9和10所制造的每种光学记录介质中重现信号具有最大C/N比的激光束的功率小于10mW，显示出根据工作实例2-5、7、9和10所制造的每种光学记录介质具有优异的记录灵敏性。
以上已经参考了具体的实施方案和工作实例显示和描述了本发明。但是应当指出，本发明不限于上述方案的细节，可以在不脱离所附权利要求的范围的情况下进行改变和改进。
例如，尽管在上述实施方案和工作实例中第一记录层31和第二记录层32是相接触的，但是使第一记录层31和第二记录层32相接触不是绝对必要的，只要第二记录层32在第一记录层31附近从而在照射激光束的时候能够形成包括第一记录层31的主要成分和第二记录层32的主要成分的混合区就足够了。另外，可以在第一记录层31和第二记录层32之间插入一个或多个层(例如介电层)。
另外，尽管上述实施方案和工作实例的光学记录介质10包括第一记录层31和第二记录层32，但是该光学记录介质可以包括含有选自C、Si、Ge和Sn的元素作为主要成分的一个或者多个记录层。
另外，尽管在上述实施方案和工作实例中第一记录层31设置在透光层16的一侧上，第二记录层32设置在基底11的一侧上，但是可以将第一记录层31设置在基底11一侧上，而将第二记录层32设置在透光层16一侧上。
另外，上述实施方案和工作实例中的光学记录介质10包括第一介电层15和第二介电层13，并且第一记录层31和第二记录层32设置在第一介电层15和第二介电层13之间。但是光学记录介质10包括第一介电层15和第二介电层13不是绝对必要的，也就是该光学记录介质10可以不包括介电层。另外，该光学记录介质10可以包括一个介电层，在这种情况下，相对于第一记录层31和第二记录层32而言，介电层可以设置在基底11的一侧上或者透光层16的一侧上。
另外，尽管在上述实施方案和工作实例中第一记录层31和第二记录层32具有相同的厚度，但是第一记录层31和第二记录层32具有相同厚度并不是绝对必要的。
另外，在上述实施方案和工作实例1-10中，尽管该光学记录介质10设有反射层12，但是如果在第一记录层中含有的作为主要成分的元素和第二记录层中含有的作为主要成分的元素混合而形成记录标记M的区域内反射光量、以及没有投射激光束的区域内的光反射量彼此有很大的不同，那么可以省略掉反射层12。
另外，在上述实施方案中，尽管是关于含有非常薄的透光层并采用激光束L10从透光层一侧辐射的新型光学记录介质进行的描述，但是本发明不限于这种光学记录介质，本发明可以用于任何DVD类型的光学记录介质，只要该光学记录介质是采用波长为350nm-450nm的激光束进行数据记录就可以了。
根据本发明，可以提供一种光学记录介质，能够通过在其上投射波长为350nm-450nm的激光束而在其中记录数据和从其中重现数据，该光学记录介质包括两个或者多个记录层，能够减少重现信号的噪声电平，并提高C/N比，本发明还提供一种在其中光学记录数据的方法。

Claims (9)

1.一种光学记录介质，包括：基底、在基底上形成的含有选自C、Si、Ge和Sn的元素作为主要成分的第一记录层、位于第一记录层附近并含有选自C、Si、Ge和Sn的但是与第一记录层中含有的主要成分不同的元素作为主要成分的第二记录层。
2.如权利要求1所述的光学记录介质，其中将第二记录层形成为与第一记录层相接触。
3.如权利要求1或2所述的光学记录介质，其中还包括相对于第一记录层和第二记录层在基底的相对一侧上设置的透光层。
4.如权利要求3所述的光学记录介质，其中还包括在透光层和第一记录层及第二记录层之间设置的第一介电层，以及在第一记录层及第二记录层和基底之间设置的第二介电层。
5.如权利要求4所述的光学记录介质，其中还包括设置在基底和第二介电层之间的反射层。
6.如权利要求1-5任一项所述的光学记录介质，其中该光学记录介质被构成为一次写入型光学记录介质。
7.一种在光学记录介质中光学记录数据的方法，包括如下步骤：在光学记录介质上投射波长为350nm-450nm的激光束，其中该光学记录介质包括：基底、在基底上形成的含有选自C、Si、Ge和Sn的元素作为主要成分的第一记录层、位于第一记录层附近并含有选自C、Si、Ge和Sn的但是与第一记录层中含有的主要成分不同的元素作为主要成分的第二记录层；由此将第一记录层中含有的作为主要成分的元素和第二记录层中含有的作为主要成分的元素相混合而形成记录标记。
8.如权利要求7所述的在光学记录介质中光学记录数据的方法，包括如下步骤：采用其数值孔径NA和波长λ满足λ/NA≤640nm的物镜和激光束，将该激光束通过该物镜投射在光学记录介质上，由此在第一记录层和第二记录层中记录数据。
9.如权利要求7或8所述的在光学记录介质中光学记录数据的方法，其中光学记录介质还包括相对于第一记录层和第二记录层在基底的相对一侧上设置的透光层，激光束投射在该透光层上。
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