CN1482647A

CN1482647A - 包括阻隔肋的等离子体显示板及制造阻隔肋的方法

Info

Publication number: CN1482647A
Application number: CNA031438423A
Authority: CN
Inventors: 文次; 文喆熙
Original assignee: Samsung SDI Co Ltd
Current assignee: Samsung SDI Co Ltd
Priority date: 2002-06-28
Filing date: 2003-06-28
Publication date: 2004-03-17
Also published as: JP2004039629A; US20040000873A1; KR20040001645A; KR100471980B1

Abstract

本发明公开了一种等离子体显示板和制造用于该等离子体显示板的阻隔肋的方法。该等离子体显示板包括之间具有预定间隙的第一和第二基板。在第一基板上形成多个平行的寻址电极。在第一基板上形成介电层以覆盖寻址电极且在介电层上以格子图形形成阻隔肋。在第二基板上形成垂直于寻址电极的放电维持电极，且在第二基板上形成透明介电层和保护层以覆盖放电维持电极。阻隔肋例如为分别在与寻址电极和放电维持电极相同的方向中形成的第一和第二阻隔肋构件。第一阻隔肋构件或第二阻隔肋构件或二者由不透明材料制成。

Description

包括阻隔肋的等离子体显示板及制造阻隔肋的方法

技术领域

本申请以2002年6月28日提交的韩国专利申请No.2002-0036932为基础，该申请的全部内容为本发明的参考。

本发明涉及一种制造阻隔肋(barrier ribs)的方法及一种等离子体显示板，更具体地说，涉及一种等离子体显示板，其中基本上所有的红、绿和蓝象素基本上被多个阻隔肋的至少一部分包围。

背景技术

等离子体显示板(PDP)通常是一种由气体放电产生的紫外线激发磷而获得预定图像的显示器。由于PDP具有高清晰度，PDP很可能成为下一代平板显示结构的主流之一。

在公知的PDP中，如图13中示出的PDP，在后基板1上沿Y轴方向形成寻址电极3，和在后基板1的表面上形成介电层5以覆盖寻址电极3。同样，在介电层5上且在相应于寻址电极3之间位置的位置处以线形图形形成阻隔肋7。在阻隔肋7之间形成红、绿和蓝色含磷层9。

通过一对透明电极13和一对总线电极(bus electrodes)15获得的放电维持电极17形成在与后基板1相对的前基板11上。即，构成每一放电维持电极17的透明电极对13和总线电极对15在前基板11上沿X轴方向形成。透明介电层19和MgO保护层21形成在前基板11的表面上，用以覆盖放电维持电极17。屏幕的象素形成在寻址电极3和放电维持电极17的交叉处。

以这种方式构造的PDP按下述操作。随着在寻址电极3和一个相应于特定象素的放电维持电极17之间施加地址电压Va来进行定址放电，维持电压Vs施加在相应于该象素的两个放电维持电极17之间。结果，在维持放电期间产生的紫外光激发相应象素的含磷层9而发出可见光。

然而，在包括呈线形图形的阻隔肋7的PDP结构中，由于象素的放电单元在阻隔肋7设置的方向上(即沿着图13中所示的PDP的Y轴方向)互连，很可能在象素之间发生错放电(mis-discharge)。一种防止错放电的方法是增加相邻象素的放电维持电极17之间的距离，使之至少到预定的长度。然而这种结构的缺点是PDP的孔径比(aperture ratio)低。

另一种防止相邻象素之间错放电的方法是设置多个垂直的阻隔肋作为完全包围所有R、G和B象素的垂直壁，以便形成完全分离的放电单元。即，通过将一些垂直阻隔肋沿平行于寻址电极的方向设置、而将一些垂直阻隔肋沿平行于放电维持电极的方向设置在象素之间形成阻隔肋。这将导致每一象素在垂直方向上通过沿上述两个方向放置的阻隔肋的组合而被完全包围。日本特许公开专利1998-149771号公开了这种结构。

另一种公知的PDP结构是，除了R、G和B象素被垂直阻隔肋包围外，还将R、G和B象素组设置成三角形结构，亦被称作Δ结构。美国专利5,182,489号公开了这种PDP。

然而，在设计用于分离象素放电单元的阻隔肋时没有过多考虑对图像对比度的影响。且在常规结构中，由于所有R、G和B象素被垂直阻隔肋完全包围，在制造期间，不能以有效的方式排气，这将降低板的总质量。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种等离子体显示板，该板用阻隔肋来改善屏幕对比度；提供对于红、绿和蓝象素的优良排气效率；便于制造且成本低。本发明的诸方法另外提供了一种制造阻隔肋的方法。

在本发明的一种示例性实施方式中，等离子体显示板包括基本上平行且之间具有预定间隙的一第一基板和一第二基板；形成在与第二基板相对的第一基板表面上的多个寻址电极，上述寻址电极以线形图形设置且彼此基本上平行；形成在第一基板表面上覆盖寻址电极的一介电层；以格子图形形成在上述介电层上的一些阻隔肋，上述阻隔肋限定出多个放电单元；形成在与第一基板相对的第二基板的表面上的多个放电维持电极，以线形图形在基本垂直于寻址电极的方向中形成放电维持电极；和形成在第二基板表面上的覆盖放电维持电极的一透明介电层以及一保护层。上述阻隔肋包括沿与寻址电极相同的方向形成的第一阻隔肋构件和沿与放电维持电极相同的方向形成的第二阻隔肋构件，其中第一阻隔肋构件或第二阻隔肋构件或两者由不透明材料制成。

在本发明的多个实施方式中，不透明材料为例如从由氧化铬、氧化铜、PbO和Al₂O₃组成的组中选取的黑色颜料(black pigment)。

在本发明的各种实施方式中，第一阻隔肋构件和第二阻隔肋构件的高度不同，以便象素放电单元可以在较短的阻隔肋构件的上端形成的间隙之间连通。

本发明还提供了制造用于等离子体显示板的阻隔肋的方法，该方法包括准备第一基板，在该基板上形成寻址电极和介电层；在介电层表面上印制第一绝缘胶且形成具有第一预定高度的下阻隔肋构件；在呈线形图形的下阻隔肋构件上印制第二绝缘胶且形成离介电层表面有第二预定高度的上阻隔肋构件；在第一基板表面上涂覆干膜抗蚀剂以覆盖下阻隔肋构件和上阻隔肋构件；定位光掩模，该光掩模具有覆盖干膜抗蚀剂表面的格子形状的光通路图案；然后通过光通路图案进行曝光以构图干膜抗蚀剂，以便上述干膜抗蚀剂能覆盖全部上阻隔肋构件和部分下阻隔肋构件；及在第一基板表面上高速喷沙以便在去除残留在第一基板上的干膜抗蚀剂之后除去下阻隔肋构件的曝光部分。

在本发明的多个实施方式中，第一或第二绝缘层胶或二者由不透明材料构成。

附图说明

下面根据本发明的系统和方法的多种示例性实施方式的详细说明对本发明的这些和其它特征及优点进行描述。

加入并组成说明书一部分的附图示出了本发明的多种实施方式，它们和说明书一起用来阐述本发明的原理。附图中：

图1是根据本发明第一示例性实施方式的等离子体显示板的局部分解透视图；

图2是处于被装配状态的图1的等离子体显示板沿X轴方向剖切的剖面图；

图3、4和5是根据本发明的多个示例性实施方式的阻隔肋的不同结构的示意图；

图6是图1的等离子体显示板的后基板的局部放大透视图；

图7是根据本发明的第二示例性实施方式的等离子体显示板的局部分解透视图；

图8、9、10、11和12是制造用于图1所示的等离子体显示板的阻隔肋的顺序步骤示意图；和

图13是常规等离子体显示板的局部分解透视图。

具体实施方式

下面将参照附图详细描述本发明的示例性实施方式。

图1是根据本发明第一示例性实施方式的等离子体显示板(PDP)的局部分解透视图，图2是图1的处于装配状态的PDP沿X轴方向的剖面图。

如图中所示，阻隔肋2的相应部分以“壁样”方式呈四边形包围多个R、G和B象素，例如，用来限定放电单元。相应于每一象素，在后基板4上设置寻址电极6且在前基板8上设置放电维持电极10。在这种结构中，象素的照度和照度强度可以独立控制。

更为详细地说，在后基板4上沿Y轴方向以线形图形形成多个寻址电极6。在后基板4的表面上形成介电层12以覆盖寻址电极6。在介电层12上以预定高度形成包括第一阻隔肋构件2A和第二阻隔肋构件2B的阻隔肋2。

在前基板8上沿X轴方向以线形图形形成放电维持电极10。每一放电维持电极10通过一对透明电极14和一对总线电极16而获得。在后基板4的寻址电极6和前基板8的放电维持电极10交叉的区域形成象素。此外，在前基板8的表面上形成透明介电层18和MgO保护层20以覆盖放电维持电极10。

在寻址电极6之间的部位在后基板4的介电层12上形成基本上平行于寻址电极的第一阻隔肋构件2A。在每个放电维持电极10之间的部位，在后基板4的介电层12上形成基本上平行于放电维持电极的第二阻隔肋构件2B。另外，R、G和B含磷层22设置于由第一和第二阻隔肋构件2A和2B包围的象素区域中。

随着在寻址电极6和相应于特定象素的一个放电维持电极10之间施加地址电压Va来进行定址放电，在相应于该象素的两个放电维持电极10之间施加维持电压Vs。结果，在维持放电期间产生的真空紫外光激发相应象素的含磷层22，从而发出可见光。

在本发明的第一示例性实施方式中，第一阻隔肋构件2A或第二阻隔肋构件2B(或二者)是不透明的，即为黑色构件以改善图像的对比度。同样，第一阻隔肋构件2A和第二阻隔肋构件2B形成不同的高度，以便象素的放电单元通过较低高度的阻隔肋构件连通。这样，将提高制造PDP期间的排气效率。

参考图3，根据本发明一个示例性实施方式，使阻隔肋2的第一阻隔肋构件2A不透明，以改善沿X轴方向设置的象素之间的对比度。如图4所示，根据本发明另一示例性实施方式，使上述阻隔肋具有不透明的第二阻隔肋构件2B，以改善沿Y轴方向设置的象素之间的对比度。

此外，参考图5，在本发明的又一示例性实施方式中，第一阻隔肋构件2A和第二阻隔肋构件2B两者都不透明，以便改善所有象素之间的对比度。

图3的第一阻隔肋构件2A、图4的第二阻隔肋构件2B和图5的第一及第二阻隔肋构件2A和2B是用黑色颜料和玻璃胶一起涂覆在介电层12上制成的黑色状，从而形成阻隔肋2，上述黑色颜料通过金属氧化物如氧化铬、氧化铜、PbO或Al₂O₃而获得。

图6是后基板4的局部放大透视图。如上所述，第一阻隔肋构件2A和第二阻隔肋2B形成不同的高度。例如，第一阻隔肋构件2A的高度为H1，第二阻隔肋构件2B具有小于H1高度的H2高度。因此，如果将前后基板8和4装配在一起，则在第二阻隔肋构件2B上方形成间隙。第二阻隔肋构件2B上方的间隙将沿Y轴方向与相邻的象素连通，以便可以使这些象素顺畅地排气。

也可以使第一阻隔肋构件2A的高度低于第二阻隔肋构件2B的高度，从而在第一阻隔肋构件2A上方形成间隙。如果H2大于H1，则第一阻隔肋构件2A上方的间隙连通X轴方向上的相邻象素。

因此，在根据本发明第一示例性实施方式的PDP中，阻隔肋2以“壁样”方式且呈四边形包围每一象素以防止象素之间错放电，第一和第二格子壁构件2A和2B的至少一种被制成黑色以改善图像对比度，第一和第二格子壁构件2A和2B形成不同的高度以使PDP排气通畅。

图7是根据本发明第二实施方式的等离子体显示板的局部分解透视图。结构中与本发明第一实施方式描述中相同的元件使用相同的标号。

阻隔肋2′包括以条纹图形在后基板4的介电层12上形成的垂直于寻址电极6的方向(即X轴方向)的多个第一阻隔肋构件2A′和多个形成在介电层12上两个相邻第一阻隔肋构件2A′之间的间隙内的第二阻隔肋构件2B′。阻隔肋构件2A′、2B′限定沿与寻址电极6相同的方向(即Y轴方向)呈Z字形排列的放电单元。在该实施方式中，在与寻址电极6相同的方向中形成第二阻隔肋构件2B′。

为使放电单元呈Z字形排列，在每隔一寻址电极6上形成第二阻隔肋构件2B′，且在由两个相邻的第一阻隔肋构件2A′限定的间隙中形成放电单元的第二阻隔肋构件2B′与在由第一阻隔肋构件2A′限定的相邻间隙中形成放电单元的第二阻隔肋构件2B′不在一条直线上。因此，如图7中所示，移动第二阻隔肋构件2B′，以使第二阻隔肋2B′位于由相邻的两个第一阻隔肋构件2A′形成的间隙中的不同寻址电极上。因此，每一组R、G和B象素基本上设置为三角形(即Δ)形状。

例如，为使放电单元呈Z字形排列，可以在每隔一个寻址电极的第一组上形成第一组阻隔肋构件2B′，而在第二组寻址电极上形成第二组阻隔肋构件2B′，该第二组寻址电极至少包括一些在其上没有设置第一组阻隔肋构件的寻址电极。

在本发明第二示例性实施方式中，第一阻隔肋构件2A′和第二阻隔肋构件2B′之一或两者皆不透明，以改善图像对比度。同样，第一阻隔肋构件2A′的高度大于第二阻隔肋构件2B′的高度，以便前后基板8和4安装在一起之后在第二阻隔肋构件2B′上方形成间隙。

用这种第二阻隔肋构件2B′结构，沿X轴方向的相邻放电单元是连通的以使PDP排气良好。也可以使第一阻隔肋构件2A′的高度小于第二阻隔肋构件2B′的高度，以便在第一阻隔肋构件2A′上方形成间隙。

此外，在将阻隔肋2′设置成每一组R、G和B象素呈三角形形状的情况中，优选形成在前基板8上的放电维持电极10′通过以线形图形在相应于第一阻隔肋构件2A′的位置形成的总线电极16′和从总线电极16′两边完整延伸的透明电极14′来获得，以便在装配基板4和8时它们位于相应于每一象素的区域内。

参考图8至12，对本发明第一示例性实施方式的阻隔肋2的制造方法进行描述。所描述的制造方法的例子中，第一阻隔肋构件2A不透明(见图3)，且第一阻隔肋构件2A的高度大于第二阻隔肋构件2B的高度(见图2)。

首先，参考图8，准备后基板4，其上形成有介电层12和寻址电极(未示出)，然后在介电层12的表面上印制白色绝缘胶之后，进行烧结以形成具有高度H2的下阻隔肋构件24。

接着，参考图9，在寻址电极之间和下阻隔肋构件24上以线形图形印制黑色绝缘胶，随后进行烧结以便形成上阻隔肋构件26。上阻隔肋构件26离介电层12的上表面具有高度H1。

例如，一般由不含黑色颜料的阻隔肋材料(即玻璃胶)制成白色绝缘胶，而黑色绝缘胶由玻璃胶和黑色颜料的混合物构成，其中氧化铬、氧化铜、PbO或Al₂O₃可以用作黑色颜料。

再参考图10，在介电层12的表面上涂覆干膜抗蚀剂(DFR)28，以覆盖上阻隔肋构件26和下阻隔肋构件24。参考图11，在形成在后基板4上的最上端的元件上放置具有格子形光通路图案30的光掩模32，之后进行曝光。

因此，如图12所示，在上阻隔肋构件26和下阻隔肋构件24上余留的干膜抗蚀剂28呈光通路图案30的形式。即，干膜抗蚀剂28直接形成在上阻隔肋构件26的上表面上且呈条纹图形交叉形成在上阻隔肋构件26上的这些部分上。

随后，将后基板4安装在喷沙装置(未示出)上，使沙子通过喷嘴34高速喷射到后基板4的最上端元件上。通过该工艺除去部分下阻隔肋构件24。此时，干膜抗蚀剂28用作保护所有的上阻隔肋构件26和随后通过喷射沙子使之成为第二阻隔肋构件的部分下阻隔肋构件24。

最后，除去余留在后基板4上的干膜抗蚀剂28。参考图6，从这些工艺中得到在介电层12上沿Y轴方向形成具有H1高度的黑色第一阻隔肋构件2A，和在介电层12上沿X轴方向上形成具有H2高度的白色第二阻隔肋构件2B。

因此，根据本发明示例性实施方式的制造阻隔肋2的方法，由于未使用价高的感光材料作为阻隔肋材料而降低了整体成本。同样，由于仅进行一次干膜抗蚀剂28的印制和曝光工艺，可以通过单独的喷沙工艺简单构图上和下阻隔肋构件24和26，从而使制造简单。

虽然本文中已详细描述了本发明的示例性实施方式，不难理解，对本文中所讲述的基本发明内容进行改变和/或修改对本领域普通技术人员而言是显而易见的，如权利要求书所限定的那样，它们仍然落入本发明的构思和保护范围之内。

Claims

1、一种等离子体显示板，包括：

一第一基板和一第二基板，它们基本平行且在二者之间具有预定间隙；

形成在与第二基板相对的第一基板表面上的多个寻址电极，上述寻址电极呈线形图形设置且彼此基本上平行；

一形成在第一基板表面上以覆盖寻址电极的介电层；

以格子图形形成在介电层上的阻隔肋，上述阻隔肋限定放电单元；

形成在与第一基板相对的第二基板的表面上的多个放电维持电极，上述放电维持电极以线形图形形成在基本上垂直于寻址电极的方向上；和

形成在第二基板表面上覆盖放电维持电极的透明介电层和保护层，

其中，上述阻隔肋包括沿与寻址电极相同的方向形成的第一阻隔肋构件，和沿与放电维持电极相同的方向形成的第二阻隔肋构件，且至少第一阻隔肋构件和第二阻隔肋构件之一由不透明材料制成。

2、如权利要求1所述的等离子体显示板，其中上述不透明材料是从由氧化铬、氧化铜、PbO和Al₂O₃组成的组中选取的黑色颜料。

3、如权利要求1所述的等离子体显示板，其中上述第一阻隔肋构件和第二阻隔肋构件具有不同的高度。

4、如权利要求3所述的等离子体显示板，其中上述第一阻隔肋构件的高度大于第二阻隔肋构件的高度，以便至少相邻的放电单元可以通过第二阻隔肋的一端的间隙连通。

5、如权利要求3所述的等离子体显示板，其中上述第一阻隔肋构件的高度小于第二阻隔肋构件的高度，以便至少相邻的放电单元可以通过第一阻隔肋构件的一端的间隙连通。

6、如权利要求3所述的等离子体显示板，其中上述第一阻隔肋构件设置成基本平行于寻址电极且位于寻址电极之间，第二阻隔肋构件设置成基本平行于放电维持电极且位于放电维持电极之间。

7、如权利要求1所述的等离子体显示板，其中上述第一阻隔肋构件和第二阻隔肋构件由不透明材料制成。

8、一种等离子体显示板，包括：

形成在与第二基板相对的第一基板表面上的多个寻址电极，上述寻址电极以线形图形设置且基本上彼此平行；

形成在第一基板表面上以覆盖寻址电极的介电层；

形成在与第一基板相对的第二基板表面上的多个放电维持电极，上述放电维持电极以线形图形形成在基本上垂直于寻址电极的方向上；和

形成在第二基板表面上覆盖放电维持电极的透明介电层和保护层；

其中上述阻隔肋包括以垂直于寻址电极方向的条纹图形形成的多个第一阻隔肋构件，和形成在两个相邻第一阻隔肋构件之间的间隙内的多个第二阻隔肋构件，这些阻隔肋构件将放电单元限定为沿与寻址电极相同的方向呈Z形排列，和

至少第一阻隔肋构件和第二阻隔肋构件之一由不透明材料制成。

9、如权利要求8所述的等离子显示器，其中为使放电单元呈Z字形排列，通过排列在由相邻的第一对肋构件限定的第一间隙内限定放电单元的第二阻隔肋构件使放电单元呈Z形排列，以便它们与设置在由相邻的第二对肋构件限定的第二间隙内限定放电单元的第二阻隔肋构件不在一条直线上，其中相邻的第一对肋构件的一个肋构件也是相邻第一肋构件的第二对肋构件的一个第一肋构件。

10、如权利要求8所述的等离子显示器，其中为使放电单元呈Z字形排列，在第一组寻址电极上形成第一组阻隔肋构件且在第二组寻址电极上形成第二组阻隔肋构件，其中第二组寻址电极至少包括一个不是第一组寻址电极部分的寻址电极。

11、如权利要求8所述的等离子体显示板，其中上述第一阻隔肋构件和第二阻隔肋构件两者都由不透明材料制成。

12、如权利要求8所述的等离子体显示板，其中上述第一阻隔肋构件的高度大于第二阻隔肋构件的高度，以便至少相邻的放电单元可以通过第二阻隔肋构件一端的间隙连通。

13、如权利要求8所述的等离子体显示板，其中上述第一阻隔肋构件的高度小于第二阻隔肋构件的高度，以便至少相邻的放电单元可以通过第一阻隔肋构件一端的间隙连通。

14、一种制造用于等离子体显示板的阻隔肋的方法，包括：

准备第一基板，该第一基板具有形成于其上的寻址电极和介电层，在该介电层的表面上印制第一绝缘胶并形成具有第一预定高度的下阻隔肋构件；

在下阻隔肋构件上以线形图形印制第二绝缘胶，并形成具有离介电层表面的第二预定高度的上阻隔肋构件；

在第一基板表面上涂敷干膜抗蚀剂，以全部覆盖下阻隔肋构件和上阻隔肋构件；

定位光掩模，该光掩模在干膜抗蚀剂的整个表面上具有格子形的光通路图案，然后通过光通路图案进行曝光来对干膜抗蚀剂构图，以便干膜抗蚀剂覆盖所有上阻隔肋构件和部分下阻隔肋构件；和

在第一基板的表面上高速喷沙以便除去下阻隔肋构件的曝光部分，之后，除去余留在第一基板上的干膜抗蚀剂，

其中第一绝缘层胶和第二绝缘层胶之一或二者由不透明材料制成。

15、如权利要求14所述的方法，其中上述不透明材料为玻璃胶和从由氧化铬、氧化铜、PbO和Al₂O₃组成的组中选取的黑色颜料的混合物。

16、如权利要求14所述的方法，其中上述第一绝缘层胶和第二绝缘层胶两者都由不透明材料制成。