JP4139312B2 - 電解めっき方法 - Google Patents
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Description
しかし有機質、無機質、あるいは、有機無機複合体からなる水に不溶の微粒子、例えば、ダイヤモンド微粒子やポリテトラフルオロエチレン微粒子は、電解めっき浴における分散性が悪いものである。このような微粒子を電解めっき法により析出金属中に取り込みながらめっき皮膜を形成した場合、無めっき、不均一な金属析出、めっき皮膜中に含有させる微粒子が偏在する等の問題があった。
また、本発明の好ましい態様として、前記微粒子が2種以上の微粒子であるような構成とした。
本発明の電解めっき法は、水に不溶の微粒子を電気めっき浴中に分散させ、その微粒子を析出金属中に均一に取り込んでめっき皮膜を形成するものである。本発明では水に不溶の微粒子を電解めっき浴中に分散させるために、少なくともグリシン系の両性界面活性剤とベンジルアンモニウム・クロライド系のカチオン界面活性剤とを含有し、両性界面活性剤のアルキルジ(アミノエチル)グリシンとカチオン界面活性剤のジメチルベンジルアルキルアンモニウムクロライドとの含有比率が3:5000〜500:1の範囲内である微粒子分散剤を、両性界面活性剤のアルキルジ(アミノエチル)グリシンの濃度が0.0015〜1.5g/Lの範囲となり、かつ、カチオン界面活性剤のジメチルベンジルアルキルアンモニウムクロライドの濃度が0.003〜2.5g/Lの範囲となるように電解めっき浴中に添加するものである。
本発明における電解めっき浴とは、電解ニッケルめっき浴、電解銅めっき浴、電解亜鉛めっき浴、電解銀めっき浴、等を挙げることができる。
まず、グリシン系の両性界面活性剤としては、例えば、下記の一般式(1)で表されるものが好ましい。但し、一般式(1)中のRは炭素数6〜18のアルキル基である。
また、本発明の微粒子分散剤に含有されるベンジルアンモニウム・クロライド系のカチオン界面活性剤としては、例えば、下記の一般式(2)で表されるものが好ましい。但し、一般式(2)中のRはアルキル基である。
[実施例1]
グリシン系の両性界面活性剤として、日本油脂(株)製ニッサンアノンLGを準備し、また、ベンジルアンモニウム・クロライド系のカチオン界面活性剤として、日本油脂(株)製カチオンF2−50Eを準備した。これらの界面活性剤を、両性界面活性剤のアルキルジ(アミノエチル)グリシンとカチオン界面活性剤のジメチルベンジルアルキルアンモニウムクロライドとの含有比率が、3:5となるように混合して微粒子分散剤を調製した。
比較として、微粒子分散剤を添加していない電解ニッケルめっき浴に微粒子を投入して分散状態を観察した。
また、比較として上記の微粒子分散剤に代えフルオロカーボン系カチオン界面活性剤(住友3M社製FC−154)を用いて、同様に微粒子の分散状態を観察した。
グリシン系の両性界面活性剤として、日本油脂(株)製ニッサンアノンLG(以下、本実施例では「LG」と記す)を準備し、また、ベンジルアンモニウム・クロライド系のカチオン界面活性剤として、日本油脂(株)製カチオンF2−50E(以下、本実施例では「F2−50E」と記す)を準備した。次いで、LGのアルキルジ(アミノエチル)グリシンの濃度、および、F2−50Eのジメチルベンジルアルキルアンモニウムクロライドの濃度が下記の表2に示される濃度となるように一般的な銅電鋳液(硫酸銅5水塩:220g/L、硫酸:70g/L、塩素イオン:60mg/L)に添加させて18種の銅電鋳浴(試料1〜18)を得た。これらの各銅電鋳浴(1000mL)に平均粒径200nmの炭素微粒子0.1gを投入して攪拌したときの分散性、および、攪拌後1時間静置した後の分散の保持性を下記の評価基準で評価して、結果を下記の表2に示した。また、2A、5分でハルセル試験を行い、外観を下記の評価基準で評価して、結果を下記の表2に示した。
○:微粒子投入後攪拌により均一に分散する
×:攪拌しても分散せず液面に微粒子が浮遊している
(保持性の評価基準)
○:微粒子が均一に分散した状態が保持されている
×:微粒子は沈降または液面への浮遊により完全に分離している
(ハルセル試験の評価基準)
○:均一な外観である
×:低電流密度部に未着部位が発生している
市販のスルファミン酸ニッケルめっき浴(メルテックス(株)製メルブライトEF−2201)1000mLに、実施例1で調製した微粒子分散剤を、両性界面活性剤のアルキルジ(アミノエチル)グリシン濃度が0.5g/Lで、かつ、カチオン界面活性剤のジメチルベンジルアルキルアンモニウムクロライド濃度が0.5g/Lとなるように添加した。このスルファミン酸ニッケルめっき浴に平均粒径200nmの炭素微粒子を1〜10g/Lの範囲で下記表3の濃度で投入して3種のスルファミン酸ニッケルめっき浴を建浴した。
この3種の各スルファミン酸ニッケルめっき浴に被めっき物として銅ハルセル板を用い、電流密度5A/dm2、めっき時間2分で電解ニッケルめっきを行った。
このように電解ニッケルめっきを行って作製した各めっき皮膜中の炭素微粒子の分散状態と炭素微粒子の含有率(体積%)をSEM−EDXで観察、測定して、結果を下記の表3に示した。
グリシン系ではない両性界面活性剤として、日本油脂(株)製BL、日本油脂(株)製GLM−RBL、日本油脂(株)製BDF−R、日本油脂(株)製BFの4種を準備し、また、ベンジルアンモニウム・クロライド系ではないカチオン界面活性剤として、日本油脂(株)製SAを準備した。そして、市販の電解ニッケルめっき浴(メルテックス(株)製メルブライトEF−2201)に両性界面活性剤濃度が0.5g/Lとなり、カチオン界面活性剤濃度が0.5g/Lとなるように混合して、4種の電解ニッケルめっき浴を得た。この電解ニッケルめっき浴に平均粒径200nmの炭素微粒子を10g/Lの濃度となるように投入して分散状態を観察した。しかし、いずれもカーボン微粒子が水面に浮遊し、均一な分散は得られなかった。また、この4種の電解ニッケルめっき浴に、被めっき物として銅ハルセル板を用い、電流密度5A/dm2、めっき時間2分で電解ニッケルめっきを行ったが、炭素微粒子はめっき皮膜中に偏在し、含有量も5重量%以下であった。
Claims (3)
- 水に不溶の微粒子を析出金属中に取り込んでめっき皮膜を形成する電解めっき方法において、
電解めっき浴に、水に不溶の微粒子を投入すると共に、少なくともグリシン系の両性界面活性剤とベンジルアンモニウム・クロライド系のカチオン界面活性剤とを含有し、両性界面活性剤のアルキルジ(アミノエチル)グリシンとカチオン界面活性剤のジメチルベンジルアルキルアンモニウムクロライドとの含有比率が3:5000〜500:1の範囲内である微粒子分散剤を、両性界面活性剤のアルキルジ(アミノエチル)グリシンの濃度が0.0015〜1.5g/Lの範囲となり、かつ、カチオン界面活性剤のジメチルベンジルアルキルアンモニウムクロライドの濃度が0.003〜2.5g/Lの範囲となるように添加することを特徴とする電解めっき方法。 - 水に不溶の微粒子を析出金属中に取り込んでめっき皮膜を形成する電解めっき方法において、
電解めっき浴に、水に不溶の微粒子を投入すると共に、両性界面活性剤のアルキルジ(アミノエチル)グリシンの濃度が0.0015〜1.5g/Lの範囲となり、かつ、カチオン界面活性剤のジメチルベンジルアルキルアンモニウムクロライドの濃度が0.003〜2.5g/Lの範囲となるようにグリシン系の両性界面活性剤とベンジルアンモニウム・クロライド系のカチオン界面活性剤とを少なくとも含有させることを特徴とする電解めっき方法。 - 前記微粒子が2種以上の微粒子であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電解めっき方法。
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