CN1213173C - 缎光加工镍或镍合金涂层 - Google Patents
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- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 189
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 96
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 56
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 40
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 46
- -1 sulfosuccinic acid compound Chemical class 0.000 claims abstract description 36
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical group [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 8
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 51
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 32
- 238000005282 brightening Methods 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 21
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 13
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical group CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 3
- BSCCQKFIPDUYGB-UHFFFAOYSA-N 4-(12,12-diethoxydodecanoyloxy)-4-oxo-3-sulfobutanoic acid Chemical compound O=C(CCCCCCCCCCC(OCC)OCC)OC(C(CC(=O)O)S(=O)(=O)O)=O BSCCQKFIPDUYGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UEHRGEHHEGERQT-UHFFFAOYSA-N C1CCCCCCCCCCCOC(CC(C(=O)O1)S(=O)(=O)O)=O Chemical compound C1CCCCCCCCCCCOC(CC(C(=O)O1)S(=O)(=O)O)=O UEHRGEHHEGERQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 2
- 229960002097 dibutylsuccinate Drugs 0.000 claims description 2
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 claims description 2
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 claims description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 claims 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract description 3
- 239000003513 alkali Chemical group 0.000 abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- 239000006210 lotion Substances 0.000 description 17
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 9
- YVOFKSGFOGNJHF-UHFFFAOYSA-N [SH2]=N.C(C1=CC=CC=C1)(=O)O Chemical compound [SH2]=N.C(C1=CC=CC=C1)(=O)O YVOFKSGFOGNJHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 235000019864 coconut oil Nutrition 0.000 description 7
- 239000003240 coconut oil Substances 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 6
- CADWTSSKOVRVJC-UHFFFAOYSA-N benzyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[NH+](C)CC1=CC=CC=C1 CADWTSSKOVRVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N sulfanilamide Chemical compound NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 4
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000003287 bathing Methods 0.000 description 3
- GSOLWAFGMNOBSY-UHFFFAOYSA-N cobalt Chemical compound [Co][Co][Co][Co][Co][Co][Co][Co] GSOLWAFGMNOBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 3
- UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC=C UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MIAUJDCQDVWHEV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O MIAUJDCQDVWHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBIROUFYLSSYDX-UHFFFAOYSA-M benzododecinium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 JBIROUFYLSSYDX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000002688 persistence Effects 0.000 description 2
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- OTEKOJQFKOIXMU-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(trichloromethyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=CC=C(C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 OTEKOJQFKOIXMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M Didecyldimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCC RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical class C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282326 Felis catus Species 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 1
- DPDMMXDBJGCCQC-UHFFFAOYSA-N [Na].[Cl] Chemical compound [Na].[Cl] DPDMMXDBJGCCQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RWUKNUAHIRIZJG-AFEZEDKISA-M benzyl-dimethyl-[(z)-octadec-9-enyl]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 RWUKNUAHIRIZJG-AFEZEDKISA-M 0.000 description 1
- OCBHHZMJRVXXQK-UHFFFAOYSA-M benzyl-dimethyl-tetradecylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 OCBHHZMJRVXXQK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012928 buffer substance Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- QDYLMAYUEZBUFO-UHFFFAOYSA-N cetalkonium chloride Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 QDYLMAYUEZBUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000228 cetalkonium chloride Drugs 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 239000012612 commercial material Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- SCXCDVTWABNWLW-UHFFFAOYSA-M decyl-dimethyl-octylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCC SCXCDVTWABNWLW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KEVMYFLMMDUPJE-UHFFFAOYSA-N diisoamyl Natural products CC(C)CCCCC(C)C KEVMYFLMMDUPJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxomagnesium;hydrate Chemical compound O.[Mg]=O.[Mg]=O.[Mg]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFIHJMGYJFEZMT-UHFFFAOYSA-L disodium;benzene;sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O.C1=CC=CC=C1 WFIHJMGYJFEZMT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 208000002173 dizziness Diseases 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019197 fats Nutrition 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 208000014674 injury Diseases 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FLWMAZUIYFDKMQ-UHFFFAOYSA-N n-sulfamoylformamide Chemical class NS(=O)(=O)NC=O FLWMAZUIYFDKMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPUMPJNVOBTUFM-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,3-trisulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(S(O)(=O)=O)C(S(=O)(=O)O)=CC2=C1 GPUMPJNVOBTUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 229940117359 quaternium-24 Drugs 0.000 description 1
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- SFVFIFLLYFPGHH-UHFFFAOYSA-M stearalkonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SFVFIFLLYFPGHH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOBHUZYZLFQYFK-UHFFFAOYSA-K trisodium;hydroxy-[[phosphonatomethyl(phosphonomethyl)amino]methyl]phosphinate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].OP(O)(=O)CN(CP(O)([O-])=O)CP([O-])([O-])=O SOBHUZYZLFQYFK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
为了完成平滑的缎光加工镍或镍合金涂层，建议提供一种含有附加至少一个季铵化合物的通式I的硫代琥珀酸化合物的酸性镍或镍合金电镀浴，其中R1，R2＝氢离子、碱离子、碱土离子、铵离子和/或C1-C18烃基团，其中R1及R2为相同的或不同的，条件为至多基团R1及R2之一＝氢离子、碱离子及碱土离子，且其中K+＝氢离子、碱离子、碱土离子、铵离子。
Description
技术领域
本发明涉及一种酸性镍或镍合金电镀浴及一种沉积缎光加工镍或镍合金涂层的方法。
背景技术
在工业上盛行使用应该很平坦的亮镍或镍合金涂层。然而，早期认定缎光加工涂层看起来美的且同时防止目眩。当与半亮镍涂层和铬涂层结合时，这类涂层只作为如亮镍涂层而防止腐蚀。这些缎光加工镍涂层因此常用于汽车工业、精密机械工业、卫生器具以及家具装备方面。
目前镍涂层可用各种方法制造。
DE-OS 1621085中指出待涂敷金属的表面首先可借助喷砂粗化。之后表面以一般电镀浴处理以沉积亮镍层。根据另一方法首先准备通过机械处理的无光泽表面的亮镍涂层。然而，因为镍层由于该处理而弱化，从而耐腐蚀性明显降低。其进一步指出所述的方法将有因机械处理而非常复杂且昂贵的缺点。在此文件中叙述的其他方法允许直接由电镀浴沉积缎光加工镍涂层而没有任何预先或之后的机械处理。为此目的，将粒子大小为0.1至0.3微米的在这些浴中不溶解的微细研磨材料如高岭土、石墨、硫酸钡、玻璃、滑石粉、草酸钙及其他物质，以相当大的量加入至一般镍电镀浴中。通过强烈的吹动空气至浴中，这些物质维持悬浮且在沉积镍时沉积成涂层。文件中指出一定粗糙度的涂层将显现建立的缎光加工外观。然而，因为此方法无法在常规电镀装置中进行，此方法将要求特定装置实施。因此原因将增加额外的成本。
因为常规方法的缺点，DE-OS 1621985中公开了一种制造缎光加工镍涂层的酸性镍电镀浴作为此文件中所述方法的改进。为了实行此方法，要求一种除了基本光亮化合物之外的含有浓度为5至100毫克/升的取代或未取代的环氧乙烷或环氧丙烷或环氧乙烷环氧丙烷加合物的镀液，这些额外加合物能在40至75℃的温度下形成微细分散液于电镀槽液中。
DE 2522130 B1还叙述了一种酸性镍、镍/钴或镍/铁电镀浴，这些浴适合沉积缎光加工涂层。除了主要及次要光亮剂外，此浴在乳液中含有液态聚硅氧烷聚氧化烯嵌段共聚物。
由DE-OS 1621085中的公开所得知的镍涂层可根据DE-AS1621087中叙述的方法生产。展现平坦缎光加工的涂层可通过完全或部份冷却浴液体至低于云雾温度且随后再次加热液体至工作温度而制造。超过云雾温度时非离子表面活性剂由于表面活性剂失去其水合覆盖而沉淀。形成的乳化小滴在冷却该液体时溶解且在重新加热时将再一次形成。镍沉积物选择性地受沉淀表面活性剂小滴削弱，基本上没有小滴包括在镍涂层之中。加热及冷却电镀液以及抽取液体必须消耗较多的能量的事实是此发明的缺点。此外最大浴体积限制在特定值内，因为若浴体积超过8,000升时加热及冷却液体与抽取液体的费用显著增加。在这些条件下此方法的操作是不经济的。而且在短时间执行此方法之后，在浴液中形成块状表面活性剂，其在镍涂层中产生孔。
由于上面提及的缺点，如DE 2327881 A1中所描述的制造半光亮镍或镍/钴涂层的方法已是成功的。在此方法中通过结合外来物进入涂层而产生无光泽涂层。外来物是通过结合有机阴离子与阳离子或两性物质而产生。在这文件中建议以季铵化物、咪唑的衍生物、链烷醇胺酯及基于胺基羧酸的表面活性剂作为阳离子或两性物质。通过结合有机阴离子与阳离子或两性物质形成一种与基本光亮剂一同存在于镍电镀浴中的乳化液，其给予镍沉积而产生缎光加工。
不过此方法也有某些缺点：在制备电镀浴后三至五小时内沉积镍涂层变得愈来愈粗糙。甚至部份眼睛可见的粗糙镍晶体呈现在表面上，作为镍表面的外观是不可接受的。因此至少在经八小时的生产前的浴液必须以过滤材料完全过滤并清洁，过滤材料如纤维素、硅藻土或甚至是活性碳。整理浴液要求的生产中断对操作连续装置时特别麻烦且昂贵。此外若继续沉积铬层10分钟或更久产生一可移除的“银层”。
已做了几种尝试排除前面提及的缺点。因此在DE 3736171 A1中叙述一种沉积缎光加工镍涂层的方法，用于实施此方法的镍浴液含有特别是一种或多种基本光亮剂、一种或多种阴离子表面活性剂、一种或多种有机乳化液形成剂、一种或多种季铵化合物以及一或多种无环或芳香族亚磺酸。较佳地，苯甲酸硫酰亚胺、间-苯二磺酸、萘三磺酸、二芳基二硫醚、磺酰胺及N-磺酰基羧酰胺以及其可溶于水的盐将理解为基本光亮剂。然而，实行此方法没有之前的加热及冷却浴液则无法得到具持久外观的涂层。
在DE 19540011 A1中叙述了生产具有非灿烂外观的涂层的另一种电镀方法。根据此文件使用一种镍浴，其含有特别是基本光亮剂、有机亚磺酸以及表面活性剂。另外该浴含有取代和/或未取代的环氧乙烷加合物或环氧丙烷加合物或环氧乙烷环氧丙烷加合物，其浓度低至使混浊在浴工作温度下非肉眼可见。然而，使用文件中指示浓度的非离子表面活性剂不保证，因为其效率快速降低且因为涂层的外观快速改变。
DE 2134457 C2中还叙述了沉积光亮镍或镍/钴涂层的水溶液电镀浴。根据此文件中的几个实例将硫代琥珀酸酯加至额外含有作为第二光亮剂的糖精的浴液中。然而，未以这些浴生产缎光加工镍涂层。
此外日本专利摘要JP 56152988 A中公开了一种沉积缎光加工涂层的镍浴，其含有选自附在作为光亮剂的糖精的烷基芳香基磺酸酯及硫代琥珀酸酯与环氧乙烷环氧丙烷嵌段共聚物的表面活性剂。在此情况中也证实缎光加工镍涂层只能在浴配制好短期间内产生。在此期间之后产生的涂层展现粗糙的表面。
所有上面叙述的方法只能在几小时中进行。在此期间内可以得到具有或多或少满意的缎光加工的镍涂层。然而，在此期间粗糙度增加。在超过这期间之后只能沉积多孔的粗糙镍涂层。
因此本发明的问题在于避免已知电镀浴的缺点，尤其是找出适合生产缎光加工镍或镍合金涂层的电镀浴及生产缎光加工镍涂层的方法。当使用此方法时，应可能在电镀浴配制好之后长期间内产生持久表面品质的镍涂层，而不需要清洁浴液或以需额外费用的任何方法整理浴液。
发明内容
惊奇地发现若加入一种或多种硫代琥珀酸化合物至镍电镀浴，缎光加工涂层可在浴配制好之后长期间内任何时间点上沉积的镍或镍合金层的表面上得到，该镍电镀浴另外含有至少一种季铵化合物及至少一种阴离子基本光亮剂，该硫代琥珀酸化合物具有以下通式(I)：
其中
R1，R2＝氢离子、碱离子、碱土离子、铵离子和/或C1-C18烃基团，其中R1及R2为相同或不同的，条件为最多基团R1和R2之一＝氢离子、碱离子、铵离子及碱土离子，及
其中
K+＝氢离子、碱离子、碱土离子、铵离子。
镍电镀的持久性似乎为季铵化合物及阴离子基本光亮剂形成的离子对晶体稳定的结果，此持久性通过使用硫代琥珀酸化合物甚至增强两倍。用于本发明目的的硫代琥珀酸化合物的效用明显地由这些化合物作为上面提及的离子对晶体的共分散剂的效应产生。这也由甚至电镀浴中低浓度硫代琥珀酸化合物足以确保根据本发明的效应所产生。通过加入硫代琥珀酸化合物至电镀浴中，以分电流过滤操作此浴几天首次成为可能。
本发明不涉及无光泽镍电镀浴。
根据本发明的镍或镍合金电镀浴有以下各种优点：
1、与常规浴相比，该电镀浴中形成的分散液的稳定性以至少为二倍的连续操作时间改善。
2、通过分电流过滤，连续数天的操作为可能的。
3、防止在铬电镀上形成可除去的“银层”。
4、经添加硫代琥珀酸化合物增强了缎光加工外观。这受到要沉积具有实质上缎光加工的镍或镍合金涂层的那些应用者的欢迎。目前这样的外观仅由加入相当量的季铵化合物至镍电镀浴中达到。然而在这些条件下浴的寿命减少。
具体实施方式
硫代琥珀酸化合物I的至少一个C1-C18烃基团优选为非环或环烃基团或经醚基桥连的一组烃基团。该C1-C18基团优选为非环线性或直链基围或环状基团。若需要这些基团也可为不饱和烃基团或几组经醚基桥接的至少部份不饱和烃基团。
表1所列的化合物当应用在镍或镍合金电镀浴时已证实成功。
表1：硫代琥珀酸化合物
| 1 | 硫代琥珀酸二正丙酯 |
| 2 | 硫代琥珀酸二异丙酯 |
| 3 | 硫代琥珀酸二正丁酯 |
| 4 | 硫代琥珀酸二异丁酯 |
| 5 | 硫代琥珀酸二正戊酯 |
| 6 | 硫代琥珀酸二异戊酯 |
| 7 | 硫代琥珀酸二正己酯 |
| 8 | 硫代琥珀酸二异己酯 |
| 9 | 硫代琥珀酸二(1，3-二甲基丁基)酯 |
| 10 | 硫代琥珀酸二环己酯 |
| 11 | 硫代琥珀酸二正辛基酯 |
| 12 | 硫代琥珀酸二异辛酯 |
| 13 | 硫代琥珀酸二(2-乙基己基)酯 |
| 14 | 硫代琥珀酸二壬酯 |
| 15 | 硫代琥珀酸单月桂酯 |
| 16 | 硫代琥珀酸二月桂酯 |
| 17 | 硫代琥珀酸单十二碳烯酯 |
| 18 | 硫代琥珀酸二(十六烷基)酯 |
| 19 | 硫代琥珀酸的脂肪醇聚乙二醇醚酯 |
| 20 | 硫代琥珀酸单(氧代二乙氧基十二烷基)酯(硫代琥珀酸的月桂醇聚乙二醇醚酯) |
烷基酯基团可特别包含所有异构物。例如丙基酯包括正丙基脂及异丙基酯，丁基酯包括正丁基酯，异丁基酯及叔丁基酯，以及戊基酯包括正戊基酯、异戊基酯、叔戊基酯及新戊基酯。
游离磺酸及其钠、钾及镁或铵盐皆可应用。通常使用磺酸的钠盐。另外也可使用数种硫代琥珀酸化合物。
在镍或镍合金电镀浴中硫代琥珀酸化合物的浓度很低且可在0.005至5克/升的范围内，正常为0.005至0.05克/升的范围内变化。硫代琥珀酸化合物的浓度若使欲完成的效应尽可能长久持续，以接近较佳浓度范围的上限(最高0.05克/升)较佳。其必须考虑商业上可得的物质少有纯度接近100％的，但正常情况下含有水及有时也含有作为溶解剂的低碳醇。前述的浓度指具有100％纯度的物质。
供应电镀镍或镍合金附着物的浴液通常包括额外含有除了根据本发明的物质外作为缓冲物质的弱酸的镍盐溶液。
通常实行使用称为Watts电解质，其具有大约以下的组成：
330-550克/升硫酸镍(NiSO4·7H2O)
30-150克/升氯化镍(NiCl2·6H2O)
30-50克/升硼酸(H3BO3)
电解质溶液的pH可设定在3至5.5的范围内，主要在3.8至4.4的范围内。为了能尽可能设定高电流密度，温度可最高等于75℃。通常设定在50℃至60℃的范围内。
镍及镍合金电镀浴的氯化物含量为10至50克/升。使用在此范围浓度的浴得到最佳的结果。氯化镍可部份或完全以氯化钠取代。电解质中的氯化物可部份或完全以等量的溴化物取代。电镀浴的镍盐可至少以钴盐取代或加入至少一种钴离子源至浴中以便能沉积镍/钴合金涂层。若温度等于55℃且若应用如上面提及的高性能电镀浴时阴离子电流密度可等于最高至10安培/平方分米。通常电流密度设定为3至6安培/平方分米。在镍电镀浴中的停留时间应等于在给予的条件下至少9分钟。
理论上可加入硫代琥珀酸化合物至浴中而不加入任何其他的浴添加剂。然而，足够长时间稳定性的浴只能在若硫代琥珀酸化合物与季铵化合物一同结合使用及若需要加上额外的基本光亮剂时达到。在这些环境下极佳的缎光加工镍或镍合金表面在实际的条件下可操作的整个电流密度范围内完成。这极佳的缎光加工稳定地至少在15小时操作的电镀浴中完成。此外在上面提及的条件下电镀不产生在镍或镍合金涂层顶部上铬电镀层上可移除的雾，即使设定长的铬电镀时间。
镍或镍合金浴中所含季铵化合物为具下面通式(II)的阳离子表面活性剂：
其中
R1、R2及R3＝氢和/或无环C1-C18烃基团，其中R1、R2及R3为相同或不同的，条件为最多R1、R2及R3基团中的两个＝氢；
R4＝氢、无环C1-C4烃基团或以芳香基取代的C1-C4烃基团，例如苄基；
XP-＝单价或多价阴离子，例如氯化物、溴化物、甲酸盐或硫酸盐；以及
p＝整数
R1、R2及R3为直链的或支链的饱和的及若需要的未饱和的C1-C18烃基团。应用自然发生的酸的烃基团的混合物，例如妥尔油基(tallo)、椰子油基(cocosyl)、肉豆蔻基及月桂基团较有利。
季铵化合物的实例列于表2：
表2季铵化合物
| 1 | 二辛基二甲基氯化铵 |
| 2 | 二癸基二甲基氯化铵 |
| 3 | 二(十二烷基)二甲基氯化铵 |
| 4 | 十二烷基二甲基苄基氯化铵 |
| 5 | 十四烷基二甲基苄基氯化铵 |
| 6 | 十六烷基二甲基苄基氯化铵 |
| 7 | 椰子油基二甲基苄基氯化铵 |
| 8 | 硬脂基二甲基苄基氯化铵 |
| 9 | 油烯基二甲基苄基氯化铵 |
| 10 | 二月桂基二甲基溴化铵 |
季铵化合物的浓度设定为0.1至100毫克/升的范围内，以2.5至15毫克/升较佳。一般作为防止沉积多孔涂层的表面活性剂不加到镍或镍合金电镀浴中。大部份的这些化合物损害镍或镍合金沉积。欲电镀的物品在电镀浴中缓慢移动。很少应用额外暴露空气中的电镍液。常需要循环泵及若需要时的溢流。这些改良了缎光加工镍或镍合金层的平坦度。
优选加入基本光亮剂至镍或镍合金电镀浴中。应了解不饱和的、在大部份情况中的芳香磺酸、磺酰胺、磺酰亚胺、N-磺酰羧酰胺、亚磺酸盐、二芳基砜或它们的盐作为基本光亮剂。最常用的化合物为例如间苯二磺酸、苯甲酸磺酰亚胺(糖精)、1，3，6-萘三磺酸三钠、苯单磺酸钠，二苯磺胺及苯单亚磺酸钠。
已知的基本光亮剂列于表3。大部份使用其钠或钾盐。此外也可能同时应用数种基本光亮度剂。
表3：基本光亮剂
| 1 | 间苯二磺酸 |
| 2 | 乙烯磺酸 |
| 3 | 烯丙基磺酸 |
| 4 | 丙炔基磺酸 |
| 5 | 对甲苯磺酸 |
| 6 | 对甲苯磺酰胺 |
| 7 | 苯甲酸磺酰亚胺 |
| 8 | 1，3，6-萘三磺酸 |
| 9 | N-苯甲酰苯磺酰胺 |
表3中所列基本光亮剂应用并以5毫克/升至10克/升的浓度加入电解浴中，以0.5至2克/升较佳。若只加入光亮剂至Watts基本制备中，在有限的电流密度范围中得到光亮沉积。因此只应用基本光亮剂而不添加任何添加剂没有实际意义。只有通过进一步添加季铵化合物才能完成所要的缎光加工。
缎光加工镍或镍合金层在导电工件上产生，例如在由金属组成的工件上，以包括下列方法步骤的方法产生：
a.将工件与根据本发明的镍或镍合金电镀浴接触；
b.将至少一个阳极与镍或镍合金电镀浴接触；
c.施加跨接工件及至少一个阳极的电压；以及
d.在工件上电镀缎光加工镍或镍合涂层。
为了完成尽可能稳定的缎光加工表面，必须连续或间歇地循环和/或过滤浴液。这意味部份浴液不是连续就是常常流出电镀槽并再次循环回到浴槽。若需要则浴液在离开浴槽时过滤。由于此操作，由浴液中移除较大块通常在产生缎光加工表面必须的离子对微晶，以维持这些微晶的平均粒度持续低于特定临界值。
在以下实施例中提供了本发明的更清楚的叙述：
对比实施例1.0
首先添加0.006克/升二(十二烷基)二甲基溴化胺(季铵化合物II)至一种具有以下组成的电解液：
370克/升硫酸镍(NiSO4·7H2O)
40克/升氯化镍(NiCl2·6H2O)
40克/升硼酸(H3BO3)
3克/升苯甲酸磺酰亚胺的钠盐(基本光亮剂；化合物I)
电解液在装置传送物品及维持浴液在55℃的温度的机构的100升大小容器内检验。为此目的，一片刮过且为7厘米×20厘米大小的铜板在2.5安培/平方分米的阴极电镀17分钟。在整个钢板表面积上产生平坦的缎光加工涂层。没有可见的孔或黑洞。每小时重复此步骤，互相比较经电镀的板。在4小时的期间后已见到镍涂层的粗糙表面外观。在5小时之后实验停止，因为此时涂层变得丑陋的(凹凸不平、无光泽)。
实施例1.1：
首先将0.02克/升硫代琥珀酸双-(1，3-二甲基丁基)酯(化合物I)和进一步的0.006克/升二(十二烷基)二甲基溴化铵加至实施例1.0的电解质溶液中。
电度浴的检验加实施例1.0中所述实施。在整个电渡镍的板表面积上见到平坦的缎光加工外观。没有可见的凹坑或黑洞。在如上面指出的条件下每小时重复电镀，互相比较经电镀的板。在4小时的期间后已见到镍涂层的粗糙表面外观。在15小时之后试验停止，因为产生涂层的表面品质的外观没有可见到更恶化的情形。
对比实施例1.0及实施例1.1的结果：不应用化合物I(硫代琥珀酸双(1，3-二甲基丁基)酯)只得到4至5小时的浴液寿命。添加化合物I得到超过15小时的寿命。
对比实施例2.0：
首先将0.01克/升椰子油基二甲基苄基氯化铵(季胺化合物II)添加至具以下组成的电解液：
450克/升硫酸镍(NiSO4·7H2O)
80克/升氯化镍(NiCl2·6H2O)
40克/升硼酸(H3BO3)
3克/升烯丙基磺酸的钠盐(基本光亮剂)
5克/升苯甲酸硫酰亚胺(基本光亮剂)
在装置传送物品及维持浴液在55℃的温度的机构的100升大小容器内，电解液在起始后只静置30分钟的时间下检验。为此目的，一片刮过的、角形的、且7厘米×20厘米大小的铜板在3安培/平方分米的阴极电流密度下电镀20分钟。其后该板在商业铬浴(Bright ChromeCR 843，Atotech Deutschland GmbH，DE)中在40℃、10安培/平方分米的电流密度下镀铬12分钟)。
缎光加工镍涂层在铜板的整个表面积上得到。朝光源注视镀镍扳的表面可见到一层雾(所谓的“银层”)。在此镍电镀浴操作5小时后此模糊可移除的雾已发展到容易见到的雾，故生产必须停止。
实施例2.1
首先将0.04克/升的硫代琥珀酸二己酯(化合物I)加入至实施例2.0中所用的电解液中。之后将0.01克/升的椰子油基二甲基苄基氯化铵(季铵化合物II)加入该溶液中。
浴液的检验如实施例2.0中所述进行。在30分钟的静置时间后，在整个板表面上得到平坦缎光加工镍涂层。没有见到凹坑或黑洞。朝光源注视镀镍板的表面没有见到雾。甚至在镍电镀浴操作5小时后未见到雾。
对比实施例2.0及实施例2.1的结果：添加根据本发明的化合物I(硫代琥珀酸二己酯)防止在镍表面产生雾，甚至在操作该浴5小时后。
对比实施例3.0
向一个锥形烧瓶中放入以下物质，之后将此混合物搅拌：
50毫升的水，
1.5克/升的烯丙基磺酸的钠盐(基本光亮剂)，
5克/升的苯甲酸硫酰亚胺的钠盐(基本光亮剂)，
20毫克/升的二(十二烷基)二甲基苄基氯化铵(季铵化合物II)。
溶液表面以缝隙灯检验。在经过约1小时后出现清楚的刻度状彩虹色表面膜。该溶液为混浊的。
实施例3.1
与实施例3.0平行加入以下物质至锥形烧瓶中：
50毫克的水
1.5克/升的烯丙基磺酸的纳盐(基本光亮剂)
5克/升的苯甲酸硫酰亚胺的纳盐(基本光亮剂)
10毫克/升的硫代琥珀酸二异辛酯(化合物I)。
之后搅拌并将20毫克/升的十二烷基二甲基苄基氯化铵(季铵化合物II)加入此溶液中。甚至在16小时后未见到表面膜发生。该溶液为轻微混浊。
对比实施例3.0及实施例3.1的结果：未使用化合物I时，在电解液上产生清楚的似彩虹色表面膜。添加化合物I时，甚至在16小时的期间后没有产生表面膜。
对比实施例4.0：
将100毫克/升椰子油基二甲基苄基氯化铵(季铵化合物II)加入至400毫升具有以下组成的电解液中：
350克/升的硫酸镍(NiSO4·7H2O)，
40克/升氯化镍(NiCl2·6H2O)，
40克/升硼酸(H3BO3)，
1克/升的1，3，6-萘磺酸的钠盐(基本光亮剂)，
3克/升的苯甲酸硫酰亚胺的钠盐(基本光亮剂)。
在16小时的期间内样品维持在55℃的温度。经过流动，一层膜在溶液表面上产生。此膜可容易地由缝隙灯检测到。
实施例4.1：
首先将3.5毫克/升的硫代琥珀酸二己酯(根据本发明的化合物I)加入至实施例4.0的电解液中。在搅拌后再次加入100毫克/升的椰子油基二甲基苄基氯化铵(季铵化合物II)。样品维持在55℃的温度16小时。经流动，在电解液表面上产生极簿膜。此膜只可借助缝隙灯看到。
实施例4.2：
首先将10毫克/升的硫代琥珀酸二己酯(化合物I)加入至实施例4.0的电解液中。在搅拌后再次将100毫克/升的椰子油基二甲基苄基氯化铵(季铵化合物II)加入至该溶液中。样品维持在55℃的温度16小时。使用缝隙灯在电解液表面上实际上未见到膜。
对比实施例4.0，实施例4.1及实施例4.2的结果：添加甚至10毫克/升浓度的化合物I防止产生伤害电镀的膜。甚至在3.5克/升的浓度也可见到改善的效果。
Claims (11)
1.一种用于沉积缎光加工镍或镍合金涂层的酸性镍或镍合金电镀浴，其含有具有通式(I)的硫代琥珀酸化合物，
其中
R1，R2＝氢离子、碱离子、碱土离子、铵离子和/或C1-C18烃基团，其中R1及R2为相同的或不同的，条件为最多R1及R2基团之一＝氢离子、碱离子、铵离子及碱土离子，以及
K+＝氢离子、碱离子、碱土离子、铵离子，
至少一种阴离子基本光亮剂，以及
至少一种季铵化合物，其具有以下通式(II)：
其中
R1，R2及R3＝氢和/或无环的C1-C18烃基团，其中R1，R2及R3为相同的或不同的，条件为至多基团R1，R2及R3的二者是氢；
R4＝氢、无环的C1-C4烃基团或芳香基取代的C1-C4烃基团；
XP-＝单价或多价阴离子；以及
p＝整数。
2.如权利要求1的酸性镍或镍合金电镀浴，其中所述硫代琥珀酸化合物的至少一个C1-C18基团为无环或环烃基团或由醚基桥接的烃基团。
3.如权利要求1或2的酸性镍或镍合金电镀浴，其中在所述浴中含有浓度为0.005至5克/升的所述至少一种硫代琥珀酸化合物。
4.如权利要求1或2的酸性镍或镍合金电镀浴，其中在所述浴中含有浓度为0.005至0.05克/升的所述至少一种硫代琥珀酸化合物。
5.如权利要求1或2的酸性镍或镍合金电镀浴，其中所述浴中含有选自以下组中的至少一种硫代琥珀酸化合物：硫代琥珀酸二丙酯、硫代琥珀酸二丁酯、硫代琥珀酸二戊酯、硫代琥珀酸二己酯、硫代琥珀酸二环己酯、硫代琥珀酸二辛酯、硫代琥珀酸二壬酯、硫代琥珀酸单月桂酯、硫代琥珀酸二月桂酯、硫代琥珀酸单十二碳烯酯、硫代琥珀酸双十六烷基酯、硫代琥珀酸的脂肪醇聚乙二醇醚酯及硫代琥珀酸单(氧代二乙氧基十二烷基)酯。
6.如权利要求1或2的酸性镍或镍合金电镀浴，其中所述至少一种硫代琥珀酸化合物是选自以下组中的硫代琥珀酸的盐类中的一种：钾盐、钠盐、铵盐和镁盐。
7.如权利要求1或2的酸性镍或镍合金电镀浴，其中在所述浴中含有浓度为0.1至100毫克/升的所述至少一种季铵化合物。
8.如权利要求1或2的酸性镍或镍合金电镀浴，其中在所述浴中另外含有浓度为0.005至10克/升的至少一种基本光亮剂。
9.如权利要求1或2的酸性镍或镍合金电镀浴，其中在所述浴中另外含有至少一种钴离子源。
10.一种在导电工件上沉积缎光加工镍或镍合金涂层的方法，其包括以下方法步骤：
a.将该工件与权利要求1至9任何之一的镍或镍合金电镀浴接触；
b.将至少一片阳极与该镍或镍合金电镀浴接触；
c.施加跨接该工件与该至少一个阳极的电压；以及
d.在该工件上电解沉积镍或镍合金涂层。
11.如权利要求10的方法，其中所述镍或镍合金电镀浴是连续或间歇地过滤或循环。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10025552A DE10025552C1 (de) | 2000-05-19 | 2000-05-19 | Saures galvanisches Nickelbad und Verfahren zum Abscheiden eines satinglänzenden Nickel- oder Nickellegierungsüberzuges |
| DE10025552.3 | 2000-05-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1429283A CN1429283A (zh) | 2003-07-09 |
| CN1213173C true CN1213173C (zh) | 2005-08-03 |
Family
ID=7643283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB018096379A Expired - Lifetime CN1213173C (zh) | 2000-05-19 | 2001-05-09 | 缎光加工镍或镍合金涂层 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6919014B2 (zh) |
| EP (1) | EP1287184B1 (zh) |
| KR (1) | KR100776559B1 (zh) |
| CN (1) | CN1213173C (zh) |
| AU (1) | AU7051601A (zh) |
| CA (1) | CA2407157C (zh) |
| DE (1) | DE10025552C1 (zh) |
| ES (1) | ES2256268T3 (zh) |
| HK (1) | HK1051223A1 (zh) |
| TW (1) | TWI226911B (zh) |
| WO (1) | WO2001088227A1 (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| ATE507327T1 (de) * | 2006-01-06 | 2011-05-15 | Enthone | Elektrolyt und verfahren zur abscheidung einer matten metallschicht |
| EP2256484A1 (en) * | 2009-05-25 | 2010-12-01 | ATOTECH Deutschland GmbH | Method to determine the satin-effect on metal plated substrates |
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| CN104789997A (zh) * | 2015-04-27 | 2015-07-22 | 南京宁美表面技术有限公司 | 珍珠镍电镀用添加剂、珍珠镍电镀溶液及电镀方法 |
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2000
- 2000-05-19 DE DE10025552A patent/DE10025552C1/de not_active Expired - Lifetime
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- 2001-05-09 WO PCT/EP2001/005286 patent/WO2001088227A1/en active IP Right Grant
- 2001-05-09 CN CNB018096379A patent/CN1213173C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-09 AU AU70516/01A patent/AU7051601A/en not_active Abandoned
- 2001-05-09 KR KR1020027015435A patent/KR100776559B1/ko active IP Right Grant
- 2001-05-09 CA CA002407157A patent/CA2407157C/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-09 US US10/276,090 patent/US6919014B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-09 ES ES01949330T patent/ES2256268T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-09 EP EP01949330A patent/EP1287184B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-10 TW TW090111179A patent/TWI226911B/zh not_active IP Right Cessation
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- 2003-05-13 HK HK03103339A patent/HK1051223A1/xx not_active IP Right Cessation
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| HK1051223A1 (en) | 2003-07-25 |
| AU7051601A (en) | 2001-11-26 |
| CN1429283A (zh) | 2003-07-09 |
| TWI226911B (en) | 2005-01-21 |
| CA2407157A1 (en) | 2001-11-22 |
| KR100776559B1 (ko) | 2007-11-15 |
| KR20030023626A (ko) | 2003-03-19 |
| EP1287184B1 (en) | 2006-02-01 |
| CA2407157C (en) | 2009-10-20 |
| WO2001088227A1 (en) | 2001-11-22 |
| DE10025552C1 (de) | 2001-08-02 |
| US20030159940A1 (en) | 2003-08-28 |
| US6919014B2 (en) | 2005-07-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20050803 |
|
| CX01 | Expiry of patent term |