TWI317516B - Photo-data recording media - Google Patents

Description

1317516 玖、發明說明： (一） 發明所屬之枝術領域： 本發明係關於可使用特定波長之雷射光來記錄或讀取 資訊之記憶型光資訊記錄媒體。 (二） 先前技術： 迄今’已知有藉由雷射光可記錄一次爲限之資訊之光 資訊記錄媒體（光碟）。該光碟亦稱爲記億型CD (所謂CD-R )’典型CD係具備於透明圓盤上基板上由有機色素所構成 之記錄層、由金等之金屬所構成之反射層、再者具有樹脂 製之保護層（被覆層）。於是照射近紅外線區域之雷射光 (通常爲780nm附近波長之雷射光）於CD-R，記錄層之照 射部分吸收該光線而局部地上昇溫度，記錄層發生物理或 化學變化（例如，凹坑之生成），並藉由該部分之光學特 性變化，記錄資訊於CD - R中。另外，該資訊係照射與記錄 用之雷射光波長相同波長之雷射光於CD-R，藉由檢測出記 錄層之光學特性已變化之部位（記錄部分）與未變化部位 (未記錄部分）之反射率差異來讀取（讀取）。該CD-R係 具有使用市售之CD唱盤來讀取之優點，又近年來，隨著個 人電腦之普及亦增大其需求。 近年，則要求記錄密度較高之光資訊媒體。對於如此 之期望，提案有稱爲記憶型數位·多用途•碟片（所謂DVD - R )之光碟。（例如「日經新媒體」附冊「DVD」' 1 99 5年發 行）。該DVD - R係具有於所謂以CD - R之其寬度一半以下（ 0 . 74~0 . 8 # m )之狹窄寬度形成用於所照射雷射光之追蹤之 1317516 導溝（預凹槽） 之透明圓盤狀基板上，通常使記錄層位於內側地來貼 合2片依序積層含有有機色素之記錄層、反射層、及保護 層之碟片之構造，或使記錄層位於內側地來與和該碟片相 同形狀之圓盤狀保護基板貼合之構造。因而，對於該DVD - R 資訊之記錄或讀取係可藉由照射可見雷射光（通常爲 6 3〇1^〜68〇11111範圍波長之雷射光）來進行，可得較〇0-1?高 密度之記錄。 最近，網際網路等之網路或高畫質電視正快速地普及 。又，亦開始HDTV (高解像度電視）之放映。在如此之狀 況下，必須有可價廉簡便地記錄畫面資訊之大容量記錄媒 體。DVD - R雖然在現狀能充分達到作爲大容量記錄媒體之作 用，但除了提高大容量化、高密度化之要求之外，亦必須 開發能符合該等要求之記錄媒體。因此，正進行能以較DVD-R 更短波長之光線進行高密度之記錄、較大容量記錄媒體之 開發。特別地，由於可限於一次之資訊記錄之記憶型光資 訊記錄媒體正逐漸提高作爲大容量資訊之長期保存或備份 用之使用頻率，故對於該開發之要求強烈。 例如，以藉由通過適於高密度記錄之高NA鏡片之光線 爲前提之光資訊記錄媒體方面，已揭示於基板上依序設置 反射層、記錄層、較基板更薄之被覆層之光資訊記錄媒體 ，又接示藉由從被覆層側朝向反射層側照射5 5 0nm以下波 長之短波長側之雷射光，進行資訊之記錄讀取之記錄讀取 方法。因而，利用該等短波長之雷射光之光資訊記錄媒體 - 7- 1317516 之記錄層形成色素 方面’已揭示有卜啉化合物、偶氮色素、金屬偶氮系 色素' 喹酞酮系色素、三甲基酞菁色素、二氰乙烯苯基骨 架色素、然後是香豆素化合物等（例如，特開平4-74690 號公報、特開平7-304256號公報、特開平7-304257號公 報、特開平8 - 1 2 7 1 7 0 5號公報、特開平1 1 · 5 3 7 5 8號公報、 特開平1 1 - 3 3 4204號公報、特開平1 1 — 3 3 4206號公報、特 開平11-3 3 4 207號公報、特開2000-43423號公報、特開 2000-108513號公報、特開2000-149320號公報、特開 2000-158818號公報、特開2000-228028號公報、及特開 200 1 - 1 4607 4號公報等）。即使爲該等以外之化合物而如果 吸收用於記錄之雷射光而得之化合物，在原理可使用作爲 記錄層用色素係由業者容易想起而得到。因而，記錄讀取 用之雷射光方面，提案有藍紫色（405nm或410nm波長）、 藍色（ 430nm或488nm波長）或藍綠色（515nm波長）。 藉由以上短波長之雷射光可記錄讀取資訊之光資訊記 錄媒體係一般於基板上依序具有例如反射層、記錄層、被 覆層、黏著劑層或接著劑層、及被覆層，與CD-R或DVD-R 不同的層構成。因此，雷射光之照射方向與CD-R或DVD-R 相反，在CD - R或DVD - R上有無問題層之剝離會變成問題之 情況，而要求各層間之高密著性。然而，在所謂有機物（ 記錄層等）與無機物（反射層、被覆層等）鄰接之層構成 上，由於存在剝離容易之界面，留下不能得到足夠貼合強 度之改善空間。又，藉由該層構成，特別是在外周邊緣部 -8 - 1317516 分記錄層暴露於外部而因環境氣溫•溼度而使保存性惡化 〇 又’在用於利用如上述藍紫色雷射與高NA讀取鏡頭之 光記錄系統之光資訊記錄媒體中，於照射藍紫色雷射光於 記錄層時，爲了符合高ΝΑ之對象物焦點，以薄化雷射光入 射之被覆層爲佳。其中，被覆層方面，例如使用薄膜、使 用接著劑或黏著劑來接著於記錄層之表面全體。被覆層之 厚度雖然通常包含接著劑或黏著劑硬化所形成之接著層或 黏著層約爲1 00 V m ’但以所照射之雷射波長或ΝΑ來最適化 〇 由於如上述之被覆層構成光入射面，在與記錄層接著 時不能均勻地接著而於其表面上產生起伏或翹曲，則因入 射光散亂而降低反射率，結果有得不到高記錄特性之問題 0 (三）發明內容： 本發明係鑑於以上習知之問題點而進行者，以提供一 種各層間密著性高、保存性優異、具有穩定之記錄讀取特 性之光資訊記錄媒體爲目的。 又，本發明之其他目的係提供一種具備光入射面之表 面均勻性（平滑度）高之被覆層、具有優異之記錄特性之 光資訊記錄媒體。 本發明之第1部份係提供一種光資訊記錄媒體’其係 依序具有基板、記錄層、阻障層、黏著劑層或接著劑層、 及被覆層（被覆片），並具有中心孔洞’藉由照射從前述 -9 _ 1317516 被覆層側而來之雷射光來記錄讀取資訊之碟狀光資訊記錄 媒體，其中前述阻障層覆蓋前述記錄層之表面以及前述記 錄層之外周邊緣部分終端面及/或內周邊緣部分終端面，而 且經由前述黏著劑層或前述接著劑層來密著前述基板與前 述被覆層之內周邊部分及/或外周邊部分至少一部分之區域 ，而且在該區域之徑方向之長度最大値爲〇.4ram以上。 本發明之第2部份係提供一種光資訊記錄媒體，其係 依序具有基板、反射層、記錄層、阻障層、黏著劑層或接 著劑層、及被覆層（被覆板），並具有中心孔洞，藉由照 射從前述被覆層側而來之雷射光來記錄讀取資訊之碟狀光 資訊記錄媒體，其中前述反射層較前述記錄層大，前述絕 緣密層著於前述反射層表面之外周邊緣部分及/或內周邊緣 部分，而且經由前述黏著劑層或前述接著劑層來密著前述 基板與前述被覆層之內周邊部分及/或外周邊部分至少一部 分之區域，而且在該區域之徑方向之長度最大値爲〇.4mm 以上。 本發明之第3部份係提供一種光資訊記錄媒體，其係 依序具備基板、記錄層、與被覆層，以照射從該被覆層側 而來之雷射光來記錄讀取資訊之光資訊記錄媒體，其中鄰 接於前述被覆層之前述記錄層表面上之面之中心線平均粗 糙度爲0.1//m，接著前述被覆層內周邊緣部分及外周邊緣 部分個別至少一部分於前述基板而形成。 方式： 以下，說明本發明光資訊記錄媒體之實施例。 -10- 1317516 本發明第1部分之光資訊記錄媒體係依序具有基板' 必要時之反射層、記錄層、阻障層、黏著劑層或接著劑層 、及被覆層，並具有中心孔洞’藉由照射從前述被覆層側 而來之雷射光來記錄讀取資訊。該阻障層係覆蓋著前述記 錄層之表面以及前述記錄層之外周邊緣終端面及/或內周邊 緣部分終端面。又，經由前述黏著劑層或前述接著劑層來 密著前述基板與前述被覆層之內周邊部分及/或外周邊部分 至少一部分之區域，而在該區域之徑方向之長度最大値爲 0 . 4mm以上。 第1圖、第2圖係個別顯示適用本發明第1部分之光 資訊記錄媒體之一範例之平面圖、截面圖。光資訊記錄媒 體1 0係如第2圖所示’於基板1 2上’依序具有反射層1 4 、記錄層16、阻障層18、接著劑層20、及被覆層22’在 中央部分具備有中心孔洞2 4。於第1圖中，於外周邊終端 附近以虛線所描繪之2個圓圈中’外側圓圈係表示阻障層1 8 之外周邊終端，內側圓圈係表示反射層1 4及記錄層1 6之 外周邊終端。又，於內周邊終端附近以虛線所描繪之2個 圓圈中，外側圓圏係表示反射層1 4及記錄層1 6之外周邊 終端，內側圓圈係表示阻障層1 8之外周邊終端。即’如第 2圖所示，反射層1 4及記錄層1 6之內周邊終端係位於相同 之位置，又其外周邊終端亦位於相同位置’阻障層1 8係覆 蓋著記錄層16表面以及反射層14及記錄層16之外周邊部 分終端面及內部部分終端面。因此，記錄層1 6未暴露於外 部，而且用來保護阻障層1 8之保存適性優異。 _ 1 1 - 1317516 另外，在光資訊記錄媒體1 0上，於第1圖中以約略扇 型之曲線所表示，於外周邊部分及內周邊部分之個別4處 區域（以下稱爲「密著區域」）中，經由接著劑層20密著 基板12與被覆層22。設置於該等內周邊終端附近及外周邊 終端之個別4處密著區域之徑方向之長度最大値（從在徑 方向之密著區域頂點至光資訊記錄媒體1 〇之內周邊終端之 長度）爲0.5mm。因而，由於該等密著區域之存在’於基板 12上，反射層14、記錄層16與阻障層18堅固地密著。因 此，可防止光資訊記錄媒體1 0之各層剝離。其中’所謂外 周邊部分係由基板12及被覆層22之接著劑層18外周邊端 之外側部分，所謂內周邊部分係由基板1 2及被覆層22之 接著劑層1 8內周邊端之內側部分。 其次，顯示本發明第1部分之光資訊記錄媒體之兩個 變形範例（第3圖~第6圖）。於第3圖〜第6圖中’與第2 圖所示之光資訊記錄媒體10之同一種構成要素中係賦予同 一符號。，示於第3圖、第4圖之光資訊記錄媒體l〇a係在 阻障層18未覆蓋反射層14及記錄層16之內周邊緣部分終 端面之點上與第1圖、第2圖之型態不同’示於第5圖、 第6圖之光資訊記錄媒體l〇b係在阻障層18未覆蓋反射層 14及記錄層16之外周邊緣部分終端面之點上與第1圖、第 2圖之型態不同。無論在任何範例中’阻障層1 δ係覆蓋記 錄層1 6表面及外周邊緣部分終端面或內周邊緣部分終端面 ，雖然保存適性優異’但示於第1圖、第2圖之範例中’ 係以記錄層1 6之內周邊緣部分終端面及外周邊緣部分終端 -12 - 1317516 面之任何一面均覆蓋著阻障層爲最佳。 如上述，雖然由於阻障層覆蓋記錄層表面以及反射層 及記錄層之終端面，阻障層與反射層及記錄層之外周半徑 及/或內周半徑不同，但前述阻障層之外周半徑與前述反射 層及記錄層之外周半徑差係以0.1〜2mni爲佳，而以0.2〜lmm 爲較佳。又，前述阻障層之內周半徑與前述反射層與記錄 層之內周半徑差係以0.1〜5mm爲佳，而以0.2~2mm爲較佳 〇 本發明第2部分之光資訊記錄媒體係依序具有基板、 反射層、記錄層、阻障層、黏著劑層或接著劑層、及被覆 層，並具有中心孔洞，藉由照射從前述被覆層側而來之雷 射光來記錄讀取資訊。該反射層較前述記錄層大，前述阻 障層密著於被覆前述反射層表面之外周邊緣部分及/或內周 邊緣部分。又，在僅密著阻障層之外周邊緣部份或內周邊 緣部分之任一部分於反射層之情況下，與密著於阻障層反 射層之邊緣部分反面之邊緣部分係位於與記錄層之邊緣部 分相同之位置。再者，經由前述黏著劑層或前述接著劑層 密著前述基板與前述被覆層之內周邊部分及/或外周邊部分 之至少一部份區域，在該區域之徑方向之長度最大値爲 〇 . 4mm以上。 第7圖、第8圖係個別顯示適用本發明第2部分之光 資訊記錄媒體之一範例之平面圖、截面圖。光資訊記錄媒 體1 1 0係如第8圖所示，於基板1 1 2上’依序具有反射層1 1 4 、記錄層116、阻障層118、接著劑層120、及被覆層122 -13- 1317516 而形成，於中央部分具備有中心孔洞12 4。於第7圖中’ 外周邊終端附近以虛線所描繪之3個圓圏中，外側圓圈 表示阻障層1 1 8之外周邊終端、中間圓圈係表示反射層1 之外之周邊終端、內側圓圈係表示記錄層1 1 6之外周邊 端。即，阻障層1 1 8係亦如第8圖所示，密著於反射層1 表面之外周邊緣部分，而且覆蓋記錄層Π6表面以及反 層114及記錄層116之兩終端面’藉由該構成’由於反 層11 4之外周邊終端係位於較記錄層1 1 6外周邊終端還 側之位置，反射層1 1 4之內周邊終端係位於與記錄層1 之內周邊終端相同之位置，故基板Π 2未接觸於記錄層1 。因而，基板1 1 2及記錄層1 1 6係一般由有機物所構成 相關詳細後述）、含有於爲有機物之基板中之不純物對 由金屬所構成之反射層114及藉由以無機物所構成之阻 層118所遮蔽之記錄層116並不會造成不良影響。因此 記錄層1 1 6爲保存適性優異。 另外，光資訊記錄媒體1 1 〇係於第7圖中以約略扇 之虛線表示，外周邊部分及內周邊部分之個別4個區域 以下稱爲「密著區域」。）中’經由接著劑層120密著 板112與被覆層122。在設置於該等內周邊終端附近及外 邊終端附近之個別4個密著區域之徑方向之長度最大値 0 . 5nm。因而，由於該等密著區域之存在，於基板1 1 2上 反射層1 1 4、記錄層1 1 6與阻障層1 1 8堅固地密著。因此 可防止光資訊記錄媒體11 〇之各層剝離。其中外周邊部 係所謂由基板1 1 2及被覆層1 22之反射層1 1 4、記錄層1 1317516 及阻障層π 8之外周邊終端之外側部分’內周邊部分係所 謂基板112及被覆層122之反射層114、記錄層116及阻障 層1 1 8之外周邊端之內側部分。 其次，顯示本發明之第2部分之光資訊記錄媒體之變 形範例（第9圖、第10圖）。於第9圖、第1〇圖中，與 示於第’8圖之光資訊記錄媒體Π0相同之構成要素中係賦 予同一符號。示於第7圖、第8圖之光資訊記錄媒體丨丨0a 係阻障層1 1 8亦密著於反射層1 1 4之內周邊緣部分表面中 與第7圖、第8圖之型態不同。此範例係阻障層1 18密著 於反射層114表面之外周邊緣部分及內周邊緣部分之兩面 上，比示於第7圖、第8圖之光資訊記錄媒體，記錄層1 16 之保存適性更優異。 如上述，雖然由於阻障層覆蓋反射層表面之外周邊緣 部分及/或內周邊緣部分，反射層與記錄層之外周半徑及/ 或內周半徑不同，但前述反射層之外周半徑與記錄層之外 周半徑差係以爲佳，而以0.2~lmm爲較佳。又， 前述反射層之內周半徑與前述記錄層之內周半徑差係以 0.1~5ram爲佳，而以0.2〜2mm爲較佳。 又，雖然前述阻障層與前述反射層之外周半徑及/或內 周半徑亦不同，但前述阻障層之外周半徑與前述反射層之 外周半徑差係以0.1〜2mm爲佳，而以0.2〜1mm爲較佳。前 述阻障層之內周半徑與前述反射層之內周半徑差係以 爲佳，而以0.2~2_爲較佳。 在以上弟1圖至弟10圖中，雖然於外周邊部分與內周 -15- 1317516 邊部分個別設置4處密著區域，但本發明並不受其限制， 密著區域係以設置多數個（複數個），或者，在外周邊部 分與內周邊部分之全面設置爲佳。又，密著區域之平面形 狀並不限制於扇形，亦可爲多角形、圓形、半圓形、橢圓 形等。 於本發明之弟1及第2部分中’在目υ述密著區域之徑 方向之長度最大値爲0 . 4mm，該最大値未滿〇 . 4mm，會有因 密著力不足而引起層剝離之情況。該最大値係在外周邊部 分則以0.6ram以上爲較佳，而以0.7mm以上爲更佳。又， 於外周邊部分之最大値之上限爲2mm。 又’於內周邊部分之密著區域徑方向之長度最大値係 以2.5ram以上爲較佳，而以3mm以上爲更佳，以4mm以上 爲特佳。又，於內周邊部分之最大値之上限爲1 5mm。 該等第1及第2部分之光資訊記錄媒體係以藉由熱模 塑所形成之記憶型光資訊記錄媒體爲佳。 本發明第3部分之光資訊記錄媒體係依序具有基板、 依所希望之反射層、記錄層、依所希望之阻障層、與被覆 層，以照射從該被覆層側而來之雷射光來記錄或讀取資訊 之光資訊記錄媒體。與該被覆層之前述記錄層表面鄰接之 面中心線平均粗糙度（R a )爲0 . 1 # m以上，接著前述被覆 層之內周邊緣部分及外周邊緣部分之個別至少一部分於前 述基板上。其中，本發明中所謂「接著被覆層之內周邊緣 部分及外周邊緣部分於基板上」係指通常在基板上，經由 接著劑或黏著劑，直接接著被覆層，亦包含於基板上，在 -16- 1317516 比記錄區域更廣之區域設置反射層之情況下，經由該反射 層，接著被覆層。 首先，於本發明第3部分之光資訊記錄媒體中，說明 特徵之被覆層。 被覆層係具有與後述基板相同之碟型形狀，至少在示 於以下之接著區域中，接著於在由基板與記錄層所構成之 碟型積層體。 在本發明第3部分中之被覆層係要求與前述記錄層表 面鄰接之面中心線平均粗糙度（Ra )在0 . 1 /z m以上。 在本發明第3部分中之光資訊記錄媒體係表面粗糙度 在上述所定範圍中之面與記錄層表面鄰接，而接著該被覆 層之內周邊緣部分及外部周邊緣部分與基板而構成。因此. ，藉由接著被覆層之內周邊緣部分及外周邊緣部分與基板 ，在設置記錄層之區域中，因上述表面粗糙度所導致之被 覆層凸起部分與記錄層接觸，在除了記錄區域外之部分， 係接著被覆層與基板所構成。 因此，規範表面粗糙度於上述範圍，使在直接接觸被 覆層之記錄層表面之面具有固定之粗糙度，由於該被覆層 在內周邊緣部分及外周邊緣部分與基板接著’可形成起因 於記錄層與被覆層間之表面粗糙度之未接著之固定空隙。 因該空隙，可抑制起因於記錄層與被覆層之接著之被覆層 歪曲或翹曲之產生。由於具備該等之被覆層’本發明之光 資訊記錄媒體係具有優異之記錄特性而構成。 如上述，在本發明第3部分中’被覆層係以與前述記 -17- 1317516 錄層表面鄰接之面中心線平均粗糙度（R a )爲Ο · 1 // m以上 爲特徵，該表面粗糙度過大，則由於因凹凸產生入射光散 射等影響之可能性便高，故中心線平均粗糙度（Ra )係以500 # m以下爲佳。總之，被覆層中與前述記錄層表面鄰接之面 中心線平均粗糙度（R a )係以〇 . 1 ~ 5 0 0 "m之範圍爲佳，而 以1〜300#m之範圍爲較佳，以5〜100"ra之範圍爲更佳。 其中，中心線平均粗糙度（R a )係於從粗曲線至中心 線之方向抽出測定長度L之部分，該抽出之中心線與粗曲 線之偏差絕對値之算術平均値。 在表面粗糙度較0 . 1 # m小之情況下，與記錄層之密著 性未提昇，而有難以形成未接著之固定空隙之情況。 被覆層之內周邊緣部分及外周邊緣部分係接著於基板 。其中，爲被覆層之接著區域之「內周邊緣部分及外周邊 緣部分」係指未與成形爲碟型之被覆層之記錄層Λ記錄區 域）鄰接之部分，包含內周邊終端之區域與包令外周邊終 端之區域。 接著該接著區域之方法方面，可使用習知公認之接著 方法，具體來說，有熔融接著法、或使用黏著劑或接著劑 之方法。接著區域係由使用於熔融接著法之加熱方法、或 接著劑及黏著劑未對記錄層中之色素造成影響之觀點來看 ，以距離與記錄層鄰接所得之部分〇 . 1 mm以上爲佳，而以 距離0.5mm以上爲較佳，以距離1mm以上爲更佳。又，於 光資訊記錄媒體製造時接著作爲固定或吸附時所用·之區域 之箝位區域（通常，距離碟型被覆層中心之1 1〜1 6 . 5mm半 -18- 1317516 徑之範圍）以外之部分爲佳。 因而’接著區域係設定在距碟型被覆層中心之17~22mm 半彳二範圍之區域、及56〜60mm半徑範圍之區域，其寬度係 以〇. 2〜2inra爲佳。又’上述範圍之接著區域可環狀地接著 全部範圍，或亦可以等間隔部分地接著上述區域。 . 以下，說明於本發明第3部分所用之接著方法。 所謂熔融接著法係比較柔和、用於低熔點之塑膠接著 之方法。熔融接著法中係有熱熔融接著、電磁波熔融接著 、超音波熔融接著、摩擦熔融接著，而特別以超音波熔融 鲁 接著爲佳。 在使用超音波熔融接著來接著被覆層之情況下，亦依 該被覆層之材質而定，可直接熔融接著被覆層，或亦可使 接著劑介於被覆層與基板之間並熔融接著該接著劑。 本發明第3部份中，通常使用熔融接著被覆層本身之 接著方法，具體來說係首先從使作爲超音波熔融接著之接 著區域之被覆層內周邊緣部分及外周邊緣部分與基板位置 重疊，然後由外側以超音波喇叭加壓，同時施加超音波振 ® 動，利用接著部分之機械摩擦與黏彈性舉動，藉由熔融· 硬化被覆層本身來完成接著。 在使接著劑介於被覆層與基板之間之情況下，所使用 之接著劑方面，預先以超音波加熱成液狀物，可塗佈於被 覆層及基板至少其中之一並乾燥，又，亦可配置薄膜狀、 顆粒狀、帶狀、B階梯狀等於被覆層與基板之間，將其加壓 同時超音波加熱。使用雙面接著膠帶作爲接著劑，則使步 ^ -19- 1317516 驟簡略化’又，得到所謂無關於伴隨使用溶劑之設備或 全性問題之優點。 又’在使用黏著劑或接著劑來接著被覆層之情況下 配置接著劑或黏著劑於作爲接著區域之被覆層內周邊緣 分及外周邊緣部分與基板之間，藉由硬化來完成接著。 時’接著劑或黏著劑係以例如使用網式塗佈法或噴灑器 配置於接者區域爲佳。

所使用之接著劑方面，以使用例如UV硬化樹脂、EB 化樹脂、熱硬化樹脂等爲佳，而以使用UV硬化樹脂爲特 〇 在使用UV硬化樹脂作爲接著劑之情況下，可照該 硬化樹脂原貌使用’或亦可溶解於甲基乙基酮、醋酸乙 等適當之溶劑中來調製塗佈液，供給於基板表面或被覆 。又’爲了防止所製作之光資訊紀錄媒體之翹曲，所使 之UV硬化樹脂係以硬化收縮率小者爲佳。 該寺UV硬化樹脂方面，可舉例有大日本油墨化學工 株式會社之「SD- 640」等之UV硬化樹脂。 又’黏著劑方面，雖可使用丙烯酸系、橡膠系、有 砂系之黏著劑，但從透明性、耐久性之觀點來看，以丙 酸系之黏著劑爲佳。相關之丙烯酸系黏著劑方面，係以 用共聚合作爲主要單體之丙烯酸—2 -乙基己酯、丙烯酸正 醋等’與用於提高凝集力之丙烯酸短鏈烷基酯或甲基丙 酸酯、例如、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲 ’與父聯劑之交聯點鄰近所得之丙烯酸、甲基丙烯酸、 安 部 此 來 硬 佳 UV 酯 層 用 業 機 烯 使 丁 烯 酯 丙 1317516 燦酸胺衍生物、馬來酸、丙烯酸羥基乙酯、縮水甘油丙嫌 酸醋等者爲佳。藉由適宜地調整主要單體、短鏈成分、與 用來附加父聯點成分之混合比例、種類，可改變玻璃轉移 溫度（τ g )或交聯密度。 . 與上述黏著劑倂用之交聯劑方面，舉例而言有異氰酸 醋系交聯劑。相關之異氰酸酯系交聯劑方面，可使用甲苯 二異氰酸酯' 4,4’_二苯甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰 酸酉曰、本—甲基二異氰酸酯、1，5 -二異氰酸萘酯、鄰甲苯 胺異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、三苯甲烷三異氰酸醋 修 寺之異氰酸酯類’又’該等之異氰酸酯類與多醇類之生成 物’又’藉由異氰酸酯類之縮合所生成之聚異氰酸酯類。 該等異氰酸酯類之市售商品方面，可舉出有日本聚氨酯公 司製、寇羅內特L、寇羅內特HL、寇羅內特2030、寇羅內 特203 1、米利歐內特MR、米利歐內特hTL ;武田藥品公司 製之塔克內特D-102、塔克內特D-110N'塔克內特D-200、 塔克內特D-202;住友凡耶爾公司製 '迪斯摩傑爾[、迪斯 摩傑爾IL、迪斯摩傑爾N、迪斯摩傑爾HL等。 ® 所塗佈之接著劑或黏著劑之量係調整最終所形成之接 著層或黏著層厚度成爲0.1〜100/2Π]之範圍、而以〇.5〜50// ra之範圍爲佳 '以10〜30#m之範圍爲較佳。 以下’詳細說明於本發明第丨〜第3部分所使用之光資 訊記錄媒體之基板及各層（但是，除了於第3部分所使用 之接著劑、黏著劑、接著方法）。 - c基板> - -21- 1317516 基板方面係可任意選擇被使用作爲習知光資訊記錄媒 體之基板材料之各種材料來使用。 具體來說’可舉出有玻璃；聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸 甲酯等之丙烯酸樹脂；聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等之氯乙 烯系樹脂；環氧樹脂；非晶型聚烯烴；聚酯；鋁等之金屬 等，亦可因所希望來倂用該等材料。 於上述材料中，由耐濕性、尺寸安定性及低價等方面 來看’以聚碳酸酯、非晶型聚烯烴爲佳，而以聚碳酸酯爲 特佳。第1及第2部份中，基板厚度係以〇 . 5〜1 . 4mm爲佳 ，弟3部份中係以ι.ι±〇·3_之範圍爲佳。 於基板上，形成表示追蹤用之導溝或位址訊號之資訊 之凹凸（預凹槽）。該預凹槽係以在射出成型或押出成型 聚碳酸酯等樹脂材料時，直接形成於基板上爲佳。 又，亦可藉由設置預凹槽層來進行預凹槽之形成。預 凹槽層之材料方面，可使用丙烯酸之單酯、二酯、三酯及 四酯中至少一種之單體（或寡聚物）與光聚合起始劑之混 合物。預凹槽層之形成係例如首先塗佈包含上述丙烯酸酯 及聚合起始劑之混合液於精密製作而成之模具（印模）上 ’再者，承載基板於該塗佈液層上之後，經由基板或模具 並藉由照射紫外線來硬化塗佈層而固定黏著基板與塗佈層 。其次’可藉由從模具剝離基板而得。預凹槽層之層厚一 般在0.01〜100//ra之範圍，而以0.05~50#m之範圍爲佳。 比較於用來達成較高記錄密度之CD - R或DVD - R ’以使 用形成較窄軌跡節距之預凹槽之基板爲佳。第1及第2部 -22- 1317516 分中’預凹槽之深度（溝槽深度）係ίο〜15〇nm之範圍，而 以15~100nm之範圍爲佳，以20〜80nm之範圍爲更佳，以 20〜60nm之範圍爲最佳。 本發明之第3部分中，基板預凹槽之軌跡節距係以 200〜400nra之範圍爲佳，而以20〜100nm之範圍爲較佳，以 30〜80nra之範圍爲更佳。又，第3部分中之預凹槽之半値寬 度係以在50〜250nm之範圍爲佳，而以1〇〇〜200nm之範圍爲 較佳。 還有’在設置後述之反射層之情況下，在反射層設置 側之基板表面上，爲了平面性改善、接著力提昇之目的， 係以形成下塗層爲佳。 該下塗層之材料方面，可舉例有聚甲基丙烯酸甲酯、 丙烯酸•甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯•馬來酸酐共聚物、聚 乙烯醇、N -羥甲基丙烯酸胺、苯乙烯•乙烯基甲苯共聚物 、氯磺醯化聚乙烯、硝化纖維素、聚氯乙烯、氯化聚烯烴 、聚酯、聚亞胺、醋酸乙烯酯•氯乙烯共聚物、苯乙烯•醋 酸乙烯酯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等之高分子 量物質；有機矽交聯劑等之表面改良劑。 下塗層係於溶解或分散上述材料於適當之溶劑來調製 塗佈液之後，可藉由以旋轉塗佈、浸漬塗佈、擠塑等之塗 佈法塗佈該塗佈液於基板表面而形成。下塗層之厚度一般 在0.005〜20//m之範圍’而以0.01〜10//Π1之範圍爲佳。 <反射層> 光反射層係爲了在資訊讀取時之反射率提昇之目的， -23- 1317516 設置在基板與記錄層間之層。於反射層上，係使用對於雷 射光之反射率高之反射物質。該反射率方面係以70%以上 爲佳。 反射率高之光反射性物質方面，可舉出Mg、Se、Y、Zr 、Hf 、 V 、 Nb 、 Ta 、 Cr 、 Mo 、 W 、 Mn 、 Re 、 Fe 、 Co 、 Ni 、 Ru 、Rh、 Pd、 Ir、 Pt、 Cu、 Ag、 Au、 Zn、 Cd、 Al、 Ga、 In、 Si 、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等之金屬及半金屬或不銹鋼。 可單獨使用該等之光反射性物質，或者亦可由二種以上之 組合或形成合金來使用。以Au、Ag、A1或該等之合金爲特 佳’以Au、Ag或該等之合金爲最佳。 反射層係可藉由蒸鍍、濺鑛或離子植入前述之光反射 性物質而形成於基板上。反射層之厚度一般爲10〜300nm之 範圍、而以50〜20Onm之範圍爲佳。 以上之反射層係在第1及第3部分中以下之記錄層反 射率足夠大之情況下不一定需要，該情況之記錄層達到反 射層之作用。 <記錄層> 記錄層係以含有在雷射光波長範圍具有極大吸收之色 素爲佳，特別地，如以5 00nm以下波長之雷射可記錄及讀 取，以含有於該波長區域具有極大吸收之色素爲較佳。色 素化合物方面，以三氮雜系化合物、酞菁化合物、聚啡啉 系化合物、胺基丁二烯系化合物、喹啉藍系化合物、氧鏺 醇色素、金屬錯合物系色素、偶氮色素等至少一種爲佳， 酞菁化合物方面係以烷氧基置換體、磺胺置換體、磺酸默 1317516 依耳置換體、磺酸置換體至少一種爲佳。 具體來說，可使用記載於特開平4-74690號公報、特 開平8 - 1 27 1 74號公報、特開平1 1 - 5 3 758號公報、特開平 1 1 - 3 3 42 04號公報、特開平1 1 - 3 3 4206號公報、特開平1 1 -3 3 4207號公報、特開2000 - 43423號公報、特開2000 - 1 085 1 3 號公報 '及特開2000-158818號公報等之色素。 再者’並不限定於上述色素，亦可適用三氮雜化合物 、三阱化合物、喹啉藍化合物、份菁化合物、胺基丁二烯 化合物、酞菁化合物、肉桂酸化合物、氧化還原化合物、 偶氮化合物、氧鎰醇苯并噁唑化合物、苯并三氮雜衍生物 等之有機化合物。於該等之化合物中，係以唼啉藍、胺基 丁二烯··苯并三氮雜、酞菁爲佳。 記錄層係溶解上述色素（有機物等）等之記錄物質與 依所期望之結合劑等一起於適當之溶劑中來調製記錄層塗 佈液’其次藉由在塗佈該記錄層塗佈液於基板預凹槽表面 '或反射層表面來形成塗膜後乾燥而形成。 又’溶解處理色素或結合劑之方法方面，可適用超音 波處理、均質化處理、分散器處理、砂磨處理、攪拌器攪 拌處理、加溫等之方法。 調製記錄層塗佈液時之溶劑方面，可舉出醋酸丁醋、 乳酸甲酯、乳酸乙酯 '溶纖素醋酸酯等之酯類；甲基乙基 酮、環己酮、甲基異丁基酮等之酮類；二氯甲烷、丨，2-二 氯乙烷 '氯仿等之氯化碳氫化合物；二甲基甲醯胺等之胺 類：甲基環己烷等之碳氫化合物；四氫呋喃、乙醚、二噁 -25- 1317516 烷等之『類：s醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、二丙酮醇 等之醇類；2, 2,3,3_四氟丙醇等之氟系溶劑；乙二醇單甲 基醚、乙：醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚等二醇醚類等。 上述溶^係考慮所使用之記錄物質與結合劑之溶解性 ’可單獨或組合二種以上來使用。於塗佈液中亦可針對目 的來進一步添加抗氧化劑、uv吸收劑、可塑劑、潤滑劑等 各種添加劑。 結合劑之範例方面，可舉出明膠、纖維素衍生物、糊 精、松脂、橡膠等之天然有機高分子量物質；聚氨酯、聚 乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚異丁烯等之碳氫化合物系樹 脂；聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚氯乙烯•聚醋酸乙烯酯共 聚物等之乙烯系樹脂；聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯 等之丙烯酸樹脂；聚乙烯醇；氯化聚乙烯；環氧樹脂；丁 縮醛樹脂；橡膠衍生物；酚·甲醛樹脂等之熱硬化性樹脂 之初期縮合物等之合成有機聚合物等。在倂用結合劑作爲 記錄層材料之情況下，結合劑之使用量（質量）一般在記 錄物質質量之0.01倍~50倍之範圍，而以0.1-5倍之範圍 爲佳。由於在記錄層中含有結合劑，亦可改良記錄層之保 存安定性。 記錄層塗佈液中之記錄物質濃度一般爲0 · 0 1〜1 5質量 %之範圍，而以〇.〇1〜ίο質量％爲佳，再者以o.uo質量 %之範圍爲佳，以〇 · 1〜5質量％爲較佳，再者以0 . 5〜5質量 %之範圍爲較佳，以〇 . 5〜3質量％爲最佳。 記錄層塗佈液之塗佈方法方面，可舉出有噴霧法 '旋 -26- 1317516 轉塗佈法、浸漬法、輥塗法、刮板塗佈法、刮塗法、網式 塗佈法等。記錄層係單層或多層均可。又，記錄層之層厚 係於第1及第2部分中，一般在20-500 nm之範圍，而以 30〜300nm之範圍爲佳，以50~100nm之範圍爲較佳。又，第 3部分中記錄層之層厚一般在 20~5 00nm之範圍，而以 50〜300nm之範圍爲佳。 又，塗佈溫度方面，雖然如爲23~50°C並無特別之問題 ，但以2 4〜4 0 °C爲佳，以2 5〜3 7 °C爲更佳。 記錄層係爲了提昇該記錄層之耐光性，可含有各種防 褪色劑。 防褪色劑方面，一般使用單態氧猝滅劑。單態氧猝滅 劑方面係可利用記載於既已公認之專利說明書等之刊行物 者。 該具體實施例方面，可舉出記載於特開昭58 - 1 75693 號公報、特開昭59 - 8 1 1 94號公報、特開昭60 - 1 83 8 7號公 報' 特開昭60 - 1 9586號公報、特開昭60 - 1 9 5 8 7號公報、 特開昭60 - 3 5 054號公報、特開昭60 - 3 6 1 90號公報、特開 昭60 - 3 6 1 9 1號公報、特開昭60 - 44 5 5 4號公報、特開昭60-445 5 5號公報、特開昭60 - 44 3 89號公報、特開昭60 - 443 90 號公報、特開昭6 0 - 5 4 8 9 2號公報、特開昭6 0 - 4 7 0 6 9號公 報、特開昭6 3 - 209 99 5號公報、特開平4 - 2 5 49 2號公報、 特公平1-386 80號公報、特公平6 - 26 0 28號公報等之各公 報、德國專利3 5 0 3 9 9號說明書、及日本化學會誌1 9 9 2年1 0 月號第1 1 4 1頁等者。 - 27- 1317516 前述單態氧猝滅劑等之防褪色劑之使用量係 於記錄之化合物量，通常爲0 . 1〜5 0質量％之範 0.5〜45質量％之範圍爲佳，以3〜40質量％之範圍 以5~25質量％之範圍爲特佳。 本發明第2部分之光資訊記錄媒體中，爲了 密著阻障層與反射層表面之外周邊緣部分及/或內 分之區域，在塗佈前述記錄層塗佈液後，洗淨除 層之外周邊緣部分及/或內周邊緣部分。 <阻障層> 在所形成之記錄層表面上，爲了提高與被覆 性與色素之保存性，亦可形成阻障層，於第1及！ 中，阻障層係形成於上述記錄層與後述之黏著劑 劑層之間。構成阻障層之材料方面，若爲透過雷 料，並無特別之限制，但以介電體爲佳。具體來 無機氧化物' 氮化物、硫化物' 碳化物，舉例有包 、Ti、Te、+Sm、Mo、Ge等任意一種之一個原子以 物、氮化物、碳化物、硫化物等。較具體來說，舉 、Ti〇2、 Si02、 Ge02、 Si3N4、 Ge3N4、 MgF2 等，如 之雜混複合化者亦可。其中，以ZnS-Si02. Si02 障層係可藉由激鑛、離子植入等形成，該厚度係以 爲佳。 又’本發明第1及第2部分中，爲了確保基 層之密著區域，使用光罩來設置未形成阻障層之1 本發明第1及第2部分之光資訊記錄媒體中 相對於用 圍，而以 爲更佳， 確保用來 周邊緣部 去該記錄 層之密著 _ 2部分 層或接著 射光之材 說，使用 含 Zn、S i 上之氧化 出有ZnS ZnS-Si02 爲佳。阻 1~100 nra 板與被覆 域。 ，於以上 -28- 1317516 之阻障層上’經由以下所說明之黏著劑層或接著劑層貼合 後述之被覆層。 <黏著劑層> 黏著劑層係用於接著後述之被覆層而形成之層，可廣 泛地使用習知公認者。第1及第2部分中之黏著劑層方面 ，可使用丙烯酸系黏著劑、或天然橡膠、苯乙烯-異戊間二 稀-苯乙稀共聚物（SIS)、苯乙嫌-丁二稀-苯乙燒共聚物 (SBS )等之橡膠系黏著劑。該黏著劑係以預先塗佈於被覆 層之貼合面爲佳。第1及第2部分中黏著劑之層厚係丨〜;^ /zm、以2~5;zm爲佳之範.圍。 <接著劑層> 接著劑層與黏著劑層同樣地，係用來接著後述之被覆 層而形成之層。第1及第2部分中構成接著劑層之材料方 面’舉出有光硬化性樹脂、雙液硬化型接著劑等，其中， 以光硬化性樹脂爲佳’爲了防止光碟之翹曲，以硬化收縮 率小者爲佳。該等光硬化性樹脂方面，可舉例_有大日本油 墨化學工業（株）製之「SD-640」、「SD-661」、「SD-347 」等之UV硬化性樹脂（UV硬化性接著劑）。又，第〗及第 2部分中接著層之厚度係爲了具有彈力性，以1〜1 〇 〇 〇 # m爲 佳，以5〜500//m爲較佳，以10〜l〇〇#m爲特佳。 第1及第2部分中形成接著劑層之材料之其他範例方 面，該材料係藉由放射線照射而可硬化之樹脂，舉出有於 分子中具有2個以上放射線官能基之雙鍵結之樹脂，該範 例方面舉出有丙烯酸酯類、丙烯酸胺類、甲基丙烯酸酯類 - 2 9 - 1317516 、甲基丙烯酸胺類' 烯丙類、乙烯基醚類、乙烯基酯類等 。以2個官能基以上之丙烯酸酯化合物、甲基丙烯酸酯化 合物爲佳。 2個官能基者之具體範例方面，可使用乙二醇二丙烯酸 酯、丙二醇二丙烯酸酯、丁二醇二丙烯酸酯、己二醇二丙 烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、四 乙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙 烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、丙二醇二甲基丙烯酸酯 、丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、二乙 二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、四乙二 醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三丙二醇 二甲基丙烯酸酯等所代表之加成丙烯酸、甲基丙烯酸於脂 肪族二醇者。 又，亦可使用已加成丙烯酸 '甲基丙烯酸於聚乙二醇 、聚丙二醇、聚四亞甲基二醇等之聚醚聚醇之聚醚丙烯酸 酯、聚醚甲基丙烯酸酯、由加成丙烯酸、甲基丙烯酸於由 公認之二鹼基酸及乙二醇而得之聚酯聚醇之聚酯丙烯酸酯 、聚酯甲基丙烯酸酯於第1及第2部分。 再者’亦可使用加成丙烯酸、甲基丙烯酸公認之聚醇 、二醇與聚異氰酸酯反應而得之聚氨酯之聚氨酯丙烯酸酯 、聚氨酯甲基丙烯酸酯於第1及第2部分。_ 又’亦可使用具有加成丙煤酸、甲基丙嫌酸於雙酣A、 雙酣F、氫化雙酚A、氫化雙酚F或該等之環氧烷類加成物 者或二聚異氰酸環氧院基改質二甲基丙烯酸酯、三環癸院 -30 - 1317516 基二甲醇二丙烯酸酯、三環癸烷基二甲醇二甲基丙烯酸酯 等之環狀構造者於第1及第2部分。 前述放射線方面’可使用電子束或紫外線。在使用紫 外線之情況下’必須於前述之化合物中添加光聚合起始劑 。使用芳香族酮作爲光聚合起始劑。芳香族酮並無特別之 限制’其產生通常使用作爲紫外線照射光源之水銀燈之明 線光譜。以在254' 313、865nm波長中之吸光係數較大者 爲佳。該代表例方面，可使用苯乙酮、二苯甲酮、安息香 乙基醚、苄基甲基縮酮、苄基乙基縮酮、安息香異丁基酮 、羥基二甲基苯基酮、1-羥基環己基苯基酮、2,2_二乙氧 基、米其勒酮等各種之方香族酮。又，亦無妨使用市售之 預先添加光起始劑作爲紫外線硬化型接著劑者。紫外線光 源方面，係使用水銀燈。水銀燈方面係以〇 · 3m/分〜20m/分 速度使用20〜200W/cm之燈。基體與水銀燈之距離一般以 l~30cm 爲佳。 電子束加速器方面雖可採用掃描方式、雙掃描方式或 幕簾射線方式。電子束特性方面，加速電壓爲100~ 1 000kV ，而以150〜300kV爲佳，以0.5〜20Mrad作爲吸收線量，而 以1〜1 0M 1_ ad爲佳。在加速電壓爲1 OkV以下之情況下，能 量之透過量不足，而超過1 000kV則使用於聚合之能量效率 降低而不利於成本。 爲了防止光碟之翹曲，對於塗佈膜之紫外線照射係以 使用脈衝型之光照射器（以UV照射器爲佳）來進行爲佳。 脈衝間隔係以m s e c以下爲佳，而以// s e c爲較佳。1脈衝 -31 - 1317516 之照射光量雖無特別之限制，但以3kW/ cm2以下爲佳，以 2kW/cm2以下爲較佳。 又，照射次數雖無特別之限制，但以2 0次以下爲佳， 以1 0次以下爲較佳。 <被覆層> 形成被覆層之材質方面，若爲透明之材質則無特別之 限制，但以使用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等之丙烯酸 樹脂；聚氯乙烯、聚氯乙烯共聚物等之氯乙烯樹脂；環氧 樹脂；非晶型聚烯烴；聚酯；三醋酸纖維素等爲佳，其中 ，亦以使用聚碳酸酯或三醋酸纖維素爲較佳。又，以在 2 3 °C、50% RH之吸濕率爲5%以下之材質爲佳。再者，在被 覆層之表面物性方面，係以光入射面之表面粗糙度（2次元 粗糙度係數及3次元粗糙度係數之任一種）爲5nm以下爲 佳。 又’從用於記錄及讀取之光之集光度觀點來看，被覆 層之雙折射率係以1 Onm以下爲佳。 還有’所謂「透明」係表示對於用於記錄及讀取之光 線爲8 0%透過率以上之意思。 又’被覆層係於不妨害本發明效果之範圍中，亦可添 加各種之添加劑。例如，亦可含有用於截斷40Onm以下波 長光線之UV吸光劑及/或用於截斷5 0 0 n m以上光線之色素 〇 被覆層之厚度係雖藉由用來記錄及讀取所照射之雷射 光波長或N A來適宜地規定’但於第1及第2部分中係以 -32- 1317516 0.0l~0.2mm之範圍爲佳，而以〇.〇3~〇.lmm之範圍爲較佳， 以0.05〜0.095mm之範圍爲更佳。又，於第3部分中係以 0.03〜0.1 5miri之範圍爲佳，而以〇.〇5〜0.1 2mm之範圍爲較佳 。由於在該等之範圍中，在貼合被覆層步驟之被覆層處理 變得容易，而且，具有所謂可抑制細度不鮮明之優點。 使用上述黏著劑層來貼著被覆層於阻障層上之方法方 面，舉出有塗佈黏著劑於被覆層上，乾燥溶劑後，經由該 黏著劑於阻障層上承載被覆層並藉由輥輪施加壓力來貼合 被覆層之方法。 還有，於第1及第2部分中該黏著劑層之厚度係爲了 賦予彈力性，以1〜200 //m之範圍爲佳，而以5〜10//m之範 圍爲較佳，1 0 ~ 5 0 μ m之範圍爲特佳。 黏著劑之塗佈溫度方面，爲了黏度控制，以23 ~50°C之 範圍爲佳，而以24〜40°C之範圍爲較佳，以25~37°C之範圍 爲更佳。塗佈後，塗膜係在以50~ 300°C爲佳、以80〜200°C 爲較佳、以100〜15CTC爲更佳下乾燥。又，貼合被覆層時之 溫度方面，係以0~100°C之範圍爲佳，以15〜50°C之範圍爲 較佳。 又，對於所使用之黏著劑方面，塗佈黏著劑於具有離 型性之離型薄膜上並除去溶劑後，貼合被覆層於所得之塗 膜上，再者，剝離離型薄膜並設置黏著劑於被覆層上後’ 可貼合被覆層 於阻障層。特別地，在黏著劑中所含有之溶劑溶解被 覆層之情況下，則希望使用該方法。 -33- 1317516 在使用設置黏著劑層於離型薄膜上之片材之情況下， 使用作爲基材之薄膜，若不溶於包含於黏著劑之溶劑’並 無特別之限制，雖可使用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯 、聚乙烯、氯乙烯等之塑膠薄膜、牛皮紙、上等紙、克雷 克特紙、和紙等紙類、縲縈、聚酯等之不織布、由聚酯、 耐綸、丙烯酸等之合成纖維所構成之織布、鋁、銅、不銹 鋼等之金屬箔，但由連續均勻薄層地塗佈離型劑層於薄膜 上之觀點來看，係以塑膠薄膜爲佳。 又，所使用之離型劑方面，可使用有機矽系離型劑或 長鏈烷基系離型劑等之迄今所使用之各種離型劑。 於本發明之光資訊記錄媒體中，例如如以下之記錄、 讀取資訊。首先，以既定之直線速度（0 . 5~ 1 Om/秒）、或 既定之定角速度迴轉光資訊記錄媒體，同時從被覆層側經 由照射對物鏡片照射藍紫色雷射（例如，405nm波長）等之 記錄用光線。藉由該照射光線，記錄層吸收該光線並局部 地溫度上升，例如生成坑洞並藉由改變記錄層之光學特性 來記錄資訊。如上述所記錄之資訊，係以既定之定直線速 度迴轉光資訊記錄媒體同時從被覆層側照射藍紫色雷射光 ，可藉由檢查出該反射光線來讀取。 具有5 00nm以下之振動波長之光源方面，可舉例具有 3 90〜4 15 nm範圍之振動波長之藍紫色半導體雷射、42 5nm中 心振動波長之藍紫色SHG雷射等。 又，爲了提高紀錄密度，使用於讀取之對物鏡片之NA 係以0 . 7以上爲佳，而以0 . 8 5以上爲較佳。 -34- 1317516 【實施例】 以下，雖詳細地說明本發明之實施例，但本發明係非 受該等之限制者。 【實施例1】 準備具有1.1 mm厚度、120cm外徑、15 mra內徑之螺旋 -狀之凹槽（軌跡節距：340nm、溝槽深度：30nm、溝槽寬度 :150nm)之射出成形聚碳酸酯樹脂基板，於具有凹槽之面 上，使用Unaxis公司製Cube並藉由DC濺鍍，在氬氣之環 境氣體下形成由120nra之層厚之銀所構成之反射層。 鲁 其次，溶解2g於下述構造所示之色素A於l〇〇ml 2,2,3, 3 -四截丙醇來調製色素塗佈液。以旋轉塗佈法均勻 地塗佈該色素塗佈液於基板上，形成100nm溝槽內之厚度 、70nra平坦部分之厚度之記錄層。其次，於淸洗槽中以 4 0 °C退火塗膜1小時。此時，於垂直之堆疊池以吊桅舉起 同時維持基板一段時間。 (如原文第29頁之色素A構造式） 退火之後，藉由RF濺鍍，以4kW濺鍍功率、2x 10_2hPa ^ 、2秒之條件下濺鍍ZnS-S i02 ( 8 : 2 )成5nm之厚度，形 成阻障層。此時，覆蓋記錄層之表面及反射層及氯層個別 之外周邊緣終端面（參照第3圖、第4圖）、阻獐層之外 周終端變成距離前述反射層及記錄層之外周終端僅0 . 5mm 之外側地形成阻障層。又，於RF濺鍍時，由於使用遮罩來 確保在外周邊緣部分及內周邊緣部分個別4處之基板與被 覆層之密著區域（參照第3圖），於該區域則未形成阻障 _ -35- 1317516

其次’在使基板與被覆層之中心一致之狀態下，貼合 於表面以15#m之厚度塗佈黏著劑之聚碳酸酯·被覆層（帝 人公司製標耳艾斯、厚度：85//m)於基板。在外周邊緣部 分與內周邊緣部分’在經由黏著劑層來密著基板與被覆層 之密著區域徑方向之長度最大値爲〇 . 5mm。藉由以上步驟， 得到實施例1之光資訊記錄媒體。 【比較例1】 於實施例1中，除了形成反射層成爲其邊緣部分與基 板之內周及外周之邊緣部分一致，及形成阻障層成爲該邊 緣部分與記錄層之外周及內周之邊緣部分一致之外，與實 施例1相同地得到比較例1之光資訊記錄媒體。 【比較例2】 於實施例1中，除了基板與被覆層之密著區域徑方向 之長度最大値爲0 · 1 mm，以及阻障層與基板之密著寬度（阻 障層之外徑與反射層及記錄層之外徑差）爲0.1mm之外， 與實施例1相同地得到比較例1之光資訊記錄媒體。 [實施例1、比較例1、2之評估] 貼著橡膠膠帶於所得之各光資訊記錄媒體之被覆層側 之面，進行剝離試驗。實施例1之光資訊記錄媒體係未發 生剝離，比較例1及2之光資訊記錄媒體均發生剝離。 又’於80°C、85% RH之氛圍氣體下進行放置120小時 試驗’於實施例1之光資訊記錄媒體中未見外觀上特別之 變化’於比較例1之光資訊記錄媒體中則確認稍微之變色 -36- 1317516 【實施例2】 準備具有1.1mm厚度、120cm外徑、15mni內徑之螺旋 狀之凹槽（軌跡節距：340nra、溝槽深度：30nm、溝槽寬度 :150nm)之射出成形聚碳酸酯樹脂基板，於具有該凹槽之 面上’使用Unaxis公司製Cube並藉由DC濺鑛，在氬氣之 環境氣體下形成由120nm之層厚之銀所構成之反射層。 其次’溶解於2g前述色素A於100ml 2,2,3,3-四氟丙 醇來調製色素塗佈液。以旋轉塗佈法均勻地塗佈該色素塗 佈液於基板上，形成100nm溝槽內之厚度、70nm紋間表面 部分之厚度之記錄層。然後，淸洗流動除去記錄層之外周 邊緣部分（徑方向長度：0.4mm )之區域。其次，於淸洗槽 中以40°C退火塗膜1小時。此時，於垂直之堆疊池以吊桅 舉.起同時維持基板一段時間。 退火之後，藉由RF濺鍍，以4kW濺鍍功率、2x 10· 2hPa 、2秒之條件下濺鍍ZnS-Si02 ( 8 : 2)成5nm之厚度，形 成阻障層。此時，形成阻障層之外周終端成爲距離前述反 射層及記錄層之外周終端僅〇 . 5mm之外側。又，於RF濺鍍 時，使用遮罩來確保在外周邊緣部分及內周邊緣部分個別4 處之基板與被覆層之密著區域（參照第7圖），於該區域 則未形成阻障層。 其次，在使基板與被覆層之中心一致之狀態下，貼合 以15#m之厚度塗佈黏著劑之聚碳酸酯·被覆層（帝人公司 製標耳艾斯、厚度：85"m)於表面。在外周邊緣部分與內 -37- 1317516 周邊緣部分’在經由黏著劑層來密著基板與被覆層之密著 區域徑方向之長度最大値爲〇 . 5mm。藉由以上步驟，得到實 施例2之光資訊記錄媒體。 【比較例3】 於實施例2中，除了形成成爲阻障層、記錄層及反射 層之各外周邊緣部分一致之外，與實施例2相同地得到比 較例3之光資訊記錄媒體。 [實施例2及比較例3之評估] (1 )剝離試驗 貼著橡膠膠帶於所得之光資訊記錄媒體之被覆側之面 ，進行剝離試驗並依照以下之評估標準來評估。結果示於 表1。 [評估標準] 〇：無發生剝離。 X :發生剝離。 (2 )記錄特係評估 藉由光碟磁碟機裝置（DDU1 0 00，帕耳斯迪克工業（株 )製），以4.9m/s直線速度形成160nm長度之坑洞，測定 上述（1 )剝離試驗前後之C / N °測試結果示於表i。 表1 剝離試驗 C/N ( dB) C/N (dB) 試驗前 試驗後 實施例2 〇 46 45 比較例3 X 46 40 -38- 1317516 由示於表1之上述（1 )剝離試驗及（2 )記錄特性評 估之結果得知，實施例2之光資訊記錄媒體比較於比較例3 之光資訊記錄媒體，具有高密著性同時具有高紀錄特性。 【實施例3】 準備由具有l.lfflm厚度、120cm外徑、15mm內徑之螺 旋狀之凹槽（30nm溝槽深度、150nm寬度、340nm軌跡節距 )之射出成形聚碳酸酯樹脂所構成之基板，於具有該凹槽 之面上，在氬氣之環境氣體中，藉由DC濺鍍形成由銀所構 成之反射層（100nm厚度）。 其次，添加2g前述色素A於100ml 2，2，3，3-四氟丙醇 並溶解來調製色素塗佈液。以旋轉塗佈法變化 300製 40 00 rpra迴轉數同時在23°C、50% RH之條件下塗佈所調製 之色素塗佈液。於231、50% RH下保存1小時之後，形成 記錄層（lOOnra凹槽內之厚度、70nm凹槽上之厚度）。 形成記錄層後，於淸洗槽中施行退火處理。退火處理 係於垂直之堆疊池以吊桅舉起同時維持基板一段時間，於 4 0 °C下保持1小時來進行。 然後，於所形成之記錄層上，使被覆層（聚碳酸酯製 ，1 0 0 M m厚度）鄰接於中心線平均粗糙度（R a )爲1 # m之 面來配置。然後，於距離被覆層中心之20〜2 Irani半徑之區 域、及59~60mm半徑之區域進行藉由超音波熔融接著之接 著。得到實施例3之光資訊記錄媒體。僅使被覆層之該區 域接著於基板。超音波熔融接著係如以下來進行。首先， 配置超音波喇叭於被覆層之上面部分’藉由超音波喇叭來 -39- 1317516 加壓接著區域同時於被覆層施加超音波振動3秒鐘’藉由 熔融•硬化被覆層本身’完成被覆層與基板之接著。 [實施例3之光資訊記錄媒體之記錄特性評估] -C / N (傳送波對雜音比）- 使用搭載於所得之光資訊記錄媒體之405nm之雷射、NA :0 . 85讀取之記錄讀取評估機（帕斯迪克公司製：DDU1 000 )，以5mW記錄功率、4.9m/s直線速度之條件形成197nm 之坑洞，使用光譜分析儀來測定C / N。

測定結果爲實施例3之光資訊記錄媒體之C/N爲48dB 〇 【比較例4】 於實施例3中，除了以鄰接於記錄層面之中心線平均 粗糙度（Ra)爲0.03//m者取代被覆層之外，與實施例3 相同地製作比較例4之光資訊記錄媒體。 使所製作之光資訊記錄媒體進行與實施例3相同之實 驗，並評估記錄特性。測定之結果爲比較例4之光資訊記 錄媒體之C/N爲44dB。 本發明之實施例3之光資訊記錄媒體比較於比較例4 之光資訊記錄媒體爲記錄特性良好。 (五）圖式簡單説明： 第1圖係顯示適用本發明之第1部分之光資訊記錄媒 體之平面圖。 第2圖係沿著第1圖之I I - I I線之截面圖。 第3圖係顯示適用本發明之第1部分之光資訊記錄媒 1317516 體之變形範例之平面圖。 第4圖係沿著第3圖之I V - I V線之截面圖。 第5圖係顯示適用本發明之第1部分之光資訊記錄媒 體之其他變形範例之平面圖。 第6圖係沿著第5圖之V I - V I線之截面圖。 第7圖係顯示適用本發明之第2部分之光資訊記錄媒 體之平面圖。 第8圖係沿著第7圖之I I - I I線之截面圖。 第9圖係顯示適用本發明之第2部分之光資訊記錄媒 體之變形範例之平面圖。 第1 0圖係顯示適用本發明之第2部分之光資訊記錄媒 體之變形範例之截面圖。 牛要部分之代表符號 10 光 資 訊 記 錄 媒 體 12 基 板 14 反 射 層 16 記 錄 層 18 阻 障 層 20 接 著 劑 層 22 被 覆 層 24 中 心 孔 洞 110 光 資 訊 記 錄 媒 體 112 基 板 114 反 射 層 4 1 - 1317516 116 記 錄 層 118 阻 障 層 120 接 著 劑 層 122 被 覆 層 124 中 心 孔 洞 -42-

Claims (1)

1. ................ I ................ I 第 9 2 1 1 5 1 7 0 號 光資訊記錄媒體」專利申請案 ( 2008年9月1 1日修正） 拾、申請專利範圍： 1. 一種光資訊記錄媒體，其係依序具有基板、反射層、記錄 層、阻障層、黏著劑層或接著劑層、及被覆層，具有中心 孔洞，藉由從該被覆層側照射雷射光來記錄讀取資訊之碟 狀之光資訊記錄媒體， 該反射層較該記錄層大，該阻障層密著於該反射層表面 之外周邊緣部分及/或內周邊緣部分，而且經由該黏著劑層 或該接著劑層密著該基板於該被覆層之內周邊緣部分及/ 或外周邊緣部分之至少一部份之區域，而且於該區域之徑 方向之長度最大値爲0.4mm以上。 2. 如申請專利範圍第1項之光資訊記錄媒體，其中該阻障層 覆蓋該反射層及該記錄層之個別之兩終端面。 3. 如申請專利範圍第1項之光資訊記錄媒體，其中在該基板 與該被覆層之外周邊緣部分密著之該區域徑方向之長度 爲 0 · 4 〜2 m m。 4. 如申請專利範圍第1項之光資訊記錄媒體，其中在該基板 與該被覆層之內周邊緣部分密著之該區域徑方向之長度 爲 0.4~15mmo 5. 如申請專利範圍第1項之光資訊記錄媒體，其中在該反射 層與該記錄層之外周半徑差爲0.1〜2mm。 6. 如申請專利範圍第1項之光資訊記錄媒體，其中在該反射 層與該記錄層之內周半徑差爲0.1〜5mm。 1317516 7. 如申請專利範圍第1項之光資訊記錄媒體，其中在該阻障 層與該記錄層之外周半徑差爲0.1 ~2mm。 8. 如申請專利範圍第1項之光資訊記錄媒體，其中在該反射 層與該記錄層之內周半徑差爲0.1〜5mm。 ^ 9·—種光資訊記錄媒體’其係依序具備基板、記錄層、與被 . 覆層，從該被覆層側照射雷射光來記錄及讀取資訊之光資 訊記錄媒體，鄰接該被覆層之該記錄層表面之面之中心線 平均粗糖度（Ra)爲0.1/zm以上，接著前述被覆層內周 邊緣部分及外周邊緣部分個別至少一部分於前述基板而 φ 形成。 10.如申請專利範圍第9項之光資訊記錄媒體，其中該被覆層 接著於該基板區域之該記錄層側之終端部距離該被覆層 與該記錄層鄰接部分之該區預測之終端部0.1mm以上。 U.如申請專利範圍第9項之光資訊記錄媒體，其中設置該被 覆層於接著於該基板之區域距離該被覆層中心之17〜22mm 半徑之區域、及56〜60mm半徑之區域，且該寬度爲0.2~2mm • i 2.如申請專利範圍第9項之光資訊記錄媒體，其中藉由超音 波熔融接著來接著該被覆層與基板