CN1057495A - 稀土永磁体电镀镍溶液 - Google Patents
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Abstract
一种稀土永磁体镀镍溶液。它包括如下三种镀
液:(1)硫酸镍200—300克/升;氯化镍30—60克
/升;硫酸钠20—30克/升;硫酸镁30—40克/
升;硼酸30—40克/升。(2)硫酸镍150—240克/
升;氯化镍40—150克/升;磷酸50—100克/升;
亚磷酸3—40克/升;添加剂(十二烷基硫酸钠)0.05
—0.1克/升;(3)硫酸镍200—300克/升;氯化镍
50—70克/升;硫酸镁40—60克/升;糖精0.5—1
克/升;氯化镉0.001—0.01克/升。电镀后,稀土
永磁体表面便获得一层由非晶态镍与晶态镍所组成
的镍镀层。
Description
本发明提供一种使稀土永磁体获得防锈-装饰性镍镀层的溶液。属于电解法或电泳法生产覆层的工艺技术。
稀土永磁体广泛应用于电子计算机的外围设备,核磁共振成像装置、磁传感器、测量仪器等方面。是一种很重要的电子和电气材料。但是,由于稀土永磁体是由稀土永磁材料粉末烧结压铸成型,其表面多孔而且活性极强,工作状态下极易氧化锈蚀。CN86105540A发明专利申请公开说明书中提供一种稀土永磁体的电镀锌技术,可使稀土永磁体获得理想的防锈锌镀层。所不足的是锌镀层是磁的阻挡层,这种镀锌稀土永磁体满足不了电子计算机、磁选机、磁共振等部件的使用要求。
针对稀土永磁体镀锌层的不足,本发明的目的是提供一种使稀土永磁体表面获得以防蚀-装蚀为目的,由非晶态镍和晶态镍组成的多层镍镀层所用的镀液。
本发明的目的是通过采用如下溶液来实现的。
将已镀前处理过的稀土永磁体置入电镀槽中。采用如下溶液配方及工作条件首先对工件进行滚镀:
硫酸镍(NiSO4·7H2O)200-300克/升
氯化镍(NiCl2·6H2O)30-60克/升
硫酸钠(Na2SO4)20-30克/升
硫酸镁(MgSO4·7H2O)30-40克/升
硼酸(H3BO3)30-40克/升。
溶液温度20-70℃,PH4-5,阴极电流密度1-10安培/分米2,电镀时间10-15分钟,需空气搅拌及循环过滤。
接着采用下面溶液及工作条件对已镀件再进行滚镀。
硫酸镍(NiSO4·7H2O)150-240克/升
氯化镍(NiCl2·6H2O)40-150克/升
磷酸(H3PO4)50-100克/升
亚磷酸(H3PO3)3-40克/升
添加剂(十二烷基硫酸钠)0.05-0.1克/升。
溶液温度55-65℃,PH0.5-1.5,阴极电流密度3-10安培/分米2,电镀时间5-7分钟。采用空气搅拌及循环过滤。
最后将镀件再放入下列镀液中,采用如下工作条件进行光亮镀镍。
镀液组成:
硫酸镍(NiSO4·7H2O)200-300克/升
氯化镍(NiCl2·6H2O)50-70克/升
硫酸镁(MgSO4·7H2O)40-60克/升
糖精 0.5-1克/升
氯化镉(CdCl2·21/2H2O)0.001-0.01克/升。
溶液温度50-55℃,PH4-5.6,阴极电流密度0.5-1安培/分米2,电镀时间15-20分钟。采用空气搅拌及循环过滤。
稀土永磁体经过上述过程,其表面便获得一层由非晶态镍与晶态镍所组成的镍镀层。其中基层镀层厚度8-12微米,中间镀层3-5微米(非晶态镍镀层),最外层-光亮镀层4-6微米。镍镀层与稀土永磁体的结合力经划痕法检测100%合格。镍层总厚度在15微米时,用4%氯化钠水溶液连续喷雾24小时,评级在9级以上。
为了提高稀土永磁体器件的生产效率,有些厂家将烧结压铸的园棒、方柱条以虫胶或火漆粘接成束,再机械切片或切块成型的工艺方法,致使稀土永磁体器件上附着虫胶或火漆粘接剂。为了使镀前处理工作更有效,本发明还提供除油溶液及除锈溶液如下:
除油溶液:
有机溶剂。
除锈溶液:
含有十二烷基硫酸钠 2-5克/升的1-5%的盐酸水溶液
室温下除锈。
本发明所提供的溶液,也适于一般铁合金件镀镍用。
下面通过实施例进一步描述本发明的技术特征。
一、几何形状为圆片状稀土永磁体镀镍
1、镀前处理
a、采用三氯丙烷将已机械光饰的稀土永磁体进行浸渍,应依次在二个容器内进行,以期获得除油彻底的器件。
b、将已除油的器件投入HCl含量为1-2%及含量为2-5克/升十二烷基硫酸钠混合溶液中浸渍除锈。操作时要使器件不断抖动。
2、电镀暗镍的溶液配方及工作条件:
硫酸镍 200-250克/升
氯化镍 35-45克/升
硼酸 35-40克/升
硫酸钠 20-30克/升
硫酸镁 30-40克/升
温度为20-30℃,电流密度1-1.5安培/分米2,滚镀转数6-8转/分,PH值为5-5.5。
3、非晶态镀镍溶液及工作条件
硫酸镍 200-240克/升
氯化镍 45-50克/升
磷酸 50-70克/升
亚磷酸 20-30克/升
十二烷基硫酸钠 0.01克/升
溶液温度55℃,电流密度3安培/分米2,PH值1-1.5,滚镀转数6-8转/分。
3、光亮镀镍工艺配方及工作条件
硫酸镍 200-250克/升
氯化镍 50-60克/升
硼酸 40-45克/升
硫酸镁 50-60克/升
糖精 1克/升
氯化镉 0.005-0.01克/升
溶液温度50℃,PH值4-4.5,电流密度0.5-1安/分米2,滚镀转数6-8转/分。
镀前预处理完毕的稀土永磁体器件经过电镀暗镀,非晶态镀镍,光亮镀镍以后即成为具有良好防蚀-装饰性镍镀层的稀土永磁体。
二、园柱体稀土永磁体镀镍
1、镀前处理
a、采用三氯乙烯或四氯化碳溶液对已机械光饰的稀土永磁体器体浸渍两次。
b、将已除油的器件投入含量为5%的HCl及含量为2克/升的十二烷基硫酸钠溶液中浸蚀除锈。
2、电镀暗镍溶液配方及工作条件
硫酸镍 250-300克/升
氯化镍 40-45克/升
硼酸 40-45克/升
硫酸镁 50-70克/升
十二烷基硫酸钠 0.05克/升
温度30-40℃,电流密度2-2.5安培/分米2,滚镀转数6-8转/分。
3、非晶态镀镍工艺配方及工作条件
硫酸镍 200-240克/升
氯化镍 45-50克/升
磷酸 50-60克/升
亚磷酸 30-40克/升
十二烷基硫酸钠 0.01克/升
溶液温度55℃,电流密度3安培/分米2,PH1-1.5,滚镀转数6-8转/分。
4、光亮镀镍溶液配方及工作条件
硫酸镍 300克/升
氯化镍 50克/升
硫酸镁 60克/升
糖精 0.8克/升
氯化镉 0.01克/升
温度50℃,PH4.5,电流密度0.5-1安培/分米2。
三、长方体稀土永磁体镀镍溶液及工作条件
1、镀前处理
同前例。
2、电镀镍溶液配方及工作条件
硫酸镍 300-330克/升
氯化镍 35-45克/升
硼酸 40-42克/升
十二烷基硫酸钠 0.005克/升
糖精 0.5克/升
氯化镉 0.001克/升
温度50-55℃,电流密度1-3安培/分米2,连续过滤,滚镀机转数6-8转/分。
3、非晶态镀镍工艺配方及工作条件
硫酸镍 200-240克/升
氯化镍 45-50克/升
磷酸 50-60克/升
亚磷酸 30-40克/升
十二烷基硫酸钠 0.01克/升
溶液温度55℃,电流密度3安培/分米2,PH1-1.5,滚镀转数6-8转/分。
4、光亮镀镍溶液配方及工作条件
硫酸镍 300克/升
氯化镍 50克/升
硫酸镁 60克/升
糖精 0.8克/升
氯化镉 0.01克/升
温度50℃,PH4.5,电流密度0.5-1安培/分米2。
Claims (5)
1、一种使稀土永磁体获得防锈-装饰性镍镀层的溶液,其特征为采用如下镀液及工作条件:
硫酸镍(NiSO4·7H2O)200-300克/升
氯化镍(NiCl2·6H2O)30-60克/升
硫酸钠(Na2SO4)20-30克/升
硫酸镁(MgSO4·7H2O)30-40克/升
硼酸(H3BO3)30-40克/升
溶液温度20-70℃,PH4-5,阴极电流密度1-10安培/分米2,电镀时间10-15分钟,需空气搅拌及循环过滤;
接着采用下面溶液及工作条件对已镀件再进行电镀;
硫酸镍(MiSO4·7H2O)150-240克/升
氯化镍(NiCl2·6H2O)40-150克/升
磷酸(H3PO4)50-100克/升
亚磷酸(H3PO3)3-40克/升
添加剂(十二烷基硫酸钠)0.05-0.1克/升;
溶液温度55-65℃,PH0.5-1.5,阴极电流密度3-10安培/分米2,电镀时间5-7分钟。采用空气搅拌及循环过滤;
最后将镀件再放入下列镀液中,采用如下工作条件进行光亮镀镍;
镀液组成:
硫酸镍(NiSO4·7H2O)200-300克/升
氯化镍(NiCl2·6H2O)50-70克/升
硫酸镁(MgSO4·7H2O)40-60克/升
糖精 0.5-1克/升
氯化镉(CdCl2·21/2H2O)0.001-0.01克/升;
溶液温度50-55℃,PH4-5.6,阴极电流密度0.5-1安培/分米2,电镀时间15-20分钟;采用空气搅拌循环过滤。
2、根据权利要求1所述的稀土永磁体电镀镍溶液,其特征为镀前处理采用有机溶剂除油,除锈剂为含有2-5克/升十二烷基硫酸钠的1-5%的盐酸水溶液。
3、根据权利要求1或2所述的稀土永磁体镀镍溶液,其特征为电镀暗镍的溶液配方及工作条件:
硫酸镍 200-250克/升
氯化镍 35-45克/升
硼酸 35-40克/升
硫酸钠 20-30克/升
硫酸镁 30-40克/升
温度为20-30℃,电流密度1-1.5安培/分米2,滚镀转数6-8转/分,PH值为5-5.5;
非晶态镀镍溶液及工作条件
硫酸镍 200-240克/升
氯化镍 45-50克/升
磷酸 50-70克/升
亚磷酸 20-30克/升
十二烷基硫酸钠 0.01克/升
溶液温度55℃,电流密度3安培/分米2,PH值1-1.5,滚镀转数6-8转/分;
光亮镀镍工艺配方及工作条件
硫酸镍 200-250克/升
氯化镍 50-60克/升
硼酸 40-45克/升
硫酸镁 50-60克/升
糖精 1克/升
氯化镉 0.005-0.01克/升
溶液温度50℃,PH值4-4.5,电流密度0.5-1安/分米2,滚镀转数6-8转/分。
4、根据权利要求1或2所述的稀土永磁体镀镍溶液,其特征为电镀暗镍溶液配方及工作条件
硫酸镍 250-300克/升
氯化镍 40-45克/升
硼酸 40-45克/升
硫酸镁 50-70克/升
十二烷基硫酸钠 0.05克/升
温度30-40℃,电流密度2-2.5安培/分米2,滚镀转数6-8转/分;
非晶态镀镍工艺配方及工作条件
硫酸镍 200-240克/升
氯化镍 45-50克/升
磷酸 50-60克/升
亚磷酸 30-40克/升
十二烷基硫酸钠 0.01克/升
溶液温度55℃,电流密度3安培/分米2,PH1-1.5,滚镀转数6-8转/分;
光亮镀镍溶液配方及工作条件
硫酸镍 300克/升
氯化镍 50克/升
硫酸镁 60克/升
糖精 0.8克/升
氯化镉 0.01克/升
温度50℃,PH4.5,电流密度0.5-1安培/分米2。
5、根据权利要求1或2所述的稀土永磁体镀镍溶液,其特征为电镀暗 溶液配方及工作条件
硫酸镍 300-330克/升
氯化镍 35-45克/升
硼酸 40-42克/升
十二烷基硫酸钠 0.005克/升
糖精 0.5克/升
氯化镉 0.001克/升
温度50-55℃,电流密度1-3安培/分米2,连续过滤,滚镀机转数6-8转/分。
非晶态镀镍工艺配方及工作条件
硫酸镍 200-240克/升
氯化镍 45-50克/升
磷酸 50-60克/升
亚磷酸 30-40克/升
十二烷基硫酸钠 0.01克/升
溶液温度55℃,电流密度3安培/分米2,PH1-1.5,滚镀转数6-8转/分;
光亮镀镍溶液配方及工作条件:
硫酸镍 300克/升
氯化镍 50克/升
硫酸镁 60克/升
糖精 0.8克/升
氯化镉 0.01克/升
温度50℃,PH4.5,电流密度0.5-1安培/分米2。
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- 1991-05-14 CN CN 91106108 patent/CN1021237C/zh not_active Expired - Fee Related
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