JPH0248167A - 研磨方法 - Google Patents

研磨方法

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Publication number
JPH0248167A
JPH0248167A JP63197543A JP19754388A JPH0248167A JP H0248167 A JPH0248167 A JP H0248167A JP 63197543 A JP63197543 A JP 63197543A JP 19754388 A JP19754388 A JP 19754388A JP H0248167 A JPH0248167 A JP H0248167A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
polishing
workpiece
rotary body
abrasive grains
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63197543A
Other languages
English (en)
Inventor
Mikio Yamashita
幹生 山下
Seiichi Hara
原 成一
Hiroyuki Matsunaga
博之 松永
Kiyoshi Mamiya
間宮 澄
Masakazu Hamada
浜田 正和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP63197543A priority Critical patent/JPH0248167A/ja
Priority to US07/315,414 priority patent/US5083401A/en
Publication of JPH0248167A publication Critical patent/JPH0248167A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電子部品等の薄板の研磨を行う研磨方法に関
する。
[従来の技術] 近年、電子部品の基板には高精度に加工した薄板セラミ
ックが多用されている。例えば計算機用薄膜ヘッドの基
板にはアルミナチタンカーバイト(Aff1203 /
TiC)が使用され、ヘッド部のスロートハイドの寸法
精度は1.5±0.5μmと非常に高精度なものが要求
される。
従来、スロートハイドの研磨は、第4図〜第5図に示す
ような非常に人手と時間の要する方法が採られていた。
従来の研磨方法においては、第4図のように単位サイズ
に分割したチップ状被加工物10を円盤状の貼付定盤1
1に熱軟化性接着剤12で接着した状態のものを、第5
図のような方法で研磨していた。第5図において、すな
わち、回転する大型円盤の平面ラップ13上で、一方か
ら砥粒供給装置4により、砥粒3を供給しながら平面ラ
ップ13を回転させるとともに、貼付定盤11を回転さ
せてチップ状被加工物10を平面ラップ13上面に砥粒
3を介して摩擦して研磨する。
而して、第6図において、10は加工の最適サイズであ
るチップ状被加工物、1はチップ状被加工物10に切断
する前の一塊のブロック状被加工物、14はブロック状
被加工物上をチップ状被加工物10に切断する位置を示
す破線、15は被加工物1の上面より研磨で削り取って
仕上げる位置を示す一点鎖線、16は被加工物1の上面
から一点鎖線15までの研磨しろである。すなわち、チ
ップ状被加工物10は長いブロック状被加工物1を小さ
く切断して得られるものであるが、ブロック状被加工物
10の作成上の問題(結晶引き上げ製造)により、研磨
しるが各チップ状被加工物10により異なるため(d2
〉dl)、チップ状に単位サイズに切断して研磨せざる
をえなかった。
更に、貼付定盤11への接着時の接着剤12の厚みばら
つきがミクロンオーダーで生じていた。
このため、研磨作業では、数十秒ごとに貼付定盤11の
回転を止め、平面ラップ13から外して各チップ状被加
工物10の研磨状況を顕微鏡で観察し、研磨完了のもの
か順次取りはずしていくという方法をとっていた。
一方、他の従来法においては、第7図に示すようにブロ
ック状被加工物1の両端2ケ所に目標の研磨量を測定す
るセンサ17を設け、この切断しない一塊のブロック状
被加工物1をそのまま貼付定盤11に接着して、第5図
に示した平面ラップ13上で研磨する方法をとっており
、研磨量をオンライン計測しながら加工を行うものであ
る。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら従来の一方の研磨方法では、工程が多く、
人手の介入及び作業時間が非常に長くかかるという欠点
があった。又他の従来方法では、ブロック状被加工物の
厚さは局所的に全く異なるため、平面ラップを使用する
限り、加工寸法精度に限界があり、例えば1.5±0.
5μm以内に入るというこは困難で、歩留まりが低いと
いう問題があった。
本発明は、上記問題点を解決すべくなされたもので、研
磨の自動化を可能として、人手の介入を極力少なくし、
かつ加工精度の高い研磨装置及び研磨方法を提供するこ
とを目的としている。
[課題を解決するための手段] この発明においては、計算機制御による工作機械Aの主
軸5上で回転する金属塊を研削して回転体2を形成し、
砥粒3を供給しながらこの回転体2を回転させ、ステー
ジ6上に載置した被工作物1を3次元移動させて回転体
2に圧接させ、この圧接力を圧力センサ7で計測しなが
ら砥粒3により該被加工物1を研磨する。
[作用コ 精密主軸5に予め取り付けた金属塊を回転研削して、回
転体2を形成し、砥粒3を介して、被加工物1をステー
ジ6で回転体2に押接しながら移動させる。これにより
精密回転体2により砥粒3が被加工物1上に摩擦され研
磨される。
[実施例] 以下、本発明の一実施例を図について説明する。
第1図は、本発明方法を説明するための工作機械を用い
た研磨装置のシステム図である。図において、1は金属
塊より成るブロック状被加工物、4は砥粒供給装置で、
3は供給されている砥粒であり、ブロック状被加工物は
厚み1北程度の薄板基盤である。
2は回転体としての円筒ラップ、5は工作機械Aの精密
主軸、6はXYZステージ、7は圧力センサ、8はパソ
コン、9はNCコントローラである。
第2図は、研磨部分拡大図であり、円筒ラップ2は精密
主軸5に同軸に設けられており、回転可能である。被加
工物1は圧力センサ7上に載置され、被加工物1が押圧
されたときの圧力を検出しNCコントローラ9、パソコ
ン8に伝える。NCコントローラ9は主軸5の回転、X
Yzステージ6の動きを制御する。
さて、研磨方法を説明する。まず、錫等の金属塊を精密
主軸5に取り付けてこれを回転させつつ円筒研削の加工
をした円筒ラップ2に対して、ブロック状被加工物1を
NCコントローラ9の指令に従って、XYZステージ6
により移動させる。
砥粒3を砥粒供給装置4から供給しながら、円筒ラップ
2の外周面を使って砥粒3によりブロック状被加工物1
表面の曲面研磨を行う。この時、あらかじめ圧力センサ
7にかかる研磨荷重、ブロック状被加工物1の各X座標
でのZ方向に研磨量、Y軸移動量、単位速度化たりの研
磨量等を初期条件としてパソコン8に入力しておく。パ
ソコン8により、X、Y、Z3軸の移動量及び移動速度
が計算され、その結果に基づく制御プログラムがNCコ
ントローラ9に送られ、それに基づいてXYZステージ
6が動き、所望の形状の加工面が得られる。ここで、ブ
ロック状被加工物1の各代表Xi座標でのZ方向の研磨
量とは、第2図に示したδl、δ2.・・・δ量、・・
・δ□に相当し、あらかじめ触針式形状測定機等で測定
した値を用い、点X1とX2との間等は補間して研磨量
関数δ(X)を求め、それに見合うX軸の移動速度を計
算し、速度か速くなると研磨量が少ない等、適正な研磨
を行うという方法を取る。
次に、この装置により実際に研磨したブロック状被加工
物1の表面高を測定機で測量した結果を第3図に示す。
図において横軸はX座標mmで、縦軸は2座標μm、又
、プロット線1aは加工前の形状、プロット線1bは加
工後の形状で、目標平面から最大約2μm凸形状の前加
工面を、研磨により平面加工した結果を示している。こ
こで、X座標に対する研磨量(x+ 、δl)は10点
を入力した。図より0.3μm以下の精度で形状創成で
きることがわかる。
なお、上記実施例では、円筒ラップを使用したが、被加
工物の仕上面形状が斜面の場合は円錐ラップ等を使用す
ることも考えられ。又、直接円筒、又は円錐砥石用いた
研磨加工においても、同様の方法が使用できる。更に、
研磨荷重の設定は、あらかじめZ軸を微動させて、設定
荷重に達した時のZ座標を記憶しておくことにより行い
、加工時はZ軸をその座標に維持して定圧研磨したが、
研磨荷重を高精度に制御して定圧研磨する方法や、逆に
研磨荷重を大きく変化させて制御することで曲面研磨を
行う方法も考えられる。
[発明の効果] 以上説明してきたように、この発明によれば、計算機制
御による工作機械の主軸上で回転する金属塊を研削して
回転体を形成し、砥粒を供給しながらこの回転体を回転
させ、ステージ上に載置した被工作物を3次元移動させ
て回転体に圧接させ、この圧接力を圧力センサで計測し
なから砥粒にょり該被加工物1を研磨するので、被加工
物をブロック状態のまま、分割せずに研磨でき、研磨量
をモニタリングできるため、加工精度を下げることなく
計算機制御による自動化が可能となった。従って工程の
短縮や人手の削減及び加工時間の短縮等が図られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例による装置システムの外観図
、第2図は研磨部分拡大図、第3図は加工結果を示すグ
ラフ図、第4図は従来のチップ状被加工物の貼付定盤接
着状態の平面図、第5図は図において、1・・・・・・
ブロック状被加工物、2・・・・・・円筒ラップ(回転
体)、3・・・・・・砥粒、4・・・・・砥粒供給装置
、5・・・・・・精密主軸、6・・・・・・XYZステ
ージ、7・・・・・・圧力センサー、8・・団・パソコ
ン、9・・・・・・NCコントローラ、A・・・・・・
工作機械、1a・・・・・・加工前の表面形状プロット
線、1b・・・・加工後の表面形状プロット線である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  計算機制御による工作機械の主軸上で回転する金属塊
    を研削して回転体を形成し、砥粒を供給しながらこの回
    転体を回転させ、ステージ上に載置した被工作物を3次
    元移動させて前記回転体に圧接させ、この圧接力を圧力
    センサで計測しながら前記砥粒により該被加工物を研磨
    する研磨方法。
JP63197543A 1988-08-08 1988-08-08 研磨方法 Pending JPH0248167A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63197543A JPH0248167A (ja) 1988-08-08 1988-08-08 研磨方法
US07/315,414 US5083401A (en) 1988-08-08 1989-02-23 Method of polishing

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63197543A JPH0248167A (ja) 1988-08-08 1988-08-08 研磨方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0248167A true JPH0248167A (ja) 1990-02-16

Family

ID=16376228

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63197543A Pending JPH0248167A (ja) 1988-08-08 1988-08-08 研磨方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0248167A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7048969B2 (en) 2001-09-28 2006-05-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Coating device and coating method

Cited By (1)

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