CN1287911C - 涂覆装置和涂覆方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种涂覆装置和一种涂覆方法。涂覆装置包括一个涂覆站，其用于向连续运行的带状基片上涂覆涂覆液，以及一个涂层调节站，其布置在涂覆站下游，用于调节基片上的涂覆液，以使涂覆液层以预定厚度涂覆在基片上。涂覆站和涂层调节站分别包括用于涂覆和计量调节涂覆液的第一和第二杆。涂覆液可以以均匀和稳定的方式涂覆，即使涂覆操作是在基片高速运行的条件下实施的。

Description

涂覆装置和涂覆方法

技术领域

本发明涉及一种涂覆装置和一种涂覆方法。具体地讲，本发明涉及这样的涂覆装置和涂覆方法，其能够实施稳定且均匀的涂覆操作，即使是在带状基片高速运行时向基片表面上施加涂覆液剂的情况下。

此外，本发明涉及采用了杆式涂覆机的涂覆装置和涂覆方法。具体地讲，本发明涉及杆式涂覆装置和杆式涂覆方法，其能够在沿恒定方向高速输送着的涂覆对象上施加涂覆液剂，并且优选适用于带有粗糙表面的涂覆对象。

此外，本发明涉及一种杆式涂覆装置，其包括涂杆和布置在涂杆上游的主侧拦截件，并且能够有效地防止涂覆液剂在主侧拦截件上干燥或粘着；还涉及使用这种涂覆装置的涂覆方法。

背景技术

摄影感光材料、印刷纸、磁记录材料、带涂层的金属板、平印版前体或类似物是通过在诸如载体片材等基片上涂覆诸如制版层形成液等涂覆液而制成的。

杆式涂覆机、滑珠式涂覆机、挤出式涂覆机以及诸如此类的装置被用于施加涂覆液。特别是杆式涂覆机由于容易操作而被广泛使用。

通常采用的杆式涂覆机包括一个涂杆，其可以沿着与基片输送方向相同或相反的方向旋转，并且接触连续运行着的基片的下表面。在这种杆式涂覆机中，在基片运行的同时，通过沿基片输送方向在涂杆上游(以下简称“上游”)喷射涂覆液，可以借助于涂杆的旋转而形成液珠并且带起涂覆液，从而使涂覆液粘着在基片的下表面上。涂杆可以随动于基片的运行，并因此而旋转。

除此之外，有一种杆式涂覆机公开于日本实用新型申请公开文献No.63-126213的说明书中，其包括毗邻涂杆布置在涂杆上游的第一拦截板，该拦截板的上端部的厚度向着基片输送方向的下游(以下简称“下游”)缩窄，而且该上端部向着涂杆弯曲，从而在顶部形成一个长度为0.1至1mm的平坦表面；还有一种杆式涂覆机公开于日本专利申请公报(JP-B)No.58-004589中，其包括涂杆、布置在涂杆上游侧而且在其上端部向着下游侧缩减厚度的第一拦截板以及布置在涂杆下游侧的第二拦截板；上述两种涂覆机是常被使用的。

对于上述杆式涂覆机，涂覆液通常在第一拦截板与涂杆之间排出，以便涂覆在基片上。

另外，在拦截板设在涂杆上游的情况下，主要采用这样的涂覆方法，即在涂杆和拦截板之间喷射涂覆液，同时强迫涂杆以不同于基片输送速度的圆周速度旋转，从而将涂覆液涂覆在基片上。

然而，对于任一上述杆式涂覆机，当基片高速运行时，容易产生等节距的条纹状缺陷。另外，当载体片材高速运行时，可能会在载体片材的表面上形成一层伴随着载体片材的附属掺气膜。

在掺气膜形成在载体片材表面上后，掺气膜将被载体片材带到用作涂覆部分的液珠处，而这会导致形成在载体表面上的涂覆液膜存在缺陷，例如涂膜中断和涂覆不规则。因此，产生了涂覆液不能以稳定方式涂覆的问题。

此外，对于设有拦截板的杆式涂覆机，涂覆液将从第一拦截板和涂杆之间排出，并且不能总是均匀地沿着基片宽度方向供应。

因此，排出的涂覆液将周期性地干燥和附着在第一拦截板的顶部，这样，粘着的涂覆液固体成分会导致涂覆表面问题，例如可能会在基片的涂覆表面上产生涂覆条纹和固体成分粘着。

此外，为了向涂覆对象如金属板上施加涂覆液，并将多余的涂覆液从涂覆对象上去除(即所谓的计量)，通常使用图20中所示的杆式涂覆装置502。

对于杆式涂覆装置502，一个柱状(圆柱形)涂杆506为金属板504而设置。柱状涂杆506被沿着与金属板504的输送方向(箭头F1的方向)正交的方向以恒定速度传输，从而接触金属板504的涂覆表面(下表面)。在金属板504与涂杆506间的摩擦力的作用下，涂杆506以与金属板504的输送速度相等的圆周速度旋转。所述旋转将带动涂覆液508升高，从而在拦截件512与金属板504之间形成液珠510。也就是说，液珠510中的涂覆液被施加在金属板504上，而多余的涂覆液被从金属板504上去除，从而实现计量。

然而，在杆式涂覆装置502中，在涂覆时会有所谓的掺气进入，从而使得液珠510不稳定。具体地讲，目前金属板504的输送速度均设置在高速，而由于这种高速，无法保持液珠510稳定的风险增大了。如果液珠510不稳定，则作为示例，涂覆液508不能均匀地涂覆在金属板504的整个宽度方向上，从而难以获得均匀涂覆的表面。这一点在金属板504的表面粗造时更为明显。由于容易产生掺气，因此更难获得均匀涂覆的表面。

发明内容

因此，本发明的一个目的是提供一种杆式涂覆装置和一种杆式涂覆方法，其能够实现稳定涂覆，而不会产生前述各种类型的涂膜缺陷，即使是在基片例如载体片材高速运行的条件下涂覆时。

另外，本发明的另一个目的是提供一种杆式涂覆装置和一种杆式涂覆方法，其能够在带有粗糙表面的涂覆对象上形成均匀涂覆的表面，即使是在高速输送的情况下。

本发明的第一个方面是一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，包括：涂覆站，其用于向基片的至少一个表面上涂覆液剂，所述涂覆站包括：第一涂杆，其基本上平行于基片表面布置；拦截件，其沿基片输送方向布置在第一涂杆上游，并且面对着第一涂杆，用以在第一涂杆和基片之间形成液剂的液珠；和整流件，其布置在拦截件和第一涂杆之间，用于形成沿着第一涂杆的表面上升的液剂流，其中整流件是具有末端部分和弯折部分的板状件，弯折部分形成在末端部分上向着第一涂杆弯折；以及涂层调节站，其沿基片输送方向布置在涂覆站的下游，用于将液剂量调节到预定厚度。

根据本发明第一个方面中的涂覆装置，涂覆站用作涂覆器具，用于向基片上涂覆涂覆液，而涂层调节站用作计量器具或涂层调节器具，用于将涂覆在基片上的涂覆液调节到预定厚度，从而在涂覆站涂覆在基片上的涂覆液过多的情况下去掉一部分涂覆液，而在不够的情况下补充涂覆液，所述涂覆站和涂层调节站设在同一涂覆装置中。

通过这种涂覆装置，由于基片上的涂覆量可以被涂层调节器具调节，因此可以根据所需的涂覆液层的预定厚度而调节涂覆器具所涂覆的涂覆液量。这样，即使基片高速运行，也可以利用涂覆器具涂覆充足的涂覆液，或者涂覆到过量的程度，从而可以有效地防止基片表面上形成掺气膜，以有效地防止因掺气膜而引起的缺陷，例如涂膜中断或涂覆不规则。

基片没有特别的限制，只要它是具有柔性的带状、薄板状或薄膜状材料即可。具体地讲，可以采用下列材料：铝质载体片材，例如由薄铝板制成的平印版前体载体件；用在摄影记录材料如摄影胶片和电影胶片中的模片基底；钡地纸，例如显影纸；由聚酯薄膜或类似物制成的用在诸如录音磁带、录像磁带、柔性磁盘等磁性记录材料中的记录材料基片；金属薄板，例如彩色铁板等涂覆金属板；以及诸如此类的片材。

另外，带状基片可以是由各种纸例如牛皮纸、仿羊皮纸、带聚乙烯涂层的纸等制成的条带状材料。

在带状材料的表面上，可以实施各种类型的处理，例如喷砂处理和阳极氧化处理。

带状材料的输送速度可以根据生产速度、涂覆液的设计涂覆厚度、涂覆表面的表面质量或类似因素而选择性地设置。然而，所述速度优选为10m/min或以上，特别优选在40至200m/min的范围内。

涂覆液的实例包括：用于涂覆在平印版前体载体片材上以形成制版层的感光层形成液或热敏层形成液；作为涂覆在制版层上的主要成分的防氧化层形成液，包括不透氧树脂例如聚乙烯醇的溶液；用于在载体片材的喷砂处理表面上形成基底以提高载体片材与制版层之间粘结能力的基底形成液；以及各式各样的溶剂。

除了上述材料以外，涂覆液还可以是：用于在摄影胶片、电影胶片、显影纸或类似物上形成感光层的感光剂乳液；用于在摄影胶片或电影胶片上形成防晕影层的防晕影层形成液；用于在磁记录材料上形成磁记录层的磁记录层形成液；用作带涂层金属板或类似物上的基底、中间和上侧涂层的各种漆；以及诸如此类的材料。然而，本发明的涂覆液并不局限于前面所述，只要它是溶液、悬浮液、溶剂或类似物即可。涂覆液的粘度优选为100mPa·s或以下，特别优选50mPa·s或以下。另外，表面张力优选在20至70mN/m的范围内。

另一个涂层可以预先初步形成在基片的涂覆表面上。基片的厚度大致为0.1至1mm左右。但并不局限在这一范围内。

在涂覆装置中，可以设有调节器具，用于在被涂覆器具涂覆在基片上的液剂干燥之前调节液剂的涂覆量。通过在涂覆的涂覆液干燥之前利用调节器具实施调节操作，可以进一步有效地防止因基片表面上的掺气而引起涂覆表面质量缺陷。

调节器具可以包含一个杆(第二涂杆)，其具有圆形横断面，并且平行于作为基片运行路径的运行表面设置。所述杆可以是光杆(例如带有光滑成形表面的杆状件)。由于涂覆液的液膜形成在光杆与基片之间，因此可以防止光杆与基片的直接接触，以防止基片的表面被光杆损伤。光杆的旋转方向可以与基片输送方向相同或相反。其转数优选为500rpm或以下。

调节器具中的所述杆可以是平行于作为基片运行路径的运行表面设置的杆状件，其表面上沿圆周方向形成了槽。这种杆也可以称作调节杆或计量杆。对于如此成形的杆，不需要为控制涂覆液层的厚度而改变施加在基片上的张力、基片包围在杆上的包容角或诸如此类条件。通过在杆上形成较深的槽，涂覆液层可以被调节为较厚。相反，通过在杆上形成较浅的槽，涂覆液层可以被调节为较薄。这样，由于可以利用具有不同槽深度的杆而控制涂覆液的涂覆厚度，因此不需要为实施控制而改变涂覆装置的驱动条件。

在涂覆装置中，以任何上述形状制成的杆可以以500rpm或以下的转数旋转，旋转方向可以与基片输送方向相同或相反。通过将光杆的转数设置在这一范围内，可以特别有效地防止涂覆表面中产生缺陷。

涂覆器具可以包括：一个涂杆(第一涂杆)，其与基片接触并且沿着与基片输送方向相同的方向旋转；以及一个供液器具，其布置在涂杆上游，用于在施加涂覆液时向涂杆和基片之间供应液剂。对于杆式涂覆装置，由于从供液器具供应的大量涂覆液被涂杆带起，因此会有大量的涂覆液涂覆到基片表面上。这样，由于可以容易地消除掺气膜，因此即使基片高速运行而且形成在基片表面上的掺气膜较厚，也难以因掺气而引起涂覆缺陷。

涂覆站可以是这样类型的，即其以与基片表面分离的状态向基片上涂覆液剂。因此，如果基片不接触涂覆站，则基片表面不会被涂覆器具损伤。这样，涂覆装置可以优选利用一层初步形成的涂膜而向基片上施加涂覆液。

涂覆装置可以包括一个非接触式涂杆，其在涂覆时不与基片接触。涂杆可以具有光滑表面，并且平行于基片的运行表面布置。此外，涂覆装置可以包括一个供液器具，其用于在施加涂覆液时从上游向光滑涂杆和基片之间供应液剂。

非接触式涂覆器具可以是挤出式涂覆机，其具有狭缝形喷液口，用于横跨基片的宽度方向向着作为基片运行路径的运行表面喷射涂覆液，以便在基片和喷液口之间形成涂覆液的交叉耦合。

本发明的第二个方面是一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，所述涂覆装置包括：涂覆站，其用于向基片的至少一个表面上涂覆液剂，所述涂覆站包括：第一涂杆、拦截件和整流件，整流件布置在拦截件和第一涂杆之间，其中整流件是具有末端部分和弯折部分的板状件，弯折部分形成在末端部分上向着第一涂杆弯折；以及涂层调节站，其沿基片输送方向布置在涂覆站的下游，用于将液剂量调节到预定厚度，其中第一涂杆基本上平行于基片表面布置并且具有圆周表面，所述圆周表面的一侧面对着基片，所述第一涂杆用于向基片表面上涂覆液剂，并且在旋转时使其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动，拦截件沿基片输送方向布置在第一涂杆上游并且面对着第一涂杆，用以在第一涂杆和基片之间形成液剂的液珠，以及整流件用于形成沿着第一涂杆的表面上升的液剂流。

对于这种类型的涂覆装置，涂覆液被第一涂杆(初步涂杆)涂覆到被输送着的基片即涂覆对象上，从而通过初步粘着而形成初步涂层。这样，可以消除涂覆对象中的掺气。接下来，涂覆量被第二涂杆(调节杆或计量杆)调节(计量)，从而在涂覆对象上形成预期的涂层。利用两个涂杆(初步涂杆和调节(计量)杆)向涂覆对象上施加涂覆液，可以减少并优选消除掺气的产生，从而可以在整个宽度方向上获得均匀涂覆的表面。这样，由于第一涂杆可以认为具有初步施加涂覆液的功能，因此它可以被成作初步涂杆。

特别是在所述杆式涂覆装置的情况下，第一涂杆(初步涂杆)与第二涂杆(调节杆)之间的间隔是这样设置的，即从涂覆对象接触第一涂杆至接触第二涂杆所经历的时间间隔为0.25秒或以下。这样，由于可以在涂覆对象位于第一涂杆与第二涂杆之间时防止重新产生或积累掺气，因此在涂覆对象的表面粗糙度较高时，例如在算术平均粗糙度Ra为0.20μm或以上的情况下，也可以获得均匀涂覆的表面。

根据本发明的第二个方面，优选设置一个旋转驱动装置，用于以不同于涂覆对象输送速度的圆周速度带动第一涂杆和第二涂杆中的至少一个旋转。

也就是说，第一涂杆和第二涂杆中的至少一个是被旋转驱动装置驱动着以不同于涂覆对象输送速度的圆周速度强制旋转的，而非借助于其与涂覆对象间的摩擦力而旋转的。这样，由于液珠可以稳定化，因此可以获得更均匀的涂覆表面质量，即使是在涂覆对象的输送速度提高或涂覆液粘度增大的情况下。

在本发明的第二个方面中，涂覆液可以采用含有有机溶剂的涂覆液。在含有有机溶剂的涂覆液被用作涂覆液的情况下，由于第一涂杆涂覆的涂覆液能够快速蒸发，因此特别容易产生掺气。然而，即使是在这种情况下，也可以进一步可靠地防止掺气的产生。

第一涂杆与第二涂杆之间区域内的外界温度可以保持在30℃或以下。这样，可以防止涂覆液在第一涂杆与至第二涂杆之间区域内过度蒸发，因此可以进一步可靠地防止掺气的产生。

本发明的第三个方面是一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，所述涂覆装置包括：杆，其基本上平行于基片的至少一个表面布置，用于将涂覆在基片表面上的液剂均化到预定的厚度；以及主侧拦截件，其沿基片输送方向布置在所述杆的上游并且面对着杆，用于在杆和基片之间形成涂覆液液剂的液珠；以及整流件，其布置在主侧拦截件和杆之间，用于形成沿着杆的表面上升的液剂流，其中整流件是具有末端部分和弯折部分的板状件，弯折部分形成在末端部分上向着第一涂杆弯折调节元件。

根据第三个方面，基片移过第一涂杆(初步涂杆)后涂覆在基片上的液剂涂覆量与基片移过第二涂杆(调节杆或计量杆)后涂覆在基片上的液剂涂覆量之间的涂覆量比率为0.8至4.0。通过使涂覆量比率在0.8或以上，可以可靠地消除掺气，从而防止初步涂覆的涂覆液中出现液体稀薄现象。另外，通过使涂覆量比率在4.0或以下，在利用第二涂杆实施调节时，液珠的尺寸可以较小，以使液珠保持稳定并且防止产生所谓的涂覆条纹。也就是说，通过使涂覆量比率为0.8至4.0，可以获得更均匀涂覆的表面，即使是在例如涂覆对象的输送速度提高的情况下。

此外，可以设置一个旋转驱动装置，其以不同于涂覆对象输送速度的圆周速度带动第一涂杆或第二涂杆旋转。也就是说，第一涂杆或第二涂杆是被旋转驱动装置驱动着以不同于涂覆对象输送速度的圆周速度强制旋转的，而非借助于其与涂覆对象间的摩擦力而旋转的。这样，由于液珠可以稳定化，因此可以获得均匀涂覆的表面，即使是在涂覆对象的输送速度提高或涂覆液粘度增大的情况下。

本发明的第四个方面是一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，所述涂覆装置包括：第一涂杆，其用于向基片的至少一个表面上涂覆液剂；以及第二涂杆，其沿基片输送方向布置在第一涂杆的下游，用于将液剂均化到预定厚度，从而调节液剂的涂覆量。其中，涂覆站包括第一涂杆，其具有圆周表面并且基本上平行于基片表面布置，用于向基片表面上涂覆液剂，所述涂杆被旋转，以使涂杆的一侧圆周表面面对着基片并且沿着与基片输送方向相同的方向移动，其中涂杆圆周速度为基片输送速度的至少1/15，但不超过该输送速度。

根据这种涂覆装置，涂覆液可以以稳定的方式涂覆，即使是在带状基片的输送速度较高的情况下，因此，通过在带状基片上施加涂覆液而形成的涂覆表面的平整高较高。

涂层调节站具有将涂覆液均化到预定厚度的功能，即在涂覆站涂覆在带状基片上的涂覆液量过多的情况下，可以刮掉一部分涂覆液，以降低粘着量，而在涂覆站涂覆在带状基片上的涂覆液量不足的情况下，可以进一步向带状基片上粘着涂覆液，从而可以调节涂覆量。

第一涂杆的旋转速度，也就是圆周速度，可以根据涂覆液的涂覆厚度而选择性地设置在从带状基片输送速度的1/15或以上至等于或小于所述输送速度的范围内。另外，在拦截板设在第一涂杆上游的情况下，所述圆周速度可以根据拦截板的高度、涂覆液的涂覆厚度或类似条件而选择性地设置在这一范围内。

带状基片的输送速度可以根据生产速度、涂覆液的涂覆厚度、涂覆表面的所需表面质量或类似因素而选择性地设置。所述速度优选为10m/min或以上，特别优选在40至200m/min的范围内。

从涂覆站中喷出的涂覆液量可以根据带状基片的输送速度、拦截件的高度、涂覆液的涂覆厚度或类似条件而选择性地设置。所述液量优选在10至100cc/m²的范围内。

此外，第一涂杆的圆周速度可以设置为带状基片输送速度的1/15至3/4。通过如此设置，可以获得具有更高平整度的涂覆表面。

另外，第一涂杆的圆周速度可以设置为带状基片输送速度的1/10至1/2。这样，可以获得具有特别高的平整度的涂覆表面。

对于本发明第四个方面的涂覆装置，在粘着在基片上的液剂干燥之前，涂覆液被涂层调节站均化到预定厚度，以调节涂覆量。

由于涂层调节站包括第二涂杆，因此通过控制第二涂杆的圆周速度和旋转方向，可以在广阔范围内控制涂覆液的涂覆厚度。第二涂杆可以沿着与带状基片的输送方向相同的方向旋转，或者沿相反方向旋转。在第二涂杆沿着与带状基片的输送方向相同的方向旋转的情况下，可以获得这样的优点，即如果带状基片上有接合部，则可以在接合部移过涂层调节站时防止因接合部而引起涂覆缺陷。

本发明的涂覆装置可以用在平印版前体处理中。即使是在载体片材高速运行的情况下，涂覆液也能够均匀地涂覆，而不会使涂覆液粘着在片材背侧。具体地讲，作为载体片材，可以采用铝质载体片材，其为薄铝板并在至少一侧表面被喷砂处理。

作为涂覆装置中所用的涂覆液，可以是用于形成制版层的制版层形成液、用于涂覆在制版层上以形成防氧化层的防氧化层形成液或类似物。

制版层形成液可以是用于形成可见光曝光型制版层的含有感光树脂的感光层形成液，或者是用于形成激光曝光型制版层的含有热敏树脂或光聚合树脂的激光感光层形成液。

本发明的第五个方面是一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，所述涂覆装置包括：一个涂覆站，其用于向基片的至少一个表面上涂覆液剂；以及一个涂层调节站，其沿基片输送方向布置在涂覆站的下游，用于将液剂量调节到预定厚度。其中，所述涂覆站包括：第一涂杆，其具有圆周表面并且基本上平行于基片表面布置，所述第一涂杆用于向基片表面上涂覆液剂，并且在旋转时使其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动；以及一个拦截件，其具有一定的高度，并且沿基片输送方向布置在第一涂杆上游，而且面对着第一涂杆，用以在第一涂杆和基片之间形成液剂的液珠，其中拦截件的顶表面高度等于或高于第一涂杆圆周表面的最低点，并且比第一涂杆圆周表面的最高点低1mm或以上。

根据上述实施例中的涂覆装置，由于涂覆站中的拦截件的高度位于前述范围内，因此在涂覆时从第一涂杆与拦截件之间喷出的涂覆液的液位高度等于或高于第一涂杆表面的最低点，并且比第一涂杆表面的最高点低1mm或以上。

这样，由于第一涂杆的一部分总是接触涂覆液，因此会有足够量的涂覆液被第一涂杆带起，以涂覆在带状基片上。这样，即使是在带状基片的输送速度较高的情况下，涂覆液也能够均匀地涂覆。另外，涂覆液不会环绕着带状基片上的与被涂覆液涂覆的表面相反的表面循环流动并粘着在所述相反表面上。

此外，涂层调节站具有将粘着在带状基片上的涂覆液调节到预定厚度的功能，即在涂覆站涂覆在带状基片上的涂覆液量过多的情况下，可以刮掉一部分涂覆液，以降低粘着量，而在涂覆站涂覆的涂覆液量不足的情况下，可以涂覆上额外的涂覆液。

作为涂覆站中所包含的拦截件，可以采用竖直向上设置并且面对着第一涂杆的壁状件或类似物。另外，壁状件的顶部可以向着第一涂杆弯折。拦截件顶部上的面对着第一涂杆的一侧表面优选平行于与第一涂杆外圆周表面上的一个面对着拦截件顶部的部位相接触的切面。

第一涂杆优选由金属制成，因为金属的强度和耐磨性高。第一涂杆特别优选由不锈钢制成，因为不锈钢不但具有优异的强度和耐磨性，而且还具有优异的耐腐蚀性。

第一涂杆可以是具有光滑成形表面的光杆。它也可以是在其表面上沿圆周方向成形出槽的杆。另外，它也可以是在其表面上沿圆周方向缠绕了丝线的绕线杆。

对于带槽杆，槽的宽度优选在0.05至1mm的范围内，特别优选在0.07至0.5mm的范围内。另外，槽的间距优选在0.05至1.0mm的范围内，特别优选在0.1至0.6mm的范围内。

槽的横断面形状可以采用各式各样的形状，例如可以采用正弦曲线形、梯形、半圆形和三角形。

对于绕线杆，丝线的直径优选在0.07至1mm的范围内，特别优选在0.07至0.6mm的范围内。丝线的材料优选采用金属，因为金属的强度和耐磨性高，而且特别优选采用不锈钢。

第一涂杆的表面上可以施加硬铬镀层，以进一步提高其耐磨性。

第一涂杆的旋转速度可以根据拦截件的高度、涂覆液的涂覆厚度或类似条件而选择性地设置。然而，第一涂杆的旋转速度优选为带状基片输送速度的1/15或以上至等于或小于所述输送速度。

上面对第一涂杆所作的描述也可以用在与第一涂杆有关的本发明其他方面中。

从涂覆站中喷出的涂覆液量可以根据带状基片的输送速度、拦截件的高度、涂覆液的涂覆厚度或类似条件而选择性地设置。所述液量优选在10至100cc/m²的范围内。

本发明的第六个方面是一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，所述涂覆装置包括：一个涂覆站，其用于向基片的至少一个表面上涂覆液剂；以及一个涂层调节站，其沿基片输送方向布置在涂覆站的下游，用于将液剂量调节到预定厚度。其中，所述涂覆站包括：第一涂杆，其具有圆周表面并且基本上平行于基片表面布置，所述第一涂杆用于向基片表面上涂覆液剂，并且在旋转时使得其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动；以及一个拦截件，其具有一定的高度，并且沿基片输送方向布置在第一涂杆上游，而且面对着第一涂杆，用以在第一涂杆和基片之间形成液剂的液珠，其中拦截件上的面对着第一涂杆的一侧表面与第一涂杆圆周表面之间的间隔为3mm或以上。

对于上述实施例中的涂覆站，由于拦截件与第一涂杆之间的间隔为3mm或以上，因此即使是在涂覆液被第一涂杆带起的情况下，涂覆站中的涂覆液的液位高度也可以保持稳定。这样，由于从涂覆站向带状基片上散布供应的涂覆液量是均匀的，因此涂覆液可以基本上均匀地粘着在带状基片的整个表面上。

拦截件的顶表面高度可以这样设置，即等于或高于第一涂杆圆周表面的最低点，并且比第一涂杆圆周表面的最高点低1mm或以上。另外，拦截件上的面对着第一涂杆的一侧表面与第一涂杆圆周表面之间的间隔为3mm或以上。

这样，由于第一涂杆的一部分总是接触涂覆液，因此会有足够量的涂覆液被第一涂杆带起，以粘着在带状基片上。

另外，由于拦截件与第一涂杆之间的间隔设置为3mm或以上，因此即使是在涂覆液被第一涂杆带起的情况下，涂覆站中的涂覆液的液位高度也可以保持稳定。这样，从涂覆站向带状基片上散布供应的涂覆液量可以保持均匀。

因此，即使是在带状基片的输送速度较高的情况下，涂覆液也能够被特别均匀地涂覆。此外，涂覆液不会环绕着带状基片上的与被涂覆液涂覆的表面相反的表面循环流动并粘着在所述相反表面上。

拦截件上的面对着第一涂杆的一侧表面与第一涂杆的外圆周表面之间的间隔可以设置为3mm至30mm。这样，可以获得更均匀涂覆的表面。

第一涂杆的圆周速度可以设置在带状基片输送速度的1/15或以上至等于或小于所述输送速度这一范围内。在涂覆装置中，由于在拦截件与第一涂杆之间喷射的涂覆液能够充分地被第一涂杆带起，因此涂覆液能够均匀地粘着在带状基片上，从而可以获得高度平整的涂覆表面。

此外，在涂覆装置中，涂层调节站可以包括第二涂杆，其用于将涂覆在基片表面上的液剂均化到预定厚度。在涂层调节站中，在第二涂杆的转数增加的情况下，在最终涂覆制品上获得的涂覆液的涂覆厚度会减小。在第二涂杆的转数减少的情况下，在最终涂覆制品上获得的涂覆液的涂覆厚度会增大。因此，通过增加或减少第二涂杆的转数，也可以增大或减小涂覆厚度。

另外，第二涂杆可以被设置得沿着与带状基片的输送方向相反的方向的旋转。由于粘着的涂覆液可以在涂层调节站中均化到预定厚度，因此即使在涂覆站中有大量的涂覆液粘着在带状基片上，并且带状基片的输送速度较高，也可以有效地消除带状基片上携带的掺气，从而防止造成涂覆表面质量问题。

第二涂杆可以沿着与带状基片的输送方向相同的方向的旋转。由于在同向旋转的情况下第二涂杆相对于带状基片的相对速度小于反向旋转时的相对速度，因此在涂层调节站中被带起的涂覆液较少。所以，同向旋转优选用在需要获得较大涂覆厚度的情况下。

带状基片的输送速度可以设置为100m/min或以上。在这种情况下，由于带状基片的输送速度较高，因此涂覆液可以高效涂覆。

本发明这一所述方面的涂覆装置可以用在平印版前体处理中。对于平印版前体的应用而言，可以参看对本发明其他方面所作描述。

本发明的第七个方面是一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，所述涂覆装置包括：一个涂覆站，其用于向基片的至少一个表面上涂覆液剂；以及一个涂层调节站，其沿基片输送方向布置在涂覆站的下游，用于将液剂量调节到预定厚度。其中，涂覆站包括：第一涂杆，其基本上平行于基片表面布置并且具有圆周表面，所述圆周表面的一侧面对着基片，所述第一涂杆用于向基片表面上涂覆液剂，并且在旋转时使其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动；一个拦截件，其沿基片输送方向布置在第一涂杆上游，并且面对着第一涂杆，用以在第一涂杆和基片之间形成液剂的液珠；以及一个整流件，其布置在拦截件和第一涂杆之间，用于形成沿着第一涂杆的表面上升的液剂流。

在涂覆站中，涂覆液被供应到拦截件与第一涂杆之间，以使涂覆液被第一涂杆带向带状基片。由于整流件设在拦截件和第一涂杆之间，因此可以在第一涂杆与整流件之间产生流向带状基片的液流。这样，就可以形成沿第一涂杆的表面上升的涂覆液流。接下来，一部分沿第一涂杆表面上升的涂覆液粘着在带状基片上，剩下的涂覆液将在整流件与拦截件之间沿着整流件上的与面对着第一涂杆的一侧相反的一侧表面向下流动。

因此，可以认为会在整流件附近产生了循环液流，其沿着整流件的下游表面上升，越过整流件，再沿着整流件的上游表面下降。

这样，粘着在带状基片上的涂覆液量的波动受到限制，而且因所述波动而造成的涂覆表面扰动也受到限制，从而使得涂覆液能够以更均匀的厚度涂覆在带状基片的表面上。

另一方面，在涂层调节站中，涂覆液被调节而均化到预定厚度，即在涂覆站粘着到带状基片上的涂覆液量过多的情况下，可以刮掉一部分涂覆液，以降低粘着量，而在涂覆站粘着到带状基片上的涂覆液量不足的情况下，可以向带状基片上粘着额外的涂覆液。

在涂层调节站中，可以设置一个与装于涂覆站中的第一涂杆相同的涂杆。

对于安装在涂覆站中的整流件，可以采用一个整流板，其为向着带状基片的运行表面延伸的板状件。然而，整流件并不局限于这种整流板，只要它具有产生循环液流的功能即可。

整流板可以是从涂覆站底部向着带状基片延伸的平板状件。优选使整流板的末端部即顶部向着第一涂杆弯折。

作为拦截件，可以采用向上向着作为带状基片运行路径的运行表面延伸的板状件。拦截件可以沿竖直方向直立设置，以面对着第一涂杆。另外，可以在拦截件的末端部分上形成向着第一涂杆弯折的弯折部分。此外，所述弯折部分可以被成形为“L”形。另外，可以在拦截件上的面对着第一涂杆的一侧表面上形成圆柱形表面，以靠近第一涂杆。

第一涂杆的旋转速度可以根据拦截件的高度、涂覆液的涂覆厚度或类似条件而选择性地设置。第一涂杆的旋转速度优选为带状基片输送速度的1/15或以上至等于或小于所述输送速度，并且沿着与基片输送方向相同的方向旋转。

带状基片的输送速度可以根据生产速度、涂覆液的涂覆厚度、涂覆表面的所需表面质量或类似因素而选择性地设置。所述速度优选为10m/min或以上，特别优选在40至200m/min的范围内。

从涂覆站中喷出的涂覆液量可以根据带状基片的输送速度、拦截件的高度、涂覆液的涂覆厚度或类似条件而选择性地设置。所述液量优选在15至100cc/m²的范围内。

整流件可以是平行于拦截件设置的板状件，并且在末端部分上形成了向着第一涂杆弯折的弯折部分。可以认为，通过设置弯折部分，可以更稳定地形成从下游侧至上游侧围绕着整流件末端部分的循环液流。这样，粘着在带状基片上的涂覆液量的波动会受到更有效的限制，而且因所述波动而造成的涂覆表面扰动也会受到更有效的限制，从而可以获得更均匀涂覆的表面。

整流件的弯折部分可以成形得平行于与第一涂杆的一个部位相接触的切面，所述部位面对着弯折部分。由于可以在拦截件末端部分与第一涂杆之间形成平行于第一涂杆切面的涂覆液液流，因此粘着在带状基片上的涂覆液量的波动会受到特别有效的限制，从而可以抑制因所述波动而造成的涂覆表面扰动。这样，可以获得更均匀涂覆的表面。

此外，整流件的末端部分上的面对着第一涂杆的一侧表面与第一涂杆的外圆周表面之间的最短距离可以是1mm或以下。所述最短距离也就是整流件弯折部分与第一涂杆切面之间的距离。这样，可以在使用高粘度涂覆液的情况下防止产生未涂覆部分。

另外，整流件的末端部分至运行表面的距离可以设置为3mm或以下。这样，可以有效地防止沿纵向产生液珠条纹，即条状涂薄部分。

整流件的末端部分上的面对着第一涂杆的一侧表面与第一涂杆的外圆周表面之间的最短距离可以是0.05至1mm。这样，可以在使用高粘度涂覆液的情况下特别有效地防止产生未涂覆部分。

整流件的末端部分至基片运行表面的距离可以是0.05至3mm。这样可以特别有效地防止产生液珠条纹。

另外，带状件可以是用于形成平印版前体基片的载体片材。涂覆在载体片材上的涂覆液的实例包括感光层形成液、热敏层形成液和基底形成液。此外，在载体片材的表面上带有制版层的情况下，可以涂覆防氧化层形成液。通过在载体片材的喷砂处理表面上涂覆制版层形成液，并且利用这种载体片材制造平印版前体，可以获得在制版层中没有任何缺陷部分的平印版前体。

本发明的第八个方面是一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，所述涂覆装置包括：一个涂覆站，其用于向基片的至少一个表面上涂覆液剂；以及一个涂层调节站，其沿基片输送方向布置在涂覆站的下游，用于将液剂量调节到预定厚度。其中，涂层调节站包括：一个杆，其基本上平行于基片表面布置，用于将涂覆在基片上的液剂均化和调节到预定厚度；以及一个块，其沿基片输送方向布置在杆的上游并且面对着杆，用于在杆和基片之间形成液剂的液珠。

涂层调节站具有使涂覆站中粘着的涂覆液均化的功能，从而如前所述将涂覆液调节到预定厚度，即在涂覆站中粘着的涂覆液量过多的情况下，可以刮掉一部分涂覆液，以降低粘着量，而在涂覆液的粘着量不足的情况下，可以向带状基片上粘着额外的涂覆液。

然而，在涂覆站粘着的涂覆液量产生波动的情况下，则会沿着装于涂层调节站中的杆的宽度方向产生压力变化，因而不能获得均匀涂覆的表面。

在本发明的这一所述方面中，由于在涂层调节站中涂覆液的液珠形成在所述上游块和杆与基片之间，因此在涂覆站中产生的涂覆液粘着量的波动可以被液珠吸收，因此不会在杆的宽度方向产生压力变化，并且可以获得均匀涂覆的表面。

作为上游块的实例，可以是竖直设在上游侧并且面对着杆的拦截件。在拦截件的情况下，优选使上游块具有一个形成在其末端部分即顶部并且面对着杆的弯折部分。此外，优选使弯折部分上的面对着杆的一侧表面被成形得平行于一个与面对着弯折部分的杆部位相接触的切面。由于液珠可以更加稳定地形成，因此即使是在涂覆站粘着的涂覆液量出现波动的情况下，也可以特别有效地抑制涂覆缺陷在涂覆表面中的产生。

所述杆可以是沿着与带状基片的输送方向相同的方向旋转的正向旋转杆，或者可以是沿着与带状基片的输送方向相反的方向旋转的反向旋转杆。然而，为了在上游块与带状基片之间形成稳定的液珠，并且防止产生涂覆缺陷例如在带状基片的接合部出现未涂覆部分或涂薄部分，优选采用正向旋转。

杆的旋转速度可以根据涂覆液的预期涂覆厚度和涂覆液在涂覆站中的粘着量而选择性地设置。一般而言，可将圆周速度设置在-30m/min至+30m/min的范围内。其中负号表示反向旋转，正号表示正向旋转。

在带状基片移过涂覆装置的涂层调节站后，基片上的涂覆液的涂覆量一般为50至100cc/m²，优选在10至40cc/m²的范围内。从涂覆站中喷出的涂覆液量可以根据带状基片的输送速度、涂层调节后的涂覆液的涂覆量或类似条件而选择性地设置。所述液量优选在15至100cc/m²的范围内。

上游块弯折部分上的面对着杆的一侧表面与杆圆周表面之间的最短距离可以是3mm或以下。由于液珠能够特别稳定地形成在杆、上游块和带状基片之间，因此在涂覆站中产生的涂覆液粘着量波动可以被特别有效地吸收。因此，带状基片的输送速度可以得到特别的提高，从而使得，即使是在涂覆站中的涂覆液粘着量波动剧烈波动的情况下也能够利用液珠吸收所述波动，这样，可以防止沿纵向产生具有条状涂薄部分的涂覆缺陷，例如液珠条纹和条状斑纹。

此外，所述最短距离可以设置在0.05至3mm的范围内。即使是在带状基片的输送速度提高而导致带状基片在涂覆站中摆动的情况下，因摆动而造成的涂覆不规则性也可以在涂层调节站中被液珠吸收，从而可以防止涂覆缺陷。

从上游块的末端至作为带状基片运行路径的运行表面的距离可以是3mm或以下。由于液珠能够特别稳定地形成在杆和上游块与带状基片之间，因此在涂覆站中产生的涂覆液粘着量波动可以被特别有效地在涂覆装置中被涂层调节站吸收。这样，即使是在带状基片的输送速度提高的情况下，也可以有效地防止涂覆缺陷的产生。

另外，上述距离可以在0.1至3mm的范围内。这样，即使是在带状基片的输送速度提高到导致带状基片摆动的程度时，由于在涂覆站中产生的涂覆液粘着量波动能够在涂层调节站中被液珠吸收，因此也不会出现涂覆缺陷。

涂覆站可以包括一个用于向带状基片上粘着涂覆液的涂杆。

作为涂杆，可以采用光杆、带槽杆和绕线杆，这一点与安装在涂层调节站中的杆类似。另外，旋转方向可以是正向，或者也可以是反向。作为涂杆，由于优选产生强大的力，用以将涂覆液待其并粘着在带状基片上，因此优选采用正向旋转的带槽杆和绕线杆。

沿带状基片输送方向从涂层调节站的上游块的末端部分至杆的圆周表面的距离可以在1.2至11mm的范围内。这样，在涂层调节站中可以特别稳定地形成液珠。

根据本发明这一所述方面的涂覆装置也可以用于制造平印版前体基片。这样，可以以高生产率和低废品率制造平印版前体。由于液珠能够稳定地形成在涂层调节站中，因此在涂覆站中产生的涂覆液粘着量波动可以有效地被液珠吸收，这样，因所述波动而造成的涂覆表面扰动会受到限制，从而使得涂覆液可以在平印版前体载体片材表面上更均匀地涂覆。

作为涂覆在载体片材上的涂覆液的实例，可以包括感光层形成液、热敏层形成液和基底形成液。在载体片材的表面上带有制版层的情况下，本发明的涂覆装置可以用于在制版层形成过程中涂覆防氧化层形成液。这样，可以获得在制版层中没有任何缺陷部分的平印版前体。

本发明的第九个方面是一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，所述涂覆装置包括：一个杆，其基本上平行于基片的至少一个表面布置，用于将涂覆在基片表面上的液剂均化到预定的厚度；以及一个主侧拦截件，其沿基片输送方向布置在所述杆的上游并且面对着杆，用于在杆和基片之间形成涂覆液液剂的液珠。其中，主侧拦截件上的面对着杆的一侧表面与杆圆周表面之间的间隔为2mm或以下。

根据本发明的第九个方面，由于主侧拦截件上的面对着杆的一侧表面与杆圆周表面之间的距离为2mm或以下，因此涂覆液可以均匀地沿着带状基片的宽度方向连续喷射。这样，由于粘着在主侧拦截件顶部的涂覆液不会干燥和固化，因此可以防止产生涂覆条纹或诸如固体成分粘着等其他涂覆表面问题。主侧拦截件上的面对着杆的一侧表面与杆圆周表面之间的距离为2mm或以下，优选为1mm或以下，特别优选为0.05至1mm。

主侧拦截件可以是竖直向上布置并且面对着第一涂杆的壁状件。另外，壁状件的顶部可以向着第一涂杆弯折。主侧拦截件顶部附近的面对着第一涂杆的一侧表面优选平行于与第一涂杆的一个部位相接触的切面，所述部位面对着主侧拦截件的顶部。

另外，主侧拦截件可以具有一个形成在其顶部并且面对着第一涂杆的竖直表面。还可以在主侧拦截件顶部形成一个面对着带状基片运行表面的水平表面。

杆可以沿着与带状基片的输送方向相反的方向旋转，即反向旋转，或者可以沿着与带状基片的输送方向相同的方向旋转，或者也可以保持静止。

在杆沿着与带状基片的输送方向相反的方向旋转的情况下，其转数优选为500rpm或以下。在杆沿着与带状基片的输送方向相同的方向旋转的情况下，杆的圆周速度优选等于或低于带状基片的输送速度。

对于带状基片和涂覆液，也可以参照对前面各个方面所作描述。

涂覆装置中的杆的圆周速度可以与带状基片的输送速度不同。在这种情况下，在涂覆涂覆液时，杆可以正转或反转，或者可以是固定的。

在上述实施例的涂覆装置中，通过控制杆的转数，可以调节带状基片的涂覆表面上的涂覆液的涂覆厚度。作为示例，在杆正向旋转的情况下，通过减小杆的旋转速度，带状基片上的涂覆液的涂覆厚度可以增大。另一方面，在杆反向旋转的情况下，通过增加杆的旋转速度，带状基片上的涂覆液的涂覆厚度可以减小。

本发明这一所述方面的涂覆装置可以包括一个润湿液体涂覆器具，其用于涂覆润湿液体，以使所述杆的下游表面湿润。

在这种涂覆装置中，不但杆的上游表面，而且杆的下游表面，均可以保持润湿状态。因此，可以防止出现各种问题，例如由涂覆液产生的膜状固体成分，其可能粘着在杆的表面上，干燥并粘着在带状基片的涂覆表面上，并且引起涂覆过厚或诸如此类的问题。

润湿液体涂覆器具可以沿带状基片的输送方向布置在所述杆的下游，并且面对着杆，而且其可以包括一个高度低于主侧拦截件的辅助侧拦截件。润湿液体在辅助侧拦截件与杆之间喷射，以使润湿液体涂覆在杆的表面上。这样，涂覆液可以更加稳定地存在于杆附近，从而可以特别有效地防止涂覆液在杆的表面上固化。

所述润湿液体即干燥防止液可以是涂覆液。由于涂覆液用作干燥防止液，因此即使是在涂覆液和干燥防止液在杆表面上混合的情况下，涂覆液的成分也可以基本上保持稳定。在具有涂覆液的涂覆装置中，特别优选收集和重新使用涂覆液。另外，由于不需要相对于供应涂覆液的管路单独设置用于供应干燥防止液的管路，因此管线系统可以显著简化。

带状基片可以是用作平印版前体基片的载体片材。这样，可以有效地防止出现各种问题，例如涂覆液干燥后的固体成分粘着在载体片材的未干燥涂覆表面上，或者因固体成分混合到未干燥涂覆液中而造成涂覆过厚，以及诸如此类的问题。

本发明的第十个方面是一种用于向带状基片上涂覆液剂的方法，所述涂覆方法包括以下步骤：沿预定方向运行基片；使用第一杆、拦截件和整流件在运行着的基片的至少一个表面上涂覆液剂，第一杆基本上平行于基片表面布置，拦截件沿基片输送方向布置在第一杆上游并且面对着第一杆，用以在第一杆和基片之间形成液剂的液珠；和整流件布置在拦截件和第一杆之间，用于形成沿着第一杆的表面上升的液剂流，其中整流件是具有末端部分和弯折部分的板状件，弯折部分形成在末端部分上向着第一杆弯折；以及对涂覆的液剂量实施涂层调节，使之达到预定厚度。

根据本发明第十个方面中的涂覆方法，由于向基片上涂覆涂覆液的步骤和将涂覆在基片上的涂覆液调节到预定厚度的步骤是分开设置的，因此涂覆步骤中的涂覆量的设置不必考虑所需的最终涂覆液层厚度。这样，即使基片是高速运行的，也可以通过在涂覆步骤中涂覆充足或过多的涂覆液而有效地阻断基片表面上的掺气膜，从而可以有效地防止因掺气膜而引起的缺陷，例如涂膜中断或涂覆不规则。

本发明的第十一个方面是一种用在沿预定方向运行着的带状基片上的液剂涂覆方法，所述方法包含利用基本上平行于基片表面布置的第一杆将涂覆在基片表面上的液剂调节到一定厚度的步骤，所述方法包括：在第一杆与基片之间形成涂覆液液剂的液珠的步骤；以及使用第二杆、拦截件和整流件将液剂涂覆到将被调节的基片上的步骤，第二杆基本上平行于基片表面布置，拦截件沿基片输送方向布置在第二杆上游并且面对着第二杆，用以在第二杆和基片之间形成液剂的液珠；和整流件布置在拦截件和第二杆之间，用于形成沿着第二杆的表面上升的液剂流，其中整流件是具有末端部分和弯折部分的板状件，弯折部分形成在末端部分上向着第二杆弯折。

对于根据本发明第十一个方面的涂覆方法，在涂覆步骤(即第一涂覆步骤或初步涂覆步骤)中，涂覆液被涂覆到被输送着的基片即涂覆对象上，从而通过初步粘着而形成初步涂层。这样，可以消除涂覆对象上的掺气。接下来，在涂层调节步骤(即第二涂覆步骤、调节步骤或计量步骤)中，涂覆液量被调节(计量)，从而在涂覆对象上获得预期的涂层。通过利用两个涂覆步骤(第一和第二涂覆步骤)在涂覆对象上涂覆涂覆液，可以减少并优选消除掺气的产生，从而在整个宽度方向上获得均匀涂覆的表面。

特别地讲，在采用这种涂覆方法的情况下，在涂覆步骤(即第一涂覆步骤或初步涂覆步骤)与涂层调节步骤(即第二涂覆步骤或调节步骤)之间的间隔被这样设置，即从涂覆对象在第一步骤中涂覆的时间至其在第二步骤中涂覆的时间所经历的时间间隔为0.25秒或以下。这样，由于可以在涂覆对象位于第一涂覆步骤与第二涂覆步骤之间时防止重新产生或积累掺气，因此在涂覆对象的表面粗糙度较高时，例如在算术平均粗糙度Ra为0.20μm或以上的情况下，也可以获得均匀涂覆的表面。

在本发明的第十一个方面中，液剂中可以含有有机溶剂。

本发明的第十二个方面是一种用于向带状基片上涂覆液剂的方法，所述涂覆方法包括以下步骤：沿预定方向运行基片；在运行着的基片的至少一个表面上涂覆液剂；以及对涂覆的液剂实施涂层调节，使之达到预定厚度。其中，基片在刚刚经过了涂覆步骤后的液剂涂覆量与其经过了涂层调节步骤后的液剂涂覆量之间的涂覆量比率为0.8至4.0。

此外，如果涂覆步骤和涂层调节步骤中的至少一个中包含利用大致平行于基片表面布置着的杆向基片表面上涂覆液剂的步骤，则所述杆可以以与基片输送速度不同的圆周速度旋转。

本发明的第十三个方面是一种用于向带状基片上涂覆液剂的方法，所述涂覆方法包括以下步骤：沿预定方向运行基片；在运行着的基片的至少一个表面上涂覆液剂；以及对涂覆的液剂实施涂层调节，使之达到预定厚度。其中，涂覆步骤包括这样一个分步，即利用杆向基片表面上涂覆液剂，所述杆基本上平行于基片表面布置，并且在旋转时使其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动，其中杆的圆周速度为基片输送速度的至少1/15，但不超过该输送速度。

根据这种涂覆方法，涂覆液可以以稳定的方式涂覆，即使是在带状基片输送速度较高的情况下，因此，通过在带状基片上涂覆涂覆液而形成的涂覆表面的平整度较高。

在上述涂覆方法中，杆的圆周速度的优选范围是带状基片输送速度的1/15至3/4，特别优选为1/10至1/2。另外，在上述涂覆方法中，优选在通过涂覆步骤涂覆在带状基片上的涂覆液干燥之前在涂层调节步骤中调节涂覆厚度。

本发明的第十四个方面是一种用于向带状基片上涂覆液剂的方法，所述涂覆方法包括以下步骤：沿预定方向运行基片；在运行着的基片的至少一个表面上涂覆液剂；以及对涂覆的液剂实施涂层调节，使之达到预定厚度。其中，涂覆步骤包括这样一个分步，即利用基本上平行于基片表面布置的杆向基片表面上涂覆液剂，在涂覆时需要借助于拦截件而在杆与基片之间形成液珠，所述拦截件沿基片输送方向布置在杆的上游并且面对着杆，拦截件的顶表面高度至少与杆表面的最低点的高度相同，但比杆表面的最高点低1mm或以上，以使液剂从液珠涂覆到基片表面上。

根据上述涂覆方法，即使是在带状基片输送速度较高的情况下，也可以获得均匀涂覆的表面，而不会在涂覆表面中产生涂覆缺陷。

本发明的第十五个方面是一种用于向带状基片上涂覆液剂的方法，所述涂覆方法包括以下步骤：沿预定方向运行基片；在运行着的基片的至少一个表面上涂覆液剂；以及对涂覆的液剂实施涂层调节，使之达到预定厚度。其中，涂覆步骤包括这样一个分步，即利用基本上平行于基片表面布置的杆向基片表面上涂覆液剂，在涂覆时需要借助于拦截件而在杆与基片之间形成液珠，所述拦截件沿基片输送方向布置在杆的上游并且面对着杆，拦截件的布置使得，拦截件上的面对着杆的一侧表面与杆圆周表面之间的间隔为3mm或以上，以使液剂从液珠涂覆到基片表面上。

在上述涂覆方法中，由于从涂覆站向带状基片上散布供应的涂覆液量是均匀的，因此涂覆液可以均匀地粘着在带状基片的整个表面上。

本发明的第十六个方面是一种用于向带状基片上涂覆液剂的方法，所述涂覆方法包括以下步骤：沿预定方向运行基片；在运行着的基片的至少一个表面上涂覆液剂；以及对涂覆的液剂实施涂层调节，使之达到预定厚度。其中，液剂是这样涂覆在基片表面上的，即将拦截件沿基片输送方向布置在杆的上游并使之面对着杆，以便在杆与基片之间形成液剂的液珠，并且在拦截件与杆之间布置整流件，用于使液珠形成向上流到杆表面上的液剂流。

根据上述涂覆方法，由于稳定的循环液流能够形成在整流件附近，因此粘着在带状基片上的涂覆液量的波动可以被抑制，因而涂覆液可以以更均匀的厚度涂覆在带状基片的表面上。

本发明的第十七个方面是一种用于向带状基片上涂覆液剂的方法，所述涂覆方法包括以下步骤：沿预定方向运行基片；在运行着的基片的至少一个表面上涂覆液剂；以及对涂覆的液剂实施涂层调节，使之达到预定厚度。其中，涂层调节步骤包括一个分步，即利用基本上平行于基片表面布置的杆均化基片表面上的液剂，从而调节液剂，其中，通过沿基片输送方向布置在杆的上游并且面对着杆的上游块在杆与基片之间形成液珠，以将涂覆的液剂均化到预定的厚度。

因此，在涂层调节步骤中，液珠可以以稳定的方式形成，以使涂覆步骤中产生的涂覆液粘着量的波动可以被吸收。这样，即使是在带状基片输送速度较高的情况下，涂覆液也可以稳定地涂覆在带状基片上。

本发明的第十八个方面是用在沿预定方向运行着的带状基片上的液剂涂覆方法，所述方法包含利用杆将涂覆在基片表面上的液剂调节到一定厚度的步骤，所述方法包括：用于在杆与基片之间形成涂覆液液剂的液珠的步骤；以及用于将液剂从液珠涂覆到基片上的步骤，其中沿基片输送方向布置在杆的上游并且面对着杆的主侧拦截件的表面与杆的外圆周表面之间的间隔为2mm或以下。

根据本发明上述方面的涂覆方法，由于可以防止涂覆液干燥并粘着在主侧拦截件的顶部上，因此可以防止出现诸如涂覆条纹和固体成分粘着等涂覆表面问题。

附图说明

图1是根据本发明第一个实施例的涂覆装置的示意性结构图，其用于向载体片材上涂覆感光层形成液。

图2是根据本发明第二个实施例的涂覆装置的示意性结构图，其将挤出式涂覆机用作涂覆器具，从而以非接触的方式涂覆一种液剂。

图3A和3B是根据本发明第三个实施例的杆式涂覆装置的示意性结构正视图，其中图3A中示出了未实施涂覆操作时的装置，图3B中示出了实施涂覆操作时的装置。

图4是根据本发明第三个实施例的杆式涂覆装置中的旋转驱动机构的俯视图。

图5是根据本发明第三个实施例的杆式涂覆装置中的旋转驱动机构的侧视图。

图6是用于解释根据本发明第三个实施例的杆式涂覆装置的操作的透视图。

图7是根据本发明另一实施例的涂覆装置的示意图。

图8是用于显示图7所示涂覆装置所包含的涂覆段中的第一涂杆、支承座和拦截件之间的相对高度关系的放大图。

图9是用于显示图7所示涂覆装置所包含的涂覆段中的第一涂杆、拦截件和制版层形成液的液位之间的相对位置关系放大图。

图10是根据本发明第六个实施例的涂覆装置的示意性结构的示意图。

图11是用于显示涂覆段2中的整流板28、第一涂杆22、支承件24和拦截件26之间的相对位置关系的放大剖视图。

图12是图11所示涂覆段2中的整流板28附近的制版层形成液的放大剖视图。

图13是涂覆段2的一个实例的放大剖视图，该涂覆段中的整流板28的形状不同于图11所示涂覆段2中的。

图14是根据本发明第七个实施例的涂覆装置的示意性结构的示意图。

图15是图14所示涂覆装置的涂层调节段中的上游块和下游块之间相互位置关系的放大图。

图16是图15所示涂层调节段中的制版层形成液的放大图。

图17是涂层调节段的一个实例的放大图，该涂层调节段的上游块的形状不同于图14所示涂层调节段中的。

图18是根据本发明第八个实施例的涂覆装置的结构示意图。

图19是根据本发明第九个实施例的涂覆装置的结构示意图。

图20是一种传统杆式涂覆装置的示意性结构的剖视图。

具体实施方式

第一个实施例

图1中示出了根据本发明第一个实施例的涂覆装置，其用于向载体片材上涂覆感光层形成液。

如图1所示，根据第一个实施例的涂覆装置101包括：一个杆式涂覆装置102，其具有一个涂杆122；以及一个杆式定量装置104，其具有一个定量杆142，并且布置在杆式涂覆装置102的下游。定量杆142还用作第二涂杆，用于通过对涂杆122涂覆在载体片材上的液剂进行补充或者去除一部分所述液剂，从而调节涂覆表面上的液剂涂覆量。在本发明中，该定量杆还被称作调节杆或计量杆。杆式涂覆装置102和杆式定量装置104均布置在载体片材W的运行表面T下方。

一个压辊106在杆式涂覆装置102和杆式定量装置104之间设在运行表面T的上方，用于在向载体片材W涂覆感光层形成液时从上方将载体片材W压向涂杆122和定量杆142。

除了涂杆122以外，杆式涂覆装置102还包括：一个涂杆支承件124，其用于从下面支承涂杆122；一个上游侧拦截件126，其布置在涂杆支承件124的上游，并且沿着相对于运行表面T的竖直方向延伸；以及一个下游侧拦截件128，其布置在涂杆支承件124的下游，并且沿着相对于运行表面T的竖直方向延伸。

一个上游侧供液路径132形成在涂杆支承件124与上游侧拦截件126之间，用于在涂杆122的上游侧供应感光层形成液，一个下游侧供液路径134形成在涂杆支承件124与下游侧拦截件128之间，用于在涂杆122的下游侧供应感光层形成液。上游侧供液路径132和下游侧供液路径134通过连通路径136而在涂杆支承件124下方彼此连通。上游侧供液路径132的下端连接着一个用于供应感光层形成液的供液管路径138。

除了定量杆142以外，杆式定量装置104还包括：一个定量杆支承件144，其用于从下面支承定量杆142；一个上游侧拦截件146，其布置在定量杆支承件144的上游，并且向上向着定量杆144倾斜延伸；以及一个下游侧拦截件148，其布置在定量杆支承件144的下游，并且沿着指向运行表面T的竖直方向延伸。

一个上游侧供液路径150形成在定量杆支承件144与上游侧拦截件146之间，用于供应或排出感光层形成液，一个下游侧供液路径152类似地形成在定量杆支承件144与下游侧拦截件148之间，用于供应或排出感光层形成液。

杆式涂覆装置102和杆式定量装置104均安置在一个底座130上。

优选在涂杆122旋转时使其圆周表面面对着载体片材W，而且其旋转方向与载体片材W的输送方向重合(在本发明中，以下称作沿相同方向或正向旋转)。涂杆可以以相同的速度(圆周速度)旋转，以随动于载体片材W，或者其旋转速度可以使其圆周速度小于载体片材W的输送速度，或者其旋转速度也可以使其圆周速度大于载体片材W的输送速度。关于涂杆122，可以采用带有槽的杆、绕线杆或诸如此类。除此之外，也可以采用带有光滑表面的光杆。

定量杆142可以在旋转时使其圆周表面面对着载体片材W，而且其旋转方向与载体片材W的输送方向相反(在本发明中，以下称作沿相反方向或反向旋转)。另外，其旋转时可以使其圆周表面的移动方向与输送方向相同。定量杆142的转数没有特别的限制，但优选为每分钟500转或以下。关于定量杆142可以采用带有槽的杆、绕线杆或诸如此类。除此之外，也可以采用带有光滑表面的恒量杆。

涂杆122和定量杆142的直径优选为3mm或以上，特别优选在6至20mm的范围内。

下面解释涂覆装置101的操作。

在杆式涂覆装置102中，感光层形成液从供液管路经138开始通过上游侧供液路径132供应到涂杆122的上游侧。与此同时，这种涂覆液还通过下游侧供液路径134供应到涂杆122的下游侧。

涂杆122将来自上游侧供液路径132的感光层形成液带起，并将其一部分撞击到载体片材W的下表面上，从而实现感光层形成液向载体片材W上的涂覆。通过被涂杆122带起的感光层形成液向载体片材W上的撞击作用，伴随着载体片材W的下表面进入涂覆装置101中的掺气被阻断。另一方面，感光层形成液则被连续涂覆在载体片材W上。

被涂杆122施加了感光层形成液后的载体片材W接下来将移过杆式定量装置104。

如前所述，由于定量杆142沿着与载体片材W的输送方向相反的方向旋转，因此被杆式涂覆装102施加的多余感光层形成液会在载体片材移过杆式定量装置104时被定量杆142刮掉，从而可将感光层形成液调节到预定的涂覆厚度。

根据第一个实施例中的涂覆装置101，由于伴随着载体片材W的掺气可以被杆式涂覆装置102阻断，因此即使是在载体片材W高速运行时涂覆感光层形成液，涂膜中也不会产生前面所述的因掺气而引起的各种缺陷，而且这样可以确保稳定的涂覆操作。

此外，由于传统的涂覆机可以用作杆式涂覆装置102和杆式定量装置104，因此涂覆装置101可以低成本提供。

第二个实施例

图2中示出了将挤出式涂覆机用作根据本发明的涂覆装置中的非接触式涂覆器具的实施例。在图2中，与图1中相同的附图标记表示与图1中相同的元件。

与根据第一个实施例的涂覆装置类似，根据第二个实施例的涂覆装置用于向载体片材上涂覆感光层形成液。

如图2所示，根据第二个实施例的涂覆装置102包括一个挤出式涂覆机108和一个具有定量杆142并且布置在挤出式涂覆机108下游的杆式定量装置104。挤出式涂覆机108和杆式定量装置104均布置在载体片材W的运行表面T的下方，并且安置在一个底座154上。

一个支持辊110相对于运行表面T设在与挤出式涂覆机108相反的一侧，载体片材W局部包围在该支持辊上。

一个压辊106在运行表面T的上方设在支持辊110下游，用于将载体片材W压向杆式定量装置104的定量杆142。

在图2中示出了沿着载体片材W的输送方向所作的杆式定量装置104和挤出式涂覆机108的剖视图。

杆式定量装置104的构造与第一个实施例中所描述的相同。

挤出式涂覆机108包括一个主体182，其沿着代表载体片材W输送路径的运行表面T的宽度方向布置，并且被构造成向上缩窄的楔形形状。一个减压腔184沿载体片材W的输送方向设在主体182的紧邻上游。减压腔184的内侧能够降低压力。

主体182是这样设置的，即在载体片材W被输送并且局部包围在支持辊110上时，会有一个预定尺寸的间隙形成在载体片材W与主体182的顶部之间。

一个喷液路径186竖直形成在主体182内侧，一个沿着运行表面T的宽度方向呈狭缝状敞开的喷液186A形成在喷液路径的顶部。一个用于向喷液路径186供应感光层形成液的供液路径188沿着主体182的纵向设在主体182的喷液路径186的下端。

减压腔184具有一个向着运行表面T敞开的开口部分，并且在底部连接着一个减压管184A的一端，所述减压管用于降低减压腔184中的压力。减压管184A的另一端连接着真空泵或抽气机(未示出)。

在减压腔184的开口附近，毗邻主体182设有一个槽状多余液体容器184B，用于接收从喷液路径186喷出但未被涂覆在载体片材W上的多余感光层形成液。此外，一个向下延伸的喷液管184C被设置得用于将多余液体容器184B所接收的多余感光层形成液引到外侧。

在感光层形成液被供应到挤出式涂覆机108的供液路径188中的情况下，感光层形成液通过喷液路径186从喷液口186A喷向载体片材W的喷砂处理表面，从而使感光层形成液交叉耦合在载体片材W上，也就是使涂覆液交叉耦合。在实现了涂覆液的交叉耦合后，感光层形成液粘着在载体片材W的表面上，同时消除了掺气。这样，感光层形成液可以被涂覆。

被挤出式涂覆机108涂覆了感光层形成液后的载体片材W将随后移过杆式定量装置104的上方。

如前所述，由于定量杆142沿着与载体片材W的输送方向相反的方向旋转，因此在载体片材W移过定量装置142上方时，被杆式涂覆装置涂覆在载体片材W上的多余感光层形成液将被定量杆142刮掉，从而将感光层形成液调节到预定的涂覆厚度。

根据第二个实施例的涂覆装置102，感光层形成液被挤出式涂覆机108涂覆在载体片材W上，而挤出式涂覆机108不接触载体片材W，因而载体片材W的表面不会受损。

所以，涂覆装置102具有与第一个实施例的涂覆装置101相同的特征。此外，它还特别优选用在下面的情况下：在通过将一种基本处理液涂覆和干燥于载体片材W的糙化表面上而完成了基本处理之后，涂覆感光层形成液或热敏层形成液时；在载体片材W的糙化表面上形成热敏层时；以及通过涂覆含有可光热转化的化合物的光热转化液而形成光热转化层时。

实例I

(实例11-14和对比例11-14)

根据传统方法在铝片材的一侧表面上进行喷砂处理，并且对喷砂表面作阳极氧化处理，从而获得了一种载体片材W。

利用图1所示的涂覆装置101在载体片材W上涂覆了感光层形成液。

感光层形成液的涂覆条件如下所述。

a.载体片材W的厚度：             0.3mm

b.载体片材W的输送速度：         150m/min

c.杆式涂覆装置102的涂覆量：     50cc/m²

d.杆式定量装置104的计量量：     15cc/m²

e.涂杆122的直径：               10mm

f.定量杆142的直径：             10mm

g.杆的转数：                    如表1所示

h.感光层形成液的粘度：          30mPas

结果显示于表1中。

表1

	杆转速(rpm)		涂覆表面质量	备注
					涂杆	定量杆
	实例11	+4770(无驱动)					-500	○
实例12			+300(有驱动)	+500	○
	实例13	+4770(无驱动)					-500或以下	△
实例14			-300(有驱动)	+500或以上	△
	对比例11	+4770(无驱动)					无定量杆	×	产生等节距条纹、感光层形成液飞溅
对比例12			无涂杆	-500(有驱动)	×	因掺气层而导致液珠不稳定
	对比例13	无涂杆					+500(有驱动)	×	因掺气层而导致液珠不稳定
对比例14			+500(有驱动)	无定量杆	×	因掺气层而导致液珠不稳定

在表1中，“+”表示杆的旋转速度与载体片材W的输送速度相同，“-”表示杆的旋转速度与载体片材W的输送速度相反。

从表1中所示的结果可以看出，通过在杆式涂覆装置102的下游设置杆式定量装置104，可以获得好的涂覆表面质量，而不会在涂覆表面中产生涂覆缺陷，即使是在载体片材W的输送速度高达150m/min的情况下。

相反，在对比例11和14中，在没有设置定量杆142而只使用了涂杆122的情况下，尽管在涂杆122未被驱动，即从动于载体片材W时(对比例11)，可以完成涂覆操作，而不会出现涂膜中断，但会在整个宽度上产生等节距条纹；而在涂杆122被驱动时(对比例14)，会因掺气层而导致液珠不稳定，因而会局部产生涂膜中断和涂覆不规则性，而且涂覆不能以稳定的方式完成。

另一方面，在对比例12和13中未使用涂杆122而只使用了定量杆142的情况下，会因掺气层而导致液珠不稳定，

从上述结果可以认识到，涂杆122和定量杆142均是必需的。

根据本发明的上述实施例，所述涂覆装置和涂覆方法能够实现稳定的涂覆操作，而不会在涂膜中产生各种类型的缺陷，即使是在载体片材高速运行的条件下涂覆时。

第三个实施例

图3A和3B中示出了根据本发明第三个实施例的杆式涂覆装置212。杆式涂覆装置212被组合在平印版前体的生产线中，用于向作为平印版前体基片的铝片材214上施加涂覆液250(感光液或类似物)。铝片材214被未示出的输送装置沿其纵向以预定的输送速度输送。以下“输送方向”指的是铝片材214的输送方向，并且在图中(图3A、3B、4和5)以箭头F表示。另外，“宽度方向”指的是铝片材214的宽度方向，并且在图中(图4和5)以箭头W表示。

杆式涂覆装置212包括具有基本相同结构的涂覆单元231，所述涂覆单元213沿着输送方向彼此以预定间隔相隔着布置。如后文所述，沿输送方向位于上游的涂覆单元213A用于向铝片材214上施加涂覆液250(初步涂覆)。另一方面，沿输送方向位于下游的涂覆单元213B用于向铝片材214上施加涂覆液250，或者将一部分涂覆液250去除，以调节涂覆量(计量)。

每个涂覆单元213分别包括一个涂杆216，其被安置得从下面接触铝片材214。沿输送方向位于上游的涂杆216用作初步涂杆216A，沿输送方向位于下游的涂杆216用作调节(计量)杆216B。涂杆216被成形为大致柱状(或大致圆柱形)，并且分别被一个相应的支承件218支承着，以使涂杆216纵向与铝片材214的宽度方向重合。

支承件218的上表面是支承面218S，它们沿着涂杆216的外圆周表面成形为圆弧形。涂杆216接触支承面218S并且可旋转地支承在它们上。

拦截板220和222分别布置在相应支承件218的上游侧和下游侧。拦截板220、222与支承件218之间分别设有预定间隙。具体地讲，每个涂覆单元213中的上游侧拦截板220与支承件218之间的间隙用作涂覆液供液路径224。在上游侧涂覆单元213A中，从未示出的涂覆液供应装置供应出来的涂覆液250将流过涂覆液供液路径224，并且通过涂杆216A的旋转而使涂覆液250连续上升，并且被传送到铝片材214上。此外，在铝片材214与涂杆216A相接触部分的上游，涂覆液250的液珠252形成在铝片材214、拦截板220和涂杆216A之间。与此类似，在下游侧涂覆单元213B中，涂覆液250被传送到铝片材214上，而且一部分涂覆液250被从铝片材214上去除(实际上是一部分粘着在铝片材214上的涂覆液250被替换)。

两个涂覆单元213被一个支架228保持为一体，从而总体上形成一个涂覆机230。另外，支承辊232和234分别布置在涂覆机230的上游侧和下游侧，以便从与涂覆机230相反的上方位置接触铝片材214。当支承辊232和234从上方按压铝片材214时，会有预定的张力施加到铝片材214上，从而可将铝片材214与涂杆216接触上。

之后，通过启动一个未示出的升降装置，构成涂覆机230的两个涂覆单元213(支承件218和拦截板220、222)将整体升高。如图3A所示，在涂覆机230未被抬升而处在降低位置时，由于涂杆216不与铝片材214接触，因此涂覆液250不会施加到铝片材214上。如图3B所示，通过抬升整体式涂覆机230，涂杆216将与铝片材214接触上，因而可以施加涂覆液250。此外，在保持所述接触的情况下，通过上下略微移动涂覆机230，可以获得理想的接触压力和包容角，从而可以根据所用铝片材214和涂覆液250的类型而实施涂覆。

根据第三个实施例中的杆式涂覆装置212，涂杆216A与调节(计量)杆216B之间的间隔(也就是上游侧涂覆单元213A与下游侧涂覆单元213B之间的间隔)的设置要考虑到铝片材214的输送速度，以使铝片材214从接触初步涂杆216A至接触调节(计量)杆216B所经历的时间(本发明的输送时间)为0.25秒或以下。

图4和5中示出了用于驱动涂杆216旋转的旋转驱动装置236的示意性结构。

旋转驱动装置236包含一个电机和一个减速装置以及诸如此类的元件，并且具有一个驱动源238，用于以预定的扭矩和预定的角速度产生旋转驱动力。驱动源238的输出轴240通过第一万向节元件242而与一个轴244联动。此外，轴244通过第二万向节元件246而与一个切换件248联动。切换件248可以在传动位置与非传动位置之间移动，在传动位置(图4中的实线所示位置)，切换件248与涂杆216联动，从而可以将旋转驱动力传递到涂杆上，在非传动位置(图4中的双点划线所示位置)，切换件248与涂杆216之间的联动关系被断开，因而旋转驱动力不会传递到涂杆上。

另外，由于驱动源238通过两个万向节元件242和246而与涂杆216保持联动，因此驱动源238的旋转驱动力能够传递到涂杆216上，同时驱动源238的输出轴240与涂杆216之间的夹角永远保持恒定(在第三个实施例中为平行)。作为示例，在涂覆机230略微上下移动的情况下，或者如图5中的双点划线所示，在涂覆机230下降以使涂杆216离开铝片材214的情况下，驱动源238的输出轴240仍保持与涂杆216平行，从而使得涂杆216仍然接收驱动源238的驱动力而旋转。

对于第三个实施例的杆式涂覆装置212，涂杆216可以在驱动源238的旋转驱动力作用下主动旋转，因此涂杆216可以具有一定的圆周速度，而且该圆周速度可以不同于与铝片材214的输送速度相对应的圆周速度(包括相同和相反方向)。

接下来描述利用第三个实施例的杆式涂覆装置212向铝片材214上施加涂覆液250的方法以及杆式涂覆装置212的操作。

在向铝片材214上施加涂覆液250时，铝片材214被未示出的输送装置以恒定的输送速度输送。

此外，涂覆机230如图3B所示被抬升，以使初步涂杆216A和调节(计量)杆216B均与铝片材214相接触，而且涂覆液250从未示出的涂覆液供应装置供应出来。

此时，被初步涂杆216A带起的涂覆液250将被传送到铝片材214上，从而在铝片材214上形成初步涂层254。这样可以使铝片材214中产生的所谓掺气减少(优选被防止)。

接下来，随着铝片材214的输送，构成初步涂层254的涂覆液被调节(计量)杆216B调节(计量)。也就是说，通过去除多余的涂覆液，或者添加涂覆液以补充不足，可以提供出具有理想涂覆量的涂膜，从而将铝片材214上的涂覆液调节(计量)到完全均匀的程度。因此，通过两次实施涂覆步骤，也就是说，利用两个涂杆216(初步涂杆216A和调节(计量)杆216B)依次实施充分涂覆(初步涂覆)和调节(计量)，可以在铝片材214的宽度方向上的整个区域内获得均匀涂覆的表面，而且掺气的产生可以减少(优选被防止)。

具体地讲，对于第三个实施例的杆式涂覆装置212，铝片材214从接触初步涂杆216A至接触调节(计量)杆216B所经历的时间被设置为0.25秒或以下。在输送时间大于0.25秒的时，特别是在铝片材214具有一定的较高表面粗糙度的情况下，在从初步涂杆216A涂覆(初步涂覆)之后直至到达调节(计量)杆216B这段时间内，初步涂层254中有重新产生或形成掺气的风险。然而，根据第三个实施例，可以防止重新产生或形成掺气，即使是在铝片材214具有一定的较高表面粗糙度的情况下，因此，可以获得均匀涂覆的表面。

另外，对于第三个实施例的杆式涂覆装置212，通过使切换件248在涂覆时移动到传动位置上，如图4中的实线所示，驱动源238的旋转驱动力能够传递到涂杆216上。这样，涂杆216可以以预定的圆周速度主动旋转，该圆周速度不同于与铝片材214的输送速度相对应的圆周速度。

如图6所示，对于形成于铝片材214、拦截板220和涂杆216之间的液珠252，在从铝片材214与涂杆216之间的接触部分T处看时(在图6中以单虚线表示)，如果液珠252的边缘部分252E沿宽度方向呈现为周期性曲线形状，则基本上可以获得好的涂覆表面质量。特别是在边缘部分252E具有正弦曲线形状或接近正弦曲线的形状时，涂覆表面的质量可以进一步提高。

在第三个实施例中，如前所述，通过将涂杆216的圆周速度设置得不同于与铝片材214的输送速度相对应的圆周速度，因此，液珠252的边缘部分252E可以具有类似正弦曲线的形状，从而使得液珠252能够以稳定的方式保持。这样，涂覆的涂覆液250中不会(因液珠扰动)产生涂覆条纹或类似缺陷，从而可以获得均匀涂覆的表面。

特别地讲，即使是在所用涂覆液250具有高粘度的情况下，或者是在铝片材214的输送速度升高的情况下，由于可以使液珠252的边缘部分252E的形状具有类似正弦曲线的形状，因而液珠252可以以稳定的方式保持，所以，涂覆表面质量可以保持均匀。出于这种原因，涂杆216优选具有这样的旋转速度，即其圆周速度不同于与铝片材214的输送速度相对应的圆周速度(包括正向和反向旋转)。

当然，根据包括铝片材214的输送速度、涂覆液250的粘度在内的操作条件，在某些情况下以类似于传统结构的方式利用涂杆216与铝片材214间的摩擦力带动(驱动)涂杆216旋转更为有益。在这种情况下，仅仅通过将切换件248移动到非传动位置，如图5中的双点划线所示，就可以容易地阻止驱动源238的旋转驱动力传递到涂杆216上。

此外，对于在旋转时圆周速度不同于与铝片材214的输送速度相对应的圆周速度的涂杆216，其可以是初步涂杆216A和调节(计量)杆216B中的一个或两个。这可以根据包括铝片材214的输送速度、涂覆液250的粘度在内的操作条件而确定。

作为本发明的涂杆216，可以使用下面的元件：具有平滑外周表面的杆；绕线杆，其中丝线沿圆周方向紧密贴合并缠绕在杆的外周表面上，相邻丝线之间形成了槽；带槽杆，其中在杆跨度的全长上或所需部分上沿圆周方向在杆的外周表面上刻出了槽；以及类似的元件。考虑到杆的滚动精度(直线度和圆度)、旋转力矩、重量平衡以及诸如此类的因素，优选使涂杆216的外径位于1至30mm的范围内，更优选位于3至25mm的范围内，最优选位于6至15mm的范围内。考虑到耐腐蚀性和强度方面的问题，金属是制作涂杆216的优选材料，而且不锈钢特别适合采用。

在使用绕线杆的情况下，适宜的丝线直径为0.07至1.0mm，优选为0.07至0.6mm。金属可以用作丝线材料，考虑到耐腐蚀性、耐磨性、强度或诸如此类的问题，不锈钢最优选采用。为了进一步提高绕线杆的耐磨性，可以在其表面上施加镀层。特别是硬铬镀层适于采用。在使用绕线杆的情况下，可以根据丝线尺寸(直径)而调节每个涂覆单元213A和213B的涂覆量。

另外，在带槽杆用于本发明中的情况下，槽的间距可以设为0.05至1.0mm，优选为0.1至0.6mm。对于槽的横断面形状，适于采用接近正弦曲线或梯形的形状。然而，本发明并不局限于这些横断面形状，其他横断面形状也可以采用。为了进一步提高带槽杆的耐磨性，可以在其表面上施加镀层。特别是硬铬镀层适于采用。在使用带槽杆的情况下，可以根据槽的尺寸(宽度和深度)而调节每个涂覆单元213A和213B的涂覆量。

不论涂杆216采用哪种结构，铝片材214在移过下游侧涂覆单元213B之后的涂覆量即为平印版前体的最终制品质量所需的预期涂覆量。因此，在大多数情况下，下游侧涂覆单元213B中的涂杆216(调节(计量)杆)的涂覆量通常为3至100ml/m²。

铝片材214(涂覆对象)在每个涂杆216上的包容角没有特别的限制，只要涂覆液能够确实涂覆(初步涂覆或调节(计量))在铝片材214上即可，但该角度优选在1至30°的范围内，更优选在2至20°的范围内。通过调节涂覆机230的竖直位置(抬升量)，可以将包容角设置在理想值。

支承件218没有特别的限制，只要其能够确实地支承涂杆216即可。然而，考虑到涂杆216高速旋转的情况，优选使支承件218与涂杆216之间(在绕线杆的情况下为与丝线之间)具有低摩擦系数，以使涂杆216光滑地旋转。此外，希望支承件218具有高耐磨性。作为能够满足这些条件的材料，可以采用氟树脂、聚醛树脂、聚乙烯树脂或类似材料。在这些例子中，名叫特氟隆(美国杜邦公司的产品名)的聚四氟乙烯、名叫缩醛树脂(美国杜邦公司的产品名)的聚醛树脂因摩擦系数和强度(耐磨性)满足要求而特别希望采用。此外，也可以采用通过向这些塑料材料中添加填料例如玻璃纤维、石墨和二硫化钼而获得的材料。另外，在利用金属材料制作支承件218时，可以通过在其表面上涂覆或附着前述塑料材料而降低支承件与涂杆216之间的磨擦系数。浸渍了前述塑料材料的各种金属材料(例如浸渍了聚四氟乙烯的铝)也可以用于制作支承件218。

此外，诸如铝(前述铝片材214)等金属、纸、塑料薄膜、带树脂涂层的纸、合成纸或类似物可以作为被杆式涂覆装置212施加涂覆液250的涂覆对象(载体)。在铝板被用作平印版前体载体的情况下，可以采用日本工业标准(JIS)中规定的铝材JIS 1050、JIS 1100和JIS 1070，或者可以采用例如铝镁基合金、铝锰基合金、铝锰镁基合金、铝锆基合金、铝镁硅合金或类似材料。在这种情况下，要单独或组合实施机械糙化处理、化学蚀刻处理、电解糙化处理、阳极氧化处理或诸如此类的处理。在载体材料是塑料薄膜时，可以采用诸如聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃，诸如聚乙酸乙烯酯、聚苯乙烯等乙烯基聚合物，诸如6，6-尼龙、6-尼龙等聚酰胺，诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯、2，6萘二甲酸二甲酯等聚脂，诸如聚碳酸酯、三乙酸纤维素、二乙酸纤维素等乙酸纤维素，或是诸如此类的材料。另外，作为带树脂涂层的纸中所用的树脂，代表性的例子是聚烯烃，包括聚乙烯。然而，树脂材料并不局限于此。

铝片材214的厚度没有特别的限制，但考虑到操作性和通用性，铝片材214采用大约0.01mm至1.0mm的厚度较为有益。

涂覆对象的表面粗糙度没有特别的限制，然而，在表面粗糙度太大时，特别是在液珠252不稳定时，大多数情况下难以获得均匀涂覆的表面。作为示例，在涂覆对象的算术平均粗糙度Ra为0.20μm或以上的情况下，利用第三个实施例的杆式涂覆装置212施加涂覆液250，可以或得更为均匀涂覆的表面。

此外，涂覆液250并不局限于前面所述的感光液。作为示例，也可以采用聚合物的水溶液或有机溶剂溶液、颜料稀释液、胶体溶液以及类似的溶液。作为用于形成平印版前体感光层的涂覆液250，可以是能够形成下列感光层(1)至(11)的感光液：

(1)一种感光层，其含有一种红外线吸收剂、一种受热时产生酸的化合物和一种通过酸而发生交联反应的化合物；

(2)一种感光层，其含有一种红外线吸收剂和一种受热时可溶于碱的化合物。

(3)一种感光层，其由两层构成：第一层中含有一种用于在被激光照射时产生射线的化合物、一种可溶于碱的粘合剂和一种多官能单体或预聚物，第二层是一个隔氧层；

(4)一种感光层，其由两层构成：一个物理显影中心层和一个卤化银乳剂层。

(5)一种感光层，其由三层构成：一个含有多官能单体和多官能粘合剂的聚合物层、一个含有卤化银和还原剂的层和一个隔氧层。

(6)一种感光层，其由两层构成：一个含有酚醛清漆树脂和偶氮化萘醌(naphthoquinone diazide)的层和一个含有卤化银的层。

(7)一种感光层，其含有一种有机光导体。

(8)一种感光层，其由两层或三层构成：一个可以通过激光照射而被去除的激光吸收层、一个亲脂层和/或一个亲水层。

(9)一种感光层，其含有：一种用于吸收能量而产生酸的化合物；一种高分子化合物，其在支链中具有一个官能团，用于在酸的作用下产生磺酸或羧酸；以及一种用于吸收可见光以向上述酸产生剂提供能量的化合物。

(10)一种感光层，其含有偶氮化醌(quinone diazide)的化合物和酚醛清漆树脂。

(11)一种感光层，其含有：一种化合物，其在受到光线或紫外线照射时能够分解，并在自身中形成交联结构(或者其分子与感光层中其他分子形成交联结构)；以及一种能够溶于碱的粘合剂。

另外，在这些涂覆液中，虽然掺气容易产生在含有有机溶剂的涂覆液中，但利用根据本发明第三个实施例的杆式涂覆装置212向铝片材214上施加涂覆液，可以进一步确实防止掺气的产生。

涂覆液250的粘度没有特别的限制，但优选为100mPa·s或以下，更优选为50mPas或以下。

杆式涂覆装置212附近的温度(特别是从初步涂杆216A至调节(计量)杆216B之间的区域中的温度)没有特别的限制，但在这一区域的温度超过30℃时，在初步涂层254中重新产生或形成掺气的风险会增大。因此，优选使从初步涂杆216A至调节(计量)杆216B之间的区域中的温度为30℃或以下。

尽管在前面的解释中描述了杆式涂覆装置212用于在平印版前体生产线中向铝片材214(载体)施加感光液的情况，但本发明的杆式涂覆装置212并不局限于这种用途。

下面参照一个实例进一步描述本发明的第三个实施例，然而本发明并不局限于此。

实例II

在本实例中，涂覆液250过本发明的杆式涂覆装置212涂覆在铝片材214上。

首先，在带状铝板的表面上实施机械糙化处理、化学蚀刻处理、电解糙化处理和阳极氧化处理，以获得算术平均粗糙度Ra为0.20μm的基片(铝片材214)和算术平均粗糙度Ra为0.26μm的基片(铝片材214)。铝片材214被杆式涂覆装置212施加涂覆液250，它们的涂覆表面质量被评估，而且涂覆表面的状态被观测。

涂覆条件如下所述。

a.铝片材的宽度：                  500mm

b.铝片材的厚度：                  0.3mm

c.输送速度：                      150m/min

d.涂覆量

初步涂杆：                        0.05l/m²

调节(计量)杆：                   0.015l/m²

e.涂杆直径：                     10mm(二者均是)

f.涂杆转数

初步涂杆：与铝片材的速度和方向相同(从动旋转)

调节(计量)杆：-50/min(反转)

g.涂覆液的粘度：                 20mPas

一般而言，平印版前体制造过程中的铝片材214输送速度在大多数情况下设置在50m/min或以下。因此，作为平印版前体制造过程中的铝片材214输送速度，前述输送速度(150m/min)是相对较高的速度。

在上述条件下，在上游侧涂覆单元213A与下游侧涂覆单元213B之间的间隔设置彼此不同，而且铝片材214从接触初步涂杆216A至接触调节(计量)杆216B所经历的时间(本发明的输送时间)发生变化的情况下，涂覆液被涂覆在铝片材214上，以获得平印版前体。

评估和观测的结果显示于表2中。由于在算术平均粗糙度为0.20μm和算术平均粗糙度为0.26μm的铝片材214之间没有观察到显著不同，因此表2中只示出了算术平均粗糙度为0.26μm的铝片材214涂覆时的情况。

表2

	输送时间	涂覆表面质量
				评估	观测结果
		实例21	0.16秒			○	获得均匀涂覆的表面
实例22	0.20秒			○	获得均匀涂覆的表面
		实例23	0.25秒			△	端部所在部分未形成涂膜
对比例	0.28秒			×	未形成涂膜

在表2的评估结果中，“○”表示不会产生问题或缺陷的良好结果；“△”表示结果比“○”稍差，但根据平印版前体的某些种类、用途或类似因素，尚未达到在实际使用中造成问题和缺陷的程度，因此“△”表示足以满足使用要求的结果；“×”表示有造成问题和缺陷的风险。

从表中可以看出，在输送时间为0.20秒或以下的情况下(实例21和22)，可以获得好的涂覆表面质量。另外，在输送时间为0.25秒的情况下(实例23)，尽管涂覆表面质量劣于实例21和22，但根据平印版前体的某些种类或用途，结果尚未达到造成问题的程度。

相反，在输送时间为0.28秒的情况下(对比例)，不能形成涂膜，因而没有获得均匀的涂覆表面质量。

在本发明的上述实施例中，可以获得均匀的涂覆表面质量，即使是在具有较高表面粗糙度的涂覆对象的输送速度提高了的情况下。

下面再一次参照图3A和3B继续描述第三个实施例。

在第三个实施例的杆式涂覆装置212中，涂覆量W1、W2的设置应满足下面的关系：

0.8≤W1/W2≤4.0                (1)

其中载体片材(铝片材214)沿输送方向移过上游侧涂覆单元213A之后其上涂覆液250的涂覆量为W1，载体片材(铝片材214)沿输送方向移过下游侧涂覆单元213B之后其上涂覆液250的涂覆量为W2。

具体地讲，根据第三个实施例中的杆式涂覆装置212，如前面的方程(1)所示，载体片材(铝片材214)沿输送方向移过上游侧涂覆单元213A之后其上涂覆液250的涂覆量W1与载体片材(铝片材214)沿输送方向移过下游侧涂覆单元213B之后其上涂覆液250的涂覆量W2之间的比率(涂覆量比率)W1/W2被设置为0.8或以上和4.0或以下。在涂覆量比率小于0.8的情况下，由于在上游侧涂覆单元213A中的涂覆量相对较小，特别是在铝片材214被高速输送的情况下，不能确保消除铝片材214上的掺气，从而会产生所谓的液体稀薄(涂覆液250的涂覆量局部短缺)，因此即使是在铝片材214移过了下游侧涂覆单元213B之后，也不容易形成均匀的涂膜。另一方面，在涂覆量比率大于4.0的情况下，由于在上游侧涂覆单元213A中的涂覆量相对较大，因此铝片材214上的初步涂层254不稳定，特别是在刚要到达下游侧涂覆单元213B之前(进入侧)，液珠会变得很大。由于初步涂层254不稳定，因此在铝片材214移过下游侧涂覆单元213B后，容易形成涂覆条纹或类似缺陷。根据第三个实施例，通过将涂覆量比率(W1/W2)设置为0.8或以上和4.0或以下，即使是在铝片材214高速输送的状态下施加涂覆液250，也可以防止产生这些缺陷，并且可以获得均匀涂覆的表面。

对于每个涂覆单元213A和213B中的涂覆量而言，在涂覆量比率为0.8或以上和1.0以下的情况下，除了由上游侧涂覆单元213A形成在铝片材214上的初步涂层254以外，下游侧涂覆单元213B还将进一步施加涂覆液。此外，在涂覆量比率为1.0的情况下，下游侧涂覆单元213B不会在向初步涂层254添加涂覆液250，也不会从初步涂层去除涂覆液。在涂覆量比率为1.0以上和4.0或以下的情况下，形成在初步涂层254中的一部分涂覆液将被下游侧涂覆单元213B去除。然而，实际上在任何情况下，形成在初步涂层254中的涂覆液均会被下游侧涂覆单元213B去除一部份，并被附加涂覆上涂覆液250。因此，涂覆液实际上实现了部分替换。

下面参照一个实例进一步详细解释杆式涂覆装置212的涂覆量比率。本例中主要考虑的是涂覆液沿输送方向被上游侧涂覆单元213A涂覆的量和沿输送方向被下游侧涂覆单元213B涂覆的量，如前面的定义和描述。然而本发明的实施例并不局限于此。

实例III

在本实例中，涂覆液250通过本发明的杆式涂覆装置212涂覆在铝片材214上。

首先，在带状铝板的表面上实施机械糙化处理、化学蚀刻处理、电解糙化处理和阳极氧化处理，以获得算术平均粗糙度Ra为0.48μm的基片(铝片材214)。铝片材214被杆式涂覆装置212施加涂覆液250，其涂覆表面质量被评估，而且涂覆表面的状态被观测。

涂覆条件如下所述。

a.铝片材的宽度：                500mm

b.铝片材的厚度：                0.3mm

c.输送速度：                    150m/min

d.涂覆量：                      0.02l/m²

e.涂杆直径：                    10mm(二者均是)

f.涂杆转数

初步涂杆：与铝片材的速度和方向相同(从动旋转)

调节(计量)杆：-50/min(反转)

g.涂覆液的粘度：                30mPas和40mPas

在上述条件下，通过保持下游侧涂覆单元213B的涂覆量W2恒定(15.0ml/m²)，并且改变上游侧涂覆单元213A的涂覆量W1，以使涂覆量比率(W1/W2)发生变化，在这种情况下，涂覆液被涂覆在铝片材214上，以获得平印版前体。在本发明的上述实施例中，涂覆量比率(W1/W2)位于特定范围内，因此每个涂覆量W1、W2没有特别的限制，只要它们满足所述条件即可。作为示例，在涂覆了铝片材214之后，将铝片材214切割成预定的尺寸并且干燥，以测量其重量(根据不同情况，要考虑在干燥过程中蒸发了的液体量)，并且与具有相同尺寸但不带涂覆液250的铝片材进行比较，就可以精确测量出实际涂覆量。

另外，由于本发明是这样实施的，即在上游侧涂覆单元213A中进行涂覆(初步涂覆)之后，继续在下游侧涂覆单元213B中进行涂覆(计量)，因此难以精确地测量涂覆量W1。所以，在实例和对比例中，通过预先仅在上游侧涂覆单元213A中实施涂覆(初步涂覆)，而未在下游侧涂覆单元213B中实施涂覆(计量)，凭此预先获得了涂杆216的形状或类似参数与涂覆量W1之间的关系。

评估和观测的结果显示于表3中。

表3

	W1(ml/m2)	W2(ml/m2)	W1/W2	涂覆表面质量
								粘度为30mPas的涂覆液		粘度为40mPas的涂覆液
				评估	观测结果	评估	观测结果
								对比例31	10.0	15.0	0.67	×	未涂覆	×	未涂覆
对比例32	11.3	15.0	0.75	△	表面大致一半部分未形成涂模	×	未涂覆
								实例31	12.0至13.1	15.0	0.80至0.87	◎	获得均匀涂覆表面质量	○	仍有一些部分未形成涂膜
实例32	15.0至41.3	15.0	1.0至2.75	◎	获得均匀涂覆表面质量	◎	获得均匀涂覆表面
								实例33	45.0至60.0	15.0	3.0至4.0	◎	获得均匀涂覆表面质量	○	一些部分产生涂覆条纹
实例34	67.5	15.0	4.5	△	表面大致一半部分产生涂覆条纹	×	整个表面上产生涂覆条纹

在表3的评估结果中，“◎”表示不会产生问题或缺陷的良好结果；“○”表示结果比“◎”稍差，但尚未达到在实际使用中造成问题和缺陷的程度；“△”表示结果比“○”更差，从而对于平印版前体的某些种类、用途或类似因素而言，会造成问题和缺陷；“×”表示有造成问题和缺陷的风险。

从表3中可以看出，在涂覆量比率(W1/W2)小于0.80的情况下(对比例31和32)，涂覆液250可能涂覆不到铝片材214上，因此涂覆表面质量也很差。

另外，在涂覆量比率(W1/W2)大于4.0的情况下(对比例33)，会产生涂覆条纹，因此涂覆表面质量也很差。

相反，在涂覆量比率(W1/W2)在1.0至2.75之间的情况下(实例32)，不论涂覆液的粘度为30mPa·s还是40mPa·s，涂覆表面质量均是好的。此外，在涂覆量比率(W1/W2)在0.8至0.87之间的情况下(实例31)，或者在3.0至4.0之间的情况下(实例33)，如果涂覆液的粘度为40mPa·s，则涂覆表面质量比实例32略差，但尚未达到在实际使用中造成问题和缺陷的程度。

在本发明的上述实施例中，即使是在涂覆对象的输送速度设置得较高的情况下，也能够获得均匀的表面质量。

第四个实施例

图7中示出了根据本发明第四个实施例的涂覆装置的示意性结构。

根据第四个实施例的涂覆装置100是这样一种涂覆装置，其用于向作为本发明的带状件实施例的载体片材W上涂覆作为本发明的涂覆液实施例的制版层形成液。

如图7所示，根据第四个实施例的涂覆装置100包括：一个涂覆段2，其用于将制版层形成液粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上；以及一个涂层调节段4，其相对于图7中的箭头a所示的载体片材W输送方向布置在涂覆段2的下游，用于将涂覆段2粘着的制版层形成液调节到预定的厚度。

涂覆段2和涂层调节段4均固定在箱形底座6的下表面上，该底座的上表面是敞开的。

底座6在其下方被一个升降装置8以可升降的方式支承着。在需要向载体片材W上涂覆制版层形成液时，底座6被升降装置8抬高，而在未实施涂覆操作时，底座6被升降装置8降低。

用于沿输送方向a输送载体片材W的输送辊32和34设在涂覆装置100的上方，以将运行表面T夹在所述输送辊与涂覆装置之间。输送辊32布置在涂覆段2的上游，输送辊34布置在涂层调节段4的下游。

如图7所示，涂覆段2包括：第一涂杆22，其布置在作为载体片材W运行路径的运行表面T的下方，并且相对于输送方向a垂直布置在水平面上；一个支承件24，其为板状件，在其顶表面上形成了V形横断面的第一涂杆支承槽24A，以使第一涂杆支承槽24A从下面支承着第一涂杆22；以及一个拦截件26，其平行于第一涂杆22设置，从而面对着第一涂杆22和支承件24，并且相对于输送方向a布置在支承件24和第一涂杆22的上游。

作为第一涂杆22，可以采用前述光杆、带槽杆和绕线杆中的任何一种。第一涂杆22上的面对着载体片材W的圆周表面沿着与输送方向a相同的方向旋转，换言之，正向旋转。第一涂杆22的圆周速度优选为载体片材W输送速度的至少1/15，但不超过该输送速度。在第一涂杆22以等于载体片材W输送速度的圆周速度旋转的情况下，其可以借助于与载体片材W的喷砂处理表面Sg之间的直接接触而被带动，或者借助于通过在喷砂处理表面Sg上涂覆制版层形成液而在喷砂处理表面Sg上形成的涂层而被带动。另一方面，在以低于输送速度的圆周速度旋转的情况下，优选利用适宜的驱动装置例如电机以预定的转数强制第一涂杆22旋转。在这种情况下，希望利用适宜的连接装置例如离合器将驱动装置与第一涂杆22相连，以便在需要时切断所述连接。

下面解释第一涂杆22、支承件24和拦截件26之间的相对位置关系。

拦截件26是竖直设置的壁状件，而且它是这样布置的，即它的面对着第一涂杆22的表面与第一涂杆22的外周表面之间的距离d位于3至30mm的范围内。

一个竖直表面26A形成在拦截件26上的与第一涂杆22相面对着的一侧上缘部分上。一个向着上游侧降低的倾斜表面26B形成在拦截件26上的与所述竖直表面相反的一侧上。

在涂覆制版层形成液时，第一涂杆22的圆周速度为载体片材W输送速度的1/15或以上，优选在1/15至3/4的范围内，特别优选在1/10至1/2的范围内。

如图7所示，一个涂覆液路径20设在支承件24与拦截件26之间，用于向从上方经过的载体片材W喷射制版层形成液。

布置在载体片材W的运行表面T下方的涂层调节段4沿着与载体片材W的输送方向a大致正交的方向水平设置。涂层调节段4包括：第二涂杆42，在旋转时，其上的面对着载体片材W的圆周表面沿着与输送方向a相同或相反的方向转动；一个支承件44，其为板状件，在其顶表面上形成了V形横断面的第二涂杆支承槽44A，以使第二涂杆支承槽44A从下面支承着第二涂杆42；一个上游侧拦截板46，其平行于第二涂杆42设置，从而面对着第二涂杆42和支承件44，并且相对于输送方向a布置在支承件44和第二涂杆42的上游；以及一个下游侧拦截板48，其平行于第二涂杆42设置，从而面对着第二涂杆42和支承件44，并且相对于支承件44布置在上游侧拦截板46的相反侧。

作为第二涂杆42，与第一涂杆22的情况一样，可以采用光杆、带槽杆、绕线杆或类似物中的任何一种。

第二涂杆42可以正向旋转，或者沿着载体片材W输送方向a的相反方向(反向)旋转。然而，考虑到需要在接合部经过涂层调节段4时防止因接合部而引起涂覆缺陷，因此第二涂杆42优选正向旋转。

上游侧拦截板46和下游侧拦截板48的上端部均向着第二涂杆2弯折。

上游侧涂覆液路径50中储存的涂覆液会在上游侧拦截板46、第二涂杆42和支承件44之间形成上游液珠，用以防止第二涂杆42干燥。与此类似，下游侧涂覆液路径52会在下游侧拦截板48、第二涂杆42和支承件44之间形成下游液珠。制版层形成液是这样供应到上游液珠和下游液珠的，即能够将制版层形成液的液位保持在恒定的高度。为了将制版层形成液的液位保持在恒定高度，可以使制版层形成液溢流通过上游侧拦截板46和下游侧拦截板48的顶部。

在底座6的底表面上布置着下列元件：第一供液管6A，其用于向涂覆液路径20供应制版层形成液；第二供液管6B，其用于向上游侧涂覆液路径50供应制版层形成液；以及第三供液管6C，其用于向下游侧涂覆液路径52供应制版层形成液。此外，在底座6的底表面上还布置着下列元件：第一排液管6E，其用于收集在涂覆段2中溢流通过拦截件26并且在底座6的上游侧壁与拦截件26之间向下流动的制版层形成液；第二排液管6D，其用于收集在拦截件26与上游侧拦截板46之间向下流动的制版层形成液；以及第三排液管6F，其用于收集溢流通过下游侧拦截板48并且在底座6的下游侧壁与下游侧拦截板48之间向下流动的制版层形成液。

下面解释涂覆装置100的操作。

载体片材W沿着箭头a的方向被输送辊32和34输送，而且其喷砂处理表面Sg面向下方。

从第一供液管6A向涂覆液路径20供应的制版层形成液在涂覆液路径20的顶部处被第一涂杆22向上带动，从而粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上。在此，由于第一涂杆22正向旋转，其圆周速度为载体片材W输送速度的1/15或以上，因此制版层形成液可以被第一涂杆22充分地向上带动。这样，即使是在载体片材W高速运行的情况下，制版层形成液也可以均匀地粘着。

在涂覆段2中粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上的制版层形成液接下来将在涂层调节段4中被第二涂杆42调节到预定厚度。

在涂层调节段4中，通过从第二供液管6B和第三供液管6C向上游侧涂覆液路径50和下游侧涂覆液路径52补充制版层形成液，以使制版层形成液经上游侧拦截板46向上侧溢流，或者经下游侧拦截板48向下侧溢流，可以将上游侧涂覆液路径50的上游液珠中的制版层形成液液位高度和下游侧涂覆液路径52的下游液珠中的制版层形成液液位高度保持恒定。这样，由于第二涂杆42的表面总是保持在润湿状态，因此可以防止固体成分产生并粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上。

如前所述，在根据第四个实施例的涂覆装置中，即使是在载体片材W的输送速度较高的情况下，制版层形成液也能够均匀地涂覆，此外，可以防止液体粘着在载体片材背侧。因此，制版层形成液可以高效形成在平印版前体上。

实例IV

(实例41至45，对比例41至43)

在铝片材上根据普通方法对其一侧表面实施喷砂处理，然后对喷砂处理表面实施阳极氧化处理，从而获得了载体片材W。

作为制版层形成液实例的感光层形成液利用图7所示的涂覆装置100涂覆在载体片材W上。

感光层形成液的涂覆条件如下所述。

a.载体片材W的厚度：          0.3mm

b.载体片材W的输送速度：      150m/min

c.感光层形成液的粘着量：

                50cc/min(涂覆段2)

                15cc/min(涂层调节段4)

d.涂杆直径：

                10mm(第一涂杆22和第二涂杆42均是)

e.第一涂杆22的转速(圆周速度)：如表4所示

f.第二涂杆42的转速(圆周速度)：16m/min(正转)

g.感光层形成液的粘度：        30mPas

用于表示制版层形成液是否能够稳定地涂覆在载体片材W的喷砂处理表面Sg上的“涂覆性能”和用于表示通过涂覆制版层形成液而在喷砂处理表面Sg上形成的涂覆表面的表面质量优劣的“涂覆表面质量”通过视觉观测而被评定为四个等级“◎”、“○”、“△”、“×”。结果显示于表4中。

表4

	杆旋转方向、转速(圆周速度)		涂覆性能、涂覆表面质量
				第一涂杆	第二涂杆
	对比例41	＜+10m/min(＜1/15)				+16m/min	×：局部产生未涂覆部分
实例41			+10至15m/min(1/15至1/10)	○
	实例42	+15至75m/min(1/10至1/2)			◎
实例43			+75至113m/min(1/2至3/4)	◎
	实例44	+113至150m/min(3/4至1)			△：局部产生液珠条纹(纵向涂薄部分)
实例45			-150m/min(无驱动)	△：局部产生液珠条纹(纵向涂薄部分)
	对比例42	+150m/min(无驱动)			无		×：产生波纹和涂覆液飞溅
对比例43			-16至+16m/min	无		×：制版层形成液因掺气而不能粘着

在表4的“杆旋转方向、转速”列中，“+”表示第一涂杆或第二涂杆正向旋转，“-”表示第一涂杆或第二涂杆反向旋转。另外，在该列的“第一涂杆”列中，括号内的数字表示第一涂杆的圆周速度与载体片材W输送速度之间的比率。

如表4所示，在对比例1中，第一涂杆的圆周速度小于载体片材W输送速度的1/15，此时会有未涂覆部分形成在喷砂处理表面Sg上，因此制版层形成液不能稳定地涂覆。

相反，在实例41至44中，第一涂杆的圆周速度从至少为载体片材W输送速度的1/15至等于载体片材W输送速度，可以看到，制版层形成液能够以稳定的方式涂覆，尽管在某些情况下会沿纵向形成液珠条纹，即涂薄部分。

根据本发明的这一实施例，可以提供出能够在高速运行的带状件上均匀地涂覆上涂覆液的涂覆装置和涂覆方法。

第五个实施例

下面再次参照图7描述本发明的第五个实施例。

根据第五个实施例的涂覆装置100不需对第四个实施例中的涂覆装置作出改动即可用于向一侧被喷砂处理过的带状薄铝板载体片材W上涂覆作为本发明的涂覆液实施例的制版层形成液。因此，本领域的普通技术人员可以理解，前面对第四个实施例中的涂覆装置100中安装的各个元件所作描述也同样可以用在第五个实施例中。

如图8所示，在根据第五个实施例的涂覆装置100中，拦截件26的顶表面相对于底座6的底表面的高度h高于第一涂杆22的表面最低点相对于底座6的底表面的高度H1但低于高度H3，所述高度H3比第一涂杆22的表面最高点相对于底座6的底表面的高度H2低1mm。如图8所示，换言之，第一涂杆22的表面最低点高度H1可以认为是从下面接触第一涂杆22表面的水平面P1的高度。另外，第一涂杆22的表面最高点的高度H2可以认为是从上面接触第一涂杆22表面的水平面P2的高度。

一个竖直表面26A形成在拦截件26的上端部的面对着第一涂杆22的一侧表面上。另一方面，一个向着上游侧下斜的倾斜表面26B形成在拦截件26的上端部的与前述一侧相反的侧面上。

如图7和8所示，用于向从上方经过的载体片材W喷射制版层形成液的涂覆液路径28设在支承件24与拦截件26之间。

涂层调节段4的第二涂杆42的旋转方向可以是与载体片材W输送方向相同的方向(正向)，或者是相反方向(反向)。另外，圆周速度可以根据制版层形成液的预期涂覆厚度而设置，然而，在第二涂杆42的旋转方向是与载体片材W输送方向相同的方向时，第二涂杆42的圆周速度优选低于第一涂杆22的圆周速度。

下面解释涂覆装置100的操作。

载体片材W沿着箭头a的方向被输送辊32和34输送，而且其喷砂处理表面Sg面向下方。

从第一供液管6A向涂覆液路径20供应的制版层形成液在涂覆液路径20的顶部处被第一涂杆22带起，从而粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上。在此，拦截件26的高度高于第一涂杆22的表面最低点，并且比第一涂杆22的表面最高点低1mm或以上。

如图9所示，由于涂覆液路径20中的制版层形成液的液位高度等于或略高于拦截件26的高度，因此液位高度高于第一涂杆22的最低点，并低于第一涂杆22的最高点。所以，在涂覆制版层形成液时，第一涂杆22的一部分部面总是被制版层形成液包围着。这样，由于制版层形成液可以被第一涂杆22充足地向上带起，因此制版层形成液能够均匀地粘着，即使是在载体片材W的输送速度提高了的情况下。

另一方面，由于第一涂杆22不是完全浸没在制版层形成液中，因此可以防止因连续供应制版层形成液而导致制版层形成液移动到载体片材W的背侧上并粘着于此。

如前所述，根据第五个实施例中的涂覆装置，制版层形成液能够均匀地涂覆，即使是在载体片材W的输送速度较高的情况下，此外，可以防止液体意外粘着到载体片材背侧，因此制版层形成液可以高效形成在平印版前体上。

实例V

(实例51、52，对比例51至54)

在铝片材上根据普通方法对其一侧表面实施喷砂处理，然后对喷砂处理表面实施阳极氧化处理，从而获得了载体片材W。

作为制版层形成液实例的感光层形成液利用图7所示的涂覆装置100涂覆在载体片材W上。

感光层形成液的涂覆条件如下所述。

a.载体片材W的厚度：            0.3mm

b.载体片材W的输送速度：        150m/min

c.感光层形成液的粘着量：

             50cc/min(涂覆段2)

             15cc/min(涂层调节段4)

d.涂杆直径：

             10mm(第一涂杆22和第二涂杆42均是)

e.第一涂杆22的转速(圆周速度)：130m/min(正转)

f.第二涂杆42的转速(圆周速度)：16m/min(正转)

g.感光层形成液的粘度：        20mPas

h.在被第二涂杆42计量后感光层形成液的涂覆量：

结果显示于表5中。

表5

	拦截件26的高度	拦截件26与第一涂杆22之间的距离(mm)	制版层形成液在载体片材W的涂覆表面上的涂覆性能和涂覆表面的表面质量
				对比例51	低于第一涂杆22最低点	0.5至3	×：局部产生未涂覆部分
对比例52	3至30	×：局部产生未涂覆部分
			实例53	从第一涂杆22最低点至最高点下方1mm处		0.5至3	○：涂覆在整个表面上
实例54	3至30	◎：均匀涂覆在整个表面上
			对比例55		比位于第一涂杆22最高点下方1mm处的位置高	0.5至3	×：液体粘着在载体片材背侧
对比例56	3至30	×：液体粘着在载体片材背侧

如表5中所示，在涂覆段2中的拦截件26高于第一涂杆22的最低点并且比第一涂杆22的最高点低1mm或以上的情况下，感光层形成液可以均匀地涂覆，即使载体片材W的输送速度高达150m/min。

另一方面，在拦截件26低于第一涂杆22的最低点时，会产生未涂覆部分，而在拦截件26比位于第一涂杆22最高点下方1mm处的位置更高的情况下，会导致液体粘着在载体片材背侧。

根据本发明的上述实施例，可以提供出这样的涂覆装置和涂覆方法，其能够获得均匀涂覆的表面，即使是在基片的输送速度提高了的情况下。

第六个实施例

图10中示出了根据本发明第六个实施例的涂覆装置的示意性结构。

根据第六个实施例的涂覆装置100不需对第四个实施例中的涂覆装置作出改动即可用于向一侧被喷砂处理过的带状薄铝板载体片材W上涂覆作为本发明的涂覆液实施例的制版层形成液。

如图10所示，根据第六个实施例的涂覆装置100在很多方面与第四和第五个实施例具有相同的构造。因此，本领域的普通技术人员可以理解，前面对第四和第五个实施例所作的描述也可以在这里用在与第四和第五个实施例中相同的构造中。

如图10所示，涂覆段2包括：第一涂杆22，其布置在作为载体片材W运行路径的运行表面T的下方，并且相对于输送方向a垂直布置；一个支承件24，其为板状件，在其顶表面上形成了V形横断面的第一涂杆支承槽24A，以使第一涂杆支承槽24A从下面支承着第一涂杆22；以及一个拦截件26，其沿竖直方向延伸，从而平行于第一涂杆22设置，以面对着第一涂杆22和支承件24，并且相对于输送方向a布置在支承件24和第一涂杆22的上游。一个涂覆液路径20设在支承件24与拦截件26之间，用于向从上方经过的载体片材W喷射制版层形成液，其中一个沿竖直方向延伸的整流板28设在涂覆液路径20中。整流板28对应于根据本发明的涂覆装置中的整流件，其在上端部向着第一涂杆22弯折。优选使整流板28的宽度等于支承件24和拦截件26的宽度。

作为第一涂杆22，可以采用光杆、带槽杆和绕线杆中的任何一种。第一涂杆22的旋转方向与输送方向a相同。在与载体片材W的喷砂处理表面Sg直接接触时，第一涂杆22可以被一个选装的驱动装置直接驱动着以预定的转数旋转，或者可以借助于通过涂覆制版层形成液而在载体片材W的喷砂处理表面Sg上形成的涂层而被带动着旋转。第一涂杆22的圆周速度优选为载体片材W输送速度的至少1/15，但不超过该输送速度。

图11中示出了涂覆段2中的整流板28、第一涂杆22、支承件24和拦截件26之间的相对位置关系，图12中示出了整流板28附近的制版层形成液流动情况。

如图11所示，整流板28在涂覆液路径20中布置在支承件24附近。这样，涂覆液路径20被整流板28分隔为沿载体片材W的输送方向a布置的上游侧涂覆液路径20A和下游侧涂覆液路径20B。

一个用于将上游侧涂覆液路径20A和下游侧涂覆液路径20B相互连通的涂覆液连通孔28A形成在整流板28的下端部中，一个向着第一涂杆22弯折的弯折部分28B形成在整流板28的上端部。弯折部分28B被成形得平行于第一涂杆22上的与弯折部分28B相面对部位的切面P。弯折部分28B与切面P之间的距离t1优选为1mm或以下，特别优选在0.1至1mm的范围内。另外，弯折部分28B的末端与运行表面T之间的距离t2优选为3mm或以下，特别优选在0.05至3mm的范围内。

如图10所示，制版层形成液被供应到上游侧涂覆液路径20A中。另一方面，如图12所示，第一涂杆22以与载体片材W输送方向a相同的方向(正向)旋转，以使第一涂杆22的表面在整流板28附近从下向上移动。这样，如图12中的箭头b所示，在下游侧涂覆液路径20B中，制版层形成液从下向上流动。因此，上游侧涂覆液路径20A中的制版层形成液将通过涂覆液连通孔28A而流入下游侧涂覆液路径20B中。

在下游侧涂覆液路径20B中升高的制版层形成液会粘着到载体片材W的喷砂处理表面Sg上。未粘着到载体片材W的喷砂处理表面Sg上的制版层形成液将围绕着弯折部分28B的末端从下游侧向上游侧流动，从而如图12中的箭头c所示返回上游侧涂覆液路径20A中。

这样，可以形成围绕着弯折部分28B的末端从下游侧涂覆液路径20B流入上游侧涂覆液路径20A中的液流。

图13中示出了涂覆段2的一个实施例，其包含一个具有不同形状的整流板28。

图13中示出的涂覆段2包括一个整流板28，其在末端部具有一个沿竖直方向延伸的弯折部分28B，该弯折部分沿着背离第一涂杆22的方向弯折。这样，弯折部分28B具有平行于切面P的第一弯折部分28B1和与第一弯折部分28B1的端部相接并且沿竖直方向延伸的第二弯折部分28B2。

第一弯折部分28B1与切面P之间的距离t3优选为1mm或以下，特别优选在0.1至1mm的范围内。另一方面，第二弯折部分28B2的末端与运行表面T之间的距离t4优选为3mm或以下，特别优选在0.05至3mm的范围内。

在图13所示的涂覆段2中，由于整流板28的末端沿竖直方向形成，因此可将距离t4制作得比图11中所示的距离t2更短。

另外，由于制版层形成液围绕着整流板28的末端的流动可以更流畅，因此同具有图11和12中所示涂覆段22的涂覆装置100相比，可以获得缺陷更少的制版层。

第二涂杆42的圆周速度可以根据制版层形成液的预期涂覆厚度而设置。然而，在第二涂杆42的旋转方向是与载体片材W输送方向相同的方向时，第二涂杆42的圆周速度优选低于第一涂杆22的圆周速度。

如图10所示，在底座6的底表面上，设有用于向上游侧涂覆液路径20A供应制版层形成液的第一供液管6A、用于向上游侧涂覆液路径50供应制版层形成液的第二供液管6B、用于向下游侧涂覆液路径52供应制版层形成液的第三供液管6C。此外，在底座6的底表面上还布置着排液管6D，其用于收集在涂覆段2的支承件24与涂层调节段4的上游侧拦截板46之间向下流动的制版层形成液。

下面解释涂覆装置100的操作。

载体片材W沿着箭头a的方向被输送辊32和34输送，而且其喷砂处理表面Sg面向下方。

如前所述，从第一供液管6A向涂覆段2的上游侧涂覆液路径20A供应的制版层形成液将流经涂覆液连通孔28A而流入下游侧涂覆液路径20B中，并且在下游侧涂覆液路径20B中上升。接下来，在整流板28的弯折部分28B附近形成了围绕着弯折部分28B的末端流向上游侧涂覆液路径20A的循环液流c，与此同时，一部分循环液流c粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上。

在涂层调节段4中，如果涂覆段2的粘着量不够，则利用第二涂杆42进一步涂覆制版层形成液，而如果粘着量过大，则多余的涂覆液被第二涂杆42刮掉，从而将粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上的制版层形成液调节到预定的涂覆厚度。

根据第六个实施例中的涂覆装置，如前所述，由于循环液流c围绕着整流板28的末端附近从下游侧向上游侧形成，因此可以限制粘着在带状基片上的涂覆液量的波动。

这样，由于即使是在载体片材W的输送速度较高的情况下也能够防止出现液珠条纹和未涂覆部分等涂覆缺陷，因此可以在平印版前体的制版层形成过程中防止废品的产生。

实例VI

(实例61至68，对比例61)

在铝片材上根据普通方法对其一侧表面实施喷砂处理，然后对喷砂处理表面实施阳极氧化处理，从而获得了载体片材W。

作为制版层形成液实例的感光层形成液利用图10所示的涂覆装置100涂覆在载体片材W上。

感光层形成液的涂覆条件如下所述。

a.载体片材W的厚度：        0.3mm

b.载体片材W的输送速度：    150m/min

c.感光层形成液的粘着量：

             50cc/min(涂覆段2)

             15cc/min(涂层调节段4)

d.涂杆直径：

             10mm(第一涂杆22和第二涂杆42均是)

e.第一涂杆22的转速(圆周速度)：130m/min(正转)

f.第二涂杆42的转速(圆周速度)：16m/min(正转)

g.感光层形成液的粘度：        2至50mPas

h.在被第二涂杆42计量后感光层形成液的涂覆量：

结果显示于表6中。

表6

	整流板28与涂杆22和运行表面T之间距离		涂覆性能、涂覆表面质量
				整流板28与涂杆22之间距离t1	整流板28与运行表面T之间距离t2
	实例61	0.05至0.1mm				0.05至0.1mm	○：但在感光层形成液的粘度为30mPas或以上时，局部产生未涂覆部分
实例62			0.1至3mm	○：但在感光层形成液的粘度为30mPas或以上对，局部产生未涂覆部分
	实例63				3mm以上	△：一些部分产生液珠条纹(大约5至30mm长的涂薄部分)
实例64			0.1至1mm	0.05至0.1mm			○：但在感光层形成液的粘度为30mPas或以上时，局部产生未涂覆部分
	实例65	0.1至3mm			◎：整个表面均匀涂覆
实例66				3mm以上		△：一些部分产生液珠条纹(大约5至30mm长的涂薄部分)
	对比例61	1mm以上			0.05至0.1mm		×：一些部分产生液珠条纹。在感光层形成液的粘度为30mPas或以上时，局部产生未涂覆部分
实例67			0.1至3mm	△：一些部分产生液珠条纹
	实例68				3mm以上	△：一些部分产生液珠条纹

从表6中可以看出，在上述涂覆条件下，在距离t1和距离t2分别为0.1至1mm和0.1至3mm时，即使载体片材W的输送速度高达150m/min，感光层形成液也能够均匀涂覆。

另一方面，在距离t1和t2中的至少一个超出上述范围后，可能会产生未涂覆部分。

然而，上述距离t1和t2的优选范围并不局限于前述范围，而是可以根据前述涂覆条件a至h的变化而改变。

根据本发明的上述实施例，可以提供出这样的涂覆装置和涂覆方法，其能够获得均匀涂覆的表面，即使是在基片的输送速度提高了的情况下。

第七个实施例

图14中示出了根据本发明第七个实施例的涂覆装置的示意性结构。

根据第七个实施例的涂覆装置100也是第四个实施例中所用的涂覆装置，其用于向一侧被喷砂处理过的带状薄铝板载体片材W上涂覆作为本发明的涂覆液实施例的制版层形成液。

如图14所示，根据第七个实施例的涂覆装置100在很多方面与根据图7所示第四和第五个实施例的涂覆装置和根据图10所示第六个实施例的涂覆装置具有相同的构造。因此，以相同的附图标记表示相同的元件，以避免重复解释构造和操作。然而，本领域的普通技术人员可以理解，对前面的实施例所作描述也可以用于描述本实施例。

涂杆42、支承件44、上游块46和下游块48之间的相互关系显示于图15中。

如图14和15所示，上游侧涂覆液路径50设置在上游块46、涂杆42和支承件44之间，用于通过大致向上喷射制版层形成液而使制版层形成液的液珠形成在上游块46和涂杆42与载体片材W之间。下游侧涂覆液路径52设置在下游块48、涂杆42和支承件44之间，用于通过储存涂覆液而形成下游液珠，以防止涂杆42干燥。

作为涂杆42，与涂杆22的情况一样，可以采用光杆、带槽杆、绕线杆或类似物中的任何一种。

如图14和15所示，涂杆42可以是相对于载体片材W输送方向a正向旋转的正向旋转杆，或者可以是相对于载体片材W输送方向a反向旋转的反向旋转杆。然而，为了形成稳定的液珠，优选采用正向旋转杆。

另外，圆周速度可以根据制版层形成液的预期涂覆厚度而设置，在涂杆42是正向旋转杆的情况下，其圆周速度优选低于涂杆22的圆周速度。

如图14和15所示，上游块46是板状件，其沿竖直方向伸向载体片材W的运行表面T，而且其上端处形成了一个向着涂杆42弯折的弯折部分46A。弯折部分46A上的面对着涂杆42的表面被成形得平行于涂杆42上的与弯折部分46A的末端相面对着的部位处的切面P。

从弯折部分46A上的面对着涂杆42的表面至涂杆42的外周表面的最短距离，也就是从弯折部分46A的表面至涂杆42的切面P的距离t1优选为3mm或以下，更优选在0.05至3mm的范围内，特别优选在0.1至3mm的范围内。

上游块46的上端与运行表面T之间的距离t2优选为3mm或以下，特别优选在0.1至3mm的范围内。

图16中示出了涂层调节段4中的制版层形成液流动情况，所述调节段中包括图15所示的上游块46。

如图16所示，供应到上游侧涂覆液路径50中的制版层形成液在上游侧涂覆液路径50中上升，并且围绕着上游块46的上端从下游侧向上游侧流动，再沿着上游块46的上游侧表面向下流回。这样，如图16所示，平稳的液流b可以形成在上游块46的上端部分附近。

图17中示出了上游块46的另一个实施例。

图17中所示的上游块46与图15中所示的上游块46的相同之处在于，其为沿竖直方向伸向运行表面T的板状件，然而，其与图15中所示的上游块46的不同之处在于，其上端部分被成形为曲线形，即向着与涂杆42接近的末端部分以中凸的方式弯曲。

另外，上游块46被成形得使其厚度向着上端逐渐缩小，从而类似于楔形。

图17中所示的上游块46的上游侧和下游侧表面均被成形为曲线形。因此，同图15和16中所示的上游块46相比，可以进一步防止制版层形成液在上游块46附近出现流动阻滞，从而使得制版层形成液能够在上游块46附近更流畅地流动。这样，可以形成更稳定的液流b。

此外，如图14和15所示，下游块48也是板状件，并且沿竖直方向伸向载体片材W的运行表面T，但其高度小于上游块46。然而，由于在下游块48的上端高于涂杆42的外周表面最低点的情况下，涂杆42在旋转时其外周表面的至少一部分可以浸没在下游侧涂覆液路径52中的液珠所储存的制版层形成液中，因此这种结构特别有益于防止涂杆42的外周表面干燥。

如图14和15所示，下游块48的上端表面被成形为向着下游侧下斜的倾斜表面，然而，它也可以被成形为水平表面。

在底座6的底表面上布置着下列元件：第一供液管6A，其用于向涂覆液路径20供应制版层形成液；第二供液管6B，其用于向上游侧涂覆液路径50供应制版层形成液；以及第三供液管6C，其用于向下游侧涂覆液路径52供应制版层形成液。此外，在底座6的底表面上还布置着下列元件：第一排液管6E，其用于收集在涂覆段2中溢流通过拦截件26并且在底座6的上游侧壁与拦截件26之间向下流动的制版层形成液；以及第二排液管6D，其用于收集在支承件24与上游块46之间向下流动的制版层形成液。

下面解释涂覆装置100的操作。

载体片材W沿着箭头a的方向被输送辊32和34输送，而且其喷砂处理表面Sg面向下方。

从第一供液管6A向涂覆液路径20供应的制版层形成液在涂覆液路径20的顶部处被第一涂杆22带起，从而粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上。

粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上的制版层形成液接下来将在涂层调节段4中被第二涂杆42调节到预定厚度，如后文中所述。

在涂层调节段4中，制版层形成液从第二供液管6B和第三供液管6C供应到上游侧涂覆液路径50和下游侧涂覆液路径52中。

制版层形成液被供应到上游侧涂覆液路径50中，从而向着上游侧溢流通过上游侧拦截板46的上端，并且在下游侧涂覆液路径52中维持一定的液位高度。

如图16所示，从第二供液管6B供应的制版层形成液可以在上游侧拦截板46的上端部分形成稳定的液流b，从而可以通过稳定的液流b而在载体片材W、上游侧拦截板46和涂杆42之间形成液珠。

这样，即使在涂覆段2中向载体片材W的喷砂处理表面Sg上粘着的制版层形成液的粘着量发生波动，但由于这种波动会被液珠吸收，因此不会产生沿涂杆42宽度方向的压力波动。所以，在制版层形成液的粘着量过多的情况下，可以利用涂杆42刮掉一部分制版层形成液，而在制版层形成液的粘着量不足的情况下，可以添加更多的制版层形成液，因此粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上的制版层形成液可以保持均匀的厚度，换言之，涂层厚度可以被调节。

因此，即使出于某种原因而导致在涂覆段2中向载体片材W的喷砂处理表面Sg上粘着的制版层形成液的粘着量发生波动，特别是在基片输送速度提高了的情况下，也能够最终获得均匀涂覆的表面。

实例VII

(实例71、72，对比例71至74)

在铝片材上根据普通方法对其一侧表面实施喷砂处理，然后对喷砂处理表面实施阳极氧化处理，从而获得了载体片材W。

作为制版层形成液实例的感光层形成液利用图14所示的涂覆装置100涂覆在载体片材W上。

感光层形成液的涂覆条件如下所述。

a.载体片材W的厚度：        0.3mm

b.载体片材W的输送速度：    150m/min

c.感光层形成液的粘着量：

             50cc/min(涂覆段2)

             15cc/min(涂层调节段4)

d.涂杆直径：

             10mm(第一涂杆22和第二涂杆42均是)

e.第一涂杆22的转速(圆周速度)：130m/min(正转)

f.第二涂杆42的转速(圆周速度)：16m/min(正转)

g.感光层形成液的粘度：        5至50mPas

结果显示于表7中。

表7

	上游块46与涂杆42之间距离t1	上游块46与运行表面T之间距离t2	涂覆性能、涂覆表面质量
				实例71	0.05至3mm	小于0.2mm	○：但会因载体片材W摆动而在涂覆表面上产生条纹状斑点
实例72	0.2至3mm	◎：整个表面均匀涂覆
			对比例71	3mm以上		×：一些部分产生液珠条纹(大约5至30mm长的涂薄部分)
对比例72	3mm以上	小于0.2mm					×：一些部分产生液珠条纹(大约5至30mm长的涂薄部分)
			对比例73	0.2至3mm
对比例74		3mm以上

如表7所示，在涂层调节段4中，在从上游块46上的面对着涂杆42的表面至涂杆42的外周表面的最短距离t1和上游块46的上端与载体片材W的运行表面T之间的距离t2为3mm或以下时，即使载体片材W的输送速度高达150m/min，感光层形成液也能够均匀涂覆。

另一方面，在距离t1和t2中的至少一个超过3mm的情况下，如果拦截件26的高度低于涂杆22的最低点的高度，则会产生液珠条纹。

然而，由于上述距离t1和t2的优选范围可以根据前述涂覆条件a至g而对表7中所示的范围作出改变，因此即使是在距离t1和t2根据涂覆条件a至g而超过3mm的情况下，也有获得均匀涂覆的表面的可能性。

根据本发明的上述实施例，可以提供出这样的涂覆装置和涂覆方法，其能够获得均匀涂覆的表面，即使是在基片的输送速度较高的情况下。

第八个实施例

图18中示出了根据本发明第八个实施例的涂覆装置的示意性结构。

根据第八个实施例的涂覆装置300是这样一种涂覆装置，其用于向作为本发明的带状件实施例的载体片材W上涂覆作为本发明的涂覆液实施例的制版层形成液，其中载体片材以其喷砂处理表面Sg面向下方，并且沿着图18中的箭头a连续运行。

如图18所示，涂覆装置300包括：一个涂杆302，其垂直于载体片材W的输送方向a布置；一个支承座304，其为从下方支承涂杆的板状件，并且在其顶表面上形成了用于支承涂杆302的V形涂杆支承槽304A；一个主侧拦截件306和一个辅助侧拦截件308。主侧拦截件306相对于输送方向a布置在涂杆302和支承座304的上游，其平行于涂杆302并且面对着涂杆302和支承座304。辅助侧拦截件308相对于输送方向a布置在涂杆302和支承座304的下游，其平行于涂杆302并且面对着涂杆302和支承座304。

作为涂杆302，可以采用前述光杆、带槽杆和绕线杆中的任何一种。如图18所示，涂杆302可以沿着与载体片材W的输送方向a相反的方向被驱动，并且可以处在停止状态。另外，它也可以沿着与载体片材W的输送方向a相同的方向被驱动，具体地讲，它可以从动于载体片材W并且旋转。

主侧拦截件306具有大致L形的横断面，其上端部分向着涂杆302弯折。一个面对着涂杆302的竖直表面306A形成在主侧拦截件306的上端部分上的与涂杆302相面对的一侧表面上，一个相对于输送方向a向着下游呈坡面上升的倾斜表面306B形成在与竖直表面306A相反的一侧上。一个向着下游侧弯曲的弯曲表面形成在竖直表面306A下面，第二竖直表面306C形成在弯曲表面下面并且与弯曲表面相连贯。

一个上游侧狭缝312形成在涂杆302与竖直表面306A之间。上游侧狭缝312沿输送方向a的宽度，换言之是厚度d2，也可以称作是从涂杆302至主侧拦截件306的竖直表面306A的距离。上游侧狭缝312的所述厚度d2优选在2mm或以下的范围内，更优选为1mm或以下，最优选在0.05至1mm的范围内。

一个涂覆液储存腔314形成在上游侧狭缝312下面并且与上游侧狭缝312连通，也就是说，形成在支承座304与主侧拦截件306之间。

辅助侧拦截件308设在与主侧拦截件306相面对的位置上，支承座304夹在它们之间，所述辅助侧拦截件具有大致L形的横断面，而且其上端部分向着涂杆302弯折。辅助侧拦截件308的高度低于主侧拦截件306的高度。

一个竖直表面308A形成在辅助侧拦截件308的上端部分上的与涂杆302相面对的一侧表面上，并且是与涂杆302相面对着的竖直表面；一个相对于输送方向a向着上游呈坡面上升的倾斜表面308B形成在与竖直表面308A相反的一侧上。一个向着上游侧弯曲的弯曲表面形成在竖直表面308A下面，第二竖直表面308C形成在弯曲表面下面并且与弯曲表面相连贯。

一个下游侧狭缝316形成在涂杆302与竖直表面308A之间。

一个涂覆液储存腔318形成在下游侧狭缝316下面并且与下游侧狭缝316连通，也就是说，形成在支承座304与辅助侧拦截件308之间。

主侧拦截件306、支承座304和辅助侧拦截件308通过诸如螺栓等固定装置(未示出)固定在一个浅箱形的底座320上，该浅箱形底座的上表面是敞开的。

一个升降装置322设在底座320的下表面上，用于在涂覆制版层形成液时将底座320支承在图18中的实线所示抬升位置上。在所述抬升位置，涂杆302与载体片材W相接触。相反，在未实施涂覆制版层形成液的操作时，底座320被升降装置322从图18中的实线所示位置下降，从而保持在图18中的双点划线所示降低位置上。在这一降低位置，涂杆302与载体片材W分开。

根据这种升降装置322，可以在抬升位置调节底座320从降低位置开始的抬升高度。因此，包容角θ，即载体片材W包围在涂杆302上的角度可以设置。也就是说，在升降装置322中，通过增大底座320距离降低位置的抬升高度，包容角θ会加大。相反，通过降低底座320距离降低位置的抬升高度，包容角θ会减小。

在底座320底表面上的涂覆液储存腔314和涂覆液储存腔318的下方，分别设有用于向涂覆液储存腔314供应制版层形成液的第一供液管320A和用于向涂覆液储存腔318供应制版层形成液的第二供液管320B。此外，在底座320中，设有第一排液管320C，其用于将向下流入底座320的上游侧壁与主侧拦截件306之间的空间中的制版层形成液排出，以及第二排液管320D，其用于将向下流入辅助侧拦截件308与底座320的下游侧壁之间的空间中的制版层形成液排出。

在作为载体片材W运行路径的运行表面T的上方，一个用于向下按压载体片材W的压辊330和一个用于沿着输送方向a输送载体片材W的输送辊332分别设在涂杆302的上游侧和下游侧。

下面解释涂覆装置300的操作。

在涂覆时，制版层形成液从第一供液管320A供应到涂覆液储存腔314中，以便向上游溢流通过上游侧狭缝312，并且在主侧拦截件306的倾斜表面306B上向下流向底座320。

载体片材W被保持在其喷砂处理表面Sg面向下方的状态，并且被压辊330和输送辊332沿输送方向a输送，而底座320被升降装置322抬升而升高。在底座320被抬高后，载体片材W的喷砂处理表面Sg接触到所述从上游侧狭缝312开始跨过主侧拦截件306的顶部沿倾斜表面306B向下流动的制版层形成液，这样，从上游侧狭缝312溢流出的制版层形成液会粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上。

通过涂杆302的刮削和涂覆操作，粘着在喷砂处理表面Sg上的制版层形成液被计量调节到预定的厚度。通过改变从上游侧狭缝312喷出的制版层形成液量以及涂杆302的旋转方向和旋转速度，可以调节制版层形成液的涂覆厚度。

在这里，由于上游侧狭缝312具有2mm或以下的宽度，因此制版层形成液能够沿着载体片材W的宽度方向从上游侧狭缝312中连续喷出。接下来，涂杆302在上游侧狭缝312附近从下游侧向上游侧旋转。因此，在从上游侧狭缝312喷出并且粘着在载体片材W的喷砂处理表面上的制版层形成液中，有一部分被涂杆302向着主侧拦截件306刮除，从而流过主侧拦截件306的顶部，并且沿着倾斜表面306B向下流向底座320。

这样，由于可以在主侧拦截件306的顶部上方形成均匀且连续的制版层形成液液流，因此可以防止制版层形成液在主侧拦截件306的顶部干燥和形成固体成分。向下流入底座320的上游侧壁与主侧拦截件306之间的空间中的制版层形成液将通过第一排液管320C而被收集。

制版层形成液将粘着在涂杆302的表面上，随着涂杆302的旋转而向支承座304输送，再流经涂杆302与支承座304之间的间隙，从而到达涂杆302的底侧。这样，由于制版层形成液会在涂杆302的下游侧表面上形成薄膜，因此除非涂覆液或类似物连续供应到涂杆302的下游侧，否则就会因制版层形成液中的溶剂蒸发而容易形成固体成分。

然而，涂杆302的下游侧表面可以通过向上溢流的制版层形成液而保持在恒定的润湿状态，所述制版层形成液从第二供液管320B供应到涂覆液储存腔318中并且从下游侧狭缝316流出，以使液体粘着在涂杆302的下游侧表面上。因此，可以防止涂杆302的下游侧表面出现制版层形成液干燥。

如前所述，根据第八个实施例中的涂覆装置300，可以通过将涂杆302的下游侧表面维持在恒定的润湿状态而防止涂杆302的下游侧表面出现制版层形成液干燥，因此，可以防止涂杆302的下游侧表面因制版层形成液蒸发而形成固体成分。

因此，在根据第八个实施例的涂覆装置300中，由于不会因制版层形成液蒸发而在主侧拦截件306的顶部和涂杆302的下游侧表面上形成固体成分，因此可以有效地防止因固体成分而造成涂覆表面质量缺陷，例如涂覆条纹、固体成分粘着在载体片材W的喷砂处理表面Sg上和涂层加厚。

另外，由于制版层形成液本身用作本发明中的干燥防止液，因此即使是在连续操作中循环和重复使用通过第一排液管320C和第二排液管320D收集的制版层形成液，制版层形成液在使用了长时间之后也几乎不会变化。

此外，由于涂覆液储存腔314形成在上游侧狭缝312下面，因此即使是在制版层形成液供应量波动的情况下，制版层形成液也能够以稳定的喷射量从上游侧狭缝312喷出并溢流。

第九个实施例

图19中示出了根据本发明另一个实施例的涂覆装置的示意性结构。在图19中，与图18中相同的附图标记表示与图18中相同的元件。

如图19所示，根据第九个实施例的涂覆装置3102包括一个相对于载体片材W的输送方向a布置在上游的上游侧涂覆段310A和一个相对于输送方向a布置在下游的下游侧涂覆段310B。

上游侧涂覆段310A和下游侧涂覆段310B与根据第八个实施例的涂覆装置300的结构和操作相同。因此，可以防止因涂覆液在涂杆302下游侧干燥并产生固体成分而导致涂覆液粘着在主侧拦截件306的顶部并产生各种涂覆表面质量缺陷。

用于在上游侧涂覆段310A涂覆的涂覆液A和用于在下游侧涂覆段310B涂覆的涂覆液B可以是相同的涂覆液，例如制版层形成液，或者可以是不同的涂覆液。因此，作为示例，可以在上游侧涂覆段310A中涂覆作为涂覆液A的热敏层形成液，并且在游侧涂覆段310B中涂覆作为涂覆液B的光热转化层形成液，从而可以形成激光曝光型制版层。另外，可以在上游侧涂覆段310A中涂覆作为涂覆液A的感光层形成液，并且在游侧涂覆段310B中涂覆作为涂覆液B的隔氧层形成液，从而可以形成感光层。

上游侧涂覆段310A和下游侧涂覆段310B固定在箱形底座340上，该底座的上表面是敞开的。

在底座340的底表面上，用于向上游侧涂覆段310A的涂覆液储存腔314供应涂覆液A的第一供液管340A和用于向上游侧涂覆段310A的涂覆液储存腔318供应涂覆液A的第二供液管340B分别设在上游侧涂覆段310A的下面。此外，用于向下游侧涂覆段310B的涂覆液储存腔314供应涂覆液B的第三供液管340C和用于向下游侧涂覆段310B的涂覆液储存腔318供应涂覆液B的第四供液管340D分别设在下游侧涂覆段310B的下面。

另外，在底座340的底表面上还设有下列元件：第一排液管路径340E，其用于将在底座的上游侧壁与主侧拦截件之间向下流动的涂覆液收集并排放到外侧；第二排液管路径340F，其用于将在位于底座340中的上游侧涂覆段310A和下游侧涂覆段310B之间向下流动的涂覆液收集并排放到外侧；以及第三排液管路径340G，其用于将在底座340的下游侧壁与辅助侧拦截件之间向下流动的涂覆液收集并排放到外侧。然而，在涂覆液A和涂覆液B彼此不同的情况下，优选利用拦截件或类似物将底座340中的上游侧涂覆段310A和下游侧涂覆段310B彼此隔离，并且为每个涂覆段分别设置排液管，从而防止收集的涂覆液A和涂覆液B混合。

推压式输送辊350、352、354被设置得用于将载体片材W压向上游侧涂覆段310A和下游侧涂覆段310B中的涂杆302，并沿输送方向输送载体片材，所述辊布置在载体片材W上的与上游侧涂覆段310A和下游侧涂覆段310B相反的一侧上，以使作为载体片材W运行路径的运行表面T夹在所述辊与所述涂覆段之间。推压式输送辊350设在上游侧涂覆段310A的上游，推压式输送辊352设在上游侧涂覆段310A的下游和下游侧涂覆段310B的上游，推压式输送辊354设在下游侧涂覆段310B的下游。

下面解释涂覆装置3102的操作。

在载体片材W移过上游侧涂覆段310A上方时，涂覆液A被涂覆在喷砂处理表面Sg上，而在载体片材W移过下游侧涂覆段310B上方时，涂覆液B被进一步涂覆在涂覆液A上。

这样，在涂覆液A和涂覆液B是相同涂覆液例如制版层形成液的情况下，则即使在上游侧涂覆段310A中有未涂覆上涂覆液A的未涂覆部分产生在喷砂处理表面Sg上，所述未涂覆部分也会在下游侧涂覆段310B中通过再次涂覆与涂覆液A相同的涂覆液B而被消除。

此外，在涂覆液A和涂覆液B是不同涂覆液的情况下，通过使载体片材W移动通过上游侧涂覆段310A和下游侧涂覆段310B，可以获得具有多层结构的涂层。

根据第九个实施例中的涂覆装置3102，除了具有第八个实施例的涂覆装置的特征以外，还具有以下特征，即在涂覆液A和涂覆液B相同的情况下，能够防止产生未涂覆部分，而在涂覆液A和涂覆液B不同的情况下，能够利用一个涂覆装置制作出具有多层结构的制版层。

实例VIII

(实例81至84，对比例81)

在铝片材上根据普通方法对其一侧表面实施喷砂处理，然后对喷砂处理表面实施阳极氧化处理，从而获得了载体片材W。

作为制版层形成液实例的感光层形成液利用图18所示的涂覆装置3102涂覆在载体片材W上。

感光层形成液的涂覆条件如下所述。

a.载体片材W的厚度：             0.3mm

b.载体片材W的输送速度：               100m/min

c.涂杆302的直径：                     10mm

d.涂杆302的转数：                     -50rpm(反转)

e.上游侧狭缝的宽度：                  如表8所示

f.感光层形成液的粘度：                20mPas

g.感光层形成液的供液量：              2.0l/min

h.涂杆302计量后的感光层形成液涂覆量： 20cc/m²

i.压辊30的直径：                      50mm

j.压辊30与涂杆302的中心距：           30mm

结果显示于表8中。

表8

	上游侧狭缝宽度(mm)	涂覆液是否干燥粘着在主侧拦截件上	涂覆性能、涂覆表面质量
				对比例81	3.0	×：发生涂覆液干燥	×：产生涂覆条纹和固体成分粘着在载体片材上
实例81	2.0	△：基本上未发生涂覆液干燥	△：略微产生涂覆条纹
				实例82	1.0	○：未发生涂覆液干燥	○：没有涂覆表面质量缺陷
实例83	0.5	○：未发生涂覆液干燥	○：没有涂覆表面质量缺陷
				实例84	0.1	○：未发生涂覆液干燥	○：没有涂覆表面质量缺陷

如表8所示，在感光层形成液在前述条件下涂覆时，如果上游侧狭缝312的宽度为2mm或以下，由于感光层形成液能够连续在宽度方向上均匀地溢流通过主侧拦截件306，因此没有观察到因制版层形成液固化而在主侧拦截件306的顶部产生固体成分，也没有观察到因固体成分而造成涂覆表面质量缺陷。

根据本发明的上述实施例，可以提供出不会产生涂覆表面质量缺陷的涂覆装置和涂覆方法。

Claims (72)

1.一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，包括：

涂覆站，其用于向基片的至少一个表面上涂覆液剂，所述涂覆站包括：第一涂杆，其基本上平行于基片表面布置；拦截件，其沿基片输送方向布置在第一涂杆上游，并且面对着第一涂杆，用以在第一涂杆和基片之间形成液剂的液珠；和整流件，其布置在拦截件和第一涂杆之间，用于形成沿着第一涂杆的表面上升的液剂流，其中整流件是具有末端部分和弯折部分的板状件，弯折部分形成在末端部分上向着第一涂杆弯折；以及

涂层调节站，其沿基片输送方向布置在涂覆站的下游，用于将液剂量调节到预定厚度。

2.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，涂层调节站用于在涂覆站涂覆在基片上的液剂干燥之前调节涂覆的液剂量。

3.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，涂层调节站包括杆状件，其带有光滑成形的表面，并且平行于基片表面布置。

4.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，涂层调节站包括杆状件，其带有沿圆周方向形成在其表面上的槽，并且平行于基片表面布置。

5.根据权利要求3所述的涂覆装置，其特征在于，杆状件以不大于500rpm的转数旋转。

6.根据权利要求4所述的涂覆装置，其特征在于，杆状件以不大于500rpm的转数旋转。

7.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，所述涂覆站包括：

供液器具，其沿所述预定方向布置在第一涂杆的上游，用于向第一涂杆和基片之间供应液剂，其中第一涂杆与基片接触并且旋转，其中第一涂杆上的被接触的圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动。

8.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，涂覆站以与基片表面分离的状态向基片上涂覆液剂。

9.根据权利要求8所述的涂覆装置，其特征在于，所述涂覆站包括：

供液器具，用于沿预定输送方向在第一涂杆和第一涂杆的上游基片之间供应液剂，其中第一涂杆具有光滑表面并且平行于基片的运行表面布置。

10.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，所述涂覆站包括第二涂杆，其沿基片输送方向布置在第一涂杆的下游，用于将液剂均化到预定厚度从而调节液剂的涂覆量。

11.根据权利要求10所述的涂覆装置，其特征在于，第一涂杆和第二涂杆的布置使得，基片从其被第一涂杆涂覆液剂的涂覆位置开始移至被第二涂杆调节液剂的调节位置所需的时间间隔为0.25秒或以下。

12.根据权利要求11所述的涂覆装置，还包括旋转驱动机构，用于以不同于基片运行速度的圆周速度带动第一涂杆和第二涂杆中的至少一个旋转。

13.根据权利要求10所述的涂覆装置，其特征在于，基片移过第一涂杆后涂覆在基片上的液剂涂覆量与基片移过第二涂杆后涂覆在基片上的液剂涂覆量之间的涂覆量比率为0.8至4.0。

14.根据权利要求13所述的涂覆装置，其特征在于，还包括旋转驱动机构，用于以不同于基片运行速度的圆周速度带动第一涂杆和第二涂杆中的至少一个旋转。

15.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，第一涂杆具有圆周表面并且基本上平行于基片表面布置，用于向基片表面上涂覆液剂，所述涂杆在旋转时使得其一侧圆周表面面对着基片并且沿着与基片输送方向相同的方向移动，其中涂杆圆周速度为基片输送速度的至少1/15，但不超过该输送速度。

16.根据权利要求15所述的涂覆装置，其特征在于，第一涂杆的圆周速度为基片输送速度的1/15至3/4。

17.根据权利要求15所述的涂覆装置，其特征在于，第一涂杆的圆周速度为基片输送速度的1/10至1/2。

18.根据权利要求15所述的涂覆装置，其特征在于，涂层调节站用于在涂覆站粘着在基片上的液剂干燥之前将液剂调节到预定厚度。

19.根据权利要求15所述的涂覆装置，其特征在于，涂层调节站包括第二涂杆，其用于将涂覆在基片表面上的液剂均化到预定厚度，从而调节液剂量。

20.根据权利要求19所述的涂覆装置，其特征在于，第二涂杆具有圆周表面并且平行于基片的涂覆表面布置，而且其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动。

21.根据权利要求15所述的涂覆装置，其特征在于，基片是用于形成平印版前体基片的载体片材。

22.根据权利要求15所述的涂覆装置，其特征在于，涂覆所用的液剂是用于形成平印版前体制版层的制版层形成液。

23.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，第一涂杆具有圆周表面并且基本上平行于基片表面布置，所述第一涂杆用于向基片表面上涂覆液剂，并且在旋转时使其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动；以及拦截件，其具有一定的高度，其中拦截件的顶表面高度等于或高于第一涂杆圆周表面的最低点，并且比第一涂杆圆周表面的最高点低1mm或以上。

24.根据权利要求23所述的涂覆装置，其特征在于，第一涂杆被旋转，以使其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动，其中涂杆圆周速度为基片输送速度的至少1/15，但不超过该输送速度。

25.根据权利要求23所述的涂覆装置，其特征在于，涂层调节站包括第二涂杆，其用于将涂覆在基片表面上的液剂均化到预定厚度，从而调节液剂量。

26.根据权利要求25所述的涂覆装置，其特征在于，第二涂杆具有圆周表面并且平行于基片的涂覆表面布置，而且其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相反的方向移动。

27.根据权利要求25所述的涂覆装置，其特征在于，第二涂杆具有圆周表面并且平行于基片的涂覆表面布置，而且其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动。

28.根据权利要求23所述的涂覆装置，其特征在于，基片的输送速度为100m/min或以上。

29.根据权利要求23所述的涂覆装置，其特征在于，基片是用于形成平印版前体基片的载体件。

30.根据权利要求29所述的涂覆装置，其特征在于，涂覆所用的液剂是用于形成平印版前体制版层的制版层形成液。

31.一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，所述涂覆装置包括：

涂覆站，其用于向基片的至少一个表面上涂覆液剂，所述涂覆站包括：第一涂杆、拦截件和整流件，整流件布置在拦截件和第一涂杆之间，其中整流件是具有末端部分和弯折部分的板状件，弯折部分形成在末端部分上向着第一涂杆弯折；以及

涂层调节站，其沿基片输送方向布置在涂覆站的下游，用于将液剂量调节到预定厚度，其中第一涂杆基本上平行于基片表面布置并且具有圆周表面，所述圆周表面的一侧面对着基片，所述第一涂杆用于向基片表面上涂覆液剂，并且在旋转时使其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动，拦截件沿基片输送方向布置在第一涂杆上游并且面对着第一涂杆，用以在第一涂杆和基片之间形成液剂的液珠，以及整流件用于形成沿着第一涂杆的表面上升的液剂流。

32.根据权利要求31所述的涂覆装置，其特征在于，整流件的弯折部分平行于与第一涂杆的一个部位相接触的切面，所述部位面对着弯折部分。

33.根据权利要求31所述的涂覆装置，其特征在于，整流件的末端部分上的面对着第一涂杆的一侧表面与第一涂杆圆周表面之间的最短距离为1mm或以下。

34.根据权利要求31所述的涂覆装置，其特征在于，整流件的末端部分至基片表面的距离为3mm或以下。

35.根据权利要求31所述的涂覆装置，其特征在于，整流件的末端部分上的面对着第一涂杆的一侧表面与第一涂杆圆周表面之间的最短距离为1mm或以下，而且整流件的末端部分至基片表面的距离为3mm或以下。

36.根据权利要求31所述的涂覆装置，其特征在于，整流件的末端部分上的面对着第一涂杆的一侧表面与第一涂杆圆周表面之间的最短距离为0.05至1mm。

37.根据权利要求31所述的涂覆装置，其特征在于，整流件的末端部分至基片表面的距离为0.05至3mm。

38.根据权利要求31所述的涂覆装置，其特征在于，整流件的末端部分上的面对着第一涂杆的一侧表面与第一涂杆圆周表面之间的最短距离为0.05至1mm，而且整流件的末端部分至基片表面的距离为0.05至3mm。

39.根据权利要求31所述的涂覆装置，其特征在于，基片是用于形成平印版前体基片的载体片材。

40.根据权利要求39所述的涂覆装置，其特征在于，涂覆所用的液剂是用于形成平印版前体制版层的制版层形成液。

41.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，涂层调节站包括：第二涂杆，其基本上平行于基片表面布置，用于将涂覆在基片上的液剂均化和调节到预定厚度；以及块，其沿基片输送方向布置在第二涂杆的上游并且面对着第二杆，用于在杆和基片之间形成液剂的液珠。

42.根据权利要求41所述的涂覆装置，其特征在于，所述第二涂杆具有圆周表面并且在旋转时使其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向在与基片相面对着的一侧移动。

43.根据权利要求41所述的涂覆装置，其特征在于，所述上游块包括末端部分，而且有弯折部分形成在末端部分上并且向着第二涂杆弯折。

44.根据权利要求43所述的涂覆装置，其特征在于，弯折部分上的面对着第二涂杆的一侧表面被成形为平行于一个与面对着弯折部分的第二涂杆部位相接触的切面。

45.根据权利要求43所述的涂覆装置，其特征在于，上游块弯折部分上的面对着第二涂杆的一侧表面与第二涂杆的圆周表面之间的最短距离为3mm或以下。

46.根据权利要求45所述的涂覆装置，其特征在于，所述最短距离在0.05至3mm的范围内。

47.根据权利要求41所述的涂覆装置，其特征在于，上游块的末端至基片表面的距离为3mm或以下。

48.根据权利要求41所述的涂覆装置，其特征在于，上游块的末端至基片表面的距离在0.1至3mm的范围内。

49.根据权利要求43所述的涂覆装置，其特征在于，上游块的末端至基片表面的距离为3mm或以下，而且上游块弯折部分上的面对着第二涂杆的一侧表面与第二涂杆的圆周表面之间的最短距离为3mm或以下。

50.根据权利要求43所述的涂覆装置，其特征在于，上游块弯折部分上的面对着第二涂杆的一侧表面与第二涂杆的圆周表面之间的最短距离在0.1至3mm的范围内，而且上游块的末端至基片表面的距离在0.05至3mm的范围内。

51.根据权利要求41所述的涂覆装置，其特征在于，沿基片输送方向从涂层调节站的上游块的末端部分至第二涂杆的圆周表面的距离在1.2至11mm的范围内。

52.根据权利要求41所述的涂覆装置，其特征在于，基片是用于形成平印版前体基片的载体片材。

53.根据权利要求41述的涂覆装置，其特征在于，涂覆所用的液剂是用于形成平印版前体制版层的制版层形成液。

54.一种用于向沿预定方向运行着的带状基片上涂覆液剂的涂覆装置，所述涂覆装置包括：

杆，其基本上平行于基片的至少一个表面布置，用于将涂覆在基片表面上的液剂均化到预定的厚度；以及

主侧拦截件，其沿基片输送方向布置在所述杆的上游并且面对着杆，用于在杆和基片之间形成涂覆液液剂的液珠；以及

整流件，其布置在主侧拦截件和杆之间，用于形成沿着杆的表面上升的液剂流，其中整流件是具有末端部分和弯折部分的板状件，弯折部分形成在末端部分上向着第一涂杆弯折调节元件。

55.根据权利要求54所述的涂覆装置，其特征在于，所述杆具有圆周表面，而且其面对着基片的一侧圆周表面以与基片输送速度不同的速度移动。

56.根据权利要求54所述的涂覆装置，其特征在于，杆包括圆周表面并且平行于基片的涂覆表面布置，而且其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动。

57.根据权利要求54所述的涂覆装置，还包括润湿液体涂覆器具，其用于涂覆润湿液体，以使所述杆的下游表面湿润。

58.根据权利要求57所述的涂覆装置，其特征在于，所述润湿液体涂覆器具包括辅助侧拦截件，其高度低于主侧拦截件，并且沿基片输送方向布置在所述杆的下游，并且面对着杆，用于在辅助侧拦截件与杆之间喷射润湿液体，使之涂覆在杆的表面上。

59.根据权利要求57所述的涂覆装置，其特征在于，所述润湿液体是涂覆液。

60.根据权利要求55所述的涂覆装置，其特征在于，基片是用于形成平印版前体基片的载体片材。

61.一种用于向带状基片上涂覆液剂的方法，所述涂覆方法包括以下步骤：

沿预定方向运行基片；

使用第一杆、拦截件和整流件在运行着的基片的至少一个表面上涂覆液剂，第一杆基本上平行于基片表面布置，拦截件沿基片输送方向布置在第一杆上游并且面对着第一杆，用以在第一杆和基片之间形成液剂的液珠；和整流件布置在拦截件和第一杆之间，用于形成沿着第一杆的表面上升的液剂流，其中整流件是具有末端部分和弯折部分的板状件，弯折部分形成在末端部分上向着第一杆弯折；以及

对涂覆的液剂量实施涂层调节，使之达到预定厚度。

62.根据权利要求61所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂层调节步骤是利用基本上平行于基片运行表面布置着的第二杆实施的。

63.根据权利要求62所述的涂覆方法，其特征在于，基片在涂覆步骤和涂层调节步骤之间的输送时间为0.25秒或以下。

64.根据权利要求63所述的涂覆方法，其特征在于，第一杆和第二杆中的至少一个以与基片输送速度不同的圆周速度旋转。

65.根据权利要求63所述的涂覆方法，其特征在于，液剂中含有有机溶剂。

66.根据权利要求63所述的涂覆方法，其特征在于，第一和第二涂杆之间的外界温度保持在30℃或以下。

67.根据权利要求62所述的涂覆方法，其特征在于，基片在刚刚经过了涂覆步骤后的液剂涂覆量与其经过了涂层调节步骤后的液剂涂覆量之间的涂覆量比率为0.8至4.0。

68.根据权利要求67所述的涂覆方法，其特征在于，第一杆和第二杆中的至少一个以与基片输送速度不同的圆周速度旋转。

69.根据权利要求61所述的涂覆方法，其特征在于，第一杆旋转，从而使其面对着基片的一侧圆周表面沿着与基片输送方向相同的方向移动，其中杆的圆周速度为基片输送速度的至少1/15，但不超过该输送速度。

70.根据权利要求61所述的涂覆方法，其特征在于，拦截件的顶表面高度至少与第一杆表面的最低点的高度相同，但比第一杆表面的最高点低1mm或以上，以使液剂从液珠涂覆到基片表面上。

71.根据权利要求61所述的涂覆方法，其特征在于，涂层调节步骤包括一个分步，即利用基本上平行于基片表面布置的杆均化基片表面上的液剂，从而调节液剂，其中，通过沿基片输送方向布置在第二杆的上游并且面对着第二杆的上游块在第二杆与基片之间形成液珠，以将涂覆的液剂均化到预定的厚度。

72.一种用在沿预定方向运行着的带状基片上的液剂涂覆方法，所述方法包含利用基本上平行于基片表面布置的第一杆将涂覆在基片表面上的液剂调节到一定厚度的步骤，所述方法包括：

在第一杆与基片之间形成涂覆液液剂的液珠的步骤；以及

使用第二杆、拦截件和整流件将液剂涂覆到将被调节的基片上的步骤，第二杆基本上平行于基片表面布置，拦截件沿基片输送方向布置在第二杆上游并且面对着第二杆，用以在第二杆和基片之间形成液剂的液珠；和整流件布置在拦截件和第二杆之间，用于形成沿着第二杆的表面上升的液剂流，其中整流件是具有末端部分和弯折部分的板状件，弯折部分形成在末端部分上向着第二杆弯折。

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