CS241666B1 - Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers - Google Patents

Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers Download PDF

Info

Publication number
CS241666B1
CS241666B1 CS844067A CS406784A CS241666B1 CS 241666 B1 CS241666 B1 CS 241666B1 CS 844067 A CS844067 A CS 844067A CS 406784 A CS406784 A CS 406784A CS 241666 B1 CS241666 B1 CS 241666B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
nickel
coatings
bath
lusture
galvanic
Prior art date
Application number
CS844067A
Other languages
Czech (cs)
Other versions
CS406784A1 (en
Inventor
Jaroslav Dostal
Zbynek Kuehnl
Miroslav Novak
Milos Novotny
Frantisek Porazil
Jiri Zaruba
Original Assignee
Jaroslav Dostal
Zbynek Kuehnl
Miroslav Novak
Milos Novotny
Frantisek Porazil
Jiri Zaruba
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jaroslav Dostal, Zbynek Kuehnl, Miroslav Novak, Milos Novotny, Frantisek Porazil, Jiri Zaruba filed Critical Jaroslav Dostal
Priority to CS844067A priority Critical patent/CS241666B1/en
Publication of CS406784A1 publication Critical patent/CS406784A1/en
Publication of CS241666B1 publication Critical patent/CS241666B1/en

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

Leskutvorná přísada pro elektrolytické vylučování niklových povlaků z galvanických lázní na bázi síranu, chloridu nebo bromidu níkelnatého a kyseliny borité v různých poměrech, založená na vhodné kombinaci 5 základních skupin organických sloučenin zajišťující svými katalytickými, synergickými a retardačními vlastnostmi podstatné snížení kiuetiky jejich rozkladu, snížení jejich sorpčních schopností a současně příznivě ovlivňuje i sorpční vlastnosti rozkladných produktů, což umožňuje při kontinuální filtraci a periodickém doplňování lázně leskutvornou přísadou i kontinuální choid galvanické lázně. Tím se dosahuje současně zvyšování stálosti galvanických lázní, vysoké vyrovnávací schopnosti, vysokého lesku vylučovaných povlaků, nízké porozity a vysoké tažnosti i dobré přilnavosti dalších povlaků. V niklovacích lázních se udržuje leskutvorná přísada v koncentraci 20 až 30 ml/ /1000 ml lázně při pracovních podmínkách teplota 55 až 70 °C a pH 3,5 až 4,5.Fluorescent additive for electrolytic deposition of nickel coatings from galvanic sulphate, chloride or nickel bromide and boric acid in different ratios based on a suitable combination 5 basic groups of organic compounds ensuring their catalytic, synergistic and retarding properties are essential reducing the kinetics of their degradation, reducing their sorption abilities and at the same time favorably it also affects the sorption properties of decomposition products, allowing for continuous filtration and periodic refilling of the bath a continuous coloring agent as well as a continuous choid galvanic bath. This simultaneously increases the stability galvanic bath, high leveling ability, high gloss excreted coatings, low porosity and high ductility and good adhesion of other coatings. It is maintained in the nickel-plating baths by the brightening additive at 20 to 30 ml / 1000 ml bath under working conditions temperature 55 to 70 ° C and pH 3.5 to 4.5.

Description

Vynález se týká leskutvorných přísad pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků z galvanických niklovacích lázní na bázi síranu nikelnatého-, chloridu nebo bromidu nikelnatébo a kyseliny borité v nejrůznějších poměrech.The present invention relates to brighteners for the electrolytic deposition of bright nickel coatings from nickel sulphate, nickel (II) chloride or bromide and boric acid galvanic baths in various proportions.

Až dosud byla pro galvanické vylučování lesklých niklových povlaků navržena a používána řada nejrůznějších přísad na bázi organických nebo anorganických látek, které jsou obvykle rozděleny do dvou tříd.To date, a wide variety of organic or inorganic additives have been designed and used for the galvanic deposition of shiny nickel coatings, which are usually divided into two classes.

Látky zařazované do· 1. třídy obsahují ve své molekule atom síry — jedná se nejčastěji o různé typy anorganických sulfokyselin a jejích esterů, sulfonamidů, sulfoimidů, sulfonů apod.Substances classified as · 1st class contain a sulfur atom in their molecule - these are most often different types of inorganic sulfo acids and its esters, sulfonamides, sulfoimides, sulfones, etc.

Do 2. třídy řadíme soli některých kovů (Zn, Cd, Pb apod.) a řadu organických sloučenin jako aldehydy, ketony, kyseliny, aminy, pyrazol, imidazoí, chinolin nebo jejich deriváty, azosloučeniny apod. Většina těchto samotných organických látek se během pokovení při pracovních podmínkách niklovací lázně tj. pH 3,5 až 4,5 a teplotách 55 až 70 °C rychle rozpadá na rozkladné produkty s negativním vlivem na chod lázně a rielze je proto samotné použít. Leskutvorný účinek samotných látek je malý nebo vůbec žádný. Výrazně se projevuje pouze v jejich určitých kombinacích, ve kterých je současně příznivě ovlivněna stabilita a podstatně zpomalena rychlost rozkladu. Při rozkladu vznikající rozkladné produkty se v galvanické lázni hromadí, což vede k poklesu kvality povlaků a projevuje se snižováním vyrovnávací schopnosti lázně, ztrátou lesku, zvýšením porozity povlaků, křehkostí, sníženou přilnavostí dalších povlaků v důsledku pasivace povrchové vrstvy. Snížení kvality povlaků může dosáhnout až hranice nepoužitelnosti.Class 2 includes salts of certain metals (Zn, Cd, Pb, etc.) and a number of organic compounds such as aldehydes, ketones, acids, amines, pyrazole, imidazoles, quinoline or their derivatives, azo compounds, etc. Most of these organic substances themselves during plating under working conditions of the nickel-plating bath, ie pH 3.5 to 4.5 and temperatures of 55 to 70 ° C, it decomposes rapidly into decomposition products with a negative effect on the operation of the bath and can therefore be used alone. The gloss-forming effect of the substances themselves is little or no. It is noticeable only in their certain combinations, in which the stability and the decomposition rate are considerably slowed down. The decomposition products formed in the galvanic bath accumulate, leading to a decrease in the quality of the coatings and manifesting itself in a reduction in the bath's buffering ability, loss of gloss, increased porosity of the coatings, brittleness, reduced adhesion of other coatings due to surface passivation. The deterioration of the quality of the coatings can reach the limit of unusability.

Z těchto důvodů je nezbytné reakční zplodiny z galvanické lázně odstraňovat. K rozkladu reakčních zplodin nejčastěji se používají silná oxidační činidla (peroxid vodíku nebo manganistan draselný] s následující absorpcí rozkladných zplodin na aktivním uhlí. Tím vznikají značné ekonomické ztráty (ztráta části' elektrolytu, rozklad prakticky celého· množství leskutvorných přísad a náklady na oxidovadla}. Odstranění reakčních produktů není dokonalé a musí se periodicky opakovat.For these reasons, it is necessary to remove the reaction products from the galvanic bath. Strong oxidizing agents (hydrogen peroxide or potassium permanganate) are most commonly used for decomposition of the reaction products, followed by absorption of the decomposition products on activated carbon, resulting in considerable economic losses (loss of part of the electrolyte, decomposition of virtually the total amount of pollutants and cost of oxidizers). The removal of the reaction products is incomplete and must be repeated periodically.

Uvedené nedostatky odstraňuje leskutvorná přísada podle vynálezu, jejíž podstataThe above-mentioned deficiencies are eliminated by the inventive brightener composition

Spočívá v tom, že sestává z 10 až 30 % hmot. aromatických sloučenin s nenasycenou vazbou mezi uhlíky sousedícími se sulfonovou skupinou, z 3 až 50 °/o hmot. solí nenasycených alifatických sulfonanů, 0,1 až 5 % hmotnostních solí- alifatických esterů kyseliny sulfojantarové, 0,05 až 5 % hmot. nenasycených alkoholů a jejich derivátů případně ethoxylovaných do jednoho nebo více stupňů, 0,01 až 5 % hmot. substituovaných sulfobetainů pyridinu a jeho derivátů, ze 75 až 88 % hmot. vody a dávkuje se do galvanické niklovací lázně v množství 0,5 až 5 % obj.It consists of 10 to 30 wt. % of aromatic compounds having an unsaturated bond between the carbons adjacent to the sulfone group, from 3 to 50 wt. % of salts of unsaturated aliphatic sulfonates, 0.1 to 5 wt.% salts of aliphatic sulfosuccinic esters, 0.05 to 5 wt. % unsaturated alcohols and derivatives thereof optionally ethoxylated to one or more stages, 0.01 to 5 wt. % of substituted sulfobetaine pyridine and its derivatives, from 75 to 88 wt. water and is added to the nickel-plating bath in an amount of 0.5 to 5% by volume.

Vhodná kombinace výše uvedených látek a jejich vzájemné poměry svými katalytickými, synerglckými a retardačními vlastnostmi zabezipečuje podstatné snížení kinetiky jejich rozpadu, snižuje sorpční schopnosti základních složek leskutvorné přísady na aktivním uhlí a současně příznivě ovlivňuje sorpční vlastnosti rozkladných produktů, což umožňuje kontinuální filtraci galvanické lázně přes aktivní uhlí a periodické doplňování lázně leskutvornou přísadou a tím i kontinuální chod lázně, který se příznivě projevuje i zvyšováním stálosti galvanických lázní, vysokou vyrovnávací schopností a leskem, nízkou pórozitou a vysokou tažností.A suitable combination of the above-mentioned substances and their relative proportions by their catalytic, synergistic and retarding properties ensures a substantial reduction of their decay kinetics, decreases the sorption properties of the basic components of the brightening agent on activated carbon, while favorably affecting the sorption properties of Coal and periodic replenishment of the bath with a gloss-forming additive and thus the continuous operation of the bath, which is positively manifested also by increasing the stability of galvanic baths, high leveling ability and gloss, low porosity and high ductility.

Dále je uveden příklad leskutvorné přísady pro galvanické vylučování lesklých niklových povlaků.The following is an example of a brightener for the galvanic deposition of shiny nickel coatings.

Příklad 1Example 1

115 g benzensulfoimidu, 45 g vinylsulřonanu sodného, 2,5 g izodecylsulfojantaranu dvojsodného, 0,8 g propargylalkoholu a 13,5 gramu fenylpyridinsulfobetainu se promísí s 870 g vody při normální teplotě v míchacím zařízení a získá se 1000 ml leskutvorné přísady vhodné pro vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťce do 10 μΐη. Tato přísada se dávkuje do galvanické lázně, jež na 1000 ml obsahuje 300 g síranu nikelnatého, 60 g chloridu nikelnatého a 40 g kyseliny borité, v množství 20 ml/1. Pokovování zkušebních vzorků bylo provedeno· při proudové hustotě 5 Á/dm2, napětí 4,5 V a teplotě 60 °C po- dobu 10 minut. Niklovací lázeň měla pH 4,1. Vyloučené povlaky měly průměrnou tloušťku 10 /zm a tyto vlastnosti — vyrovnání 74 %, tažnost 4 %.115 g of benzenesulfoimide, 45 g of sodium vinylsulphonate, 2.5 g of disodium isodecylsulfosuccinate, 0.8 g of propargyl alcohol and 13.5 g of phenylpyridine sulfobetaine are mixed with 870 g of water at room temperature in a mixer to obtain 1000 ml of a brightener suitable for shiny nickel coatings up to 10 μΐη. This additive is dispensed into a galvanic bath containing, per 1000 ml, 300 g of nickel sulfate, 60 g of nickel chloride and 40 g of boric acid in an amount of 20 ml / l. The specimens were metallized at a current density of 5 A / dm 2 , a voltage of 4.5 V and a temperature of 60 ° C for 10 minutes. The nickel bath had a pH of 4.1. The deposited coatings had an average thickness of 10 µm and these properties - 74% alignment, 4% ductility.

Claims (3)

PREDMETSUBJECT Leskutvorná přísada pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťkách do 10 ,«m z galvanických lázní na bázi síranu nikelnatého, chloridu nebo bromidu nikelnatého a kyseliny borité v různých poměrech o pH 3,5 až 5 při teplotách 50 až 80 °C, napětí 3,8 až 5,3 V a proudových hustotáchGloss-forming additive for electrolytic deposition of shiny nickel coatings up to 10 µm thick from galvanic baths based on nickel sulphate, nickel chloride or bromide and boric acid in various proportions of pH 3,5 to 5 at temperatures of 50 to 80 ° C, voltage 3, 8 to 5.3 V and current densities 2 až 10 A/dm2, vyznačená tím, že se sestává z2 to 10 A / dm 2 , characterized in that it consists of 10 až 30 hmot. % aromatických sloučenin s nenasycenou vazbou mezi uhlíky sousedícími se sulfonovou skupinou,10 to 30 wt. % of aromatic compounds with an unsaturated bond between the carbons adjacent to the sulfone group, VYNALEZUVYNALEZU 3 až 50 hmot. % solí nenasycených alifatických sulfonanů,3 to 50 wt. % salts of unsaturated aliphatic sulfonates, 0,1 až 5 hmot. % solí alifatických esterů kyseliny sulfojantarové,0.1 to 5 wt. % salts of aliphatic esters of sulfosuccinic acid, 0,05 až 5 hmot. % nenasycených alkoholů a jejich derivátů případně etoxylovaných do jednoho nebo více stupňů,0.05 to 5 wt. % of unsaturated alcohols and their derivatives, optionally ethoxylated to one or more stages, 0,01 až 5 hmot. % substituovaných sulfobetainů pyridinu a jeho derivátů,0.01 to 5 wt. % of substituted sulfobetaine pyridine and its derivatives, 75 až 88 hmot. °/o vody a dávkuje do galvanické niklovací lázně v množství 0,5 až 5 obj. °/o.75 to 88 wt. % Water and added to the electroplating nickel bath in an amount of 0.5 to 5 vol.%.
CS844067A 1984-05-30 1984-05-30 Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers CS241666B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS844067A CS241666B1 (en) 1984-05-30 1984-05-30 Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS844067A CS241666B1 (en) 1984-05-30 1984-05-30 Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS406784A1 CS406784A1 (en) 1985-08-15
CS241666B1 true CS241666B1 (en) 1986-04-17

Family

ID=5382586

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS844067A CS241666B1 (en) 1984-05-30 1984-05-30 Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS241666B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6919014B2 (en) * 2000-05-19 2005-07-19 Atotech Deutschland Gmbh Satin-finished nickel or nickel alloy coating

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6919014B2 (en) * 2000-05-19 2005-07-19 Atotech Deutschland Gmbh Satin-finished nickel or nickel alloy coating

Also Published As

Publication number Publication date
CS406784A1 (en) 1985-08-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2275214C (en) Process to electrolytically deposit copper layers
US4428802A (en) Palladium-nickel alloy electroplating and solutions therefor
EP0440027A2 (en) Additive for acid-copper electroplating baths to increase throwing power
US20040187731A1 (en) Acid copper electroplating solutions
US4033835A (en) Tin-nickel plating bath
US4469569A (en) Cyanide-free copper plating process
US3833486A (en) Cyanide-free electroplating
CN113802158A (en) Electroplating solution and application thereof, copper plating process and plated part
US4462874A (en) Cyanide-free copper plating process
US4252618A (en) Method of electroplating tin and alkaline electroplating bath therefor
US4069113A (en) Electroplating gold alloys and electrolytes therefor
US4521282A (en) Cyanide-free copper electrolyte and process
CS241666B1 (en) Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers
US3617451A (en) Thiosulfate copper plating
US4297179A (en) Palladium electroplating bath and process
US5176813A (en) Protection of lead-containing anodes during chromium electroplating
US3930965A (en) Zinc-copper alloy electroplating baths
US3617452A (en) Gold plating
CS241664B1 (en) Lustre agent for electrolytic deposition of lustre nickel coatings with thickness not more then 25 micrometers
US4253920A (en) Composition and method for gold plating
US3984291A (en) Electrodeposition of tin-lead alloys and compositions therefor
CS241665B1 (en) Lusture agent for electrolytic deposition of lustre nickel coatings with thickness not more then 5% micrometers
CA1180677A (en) Bath and process for high speed nickel electroplating
GB2167447A (en) Cyanide free copper plating process
CA1163952A (en) Palladium electrodeposition compositions and methods