JP3369112B2 - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの製造方法Info
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Description
プレイパネル(PDP)の製造方法に関し、特に、隔壁
で仕切られた放電空間内に蛍光体層が形成されたプラズ
マディスプレイパネルの製造方法に関する。
(薄型表示デバイス)として注目されており、日本にお
けるハイビジョン分野などへの用途拡大に向けて高精細
化および大画面化が進められている。
とDC型があり、放電形式では面放電型と対向放電型の
2種類があるが、高精細化、大画面化および製造の簡便
性から、現状では、AC型面放電PDPが工業上の主流
を占めている。
はガラス基板)を微小間隔を設けて対向配置し、周囲を
封止することによって内部に放電空間を形成した自己発
光型の表示パネルである。
に、隔壁が周期的に設けられており、この隔壁によっ
て、放電の干渉や色のクロストークを防止している。
AC型の三電極面放電PDPでは、高さ100〜200
μm程度の帯状の隔壁がデータ電極(アドレス電極)ラ
インに沿って平行かつ等間隔に設けられている。また、
隔壁を設けた背面側基板に対向設置する前面側基板に
は、主放電を発生させるための対をなす表示電極(サス
テイン電極)が、隔壁と交差する方向に平行に設置され
ている。
は蛍光体層が形成され、この蛍光体によって表示電極対
の放電光を可視光にし、表示を行うようにしている。し
たがって、PDPの表示輝度は、放電の強さ、蛍光体層
中の蛍光体密度、蛍光体層の表面積、蛍光体の材質、蛍
光体層の背面反射率等によって左右される。
構造のPDPの場合、表示電極の延びる方向の画素(放
電領域)の分離は隔壁によって行い、それと交差する方
向、すなわち隔壁の長手方向については、放電を発生さ
せる電極間隔(放電スリット、以下スリットと呼ぶ)
を、放電を発生させない電極間隔(逆スリット)よりも
狭くして放電を限定することで、画素(放電領域)の分
離を行うようにしている。したがって、この逆スリット
の空間は、たとえ蛍光体層が形成されていたとしても、
表示領域としては寄与しない、という問題がある。
一般的な課題として、輝度の向上があり、蛍光体自体の
発光効率の向上が根本的な課題となるが、現状では、蛍
光体の塗布形状や付着量、背面材料の反射率向上などで
対応している。
に輝度を増加させたプラズマディスプレイパネルの出現
が望まれていた。
光体層が形成される領域に壁状の突起部を設け、この壁
状の突起部を覆うように蛍光体層を形成することによ
り、蛍光体の付着面積を増大させ、これによりパネルの
高輝度化が実現できることを見いだした。
放電空間を有するように対向配置し、放電空間を仕切る
ための複数の帯状の隔壁を背面側または前面側の前記基
板上に並列して配置するとともに、隔壁間の溝内の少な
くとも放電部を形成する領域に、前記隔壁よりも低い壁
状の突起部を設け、その壁状の突起部を含む隔壁間の溝
内に蛍光体層を形成してなるプラズマディスプレイパネ
ルを製造する製造方法であって、プラズマディスプレイ
パネルの背面側または前面側の基板に壁状の突起部と隔
壁を形成するに際し、基板上に第1の感光性材料層を形
成し、その上に壁状の突起部のパターンを有するフォト
マスクを配置して露光を行い、そのまま現像せずに第1
の感光性材料層上に第2の感光性材料層を形成し、その
上に隔壁のパターンを有するフォトマスクを配置して露
光を行った後に現像することにより、基板上に壁状の突
起部と隔壁が形成された元型を作製し、この元型を用い
て転写用凹版を作製し、その転写用凹版の凹部に隔壁材
料を充填してプラズマディスプレイパネル用の基板に転
写するか、あるいはこの元型を利用してプレス凸版を作
製し、そのプレス凸版を用いてプラズマディスプレイパ
ネル用の基板上の隔壁材料をプレス成形することからな
る工程により、当該プラズマディスプレイパネルの背面
側または前面側の基板に壁状の突起部と隔壁を形成する
プラズマディスプレイパネルの製造方法が提供される。
背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板
は面放電のための放電スリットを隔てて配置した表示電
極対をそれぞれ放電しないスリットを隔てて複数対平行
に配置し、背面側の基板は表示電極対と交差する方向の
複数のアドレス電極と、隣接したアドレス電極の間に設
けられた帯状の隔壁とを配置するとともに、隔壁間の溝
内であって前面側基板の非放電スリットに対応する位置
に隔壁よりも低い壁状の突起部を設け、その壁状の突起
部を含む隔壁間に蛍光体層を形成してなる面放電型プラ
ズマディスプレイパネルを製造する製造方法であって、
前記プラズマディスプレイパネルの背面側基板に壁状の
突起部と隔壁を形成するに際し、基板上に第1の感光性
材料層を形成し、その上に壁状の突起部のパターンを有
するフォトマスクを配置して露光を行い、そのまま現像
せずに第1の感光性材料層上に第2の感光性材料層を形
成し、その上に隔壁のパターンを有するフォトマスクを
配置して露光を行った後に現像することにより、基板上
に壁状の突起部と隔壁が形成された元型を作製し、この
元型を用いて転写用凹版を作製し、その転写用凹版の凹
部に隔壁材料を充填して当該プラズマディスプレイパネ
ルの背面側基板に転写するか、あるいはこの元型を利用
してプレス凸版を作製し、そのプレス凸版を用いて当該
プラズマディスプレイパネルの背面側基板上の隔壁材料
をプレス成形することからなる工程により、当該プラズ
マディスプレイパネルの背面側基板に壁状の突起部と隔
壁を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法が
提供される。
と背面側の基板としては、ガラス、石英、シリコン等の
基板や、これらの基板上に、電極、絶縁膜、誘電体層、
保護膜等の所望の構成物を形成した基板が含まれる。
に形成されていればよく、どのような形態の隔壁であっ
てもよい。例えば、ストライプ状の隔壁が平行に配置さ
れたものや、蛇行状の隔壁が並列に配置されたもの(特
開平9−050768号公報参照)であってもよい。ま
た、隔壁の端部が中央部より太くなったものや、帯状隔
壁の端部が接続されたものなど、あらゆる形態の隔壁が
含まれる。前面側の基板と背面側の基板との周辺の封止
は、特に限定されず、どのような材料および方法で行わ
れたものであってもよい。
光体層の形成面積を増大するという目的さえ達成される
高さであれば、どのような形状のものであってもよい。
すなわち、蛍光体層が形成される領域である隔壁間の細
長い溝内に、帯状隔壁の特徴の1つであるガスの流通性
を損なわないように、隔壁よりも低く、かつ壁状に形成
されたものであればよく、材料、製法に特に限定はな
い。例えば、隔壁がストライプ状のものであれば、この
隔壁と交差する方向に連続あるいは分断されて形成され
たものであってもよいし、隔壁と平行な方向に連続ある
いは分断されて形成されたものであってもよい。
トライプ状のものであれば、壁状の突起部は、隔壁と交
差する方向に設けられていてもよい。この場合、対向側
の基板が、隔壁と交差する方向に面放電のための複数の
主電極対を有している構成であれば、壁状の突起部は、
主電極対と主電極対との間の非放電領域(逆スリット)
に対応する位置に設けるようにしてもよい。この構成で
あれば、隣接する主電極対間の放電結合(クロストー
ク)を防止する構造とすることができる。
する位置に壁状の突起部を設けるようにしてもよい。
プ状のものであれば、壁状の突起部は、隔壁と平行にス
トライプ状に設けられていてもよい。さらに、隔壁が、
並列に配置されたストライプ状のものであれば、壁状の
突起部は、隔壁と交差する方向に設けられた第1の突起
部と、隔壁と平行に設けられた第2の突起部とからなる
ものであってもよい。この場合、第1の突起部は、前記
したように非放電部の逆スリットに対応する位置に設け
るのが望ましい。
部に形成されていればよく、材料、製法については、特
に限定はなく、いずれも公知のものを使用することがで
きる。
製造方法において、第1の感光性材料としては、特に限
定されず、公知の材料をいずれも使用することができ
る。例えば感光性のレジスト、あるいは感光性のドライ
フィルムなどである。
スクは、壁状の突起部のパターンを有していればよく、
材料、形成方法とも、公知のフォトリソグラフィの手法
で用いられるものをそのまま適用することができる。露
光についても、公知のフォトリソグラフィの手法で用い
られるものを適用することができる。
同じものであってもよいし、異なるものであってもよ
い。この第2の感光性材料層上に配置されるフォトマス
クは、隔壁のパターンを有していればよく、材料、形成
方法とも、公知のフォトリソグラフィの手法で用いられ
るものをそのまま適用することができる。露光について
も、公知のフォトリソグラフィの手法で用いられるもの
を適用することができる。
て元型を転像することにより形成することができる。そ
して、この転写用凹版を用いて転写により、PDP用の
基板に壁状の突起部と隔壁を形成する。この場合、壁状
の突起部と隔壁は、同じ隔壁材料を用いて転写すること
が望ましい。PDP用基板への隔壁材料の転写は、公知
の凹版転写法により行うことができる。また、転写用凹
版は、固い樹脂もしくは電鋳でプレス凸版として作製し
てもよく、この場合には、このプレス凸版で絶縁物をプ
レスすることにより、PDP用基板に壁状の突起部およ
び隔壁を形成することができる。
材料としては、特に限定されず、公知の材料をいずれも
使用することができる。感光性材料で作製した元型はそ
のまま元型として用いても良いし、他の樹脂による転写
を繰返したり、電鋳による型を作ったりする中間型とし
て用いてもよい。
の発明を詳述する。なお、これによってこの発明が限定
されるものではない。
極面放電PDPの内部構造を示す斜視図である。PDP
1は、前面側のガラス基板11の内面に、行L毎に一対
ずつサステイン電極(表示電極)X,Yが配列されてい
る。行Lは画面における水平方向のセル列である。サス
テイン電極X,Yは、それぞれがITOからなる透明導
電膜41とCr−Cu−Crからなる金属膜(バス電
極)42で形成され、低融点ガラスからなる厚さ30μ
m程度の誘電体層17で被覆されている。誘電体層17
の表面にはマグネシア(MgO)からなる厚さ数千オン
グストロームの保護膜18が設けられている。アドレス
電極Aは、背面側のガラス基板21の内面を覆う下地層
22の上に配列されており、厚さ10μm程度の誘電体
層24によって被覆されている。誘電体層24の上に
は、高さ150μmの平面視直線帯状の隔壁29が、各
アドレス電極Aの間に1つずつ設けられている。これら
の隔壁29によって放電空間30が行方向にサブピクセ
ル(単位発光領域)毎に区画され、且つ放電空間30の
間隙寸法が規定されている。そして、アドレス電極Aの
上方及び隔壁29の側面を含めて背面側の内面を被覆す
るように、カラー表示のためのR,G,Bの3色の蛍光
体層28R,28G,28Bが設けられている。3色の
配置パターンは、1列のセルの発光色が同一で且つ隣接
する列どうしの発光色が異なるストライプパターンであ
る。なお、隔壁形成に際しては、コントラストを高める
ために頂上部を暗色に着色し、他の部分を白色に着色し
て可視光の反射率を高めるのが望ましい。着色は材料の
ガラスペーストに所定色の顔料を添加することにより行
う。
ンを混合した放電ガスが充填されており(封入圧力は5
00Torr)、蛍光体層28R,28G,28Bは放
電時にキセノンが放つ紫外線によって局部的に励起され
て発光する。表示の1ピクセル(画素)は行方向に並ぶ
3個のサブピクセルで構成される。各サブピクセル内の
構造体がセル(表示素子)である。隔壁29の配置パタ
ーンがストライプパターンであることから、放電空間3
0のうちの各列に対応した部分は全ての行Lに跨がって
列方向に連続している。そのため、隣接する行Lどうし
の電極間隙(逆スリット)の寸法は各行Lの面放電ギャ
ップ(例えば50〜150μmの範囲内の値)より十分
に大きく、列方向の放電結合を防ぐことのできる値(例
えば150〜500μmの範囲内の値)に選定されてい
る。なお、逆スリットには非発光の白っぽい蛍光体層を
隠す目的で、前面側ガラス基板11の外面側又は内面側
に図示しない遮光膜が設けられる。
せない部分(逆スリット)の電極間隔を、放電を発生さ
せる面放電ギャップ(放電スリット、または単にスリッ
トと呼ぶ)よりも広くすることによって、放電を限定し
ている。
例を示す説明図である。この例においては、背面側基板
21の、前面側基板11の逆スリットに対応する部分
に、隔壁29よりも低い壁状の突起部51を行L方向に
連続して形成し、隔壁29と隔壁29との間の隔壁間溝
部52全体に、スクリーン印刷法、ディスペンス法等の
公知技術により蛍光体層28R,28G,28Bを形成
する。
面を示す説明図であり、この図に示すように、蛍光体層
28R,28G,28Bは、誘電体層の表面、隔壁29
の側面および突起部51の表面を覆うように形成され
る。なお、この場合、突起部51表面の蛍光体層は、隔
壁29の高さよりも低くして、隔壁29間の溝内でのガ
スの流通性を阻害しないようにする。
対応部に壁状の突起部を形成することにより、その突起
部にも蛍光体層が形成されることになり、したがってそ
の分蛍光体の塗布面積が増加し、単位放電領域当たりの
蛍光体発光面積が増大するので、従来の突起部のないも
のよりも輝度を増加させることができる。ここで突起部
の表面に蛍光体の発光を反射する白色の光反射層をコー
トするか、突起部自体を白色の顔料を含んだガラス材で
形成すれば、当該蛍光体の発光を視覚側に反射できて輝
度をさらに増加できる。
合が物理的に抑制されるので、逆スリット部におけるク
ロストークの防止に寄与する構造とすることができる。
そして、このクロストークの防止構造により、逆スリッ
ト部の間隔を従来よりも狭くすることができるので、表
示放電領域の拡大(スリット間隔の増大)が達成され、
さらに輝度を向上させることが可能となる。
壁29よりも低いため、そこに蛍光体が塗布されても、
不純物ガスの排気時あるいは放電ガスの導入時における
ガスの通過は阻止されない。
壁状の突起部51を、背面側基板21の逆スリット対応
部以外の部分に形成する。例えば、壁状の突起部51
を、第1例のような逆スリット対応部ではなく、スリッ
ト対応部に形成する。
1が存在することになり、セルの中央部での蛍光体の塗
布面積が増加するので、第1例と同様に輝度の増大を図
ることができる。ただし、逆スリット部でのクロストー
ク防止効果はない。
例を示す説明図である。この例においては、背面側基板
21の隔壁間溝部52に、隔壁29よりも低い壁状の突
起部53を隔壁29と平行に連続して形成し、その突起
部53を含む隔壁間溝部52全体に蛍光体層28R,2
8G,28Bを形成する。
を示す説明図であり、この図に示すように、蛍光体層2
8R,28G,28Bは、誘電体層の表面、隔壁29の
側面および突起部51の表面を覆うように形成される。
増加するので、突起部のないものよりも輝度を増大させ
ることができる。
壁状の突起部53を、セル単位で分断した構造とする。
分断する位置は、逆スリット対応部であっても、スリッ
ト対応部であってもよい。蛍光体の塗布面積は、分断す
る位置に関係なく増加されるので、輝度はいずれの分断
位置であっても増大することができる。
例を示す説明図である。この例は、第1例で示した突起
部51を隔壁29と交差する方向に形成したものと、第
3例で示した突起部53を隔壁29に平行に形成したも
のとを組み合わせたものであり、それらの相乗効果が期
待できるものである。
ず、任意の組み合わせも可能である。また、蛍光体の各
色ごとに、隔壁の高さや隔壁の数、あるいはそれらを組
み合わせる形状の形態などを変えて、理想的なホワイト
バランスや、寿命の調整をすることも可能である。
る隔壁間溝部に突起部を設け、放電空間内の表面積を増
大させて、蛍光体の付着面積を増大させることにより、
PDPの高輝度化を図ることができる。
について説明する。図7は図2で示した壁状突起部およ
び隔壁の形成方法の第1例を示す説明図である。この方
法は、感光性材料(例えばドライフィルムレジスト、以
下DFRと記す)を利用して元型を作製し、それを用い
て転写用凹版を作り、転写法により壁状の突起部と隔壁
を形成する方法である。感光性材料としては光が照射さ
れた部分が硬化して残るネガ型を用いる。
に、壁状の突起部51aの高さ相当の感光性材料層(例
えばDFRを2枚)61を形成し、その上にフォトマス
クを配置して突起部51aのパターンを露光する(図7
(a)参照)。
性材料層を、隔壁29aの高さ相当まで形成してゆく
(例えばDFRを1枚上乗せする)。その後、その上に
フォトマスクを配置して今度は隔壁29aのパターンを
露光する(図7(b)参照)。ちなみに、隔壁のパター
ンの特定の部分に凹部を設けたい場合は、その部分だけ
露光しないようにすればよい。
光が一回以上照射された部分は光重合反応がおこり、現
像液に対して不溶となるため、この段階で現像すれば、
所望の壁状の突起部51aと隔壁29aのパターンの元
型(原形)が形成できる(図7(c)参照)。
と隔壁29aをシリコーンゴムなどを用いて転像するこ
とにより、転写用凹版63を作製し、その凹版63に絶
縁性ペーストを埋め込み、図中矢印で示すように、本来
のPDPの基板21に転写形成することにより、所望の
突起部51と隔壁29を得る(図7(d)参照)。
もしくは電鋳で作製し、プレス凸版として使用し、絶縁
物をプレスすることにより、所望の突起部51と隔壁2
9を得ることもできる。なお、感光性材料で作製した基
板はそのまま元型として用いても良いし、他の樹脂によ
る転写を繰返したり、電鋳による型を作ったりする中間
型として用いてもよい。
の形成方法の第2例を示す説明図である。この方法は、
第1例の形成方法に似ているが、製造安定性の向上が達
成できる形成方法である。感光性材料は、光照射により
重合が進むが、当然膜厚方向に光の減衰が生じてしま
い、上述の第1例の形成方法のように隔壁のトップとな
る部分から露光を行うと、基板62に接触する部分の光
強度が一番弱くなり、感光性材料61と基板62との密
着性が低下したり、隔壁形状が逆テーパになりがちであ
る。
として、例えばガラス基板のような透明な基板62aを
用い、その基板62a上に、隔壁のネガパターンをあら
かじめ遮光性材料(例えばクロム薄膜)63で形成して
おく(図8(a)参照)。そして、この上に、突起部5
1aの高さ相当の感光性材料層(例えばDFRを2枚)
61を形成し、第1例の形成方法と同じようにその上に
フォトマスクを配置して突起部51aのパターンを露光
する(図8(b)参照)。
しい感光性材料層61を、隔壁29aの高さ相当まで形
成してゆく(例えばDFRを1枚上乗せする)。その
後、今度は隔壁29aのパターンを露光する際には、フ
ォトマスクを用いずに、透明なガラス基板62aの背面
から、あらかじめ基板62a上に形成しておいた遮光性
材料63のパターンを介して感光性材料層61の露光を
行い(図8(c)参照)、その後、現像することによ
り、所望の突起部51aおよび隔壁29aのパターンの
元型を形成する(図8(d)参照)。
同様に、転写用凹版63を作製し、その凹版63に絶縁
性ペーストを埋め込み、本来のPDPの基板21に転写
形成することにより、所望の突起部51と隔壁29を得
る(図8(e)参照)。あるいは、元型を利用してプレ
ス凸版を作製し、このプレス凸版で絶縁物をプレスする
ことにより、所望の突起部51と隔壁29を得てもよ
い。
面露光を行って、感光性材料層61の隔壁となる部分に
対し、基板62aと接触する部分に最も強い光が照射さ
れるようにし、この部分の光重合を促進して現像液に侵
されにくくすることにより、感光性材料61と基板62
aとの密着性を飛躍的に増大させることができる。ま
た、光の減衰によって、隔壁のトップにゆくほど光が弱
くなり、隔壁形状が山形のテーパー状となるので、この
元型で作った転写用凹版を、凹部に充填した隔壁材料が
転写の際に抜けやすい、いわゆる離型性のよい転写凹版
とすることができ、プラズマディスプレイパネルの製造
安定性が確保できる。
を行うようにしているのは、突起部51は高さが低く転
写が容易である(転写確率が高い)のでテーパーを付け
る必要がなく、また、隔壁が上から交差するように形成
されるため、隔壁の密着性を向上させればその下に位置
する突起部の密着性も自動的に確保される、という理由
による。しかしながら、この背面露光と前面露光と組み
合わせる場合の順序は、どちらが先でも後でもよく、プ
ロセスや所望形状によって決定すればよい。
は、基板上に第1の感光性材料層を形成して露光し、そ
のまま現像せずに、その上に第2の感光性材料層を形成
して上面あるいは背面から露光した後、第1と第2の感
光性材料層を一度に現像するという、いわゆる多段露光
を行って元型を作製し、それを用いて転写あるいはプレ
スによって突起部と隔壁を形成するようにしている。
の異なる突起部と隔壁を同一基板に形成することがで
き、しかも感光性材料の使用により、機械加工では作製
が困難であった微細形状の元型を容易にしかも精密に作
製することができる。
法である隔壁の転写形成法(プレス法も含む)に使用す
る元型が、歩留まり良く、かつ、容易に製造でき、機械
加工では極めて困難であった隔壁のテーパー角制御や、
格子状などのパターン形状の作製が容易となる。また、
そのパターンはフォトリソグラフィが基本となるため、
設計変更も容易となる。
法やプレス法で突起部および隔壁を形成する方法を示し
たが、感光性の隔壁材料を用いて、PDP用の基板に直
接、突起部および隔壁を形成するようにしてもよい。
aのかわりに、上面にアドレス電極が形成されたPDP
用の背面側のガラス基板21を用い、DFRのような感
光性材料のかわりに、感光性の隔壁材料を用いて、第1
例および第2例の方法と同じ方法で、背面側のガラス基
板21に突起部51と隔壁29を直接形成するようにし
てもよい。
成に際し、第2例の形成方法で示した背面露光を適用す
る場合には、遮光性材料のパターンとしてアドレス電極
Aの電極パターンをそのまま用いるようにすれば、隔壁
のマスクパターンのアドレス電極Aに対する位置合わせ
が不要となる。
の形成方法の第3例を示す説明図である。この方法は、
転写法やプレス法を用いるのではなく、PDP用の基板
に直接、壁状の突起部と隔壁を形成する方法である。
ス電極A、誘電体層24が形成された背面側のガラス基
板21を用い、この基板21上に、まず、壁状の突起部
51を、第1の材料(隔壁材料あるいは隔壁材料と同じ
ような材料)を用い、公知の方法(積層印刷法、サンド
ブラスト法、アデティブ法、感光法、転写法など)で形
成する(図9(a)参照)。この突起部51は耐サンド
ブラスト性であることが必要である。
壁材料層(ベタ膜)64を形成し(図9(b)参照)、
その隔壁材料層64の表面に、耐サンドブラスト性の材
料で、例えばフォトリソグラフィの手法を用いて隔壁2
9のマスクパターン65を形成し(図9(c)参照)、
サンドブラストで切削することにより、隔壁29を形成
する。壁状の突起部51は耐サンドブラスト性であるた
めそのまま残る。これにより壁状の突起部51と隔壁2
9を形成する(図9(d)参照)。
形成するので、突起部51がサンドブラストされないよ
うにする必要がある。そのため、突起部51を焼成によ
りガラス化して機械強度を増しておくか、もしくは、突
起部51の形成材料(第1の材料)の樹脂分(バインダ
ー量)を後から形成する第2の材料のそれよりも増加さ
せておき、これによりサンドブラストレイトに差を持た
せるようにする。
るのは、PbO系のガラスペーストであり、これは、P
bOのガラス粉末と、SiO2やAl2O3のような耐火
性酸化物(1500℃程度の耐火性を持つ)からなるフ
ィラー(骨材)と、アクリル樹脂やセルロース樹脂のよ
うなバインダー樹脂と、テルピネオールやブチルカルビ
トールのような溶剤とを混合して作製する。
塗布し、ガラスペーストを乾燥させて溶剤成分を蒸発さ
せた後、サンドブラストで隔壁の状態に切削し、その後
焼成することによりバインダー樹脂成分を焼失させ、フ
ィラーとその周りに固化したガラス成分だけとすること
により行う。このとき、ガラスペーストは、バインダー
樹脂成分が多いとサンドブラストで削れにくく、少ない
とサンドブラストで削れやすいという性質がある。した
がって、この性質を利用して、サンドブラストレイトに
差を持たせることができる。
明する。ガラスペーストは、ペーストの状態から固化し
た隔壁となるまでに、通常、約70〜80%程度収縮す
る。したがって、この性質を利用して、隔壁よりも低い
壁状の突起部を形成することができる。
極A、誘電体層24が形成された背面側のガラス基板2
1を用い、この基板21上に、まず、隔壁29を、第1
の材料(隔壁材料)を用い、公知の方法(積層印刷法、
サンドブラスト法、アデティブ法、感光法、転写法な
ど)で形成し、焼成する。
9と同じ高さまで第2の材料(隔壁材料あるいは隔壁材
料と同じような材料)を塗布して乾燥させ、その材料層
の表面に、耐サンドブラスト性の材料で、例えばフォト
リソグラフィの手法を用いて突起部51のマスクパター
ンを形成し、サンドブラストで切削することにより、突
起部51を形成し、焼成する。隔壁29はすでに焼成し
ているので、この焼成の段階では突起部51のみが収縮
し、これにより、隔壁29と、その隔壁に対して70〜
80%程度の高さの壁状の突起部51を形成することが
できる。
ーの量が多ければ焼成した時にあまり収縮せず(焼成時
の収縮率→小)、少なければ焼成した時によく収縮する
(焼成時の収縮率→大)という関係がある。また、バイ
ンダー樹脂の量が少なければ焼成時の収縮率は小さく、
多ければ収縮率は大きいという関係がある。したがっ
て、この性質を利用して、フィラーの量やバインダー樹
脂の量を適切に調整することにより、突起部51を、隔
壁29に対して最大40〜50%程度の高さのものとす
ることができる。
して、ガラスペーストを隔壁と同じ高さまで塗布すると
いう簡単な作業工程で、常に一定の高さの突起部を得る
ことができる。しかし、収縮率に限界があるので、この
収縮率を目安にして、突起部を先に形成するのか隔壁を
先に形成するのかを決定する。すなわち、低い突起部を
形成するのであれば突起部を先に形成し、高い突起部を
形成するのであれば隔壁を先に形成する。
壁の形成方法の第4例を示す説明図である。この方法
も、転写法やプレス法を用いるのではなく、PDP用の
基板に直接、突起部と隔壁を形成する方法である。
に、上面に下地層22、アドレス電極A、誘電体層24
が形成された背面側のガラス基板21を用い、この基板
21上に、まず、突起部の高さだけの、突起部と隔壁が
つながった格子状の凸部66のパターンを公知の方法
(積層印刷法、サンドブラスト法、アディティブ法、感
光法、転写法など)で形成する(図10(a)参照)。
刷法により隔壁材料のペースト層67を形成し、壁状の
突起部51と隔壁29を形成する。凸部66のペースト
層67を積層した部分が隔壁29となり、ペースト層6
7を積層しなかった部分が壁状の突起部51となる(図
10(b)参照)。
ンドブラスト切削性の良い隔壁材料層を全面に形成し、
隔壁のマスクパターンを形成後、サンドブラストにて隔
壁を形成する方法や、感光性隔壁材料の全面形成および
隔壁パターンのフォトリソグラフィによっても所望形状
は形成可能である。
図2で示した第1例および第2例の形状の突起部および
隔壁の形成方法のみを説明したが、図4で示した第3例
および第4例の形状、あるいは図6で示した第5例の形
状の突起部および隔壁であっても、同様の方法で形成す
ることができる。
の製造方法によれば、従来の製造設備を用いて、従来の
製造方法の簡単な変更だけで高輝度なプラズマディスプ
レイパネルを製造することができ、工業的汎用性も高
く、さらに感光性材料の元型を利用した転写法やプレス
法を用いれば、より簡便で、歩留まりの高い、低コスト
な製造プロセスでプラズマディスプレイパネルを製造す
ることができる。
DPの内部構造を示す斜視図である。
を示す説明図である。
明図である。
を示す説明図である。
図である。
を示す説明図である。
第1例を示す説明図である。
第2例を示す説明図である。
第3例を示す説明図である。
の第4例を示す説明図である。
Claims (12)
- 【請求項1】 一対の基板を放電空間を有するように対
向配置し、放電空間を仕切るための複数の帯状の隔壁を
背面側または前面側の前記基板上に並列して配置すると
ともに、隔壁間の溝内の少なくとも放電部を形成する領
域に、前記隔壁よりも低い壁状の突起部を設け、その壁
状の突起部を含む隔壁間の溝内に蛍光体層を形成してな
るプラズマディスプレイパネルを製造する製造方法であ
って、 プラズマディスプレイパネルの背面側または前面側の基
板に壁状の突起部と隔壁を形成するに際し、基板上に第
1の感光性材料層を形成し、その上に壁状の突起部のパ
ターンを有するフォトマスクを配置して露光を行い、そ
のまま現像せずに第1の感光性材料層上に第2の感光性
材料層を形成し、その上に隔壁のパターンを有するフォ
トマスクを配置して露光を行った後に現像することによ
り、基板上に壁状の突起部と隔壁が形成された元型を作
製し、この元型を用いて転写用凹版を作製し、その転写
用凹版の凹部に隔壁材料を充填してプラズマディスプレ
イパネル用の基板に転写するか、あるいはこの元型を利
用してプレス凸版を作製し、そのプレス凸版を用いてプ
ラズマディスプレイパネル用の基板上の隔壁材料をプレ
ス成形することからなる工程により、当該プラズマディ
スプレイパネルの背面側または前面側の基板に壁状の突
起部と隔壁を形成するプラズマディスプレイパネルの製
造方法。 - 【請求項2】 一対の基板を放電空間を有するように対
向配置し、放電空間を仕切るための複数の帯状の隔壁を
背面側または前面側の前記基板上に並列して配置すると
ともに、隔壁間の溝内の少なくとも放電部を形成する領
域に、前記隔壁よりも低い壁状の突起部を設け、その壁
状の突起部を含む隔壁間の溝内に蛍光体層を形成してな
るプラズマディスプレイパネルを製造する製造方法であ
って、 プラズマディスプレイパネルの背面側または前面側の基
板に壁状の突起部と隔壁を形成するに際し、光透過性の
基板上に遮光性の材料からなる隔壁のパターンを形成
し、その上に第1の感光性材料層を形成し、その上に壁
状の突起部のパターンを有するフォトマスクを配置して
露光を行い、そのまま現像せずに第1の感光性材料層上
に第2の感光性材料層を形成し、その後、基板の背面か
ら露光を行った後に現像することにより、基板上に壁状
の突起部と隔壁が形成された元型を作製し、この元型を
用いて転写用凹版を作製し、その転写用凹版の凹部に隔
壁材料を充填してプラズマディスプレイパネル用の基板
に転写するか、あるいはこの元型を利用してプレス凸版
を作製し、そのプレス凸版を用いてプラズマディスプレ
イパネル用の基板上の隔壁材料をプレス成形することか
らなる工程により、当該プラズマディスプレイパネルの
背面側または前面側の基板に壁状の突起部と隔壁を形成
するプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項3】 一対の基板を放電空間を有するように対
向配置し、放電空間を仕切るための複数の帯状の隔壁を
背面側または前面側の前記基板上に並列して配置すると
ともに、隔壁間の溝内の少なくとも放電部を形成する領
域に、前記隔壁よりも低い壁状の突起部を設け、その壁
状の突起部を含む隔壁間の溝内に蛍光体層を形成してな
るプラズマディスプレイパネルを製造する製造方法であ
って、 プラズマディスプレイパネルの背面側または前面側の基
板に壁状の突起部と隔壁を形成するに際し、基板上に耐
サンドブラスト性の材料で凸部を形成した後、基板全面
にサンドブラスト切削性の良い隔壁材料層を形成し、そ
の上にフォトリソグラフィの手法を用いて耐サンドブラ
スト性のパターンを形成し、そのパターンを介してサン
ドブラストによって隔壁材料層を切削することからなる
工程により、当該プラズマディスプレイパネルの背面側
または前面側の基板に壁状の突起部と隔壁を形成するプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項4】 一対の基板を放電空間を有するように対
向配置し、放電空間を仕切るための複数の帯状の隔壁を
背面側または前面側の前記基板上に並列して配置すると
ともに、隔壁間の溝内の少なくとも放電部を形成する領
域に、前記隔壁よりも低い壁状の突起部を設け、その壁
状の突起部を含む隔壁間の溝内に蛍光体層を形成してな
るプラズマディスプレイパネルを製造する製造方法であ
って、 プラズマディスプレイパネルの背面側または前面側の基
板に壁状の突起部と隔壁を形成するに際し、基板上に同
じ高さの第1の壁状の突起部と第2の壁状の突起部を互
いに交差させて形成し、いずれか一方の壁状の突起部上
に隔壁の高さまで凸部を形成することからなる工程によ
り、当該プラズマディスプレイパネルの背面側または前
面側の基板に壁状の突起部と隔壁を形成するプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項5】 一対の基板を放電空間を有するように対
向配置し、放電空間を仕切るための複数の帯状の隔壁を
背面側または前面側の前記基板上に並列して配置すると
ともに、隔壁間の溝内の少なくとも放電部を形成する領
域に、前記隔壁よりも低い壁状の突起部を設け、その壁
状の突起部を含む隔壁間の溝内に蛍光体層を形成してな
るプラズマディスプレイパネルを製造する製造方法であ
って、 プラズマディスプレイパネルの背面側または前面側の基
板に壁状の突起部と隔壁を形成するに際し、基板上に第
1の感光性隔壁材料層を形成し、その上に壁状の突起部
のパターンを有するフォトマスクを配置して露光を行
い、そのまま現像せずに第1の感光性隔壁材料層上に第
2の感光性隔壁材料層を形成し、その上に隔壁のパター
ンを有するフォトマスクを配置して露光を行った後に現
像することからなる工程により、当該プラズマディスプ
レイパネルの背面側または前面側の基板に壁状の突起部
と隔壁を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方
法。 - 【請求項6】 一対の基板を放電空間を有するように対
向配置し、放電空間を仕切るための複数の帯状の隔壁を
背面側または前面側の前記基板上に並列して配置すると
ともに、隔壁間の溝内の少なくとも放電部を形成する領
域に、前記隔壁よりも低い壁状の突起部を設け、その壁
状の突起部を含む隔壁間の溝内に蛍光体層を形成してな
るプラズマディスプレイパネルを製造する製造方法であ
って、 プラズマディスプレイパネルの背面側または前面側の基
板に壁状の突起部と隔壁を形成するに際し、光透過性の
基板上に遮光性の材料からなる隔壁のパターンを形成
し、その上に第1の感光性隔壁材料層を形成し、その上
に壁状の突起部のパターンを有するフォトマスクを配置
して露光を行い、そのまま現像せずに第1の感光性隔壁
材料層上に第2の感光性隔壁材料層を形成し、その後、
基板の背面から露光を行った後に現像することからなる
工程により、当該プラズマディスプレイパネルの背面側
または前面側の基板に壁状の突起部と隔壁を形成するプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項7】 前面側の基板と背面側の基板との間に放
電空間を形成し、前面側の基板は面放電のための放電ス
リットを隔てて配置した表示電極対をそれぞれ放電しな
いスリットを隔てて複数対平行に配置し、背面側の基板
は表示電極対と交差する方向の複数のアドレス電極と、
隣接したアドレス電極の間に設けられ た帯状の隔壁とを
配置するとともに、隔壁間の溝内であって前面側基板の
非放電スリットに対応する位置に隔壁よりも低い壁状の
突起部を設け、その壁状の突起部を含む隔壁間に蛍光体
層を形成してなる面放電型プラズマディスプレイパネル
を製造する製造方法であって、 前記 プラズマディスプレイパネルの背面側基板に壁状の
突起部と隔壁を形成するに際し、基板上に第1の感光性
材料層を形成し、その上に壁状の突起部のパターンを有
するフォトマスクを配置して露光を行い、そのまま現像
せずに第1の感光性材料層上に第2の感光性材料層を形
成し、その上に隔壁のパターンを有するフォトマスクを
配置して露光を行った後に現像することにより、基板上
に壁状の突起部と隔壁が形成された元型を作製し、この
元型を用いて転写用凹版を作製し、その転写用凹版の凹
部に隔壁材料を充填して当該プラズマディスプレイパネ
ルの背面側基板に転写するか、あるいはこの元型を利用
してプレス凸版を作製し、そのプレス凸版を用いて当該
プラズマディスプレイパネルの背面側基板上の隔壁材料
をプレス成形することからなる工程により、当該プラズ
マディスプレイパネルの背面側基板に壁状の突起部と隔
壁を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項8】 前面側の基板と背面側の基板との間に放
電空間を形成し、前面側の基板は面放電のための放電ス
リットを隔てて配置した表示電極対をそれぞれ放電しな
いスリットを隔てて複数対平行に配置し、背面側の基板
は表示電極対と交差する方向の複数のアドレス電極と、
隣接したアドレス電極の間に設けられた帯状の隔壁とを
配置するとともに、隔壁間の溝内であって前面側基板の
非放電スリットに対応する位置に隔壁よりも低い壁状の
突起部を設け、その壁状の突起部を含む隔壁間に蛍光体
層を形成してなる面放電型プラズマディスプレイパネル
を製造する製造方法であって、 前記 プラズマディスプレイパネルの背面側基板に壁状の
突起部と隔壁を形成するに際し、光透過性の基板上に遮
光性の材料からなる隔壁のパターンを形成し、その上に
第1の感光性材料層を形成し、その上に壁状の突起部の
パターンを有するフォトマスクを配置して露光を行い、
そのまま現像せずに第1の感光性材料層上に第2の感光
性材料層を形成し、その後、基板の背面から露光を行っ
た後に現像することにより、基板上に壁状の突起部と隔
壁が形成された元型を作製し、この元型を用いて転写用
凹版を作製し、その転写用凹版の凹部に隔壁材料を充填
して当該プラズマディスプレイパネルの背面側基板に転
写するか、あるいはこの元型を利用してプレス凸版を作
製し、そのプレス凸版を用いて当該プラズマディスプレ
イパネルの背面側基板上の隔壁材料をプレス成形するこ
とからなる工程により、当該プラズマディスプレイパネ
ルの背面側基板に壁状の突起部と隔壁を形成するプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項9】 前面側の基板と背面側の基板との間に放
電空間を形成し、前面側の基板は面放電のための放電ス
リットを隔てて配置した表示電極対をそれぞれ放電しな
いスリットを隔てて複数対平行に配置し、背面側の基板
は表示電極対と交差する方向の複数のアドレス電極と、
隣接したアドレス電極の間に設けられた帯状の隔壁とを
配置するとともに、隔壁間の溝内であって前面側基板の
非放電スリットに対応する位置に隔壁よりも低い壁状の
突起部を設け、その壁状の突起部を含む隔壁間に蛍光体
層を形成してなる面放電型プラズマディスプレイパネル
を製造する製造方法であって、 前記 プラズマディスプレイパネルの背面側基板に壁状の
突起部と隔壁を形成するに際し、当該背面側基板上の前
記前面側基板の非放電スリットに対応する位置に耐サン
ドブラスト性の材料で凸部を形成した後、基板全面にサ
ンドブラスト切削性の良い隔壁材料層を形成し、その上
にフォトリソグラフィの手法を用いて耐サンドブラスト
性のパターンを形成し、そのパターンを介してサンドブ
ラストによって隔壁材料層を切削することからなる工程
により、当該プラズマディスプレイパネルの背面側基板
に壁状の突起部と隔壁を形成するプラズマディスプレイ
パネルの製造方法。 - 【請求項10】 前面側の基板と背面側の基板との間に
放電空間を形成し、前面側の基板は面放電のための放電
スリットを隔てて配置した表示電極対をそれぞれ放電し
ないスリットを隔てて複数対平行に配置し、背面側の基
板は表示電極対と交差する方向の複数のアドレス電極
と、隣接したアドレス電極の間に設けられた帯状の隔壁
とを配置するとともに、隔壁間の溝内であって前面側基
板の非放電スリットに対応する位置に隔壁よりも低い壁
状の突起部を設け、その壁状の突 起部を含む隔壁間に蛍
光体層を形成してなる面放電型プラズマディスプレイパ
ネルを製造する製造方法であって、 前記 プラズマディスプレイパネルの背面側基板に壁状の
突起部と隔壁を形成するに際し、当該背面側基板上に同
じ高さの表示電極対に平行な第1の壁状の突起部とアド
レス電極に平行な第2の壁状の突起部を互いに交差させ
て形成し、第2の壁状の突起部上に隔壁の高さまで凸部
を形成することからなる工程により、当該プラズマディ
スプレイパネルの背面側基板に壁状の突起部と隔壁を形
成するプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項11】 前面側の基板と背面側の基板との間に
放電空間を形成し、前面側の基板は面放電のための放電
スリットを隔てて配置した表示電極対をそれぞれ放電し
ないスリットを隔てて複数対平行に配置し、背面側の基
板は表示電極対と交差する方向の複数のアドレス電極
と、隣接したアドレス電極の間に設けられた帯状の隔壁
とを配置するとともに、隔壁間の溝内であって前面側基
板の非放電スリットに対応する位置に隔壁よりも低い壁
状の突起部を設け、その壁状の突起部を含む隔壁間に蛍
光体層を形成してなる面放電型プラズマディスプレイパ
ネルを製造する製造方法であって、 前記 プラズマディスプレイパネルの背面側の基板に壁状
の突起部と隔壁を形成するに際し、当該背面側基板上に
第1の感光性隔壁材料層を形成し、その上に壁状の突起
部のパターンを有するフォトマスクを配置して露光を行
い、そのまま現像せずに第1の感光性隔壁材料層上に第
2の感光性隔壁材料層を形成し、その上に隔壁のパター
ンを有するフォトマスクを配置して露光を行った後に現
像することからなる工程により、当該プラズマディスプ
レイパネルの背面側基板に壁状の突起部と隔壁を形成す
るプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項12】 前面側の基板と背面側の基板との間に
放電空間を形成し、前面側の基板は面放電のための放電
スリットを隔てて配置した表示電極対をそれぞれ放電し
ないスリットを隔てて複数対平行に配置し、背面側の基
板は表示電極対と交差する方向の複数のアドレス電極
と、隣接したアドレス電極の間に設けられた帯状の隔壁
とを配置するとともに、隔壁間の溝内であって前面側基
板の非放電スリットに対応する位置に隔壁よりも低い壁
状の突起部を設け、その壁状の突 起部を含む隔壁間に蛍
光体層を形成してなる面放電型プラズマディスプレイパ
ネルを製造する製造方法であって、 前記 プラズマディスプレイパネルの背面側基板に壁状の
突起部と隔壁を形成するに際し、光透過性の当該背面側
基板上に遮光性の材料からなる隔壁のパターンを形成
し、その上に第1の感光性隔壁材料層を形成し、その上
に壁状の突起部のパターンを有するフォトマスクを配置
して露光を行い、そのまま現像せずに第1の感光性隔壁
材料層上に第2の感光性隔壁材料層を形成し、その後、
背面側基板の背面から露光を行った後に現像することか
らなる工程により、当該プラズマディスプレイパネルの
背面側基板に壁状の突起部と隔壁を形成するプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。
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