CN1467719A - 光信息记录介质 - Google Patents

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Abstract

一种光信息记录介质，是依次具有基板、记录层、阻挡层、胶粘剂层或者粘合剂层、以及覆盖层且具有中心孔，并通过从所述覆盖层侧照射激光来记录再现信息的圆盘状的光信息记录介质，其中，所述阻挡层覆盖了所述记录层表面以及所述记录层的外周边部端面或/和内周边部端面，而且所述基板和所述覆盖层的内周部或/和外周部的至少一部分区域通过所述胶粘剂层或者所述粘合剂层相粘合，而且该区域在直径方向上的长度的最大值是在0.4mm以上。另外，本发明还提供了另外两种光信息记录介质。

Description

光信息记录介质
技术领域
本发明涉及一种通过使用特定波长的激光能够记录和再现信息的追记型光信息记录介质。
背景技术
以往公知的有用激光可以进行限一次信息记录的光信息记录介质(光盘)。该光盘也可称为追记型CD(所谓CD-R)，通常在透明的圆盘状基板上具有由有机色素组成的记录层、由金等金属组成的反射层、以及树脂制造的保护层(覆盖层)。通过在CD-R上照射近红外区域的激光(通常780nm附近的波长的激光)，记录层的照射部分吸收其光而发生局部的温度上升，从而记录层上产生物理或者化学变化(例如，凹陷的生成)而使该部分的光学特性发生变化，从而在CD-R上记录信息。另一方面，通过在CD-R上照射与记录用的激光波长相同波长的激光，检测记录层的光学特性发生变化的部位(记录部分)和没有发生变化的部位(没有记录部分)的反射率的差异，读取(再现)该信息。该CD-R具有可以用市售的CD播放机再现的优点，另外最近随着个人计算机的普及，其需求也增大了。
近年来，市场上需求记录密度比通常的更高的光信息记录介质。针对这样的要求，已提出了被称为追记型数字·视频·光盘(所谓DVD-R)的光盘(例如，“日经新型传输媒介”增刊“DVD”，1995年发行)。该DVD-R具有下述结构：在以相当于CD-R的一半以下宽度(0.74-0.8μm)的狭窄宽度形成有用于跟踪所照射的激光的导向槽(预槽)的透明的圆盘状基板上，通常以记录层为内侧贴合依次层压含有机色素的记录层、反射层和保护层的两个圆盘的结构；或者以记录层为内侧贴合该圆盘和相同形状的圆盘状保护基板的结构。而且，对该DVD-R的信息的记录和再现可以通过照射可见激光(通常630nm-680nm范围波长的激光)来进行，可以进行比CD-R更高密度的记录。
最近，因特网等网络和高清晰TV正在迅速地普及起来。另外，也开始了HDTV(High Definition Television)的放映。在这种状况下，需要提供可以廉价且简便地记录图象信息的大容量的记录介质。DVD-R在现状中充分起到了作为大容量的记录介质的作用，但是对大容量化、高密度化的要求越来越高，因此需要开发可以与这些要求相应的记录介质。因此，目前正对可以利用比DVD-R更短波长的光进行高密度的记录的更大容量的记录介质进行着开发。特别是，由于可以限一次信息记录的追记型光信息记录介质用于大容量信息的长期保存或者后备(back up)的使用频率高，所以对其开发的要求非常强烈。
例如，作为以由通过适于高密度记录的高NA的透镜的光所产生的记录为前提的光信息记录介质，已公开有在基板上依次设置反射层、记录层、比基板还薄的覆盖层的光信息记录介质，另外公开了通过从覆盖层侧向反射层侧照射波长550nm以下的短波长侧的激光，进行信息的记录再现的记录再现方法。而且，作为利用这样短的激光的光信息记录介质的记录层形成色素，公开了卟啉化合物、偶氮色素、金属偶氮类色素、奎酞酮类色素、三甲川菁色素、二氰基乙烯基苯基结构色素以及香豆素化合物等(例如特开平4-74690号公报，特开平7-304256号公报，特开平7-304257号公报、特开平8-1271705号公报、特开平11-53758号公报、特开平11-334204号公报、特开平11-334205号公报、特开平11-334206号公报、特开平11-334207号公报、特开2000-43423号公报、特开2000-108513号公报、特开2000-149320号公报、特开2000-158818号公报、特开2000-228028号公报、以及特开2001-146074号公报等)。即使是这些以外的化合物，如果是能够吸收记录中使用的激光的化合物，则原理上也可以作为记录层用色素使用，这对本领域技术人员来说，是可以很容易地联想到的化合物。而且，作为记录再现用的激光，提出了蓝紫色(波长405nm或者410nm)、蓝色(波长430nm或者488nm)或者蓝绿色(波长515nm)。
可以利用以上的短波长激光记录和再现信息的光信息记录介质，一般在基板上依次具有例如反射层、记录层、阻挡层、胶粘剂层或者胶粘剂层、以及覆盖层，与CD-R和DVD-R的层结构不同。因此，激光的照射方向与CD-R和DVD-R相反，存在CD-R和DVD-R中不成问题的层的剥离问题，对各层间要求高的粘合性。但是，在有机物(记录层等)和无机物(反射层、阻挡层)相邻的层结构上，由于存在容易剥离的界面，所以不能获得足够的贴合强度，从而有进一步改善的余地。另外，如果按照该层结构，特别在外周边部中记录层会露到外面，由于氛围气体温度、湿度等，其保存性会恶化。
另外，在利用如上所述的蓝紫色激光和高NA拾波器的光记录系统中所使用的光信息记录介质中，向记录层照射蓝紫色激光时，为了调节高NA的物镜焦点，使激光入射的覆盖层变薄为宜。其中，作为覆盖层，例如可以使用薄膜，并利用胶粘剂和胶粘剂粘结在记录层的整个表面上。覆盖层的厚度通常是包括由胶粘剂和胶粘剂固化而成的粘合层和胶粘层约为100μm，但根据所照射的激光的波长和NA可进行最优化。
如上所述，如果由于由覆盖层构成光入射面而与记录层粘结时不能均匀粘结，而且在其表面上产生起伏和弯度，则由于入射光的散射等，反射率会下降，结果存在不能获得高的记录特性的问题。
发明内容
本发明是鉴于以上现有的问题而完成的，目的是提供各层间粘合性高、保存性优良、具有稳定的记录再现特性的光信息记录介质。
另外，本发明的另一个目的是提供具备光入射面的表面均匀性(粗糙度)高的覆盖层且具有优良的记录特性的光信息记录介质。
本发明的第1方案是提供一种光信息记录介质，是依次具有基板、记录层、阻挡层、胶粘剂层或者胶粘剂层、以及覆盖层(カバ-シ-ト)，且具有中心孔，并通过从所述覆盖层侧照射激光，记录再现信息的圆盘状的光信息记录介质，其中，所述阻挡层覆盖所述记录层表面以及所述记录层的外周边部端面或/和内周边部端面，而且所述基板和所述覆盖层的内周部或/和外周部的至少一部分区域通过所述胶粘剂层或者所述胶粘剂层相粘合，且该区域在直径方向上的长度的最大值在0.4mm以上。
本发明的第2方案是提供一种光信息记录介质，是依次具有基板、反射层、记录层、阻挡层、胶粘剂层或者粘合剂层、以及覆盖层且具有中心孔，并通过从所述覆盖层侧照射激光来记录再现信息的圆盘状的光信息记录介质，其中，所述反射层比所述记录层大，且所述阻挡层粘合在所述反射层的表面的外周边部或/和内周边部，而且所述基板和所述覆盖层的内周部或/和外周部的至少一部分区域通过所述胶粘剂层或者所述粘合剂层相粘合，而且该区域在直径方向上的长度的最大值在0.4mm以上。
本发明的第3方案是提供一种光信息记录介质，是依次具有基板、记录层和覆盖层，通过从该覆盖层侧照射激光来记录和再现信息的光信息记录介质，其中，所述覆盖层与所述记录层表面进行接合的面的中心线平均粗糙度(Ra)是在0.1μm以上，且所述覆盖层的内周边部和外周边部的至少一部分分别粘合在所述基板上。
附图说明
图1是表示适用本发明第1方案的光信息记录介质的俯视图。
图2是沿图1的II-II线的截面图。
图3是表示适用本发明第1方案的光信息记录介质的变形例的俯视图。
图4是沿图3的IV-IV线的截面图。
图5是表示适用本发明第1方案的光信息记录介质的另一个变形例的俯视图。
图6是沿图5的VI-VI线的截面图。
图7是表示适用本发明第2方案的光信息记录介质的俯视图。
图8是沿图7的II-II线的截面图。
图9是表示适用本发明第2方案的光信息记录介质的变形例的俯视图。
图10是表示适用本发明第2方案的光信息记录介质的变形例的截面图。
具体实施方式
下面，对本发明的光信息记录介质的实施方式进行说明。
本发明的第1方案的光信息记录介质依次具有基板、根据需要而设的反射层、记录层、阻挡层、胶粘剂层或者粘合剂层、以及覆盖层，且具有中心孔，并通过从所述覆盖层侧照射激光记录再现信息。该阻挡层覆盖了所述记录层表面以及所述记录层的外周边部端面或/和内周边部端面。另外，所述基板和所述覆盖层的内周部或/和外周部的至少一部分区域通过所述胶粘剂层或者所述粘合剂层粘合，该区域在直径方向上的长度的最大值在0.4mm以上。
图1、图2是分别表示适用本发明第1方案的光信息记录介质的一个例子的俯视图、截面图。如图2所示，光信息记录介质10在基板12上依次具有反射层14、记录层16、阻挡层18、粘合剂层20以及覆盖层22，且在中央部分设有中心孔24。在图1中，在外周边附近用虚线画的两个圆中，外侧的圆表示阻挡层18的外周边，内侧的圆表示反射层14和记录层16的外周边。另外，在内周边附近，用虚线画的两个圆中，外侧的圆表示反射层14和记录层16的内周边，内侧的圆表示阻挡层18的内周边。即，如图2中所示，反射层14和记录层16的内周边在相同的位置上，另外其外周边也在相同的位置上，阻挡层18覆盖了记录层16的表面及反射层14和记录层16的外周部端面和内周部端面。因此，记录层16不会露到外面，而且由于受到阻挡层18的保护，其保存性优良。
另一方面，在光信息记录介质10中，在图1中用大致扇形的虚线表示的外周部和内周部的各自四个区域(以下称作“粘合区域”)中，基板12和覆盖层22通过粘合剂层20粘合。这些设置在内周边附近和外周边附近的各自四个粘合区域在直径方向上的长度的最大值(从直径方向上的粘合区域的顶点到光信息记录介质10的内周边的长度)是0.5mm。而且，由于这些粘合区域的存在，反射层14、记录层16和阻挡层18可以牢固地粘合在基板12上。因此，可以防止光信息记录介质10的各层的剥离。其中，所谓外周部指基板12和覆盖层22中比粘合剂层18的外周边更靠外侧的部分，内周部指基板12和覆盖层22中比粘合剂层18的内周边更靠内侧的部分。
下面，表示本发明的第1方案的光信息记录介质的两个变形例(图3-图6)。在图3-图6中，对与图1、图2中所示的光信息记录介质10相同的构成要素赋予相同的符号。图3、图4中所示的光信息记录介质10a在阻挡层18不覆盖反射层14和记录层16的内周边部端面这一点上与图1、图2的方式不同，图5、图6中所示的光信息记录介质10b在阻挡层18不覆盖反射层14和记录层16的外周边部端面这一点上与图1、图2的方式不同。无论在哪个例子中，阻挡层18都覆盖记录层16的表面以及外周边部端面或者内周边部端面，保存性都优良，但是在图1、图2所示的例子中，记录层16的内周边部端面以及外周边部端面最好都被阻挡层18覆盖。
如上所述，由于阻挡层覆盖了记录层的表面以及反射层和记录层的端面，所以阻挡层和反射层以及记录层的外围直径或/和内围直径不相同，所述阻挡层的外围直径和所述反射层以及记录层的外围直径的差优选为0.1-2mm，更优选为0.2-1mm。另外，所述阻挡层的内围直径和所述反射层以及记录层的内围直径的差优选为0.1-5mm，更优选为0.2-2mm。
本发明的第2方案的光信息记录介质依次具有基板、反射层、记录层、阻挡层、胶粘剂层或者粘合剂层、以及覆盖层，且具有中心孔，并通过从所述覆盖层侧照射激光来记录再现信息。该反射层比所述记录层大，且所述阻挡层粘合在所述反射层表面的外周边部或/和内周边部。另外，当只有阻挡层的外周边部或者内周边部中的任一个粘合在反射层上时，阻挡层中与粘合在反射层的周边部相反侧的周边部，和记录层的周边部位于同一位置。另外，所述基板和所述覆盖层的内周部或/和外周部的至少一部分的区域通过所述胶粘剂层或者所述粘合剂层粘合，而且该区域在直径方向上的长度的最大值是在0.4mm以上。
图7、图8是分别表示适用本发明第2方案的光信息记录介质的一个例子的俯视图、截面图。如图8中所示，光信息记录介质110在基板112上依次具有反射层114、记录层116、阻挡层118、粘合剂层120以及覆盖层122，且在中央部分设有中心孔124。在图7中，在外周边附近用虚线画的三个圆中，外侧的圆表示阻挡层118的外周边，中间的圆表示反射层114的外周边，内侧的圆表示记录层116的外周边。即，如图8中所示，阻挡层118粘合在反射层114表面的外周边部，而且覆盖着记录层116的表面及反射层114和记录层116的两个端面。根据该结构，由于反射层114的外周边比记录层116的外周边还靠外侧，且反射层114的内周边和记录层116的内周边位于相同的位置，所以基板112不会与记录层116接触。而且，基板112和记录层116一般由有机物构成(后面进行详述)，但是有机物即基板上含有的杂质可以被由金属构成的反射层114和由无机物构成的阻挡层118所遮挡，不会对记录层116带来坏的影响。因此，记录层116具有优良的保存性。
另一方面，光信息记录介质110在图7中用大致扇形的虚线表示的外周部和内周部的各自四个区域(以下称作“粘合区域”)中，基板112和覆盖层122通过粘合剂层120粘合。这些设置在内周边附近和外周边附近的各自四个粘合区域在直径方向上的长度的最大值是0.5mm。而且，由于这些粘合区域的存在，反射层114和记录层116和阻挡层118可以牢固地粘合在基板112上。因此，可以防止光信息记录介质110的各层的剥离。其中，所谓外周部指基板112和覆盖层122中比反射层114、记录层116和阻挡层118的外周边更靠外侧的部分，内周部指基板112和覆盖层122中比反射层114、记录层116和阻挡层118的内周边更靠内侧的部分。
下面，表示本发明的第2方案的光信息记录介质的变形例(图9、图10)。在图9、图10中，对与图7、图8中所示的光信息记录介质110相同的构成要素赋予相同的符号。图7、图8中所示的光信息记录介质110a在阻挡层118也粘合在反射层114的内周边部表面上这一点上与图7、图8的方式不同。该例中阻挡层118粘合于反射层114表面的外周边部以及内周边部这两者，其保存性比图7、图8中所示的光信息记录介质的记录层116的还优异。
如上所述，由于阻挡层粘合在反射层表面的外周边部或/和内周边部，所以反射层和记录层的外围直径或/和内围直径不同，所述反射层的外围直径和所述记录层的外围直径的差优选为0.1-2mm，更优选为0.2-1mm。另外，所述反射层的内围直径和所述记录层的内围直径的差优选为0.1-5mm，更优选为0.2-2mm。
另外，所述阻挡层和所述反射层的外围直径或/和内围直径也不同，所述阻挡层的外围直径和所述反射层的外围直径的差优选为0.1-2mm，更优选为0.2-1mm。另外，所述阻挡层的内围直径和所述反射层的内围直径的差优选为0.1-5mm，更优选为0.2-2mm。
在以上的图1-图10中，在外周部和内周部上分别设置了四个粘合区域，但是本发明并不限于此，粘合区域可设置多数(多个)，或者，优选在外周部和内周部的全体表面上设置。另外，粘合区域的平面形状并不限于扇形，也可以是多边形、圆、半圆、椭圆等。
在本发明的第1和第2方案中，将所述粘合区域在直径方向上的长度的最大值设为0.4mm以上，如果该最大值不到0.4mm，则粘合力不充分，有时会引起层的剥离。该最大值在外周部中更优选是在0.6mm以上，再优选0.7mm以上。另外，外周部中该最大值的上限是2mm。
此外，内周部中粘合区域在直径方向上的长度的最大值更优选为2.5mm以上，再优选在3mm以上，特别优选4mm以上。另外，内周部中该最大值的上限是15mm。
这些第1和第2方案的光信息记录介质优选是根据加热方式(heatmode)的追记型光信息记录介质。
本发明的第3方案的光信息记录介质是依次具有基板、根据需要而设的反射层、记录层、根据需要而设的阻挡层、和覆盖层，并通过从该覆盖层侧照射激光来记录和再现信息的光信息记录介质。该覆盖层与所述记录层表面进行接合的面的中心线平均粗糙度(Ra)是在0.1μm以上，且所述覆盖层的内周边部和外周边部的至少一部分分别粘接在所述基板上。其中，在本发明中，所谓“覆盖层的内周边部和外周边部粘接在基板上”通常是指在基板上利用粘合剂和胶粘剂直接粘接覆盖层，但是也包括在比记录区域还广的区域上设置反射层时在基板上通过该反射层粘接覆盖层的情况。
首先，在本发明的第3方案的光信息记录介质中说明具有特征的覆盖层。
覆盖层具有与后述的基板相同的圆盘(disk)型形状，且在由基板和记录层组成的圆盘型层压体上，至少粘合在以下所示的粘合区域。
在本发明的第3方案中，要求覆盖层中与所述记录层表面进行接合的面的中心线平均粗糙度(Ra)在0.1μm以上。
本发明的第3方案的光信息记录介质，是在使表面粗糙度在所述规定范围内的面与记录层表面接合的情况下粘接该覆盖层的内周边部及外周边部和基板而成。这样，通过将覆盖层的内周边部及外周边部和基板进行粘合，在设有记录层的区域中，由所述表面粗糙度产生的覆盖层的凸部与记录层接触，而在除记录区域之外的部分，覆盖层和基板进行粘合。
这样，通过将表面粗糙度规定在所述范围内，以在覆盖层中与记录层表面接合的面上保持一定的粗糙度，并在内周边部和外周边部使该覆盖层与基板进行粘合，在记录层和覆盖层之间可以形成因表面粗糙度引起的没有粘合的一定的空隙。利用该空隙，可以控制因记录层和覆盖层的粘合引起的覆盖层的变形和弯度的发生。由于具备了这样的覆盖层，所以本发明的光信息记录介质具有优良的记录特性。
如上所述，在本发明第3方案的特征在于覆盖层中与所述记录层表面进行接合的面的中心线平均粗糙度(Ra)在0.1μm以上，如果该表面粗糙度过大，则由于凸凹部分，产生入射光的散射等影响的可能性变高，所以中心线平均粗糙度(Ra)在500μm以下为宜。即，覆盖层中与所述记录层表面进行接合的面的中心线平均粗糙度(Ra)优选在0.1-500μm范围内，更优选为1-300μm范围内，进一步优选为5-100μm范围内。
其中，中心线平均粗糙度(Ra)是指从粗糙度曲线中沿中心线的方向抽出测定长度L的部分，并对该抽出部分的中心线和粗糙度曲线的偏差的绝对值进行算术平均的值。
当表面粗糙度小于0.1μm时，和记录层的粘合性增强，有时难以形成没有粘合的一定的空隙。
覆盖层的内周边部和外周边部粘合在基板上。其中，所谓成为覆盖层的粘合区域的“内周边部和外周边部”是指成形为圆盘型的覆盖层中未与记录层(记录区域)接合并且包括内周边的区域和包括外周边的区域的部分。
作为粘合该粘合区域的方法，可以使用现有的公知的方法，具体有融接法、和使用胶粘剂或者粘合剂的方法。从融接法中使用的加热方法或胶粘剂或者粘合剂不给记录层中的色素带来影响的观点出发，粘合区域最好和可以与记录层接合的部分相距0.1mm以上，更优选为相距0.5mm以上，进一步优选为相距1mm以上。另外，制造光信息记录介质时，优选使进行固定或者吸附时采用的区域即固紧区域(clamp area)(通常，从圆盘型的覆盖层的中心开始半径达11-16.5mm的范围)以外的部分进行粘合。
由此，粘合区域设置在从圆盘型的覆盖层的中心开始半径达17-22mm的范围区域、以及半径56-60mm的范围区域里，其宽度优选为0.2-2mm。另外，所述范围的粘合区域既可以将全部范围粘合为环状，也可以等间隔地局部粘合所述区域。
下面，对本发明第3方案中使用的粘合手段进行说明。
所谓融接法是用于比较柔软且熔点低的塑料的粘合的方法。在融接法中，有热融接、电磁波融接、超声波融接、摩擦融接，特别优选超声波融接。
使用超声波融接粘合覆盖层时，既可以直接融接覆盖层，也可以使粘合剂介于覆盖层和基板之间，使该粘合剂融接，这些也可根据该覆盖层的材质而定。
在本发明的第3方案中，通常使用使覆盖层本身融接的粘合方法，具体地讲是，首先，使成为超声波融接的粘合区域的覆盖层的内周边部以及外周边部及基板的位置重合之后，从其外侧用超声波喇叭(ホ-ン)加压，同时施加超声波振动，利用粘合部分的机械摩擦和粘弹性特性，使覆盖层本身熔融、固化，从而完成粘合。
使粘合剂介于覆盖层和基板之间时，作为使用的粘合剂，也可以在用超声波加热之前事先将液态的物质涂布于覆盖层和基板中的至少一侧上并使其干燥，另外，也可以在覆盖层和基板之间配置薄膜状、颗粒状、带状、B-阶梯状等结构，一边对其加压，一边进行超声波加热。如果作为粘合剂使用两面粘合带，则可简化工序，而且可以得到不会产生因使用溶剂而引起的设备和安全性问题的优点。
另外，使用胶粘剂或者粘合剂而粘合覆盖层时，通过在成为粘合区域的覆盖层的内周边部以及外周边部和基板之间配置胶粘剂或者粘合剂，并使其固化而完成粘结。这时，最好采用例如丝网印刷法和分配器(デイスペンサ)将粘合剂或者胶粘剂配置在粘合区域。
作为使用的粘合剂，优选例如，UV固化树脂、EB固化树脂、热固化树脂等，特别优选使用UV固化树脂。
作为粘合剂使用UV固化树脂时，将该UV固化树脂原样地、或者溶解于甲乙酮、乙酸乙酯等适当的溶剂中而调制成涂覆液，并提供给基板表面或覆盖层。另外，为了防止制造的光信息记录介质翘起，优选使用固化收缩率小的UV固化树脂。
作为这样的UV固化树脂，可以举例为例如，大日本化学工业(株)社制造的“SD-640”等UV固化树脂。
另外，作为胶粘剂，可以使用丙烯酸类、橡胶类、硅类胶粘剂，但是从透明性、耐久性的观点出发，优选丙烯酸类胶粘剂。作为这样的丙烯酸类胶粘剂，优选使用使作为主单体的丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正丁酯等；和用于提高凝集力的短链烷基丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯；和可以成为与交联剂的交联点的丙烯酸、甲基丙烯酸、丙稀酰胺衍生物、马来酸、丙烯酸羟基乙酯、丙烯酸缩水甘油酯等进行共聚的物质。通过适当调节主单体、短链成分和用于增加交联点的成分的混合比例、种类，可以改变玻璃化转变温度(Tg)或交联密度。
作为与所述胶粘剂并用的交联剂，可以举例为例如异氰酸酯类交联剂。作为这样的异氰酸酯类交联剂，可以使用甲苯撑二异氰酸酯、4，4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、六甲撑二异氰酸酯、苯二甲基二异氰酸酯、萘撑-1，5-二异氰酸酯、邻甲苯胺异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、三苯基甲烷三异氰酸酯等异氰酸酯类，还有这些异氰酸酯类和多元醇的生成物，还有通过异氰酸酯类的缩合生成的聚异氰酸酯类。作为这些市售的异氰酸酯类商品，可以举例为日本聚氨酯社制造的コロネ-トL、コロネ-トHL、コロネ-ト2030、コロネ-ト2031、ミリォネ-トMR、ミリォネ-トHTL；武田药品社制造的タケネ-トD-102、タケネ-トD-110N、タケネ-トD-200、タケネ-トD-202；住友バイェル社制造的デスモジユ-ルL、デスモジユ-ルIL、デスモジユ-ルN、デスモジユ-ルHL等。
调节所涂布的粘合剂或者胶粘剂的量，以便最终形成的粘接层或者粘合层的厚度在0.1-100μm范围内，优选在0.5-50μm范围内，更优选10-30μm范围内。
下面，对本发明第1-第3方案中使用的光信息记录介质的基板以及各层进行详述(但是，第3方案中使用的粘合剂、胶粘剂、粘接方法除外)。<基板>
作为基板，可以任意选择并使用作为现有的光信息记录介质的基板材料所用的各种材料。
具体地，可以举例为玻璃；聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸树脂；聚氯乙稀、氯乙烯共聚物等氯乙烯类树脂；环氧树脂；无定形的聚烯烃；聚酯；铝等金属等，也可以根据需要将这些混合使用。
在所述材料中，从耐湿性、尺寸稳定性和低价格等观点出发，优选聚碳酸酯、无定形聚烯烃，特别优选聚碳酸酯。在第1和第2方案中，基板的厚度优选为0.5-1.4mm，在第3方案中优选为1.1±0.3mm。
在基板上，形成有跟踪用的导向槽或者表示地址信号等信息的凹凸部(预槽)。优选在使聚碳酸酯等树脂材料射出成形或者挤压成形时直接在基板上形成该预槽(プレグル-ブ)。
另外，也可以通过设置预槽层来形成导向槽。作为预槽层的材料，可以使用丙烯酸的单酯、二酯、三酯以及四酯中的至少一种单体(或者低聚物)和光聚合引发剂的混合物。预槽层的形成中，例如，首先在精密制作的母模型(スタンパ)上涂布由所述的丙烯酸酯和聚合引发剂组成的混合液，进而在该涂布液层上载置基板之后，通过基板或者母模型照射紫外线使涂布层固化，从而使基板和涂布层粘合。然后，可以通过从母模型上剥离基板而获得。预槽层的层厚一般在0.01-100μm范围内，优选在0.05-50μm的范围内。
为了达到更高的记录密度，优选使用形成有比CD-R和DVD-R更窄的磁道间距的预槽的基板。在第1和第2方案中，预槽的磁道间距是250-400nm。另外，在第1和第2方案中，预槽的深度(槽深)在10-150nm范围内，优选15-100nm，更优选20-80nm，最优选20-60nm。
在本发明的第3方案中，基板的预槽的磁道间距优选为200-400nm的范围内，更优选为250-350nm的范围内。
另外，在第3方案中预槽的槽深优选为10-150nm的范围，更优选为20-100nm的范围，进一步优选为30-80nm的范围。另外，在第3方案中预槽的半宽值优选为50-250nm范围，更优选为100-200nm范围。
而且，设置下述的反射层时，在设置反射层侧的基板表面上，优选形成底涂层，目的是改善平面性、提高粘合力。
作为该底涂层的材料，可以举例为例如聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯马来酸酐共聚物、聚乙烯醇、N-羟甲基丙稀酰胺、苯乙烯乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝基纤维素、聚氯乙稀、氯化聚烯烃、聚酯、聚酰亚胺、乙酸乙烯酯氯乙烯共聚物、乙烯乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物质；硅烷偶合剂等表面改性剂。
底涂层可以通过将所述材料溶解或者分散于适当的溶剂并调制为涂布液后，使用旋转涂布、浸渍涂布、挤压涂布等涂布方法将该涂布液涂布在基板表面上形成。底涂层的层厚一般为0.005-20μm范围，优选为0.01-10μm范围。<反射层>
光反射层是在基板和记录层之间设置的层，目的是提高再现信息时的反射率。在反射层中，可以使用相对于激光的反射率高的光反射性物质。优选该反射率为70％以上。
作为反射率高的光反射性物质，可以举例为Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等金属和半金属或者不锈钢。这些光反射性物质既可以单独使用，或者也可以二种以上组合，或者作为合金使用。在这些物质中，优选的是Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al和不锈钢。特别优选Au、Ag、Al或者这些的合金，最优选Au、Ag或者这些的合金。
反射层可以通过将所述的光反射性物质进行蒸镀、溅射或者离子电镀形成在基板上。反射层的层厚一般为10-300nm范围，优选为50-200nm范围。
在第1和第3方案中下述的记录层的反射率足够大时，未必需要上述的反射层，此时记录层可起到反射层的作用。<记录层>
记录层优选含有在激光的波长区域具有极大吸收的色素，特别为了在500nm以下波长的激光下可以记录和再现，更优选含有在该波长区域具有极大吸收的色素。作为色素化合物，优选三唑类化合物、酞菁化合物、卟啉类化合物、氨基丁二烯类化合物、菁类化合物、氧杂菁(オキソノ-ル)色素、金属配位化合物色素、偶氮色素等中的至少一种，作为酞菁化合物，优选烷氧基取代物、磺胺取代物、氨磺酰(スルフオモイル)取代物、磺酸取代物中的至少一种。
具体地说，可以使用特开平4-74690号公报、特开平8-127174号公报、特开平11-53758号公报、特开平11-334204号公报、特开平11-334205号公报、特开平11-334206号公报、特开平11-334207号公报、特开2000-43423号公报、特开2000-108513号公报、和特开2000-158818号公报等中记载的色素。
另外，并不限于上述色素，也适宜使用三唑化合物、三嗪化合物、菁化合物、份菁化合物、氨基丁二烯化合物、酞菁化合物、肉桂酸化合物、氧化还原化合物、偶氮化合物、氧杂菁苯并噁唑化合物、苯并三唑衍生物等有机化合物。在这些化合物中，优选菁、氨基丁二烯、苯并三唑、酞菁。
记录层是通过将所述色素(有机物等)等记录物质和根据需要所加的结合剂等一起溶解于适当的溶剂并调制成记录层涂布液，然后将该记录层涂布液涂布在基板的预槽表面、或者反射层表面上并形成涂膜以后进行干燥而形成。
另外，作为对色素和结合剂进行溶解处理的方法，可以适用超声波处理、匀化器处理、分散器处理、混砂机处理、搅拌器搅拌处理、加温等方法。
作为调制记录层涂布液时的溶剂，可以举例为乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、2-乙氧基乙醇乙酸酯等酯；甲乙酮、环己酮、甲基异丁基酮等酮；二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、氯仿等氯化烃；二甲替甲酰胺等酰胺；甲基环己烷等烃；四氢呋喃、乙醚、二噁烷等醚；乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、二丙酮醇等醇；2，2，3，3-四氟丙醇等氟类溶剂；乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚等二元醇醚类等。
考虑到使用的记录物质和结合剂的溶解性，所述溶剂可以单独或者组合二者以上使用。在涂布液中也可以根据目的进一步加入抗氧化剂、UV吸收剂、增塑剂、润滑剂等各种添加剂。
作为结合剂的例子，可以举例为明胶、纤维素衍生物、葡聚糖、松香、橡胶等天然有机高分子物质；聚氨酯、聚乙烯、聚丙稀、聚苯乙烯、聚异丁烯等烃类树脂；聚氯乙稀、聚偏氯乙烯、聚氯乙稀·聚乙酸乙烯酯共聚物等乙烯类树脂；聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸树脂；聚乙烯醇；氯化聚乙烯；环氧树脂；丁醛树脂；橡胶衍生物；苯酚·甲醛树脂等热固性树脂的初期缩合物等合成有机高分子等。作为记录层的材料混合使用结合剂时，结合剂的使用量(质量)一般为记录物质的质量的0.01-50倍范围，优选为0.1-5倍范围。通过在记录层中含有结合剂，也可以改善记录层的保存稳定性。
记录层涂布液中记录物质的浓度一般为0.01-15质量％范围，优选0.01-10质量％范围，进一步优选0.1-10质量％范围，更优选0.1-5质量％范围，进一步更优选0.5-5质量％范围，最优选0.5-3质量％范围。
作为记录层涂布液的涂布方法，可以举例为喷雾法、旋涂法、浸渍法、滚涂法、刀片法、刮刀辊法、丝网印刷法等。记录层既可以是单层也可以是多层。另外，记录层的层厚，在第1和第2方案中，一般为20-500nm范围，优选30-300nm范围，更优选50-100nm范围。另外，在第3方案中记录层的层厚一般为20-500nm范围，优选50-300nm范围。
另外，作为涂布温度，如果是23-50℃，则没有问题，但是优选24-40℃，更优选25-37℃。
为了提高该记录层的耐光性，记录层可以含有各种褪色抑制剂。
作为褪社抑制剂，一般使用单重态氧猝熄物。作为单重态氧猝熄物，可以使用已经公知的专利说明书等出版物中记载的物质。
作为其具体例子，可以举例为特开昭58-175693号公报、特开昭59-81194号公报、特开昭60-18387号公报、特开昭60-19586号公报、特开昭60-19587号公报、特开昭60-35054号公报、特开昭60-36190号公报、特开昭60-36191号公报、特开昭60-44554号公报、特开昭60-44555号公报、特开昭60-44389号公报、特开昭60-44390号公报、特开昭60-54892号公报、特开昭60-47069号公报、特开昭63-209995号公报、特开平4-25492号公报、特公平1-38680号公报、特公平6-26028号公报等各公报、德国专利350399号说明书、以及日本化学会志1992年10月号第1141页等中记载的物质。
所述单重态氧猝熄物等褪色抑制剂的使用量相对于用于记录的化合物的量通常是0.1-50质量％范围，优选0.5-45％质量％范围，更优选3-40质量％范围，特别优选5-25质量％范围。
在本发明的第2方案的光信息记录介质中，为了确保使阻挡层和反射层表面的外周边部或/和内周边部的粘合区域，将所述记录层涂布液进行涂布后，洗涤除去该记录层的外周边部或/和内周边部。<阻挡层>
在形成的记录层的表面上，为了提高与覆盖层的粘合性和色素的保持性，也可以形成阻挡层。在第1和第2方案中，阻挡层形成在所述记录层和下述的胶粘剂层或者粘合剂层之间。作为构成阻挡层的材料，如果是可透过激光的材料，则没有特别的限制，但是优选为电介质。具体地讲，可以使用无机氧化物、氮化物、硫化物碳化物，可以举例为例如，含有从Zn、Si、Ti、Te、Sm、Mo、Ge等中任选的一个以上原子的氧化物、氮化物、碳化物、硫化物等。更加具体地讲，可以举例为ZnS、TiO2、SiO2、GeO2、Si3N4、Ge3N4、MgF2等，也可以如ZnS-SiO2等混合物。其中，优选ZnS-SiO2、或者SiO2。阻挡层可以通过溅射、离子电镀等形成，其厚度优选为1-100nm。
另外，在本发明的第1和第2方案中，为了确保基板和覆盖层的粘合区域，用掩膜设置不形成阻挡层的区域。
在本发明的第1和第2方案的光信息记录介质中，在上述的阻挡层上，通过以下所述的胶粘剂层或者粘合剂层贴合下述的覆盖层。<胶粘剂层>
胶粘剂层是为了粘接下述的覆盖层而形成的层，可以广泛使用现有公知的胶粘剂层。在第1和第2方案中作为胶粘剂，可以使用丙烯酸类胶粘剂或天然橡胶、苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯共聚物(SIS)、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物(SBS)等橡胶类胶粘剂。优选该胶粘剂事先涂布在覆盖层的贴合面上。在第1和第2方案中胶粘剂层的层厚为1-10μm，特别优选2-5μm的范围。<粘合剂层>
粘合剂层与胶粘剂层相同，也是为了粘接下述的覆盖层而形成的层。在第1和第2方案中作为构成粘合层的材料，可以举例为光固化性树脂、两液固化型粘合剂等，其中，优选光固化性树脂，为了防止圆盘的弯曲，优选固化收缩率小的材料。作为这样的光固化性树脂，可以举例为例如大日本油墨化学工业(株)制造的“SD-640”、“SD-661”、“SD-347”等UV固化性树脂(UV固化性粘合剂)。另外，在第1和第2方案中，为了保持弹性，粘接层的厚度优选为1-1000μm范围，更优选5-500μm范围，特别优选10-100μm范围。
在第1和第2方案中作为形成粘合剂层的材料的另一个例子，该材料是通过放射线照射可以固化的树脂，可以举例为在分子中具有两个以上的放射线官能性的双键的树脂，作为其例子，可以举例为丙烯酸酯类、丙稀酰胺类、甲基丙烯酸酯类、甲基丙稀酰胺类、烯丙基化合物、乙烯醚类、乙烯酯类等。优选的是两个官能团以上的丙烯酸酯化合物、甲基丙烯酸酯化合物。
作为两个官能团的具体例子，可以使用以乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、丁二醇二丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、丙二醇二甲基丙烯酸酯、丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三丙二醇二甲基丙烯酸酯等为代表的在脂肪族二醇上加成丙烯酸、甲基丙烯酸的物质。
另外，在第1和第2方案中也可以使用向聚乙二醇、聚丙二醇、聚四甲撑二醇等聚醚多元醇加成丙烯酸、甲基丙烯酸而成的聚醚丙烯酸酯、聚醚甲基丙烯酸酯；在由公知的二元酸和乙二醇获得的聚酯多元醇上加成丙烯酸、甲基丙烯酸而成的聚酯丙烯酸酯、聚酯甲基丙烯酸酯。
此外，在第1和第2方案中也可以使用在使公知的多元醇、二醇和聚异氰酸酯发生反应而成的聚氨酯上加成丙烯酸、甲基丙烯酸而成的聚氨酯丙烯酸酯、聚氨酯甲基丙烯酸酯。
还有，也可以在第1和第2方案中使用在双酚A、双酚F、氢化双酚A、氢化双酚F或这些的环氧化物加成物上加成丙烯酸、甲基丙烯酸加成的化合物或三聚异氰酸环氧化物改性二丙烯酸酯、三聚异氰酸环氧化物改性二甲基丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯等具有环状结构的物质。
作为所述放射线，可以使用电子束和紫外线。使用紫外线时必须向所述的化合物中加入光聚合引发剂。作为光聚合引发剂可以使用芳香族酮。对芳香族酮没有特别的限定，但是优选可产生通常作为紫外线照射光源使用的汞灯的明线光谱且在254、313、865nm的波长下的吸光系数比较大的物质。作为其代表例子，有苯乙酮、二苯甲酮、苯偶姻乙醚、苄基甲基缩酮、苄基乙基缩酮、苯偶姻异丁基酮、羟基二甲基苯基酮、1-羟基环己基苯基酮、2，2-二乙氧基苯乙酮、Michler’s酮等，可以使用各种芳香族酮。另外，作为紫外线固化型粘合剂事先加入光引发剂的有市售品，也可以使用它。作为紫外线光源，可以使用汞灯。作为汞灯，以0.3m/分钟-20m/分钟的速度使用20-200W/cm的灯。基体和汞灯的距离一般优选为1-30cm。
作为电子束加速器，可以采用扫描方式、二重扫描方式或者护梁方式。优选的是比较廉价且可获得大功率的护梁方式。作为电子束特性，加速电压是100-1000kV，优选150-300kV，吸收剂量是0.5-20Mrad，优选1-10Mrad。加速电压为10kV以下时，能量的透过量不足，如果超过1000kV，用于聚合的能量效率下降，成本方面不大理想。
为了防止圆盘的弯曲，对涂布膜的紫外线的照射优选使用脉冲型的光照射器(优选，UV照射器)进行。脉冲间隔优选msec以下，更优选μsec以下。对1脉冲的照射光量没有特别的限制，优选为3kW/cm2以下，更优选为2kW/cm2以下。
另外，对照射次数没有特别的限制，优选20次以下，更优选10次以下。<覆盖层>
作为形成覆盖层的材料，如果是透明的材料，则没有特别的限定，优选使用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸树脂；聚氯乙稀、氯乙烯共聚物等氯乙烯类树脂；环氧树脂；无定形聚烯烃；聚酯；三乙酸纤维素等，其中，更优选使用聚碳酸酯或者三乙酸纤维素。另外，优选在23℃50％RH下吸湿率为5％以下的材料。另外，对于覆盖层的表面物性，光入射面的表面粗糙度最好为(二维粗糙度参数以及三维粗糙度参数均为)5nm以下。
另外，从记录和再现时使用的光的聚光度的观点出发，覆盖层的双折射优选为10nm以下。
而且，所谓“透明”是指相对于记录和再现时使用的光，透过率为80％以上。
另外，在不妨碍本发明效果的范围内，覆盖层也可以含有各种添加剂。例如，也可以含有为了切断波长400nm以下的光的UV吸收剂或/和为了切断500nm以上的光的色素。
根据为了记录和再现而照射的激光波长或NA，可以适当规定覆盖层的厚度，在第1和第2方案中，优选为0.01-0.2mm范围，更优选0.03-0.1mm范围，进一步优选0.05-0.095mm范围。另外，在第3方案中优选为0.03-0.15mm，更优选0.05-0.12mm。通过设定为这样的范围，在贴合覆盖层的工序中覆盖层的处理变得容易，而且，具有可以抑制慧差的优点。
作为用所述胶粘剂层将覆盖层贴合于阻挡层上的方法，可以举例为在覆盖层上涂布胶粘剂，并使溶剂干燥后，隔着该胶粘剂，在阻挡层上载置覆盖层，并利用滚筒施加压力，从而使覆盖层贴合的方法。
而且，在第1和第2方案中，为了保持弹性，该胶粘剂层的厚度优选为1-200μm范围，更优选为5-10μm范围，特别优选为10-50μm范围。
作为胶粘剂的涂布温度，为了控制粘度，优选为23-50℃范围，更优选为24-40℃范围，进一步优选为25-37℃范围。涂布后，涂膜优选在50-300℃、更优选在80-200℃、进一步优选在100-150℃下被予以干燥。另外，作为贴合覆盖层的温度，优选为0-100℃范围，更优选15-50℃范围。
另外，对于使用的胶粘剂，也可以在具有脱模性的脱模薄膜上涂布胶粘剂并除去溶剂后，在得到的涂膜上贴合覆盖层，再通过剥离脱模薄膜在覆盖层上设置胶粘剂后，使覆盖层贴合在阻挡层上。特别在胶粘剂中含有的溶剂溶解覆盖层时，优选该方法。
使用在脱模薄膜上设有胶粘剂层的片材时，如果作为基材材料使用的薄膜不溶于胶粘剂中所含的溶剂，则没有特别的限制，可以使用例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、氯乙烯等塑料薄膜，牛皮纸、优质纸、クレコ-ト纸、日本纸等纸，人造丝、聚酯等无纺布，由聚酯、尼龙、丙烯酸等合成纤维组成的织物，铝、铜、不锈钢等金属箔，但是从在薄膜上连续且薄薄地均匀涂布脱模剂层的观点出发，优选塑料薄膜。
另外，作为使用的脱模剂，可以使用硅酮类脱模剂和长链烷基类脱模剂等一直以来使用的各种脱模剂。
在本发明的光信息记录介质中，是通过例如下述的方法记录、再现信息。首先，以规定的线速度(0.5-10m/秒)、或者规定的定角速度使光信息记录介质旋转，同时从覆盖层侧通过物镜照射蓝紫色激光(例如，波长405nm)等记录用的光。由于该照射光，记录层通过吸收该光而发生局部的温度上升，例如通过生成凹陷(ピット)而改变记录层的光学特性，从而记录信息。如上所述记录的信息通过以规定的定线速度使光信息记录介质旋转的同时从覆盖层侧照射蓝紫色激光，并检测其反射光来进行再现。
作为具有500nm以下的振荡波长的激光光源，可以举例为例如具有390-415nm范围的振荡波长的蓝紫色半导体激光、中心振荡波长425nm的蓝紫色SHG激光等。
另外，为了提高记录密度，拾波器中使用的物镜的NA优选为0.7以上，更优选为0.85以上。
实施例
下面，详细说明本发明的实施例，但是本发明并不限于此。
实施例1
预备具有厚1.1mm、外径120mm、内径15mm的螺旋状的槽(磁道间距：340nm，槽深：30nm，槽宽：150nm)的射出成形聚碳酸酯树脂基板，在具有该槽的面上，使用Unaxis社制的Cube进行DC溅射，在氩气气氛下形成120nm层厚的由银组成的反射层。
然后，将2g由下述结构式所示的色素A溶解于100ml的2，2，3，3-四氟丙醇中并调制成色素涂布液。使用旋涂法将该色素涂布液均匀涂布在基板上，形成槽内厚度100nm、槽脊部分的厚度70nm的记录层。然后，在干净的烘箱中在40℃下使涂膜退火1小时。这时，在垂直的栈杆(スタックポ-ル)上相隔一定空间支撑基板。色素A
退火后，为了使ZnS-SiO2(8∶2)成为5nm的厚度，通过RF溅射，在溅射功率4kW、压力2×10-2hPa、2秒的条件下进行溅射，形成阻挡层。这时，为了使阻挡层覆盖记录层的表面以及反射层和记录层各自的外周边部端面(参照图3、图4)，阻挡层的外周边形成为比所述反射层以及记录层的外周边还向外侧延伸0.5mm。另外，在进行RF溅射时，由于使用了掩膜，在外周部和内周部各自四个地方上确保了基板和覆盖层的粘合区域(参照图3)，所以在该区域上没有形成阻挡层。
接着，在使基板和覆盖层的中心彼此一致的状态下，将在表面以15μm的厚度涂布有胶粘剂的聚碳酸酯覆盖层(帝人社制ピュァェ-ス，厚度：85μm)贴合在基板上。在外周部和内周部通过胶粘剂层粘合基板和覆盖层的粘合区域在直径方向上长度的最大值是0.5mm。通过以上的工序，得到了实施例1的光信息记录介质。比较例1
在实施例1中，除了使反射层的边缘部分与基板的内围以及外围的边缘部分一致地形成反射层，且使阻挡层的边缘部分与记录层的外围以及内围的边缘部分一致地形成阻挡层以外，用与实施例1相同的方法得到比较例1的光信息记录介质。比较例2
在实施例1中，除了将基板和覆盖层的粘合区域的直径方向长度的最大值设为0.1mm，且阻挡层和基板的粘合宽度(阻挡层的外围直径和反射层以及记录层的外围直径的差)设为0.1mm以外，用与实施例1相同的方法得到比较例2的光信息记录介质。【实施例1、比较例1、2的评价】
在得到的各光信息记录介质的覆盖层侧的面上粘合橡胶胶条，并进行剥离试验。实施例1的光信息记录介质没有发生剥离，但是比较例1和2的光信息记录介质都发生了剥离。
另外，在80℃85％RH的气氛下进行120小时放置试验时，在实施例1的光信息记录介质中外表上没有观察到特别的变化，但是在比较例1的光信息记录介质中在外周部确认出略微变色。
实施例2
预备具有厚度1.1mm、外径120mm、内径15mm的螺旋状的槽(磁道间距：340nm，槽深：30nm，槽宽：150nm)的射出成形聚碳酸酯树脂基板，在具有该槽的面上，使用Unaxis社制的Cube进行DC溅射，在氩气气氛下形成120nm层厚的由银组成的反射层。
然后，将2g所述色素A溶解于100ml 2，2，3，3-四氟丙醇中并调制成色素涂布液。用旋涂法将该色素涂布液均匀涂布在基板上，形成槽内厚度100nm、槽脊部分的厚度70nm的记录层。然后，冲刷并除去记录层的外周边部(直径方向长度：0.4mm)的区域。接着，在干净烘箱中，在40℃下使涂膜退火1小时。这时，在垂直的栈杆上相隔一定空间支撑基板。
退火后，为了ZnS-SiO2(8∶2)成为5nm的厚度，采用RF溅射，在溅射功率4kW、压力2×10-2hPa、2秒的条件下进行溅射，形成阻挡层。这时，阻挡层的外周边比所述反射层的外周边还向外侧延长0.5mm形成。另外，在进行RF溅射时，由于使用了掩膜，在外周部和内周部各自四个地方上确保了基板和覆盖层的粘合区域(参照图7)，所以在该区域上没有形成阻挡层。
接着，在使基板和覆盖层的中心彼此一致的状态下，将在表面以15μm的厚度涂布有胶粘剂的聚碳酸酯覆盖层(帝人社制ピュァェ-ス，厚度：85μm)贴合在基板上。在外周部和内周部中，通过胶粘剂层，基板和覆盖层进行粘合的粘合区域在直径方向上长度的最大值是0.5mm。通过以上的工序，得到了实施例2的光信息记录介质。比较例3
在实施例2中，除了使阻挡层、记录层、以及反射层的各外围的边缘部分一致地形成以外，用与实施例2相同的方法得到比较例3的光信息记录介质。【实施例2以及比较例3的评价】
(1)剥离试验
在所得到的各光信息记录介质的覆盖层侧的面上粘合橡胶胶条，并进行剥离试验，根据以下的评价标准进行了评价。结果示于表1中。【评价标准】
○：不产生剥离
×：产生剥离
(2)记录特性评价
通过光盘驱动装置(DDU1000，パルステツク工业(株)制造)，以4.9m/s的线速形成长160nm的凹陷，测定所述(1)剥离试验前后的C/N。测定结果示于表1中。
【表1】
 剥离试验 C/N(dB)试验前 C/N(dB)剥离试验后
实施例2  ○ 46 45
比较例3  × 46 40
由表1中所示的所述(1)剥离试验以及(2)记录特性评价的结果可知，实施例2的光信息记录介质与比较例3的光信息记录介质相比，具有高的粘合性，同时具有高的记录特性。
实施例3
预备由具有厚度1.1mm、外径120mm、内径15mm的螺旋状的槽(槽深30nm，宽150nm，磁道间距340nm，)的射出成形聚碳酸酯树脂组成的基板，在具有该槽的面上，在氩气气氛下，进行DC溅射，形成由银组成的反射层(厚度100nm)。
然后，将2g所述色素A加入并溶解于100ml的2，2，3，3-四氟丙醇中，并调制为色素涂布液。采用旋涂法，调节转速从300至4000rpm，同时在23℃、50％RH的条件下在反射层上涂布调制的色素涂布液。在23℃、50％RH下保存1小时后，形成记录层(槽内(in groove)的厚度100nm，槽上(on groove)的厚度70nm)。
形成记录层后，用干净烘箱进行退火处理。在垂直的栈杆上相隔一定空间支撑基板，在40℃下保持1小时以进行退火处理。
之后，在形成的记录层上，通过将中心线平均粗糙度(Ra)为1μm的面与该记录层接合，配置了覆盖层(聚碳酸酯制，厚度100μm)。然后，在从覆盖层的中心起半径达20-21mm的区域、以及半径达59-60mm的区域利用超声波融接进行粘合，得到了实施例3的光信息记录介质。覆盖层中只有该区域粘合在基板上。超声波融接是按下面方式进行。首先，在覆盖层的上部配置超声波喇叭，并用超声波喇叭挤压粘合区域，同时对覆盖层施加3秒钟的超声波振动，使阻挡层本身熔融、固化，完成覆盖层和基板间的粘合。【实施例3的光信息记录介质的记录特性评价】-C/N(载波噪声比)-
在得到的光信息记录介质上，使用装载了405nm的激光、NA：0.85拾波器的记录再现评价议(パルステツク社制，DDU1000)，在记录功率5mW、线速4.9m/s的条件下形成197nm的凹陷，并使用光谱分析器测定C/N。
测定的结果是实施例3的光信息记录介质的C/N为48dB。比较例4
在实施例3中，除了将覆盖层替换为与记录层粘合的面的中心线平均粗糙度(Ra)为0.3μm的覆盖层以外，用与实施例3相同的方法，制造比较例4的光信息记录介质。
对制造的光信息记录介质进行与实施例3相同的试验，评价记录特性。测定的结果是比较例4的光信息记录介质的C/N为44dB。
本发明的实施例3的光信息记录介质与比较例4的光信息记录介质相比，记录特性良好。

Claims (20)

1.一种光信息记录介质，是依次具有基板、记录层、阻挡层、胶粘剂层或者粘合剂层、以及覆盖层且具有中心孔，并通过从所述覆盖层侧照射激光来记录再现信息的圆盘状的光信息记录介质，其中，所述阻挡层覆盖了所述记录层表面以及所述记录层的外周边部端面或/和内周边部端面，而且所述基板和所述覆盖层的内周部或/和外周部的至少一部分区域通过所述胶粘剂层或者所述粘合剂层相粘合，而且该区域在直径方向上的长度的最大值是在0.4mm以上。
2.如权利要求1所述的光信息记录介质，其中，还具有反射层，且所述阻挡层覆盖了反射层的外周边部端面或/和内周边部端面。
3.如权利要求1或2所述的光信息记录介质，其中，所述基板和所述覆盖层的内周部或/和外周部在多个位置通过所述胶粘剂层或者所述粘合剂层相粘合。
4.如权利要求1或2所述的光信息记录介质，其中，所述基板和所述覆盖层在内周部或/和外周部的全体表面上通过所述胶粘剂层或者所述粘合剂层相粘合。
5.如权利要求1至4中任一项所述的光信息记录介质，其中，所述基板和所述覆盖层的外周部相粘合的所述区域在直径方向上的长度是0.4-2mm。
6.如权利要求1至5中任一项所述的光信息记录介质，其中，所述基板和所述覆盖层的内周部相粘合的所述区域在直径方向上的长度是0.4-15mm。
7.如权利要求1至6中任一项所述的光信息记录介质，其中，所述阻挡层和所述记录层的外围直径的差是0.1-2mm。
8.如权利要求1至7中任一项所述的光信息记录介质，其中，所述阻挡层和所述记录层的内围直径的差是0.1-5mm。
9.一种光信息记录介质，是依次具有基板、反射层、记录层、阻挡层、胶粘剂层或者粘合剂层、以及覆盖层且具有中心孔，并通过从所述覆盖层侧照射激光来记录再现信息的圆盘状的光信息记录介质，其中，所述反射层大于所述记录层，所述阻挡层粘合在所述反射层表面的外周边部或/和内周边部，而且所述基板和所述覆盖层的内周部或/和外周部的至少一部分区域通过所述胶粘剂层或者所述粘合剂层相粘合，且该区域在直径方向上的长度的最大值是在0.4mm以上。
10.如权利要求9所述的光信息记录介质，其中，所述阻挡层覆盖了所述反射层以及所述记录层的各两个端面。
11.如权利要求9或10所述的光信息记录介质，其中，所述基板和所述覆盖层的外周部相粘合的所述区域在直径方向上的长度是0.4-2mm。
12.如权利要求9至11中任一项所述的光信息记录介质，其中，所述基板和所述覆盖层的内周部相粘合的所述区域在直径方向上的长度是0.4-15mm。
13.如权利要求9至12中任一项所述的光信息记录介质，其中，所述反射层和所述记录层的外围直径的差是0.1-2mm。
14.如权利要求9至13中任一项所述的光信息记录介质，其中，所述反射层和所述记录层的内围直径的差是0.1-5mm。
15.如权利要求9至14中任一项所述的光信息记录介质，其中，所述阻挡层和所述记录层的外围直径的差是0.1-2mm。
16.如权利要求9至15中任一项所述的光信息记录介质，其中，所述阻挡层和所述记录层的内围直径的差是0.1-5mm。
17.一种光信息记录介质，是依次具有基板、记录层和覆盖层，并通过从该覆盖层侧照射激光来记录和再现信息的光信息记录介质，其中，所述覆盖层中与所述记录层表面接合的面的中心线平均粗糙度(Ra)在0.1μm以上，且将所述覆盖层的内周边部和外周边部的各至少一部分粘合在所述基板上而成。
18.如权利要求17所述的光信息记录介质，其中，所述覆盖层粘合在所述基板上的区域的所述记录层侧的端部从所述覆盖层与所述记录层相接合的部分的所述区域侧的端部相隔0.1mm以上距离。
19.如权利要求17或18所述的光信息记录介质，其中所述覆盖层粘合在所述基板上的区域设置在从所述覆盖层的中心起半径达17-22mm的区域、以及半径达56-60mm的区域，而且其宽度为0.2-2mm。
20.如权利要求17至19中任一项所述的光信息记录介质，其中，所述覆盖层和所述基板通过超声波融接被粘合。
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