CS241666B1 - Leskutvorná přísada pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťkách do 10 uin - Google Patents
Leskutvorná přísada pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťkách do 10 uin Download PDFInfo
- Publication number
- CS241666B1 CS241666B1 CS844067A CS406784A CS241666B1 CS 241666 B1 CS241666 B1 CS 241666B1 CS 844067 A CS844067 A CS 844067A CS 406784 A CS406784 A CS 406784A CS 241666 B1 CS241666 B1 CS 241666B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- nickel
- coatings
- bath
- lusture
- galvanic
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims abstract description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 title description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910021585 Nickel(II) bromide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 5
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N (dimethylsulfonio)acetate Chemical class C[S+](C)CC([O-])=O PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229940117986 sulfobetaine Drugs 0.000 claims description 3
- -1 unsaturated aliphatic sulfonates Chemical class 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 claims description 2
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract description 4
- 238000005282 brightening Methods 0.000 abstract description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000979 retarding effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 abstract description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract 1
- IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);dibromide Chemical compound [Ni+2].[Br-].[Br-] IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 abstract 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpyridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- AZUZXLJWMIQRKG-UHFFFAOYSA-N 2-(8-methylnonyl)-2-sulfobutanedioic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCC(S(O)(=O)=O)(C(O)=O)CC(O)=O AZUZXLJWMIQRKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical compound [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- JVZRCNQLWOELDU-UHFFFAOYSA-N gamma-Phenylpyridine Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=NC=C1 JVZRCNQLWOELDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M sodium;ethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=C BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Leskutvorná přísada pro elektrolytické
vylučování niklových povlaků z galvanických
lázní na bázi síranu, chloridu nebo
bromidu níkelnatého a kyseliny borité v různých
poměrech, založená na vhodné kombinaci
5 základních skupin organických sloučenin
zajišťující svými katalytickými, synergickými
a retardačními vlastnostmi podstatné
snížení kiuetiky jejich rozkladu, snížení
jejich sorpčních schopností a současně příznivě
ovlivňuje i sorpční vlastnosti rozkladných
produktů, což umožňuje při kontinuální
filtraci a periodickém doplňování lázně
leskutvornou přísadou i kontinuální choid
galvanické lázně.
Tím se dosahuje současně zvyšování stálosti
galvanických lázní, vysoké vyrovnávací
schopnosti, vysokého lesku vylučovaných
povlaků, nízké porozity a vysoké tažnosti
i dobré přilnavosti dalších povlaků.
V niklovacích lázních se udržuje leskutvorná
přísada v koncentraci 20 až 30 ml/
/1000 ml lázně při pracovních podmínkách
teplota 55 až 70 °C a pH 3,5 až 4,5.
Description
Vynález se týká leskutvorných přísad pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků z galvanických niklovacích lázní na bázi síranu nikelnatého-, chloridu nebo bromidu nikelnatébo a kyseliny borité v nejrůznějších poměrech.
Až dosud byla pro galvanické vylučování lesklých niklových povlaků navržena a používána řada nejrůznějších přísad na bázi organických nebo anorganických látek, které jsou obvykle rozděleny do dvou tříd.
Látky zařazované do· 1. třídy obsahují ve své molekule atom síry — jedná se nejčastěji o různé typy anorganických sulfokyselin a jejích esterů, sulfonamidů, sulfoimidů, sulfonů apod.
Do 2. třídy řadíme soli některých kovů (Zn, Cd, Pb apod.) a řadu organických sloučenin jako aldehydy, ketony, kyseliny, aminy, pyrazol, imidazoí, chinolin nebo jejich deriváty, azosloučeniny apod. Většina těchto samotných organických látek se během pokovení při pracovních podmínkách niklovací lázně tj. pH 3,5 až 4,5 a teplotách 55 až 70 °C rychle rozpadá na rozkladné produkty s negativním vlivem na chod lázně a rielze je proto samotné použít. Leskutvorný účinek samotných látek je malý nebo vůbec žádný. Výrazně se projevuje pouze v jejich určitých kombinacích, ve kterých je současně příznivě ovlivněna stabilita a podstatně zpomalena rychlost rozkladu. Při rozkladu vznikající rozkladné produkty se v galvanické lázni hromadí, což vede k poklesu kvality povlaků a projevuje se snižováním vyrovnávací schopnosti lázně, ztrátou lesku, zvýšením porozity povlaků, křehkostí, sníženou přilnavostí dalších povlaků v důsledku pasivace povrchové vrstvy. Snížení kvality povlaků může dosáhnout až hranice nepoužitelnosti.
Z těchto důvodů je nezbytné reakční zplodiny z galvanické lázně odstraňovat. K rozkladu reakčních zplodin nejčastěji se používají silná oxidační činidla (peroxid vodíku nebo manganistan draselný] s následující absorpcí rozkladných zplodin na aktivním uhlí. Tím vznikají značné ekonomické ztráty (ztráta části' elektrolytu, rozklad prakticky celého· množství leskutvorných přísad a náklady na oxidovadla}. Odstranění reakčních produktů není dokonalé a musí se periodicky opakovat.
Uvedené nedostatky odstraňuje leskutvorná přísada podle vynálezu, jejíž podstata
Spočívá v tom, že sestává z 10 až 30 % hmot. aromatických sloučenin s nenasycenou vazbou mezi uhlíky sousedícími se sulfonovou skupinou, z 3 až 50 °/o hmot. solí nenasycených alifatických sulfonanů, 0,1 až 5 % hmotnostních solí- alifatických esterů kyseliny sulfojantarové, 0,05 až 5 % hmot. nenasycených alkoholů a jejich derivátů případně ethoxylovaných do jednoho nebo více stupňů, 0,01 až 5 % hmot. substituovaných sulfobetainů pyridinu a jeho derivátů, ze 75 až 88 % hmot. vody a dávkuje se do galvanické niklovací lázně v množství 0,5 až 5 % obj.
Vhodná kombinace výše uvedených látek a jejich vzájemné poměry svými katalytickými, synerglckými a retardačními vlastnostmi zabezipečuje podstatné snížení kinetiky jejich rozpadu, snižuje sorpční schopnosti základních složek leskutvorné přísady na aktivním uhlí a současně příznivě ovlivňuje sorpční vlastnosti rozkladných produktů, což umožňuje kontinuální filtraci galvanické lázně přes aktivní uhlí a periodické doplňování lázně leskutvornou přísadou a tím i kontinuální chod lázně, který se příznivě projevuje i zvyšováním stálosti galvanických lázní, vysokou vyrovnávací schopností a leskem, nízkou pórozitou a vysokou tažností.
Dále je uveden příklad leskutvorné přísady pro galvanické vylučování lesklých niklových povlaků.
Příklad 1
115 g benzensulfoimidu, 45 g vinylsulřonanu sodného, 2,5 g izodecylsulfojantaranu dvojsodného, 0,8 g propargylalkoholu a 13,5 gramu fenylpyridinsulfobetainu se promísí s 870 g vody při normální teplotě v míchacím zařízení a získá se 1000 ml leskutvorné přísady vhodné pro vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťce do 10 μΐη. Tato přísada se dávkuje do galvanické lázně, jež na 1000 ml obsahuje 300 g síranu nikelnatého, 60 g chloridu nikelnatého a 40 g kyseliny borité, v množství 20 ml/1. Pokovování zkušebních vzorků bylo provedeno· při proudové hustotě 5 Á/dm2, napětí 4,5 V a teplotě 60 °C po- dobu 10 minut. Niklovací lázeň měla pH 4,1. Vyloučené povlaky měly průměrnou tloušťku 10 /zm a tyto vlastnosti — vyrovnání 74 %, tažnost 4 %.
Claims (3)
- PREDMETLeskutvorná přísada pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťkách do 10 ,«m z galvanických lázní na bázi síranu nikelnatého, chloridu nebo bromidu nikelnatého a kyseliny borité v různých poměrech o pH 3,5 až 5 při teplotách 50 až 80 °C, napětí 3,8 až 5,3 V a proudových hustotách
- 2 až 10 A/dm2, vyznačená tím, že se sestává z10 až 30 hmot. % aromatických sloučenin s nenasycenou vazbou mezi uhlíky sousedícími se sulfonovou skupinou,VYNALEZU
- 3 až 50 hmot. % solí nenasycených alifatických sulfonanů,0,1 až 5 hmot. % solí alifatických esterů kyseliny sulfojantarové,0,05 až 5 hmot. % nenasycených alkoholů a jejich derivátů případně etoxylovaných do jednoho nebo více stupňů,0,01 až 5 hmot. % substituovaných sulfobetainů pyridinu a jeho derivátů,75 až 88 hmot. °/o vody a dávkuje do galvanické niklovací lázně v množství 0,5 až 5 obj. °/o.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS844067A CS241666B1 (cs) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | Leskutvorná přísada pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťkách do 10 uin |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS844067A CS241666B1 (cs) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | Leskutvorná přísada pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťkách do 10 uin |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS406784A1 CS406784A1 (en) | 1985-08-15 |
| CS241666B1 true CS241666B1 (cs) | 1986-04-17 |
Family
ID=5382586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS844067A CS241666B1 (cs) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | Leskutvorná přísada pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťkách do 10 uin |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS241666B1 (cs) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6919014B2 (en) * | 2000-05-19 | 2005-07-19 | Atotech Deutschland Gmbh | Satin-finished nickel or nickel alloy coating |
-
1984
- 1984-05-30 CS CS844067A patent/CS241666B1/cs unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6919014B2 (en) * | 2000-05-19 | 2005-07-19 | Atotech Deutschland Gmbh | Satin-finished nickel or nickel alloy coating |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS406784A1 (en) | 1985-08-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3285886B2 (ja) | 電気めっき溶液組成物 | |
| CA2275214C (en) | Process to electrolytically deposit copper layers | |
| US4428802A (en) | Palladium-nickel alloy electroplating and solutions therefor | |
| US20040187731A1 (en) | Acid copper electroplating solutions | |
| HK96586A (en) | Process for the preparation of an additive for an acid bath for the electrodeposition of copper and use thereof | |
| US3833486A (en) | Cyanide-free electroplating | |
| JPS6254397B2 (cs) | ||
| US4462874A (en) | Cyanide-free copper plating process | |
| US4252618A (en) | Method of electroplating tin and alkaline electroplating bath therefor | |
| US4521282A (en) | Cyanide-free copper electrolyte and process | |
| US5176813A (en) | Protection of lead-containing anodes during chromium electroplating | |
| CS241666B1 (cs) | Leskutvorná přísada pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťkách do 10 uin | |
| US3617451A (en) | Thiosulfate copper plating | |
| US4297179A (en) | Palladium electroplating bath and process | |
| SE502520C2 (sv) | Bad, sätt och användning vid elektroplätering med tenn- vismutlegeringar | |
| US3930965A (en) | Zinc-copper alloy electroplating baths | |
| US3617452A (en) | Gold plating | |
| CS241664B1 (cs) | Leskutvarná přísada pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťkách do .25 μΐη | |
| GB2167447A (en) | Cyanide free copper plating process | |
| US4253920A (en) | Composition and method for gold plating | |
| US3984291A (en) | Electrodeposition of tin-lead alloys and compositions therefor | |
| CS241665B1 (cs) | Leskutvijrná přísada pro elektrolytické vylučování niklových povlaků o tloušťkách do 50 μΐη | |
| CA1180677A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
| IE56353B1 (en) | Bath for the galvanic deposition of gold alloys | |
| GB2057503A (en) | Palladium Electrodeposition Compositions |