CS241666B1 - Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers - Google Patents
Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers Download PDFInfo
- Publication number
- CS241666B1 CS241666B1 CS844067A CS406784A CS241666B1 CS 241666 B1 CS241666 B1 CS 241666B1 CS 844067 A CS844067 A CS 844067A CS 406784 A CS406784 A CS 406784A CS 241666 B1 CS241666 B1 CS 241666B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- nickel
- coatings
- bath
- lusture
- galvanic
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Leskutvorná přísada pro elektrolytické vylučování niklových povlaků z galvanických lázní na bázi síranu, chloridu nebo bromidu níkelnatého a kyseliny borité v různých poměrech, založená na vhodné kombinaci 5 základních skupin organických sloučenin zajišťující svými katalytickými, synergickými a retardačními vlastnostmi podstatné snížení kiuetiky jejich rozkladu, snížení jejich sorpčních schopností a současně příznivě ovlivňuje i sorpční vlastnosti rozkladných produktů, což umožňuje při kontinuální filtraci a periodickém doplňování lázně leskutvornou přísadou i kontinuální choid galvanické lázně. Tím se dosahuje současně zvyšování stálosti galvanických lázní, vysoké vyrovnávací schopnosti, vysokého lesku vylučovaných povlaků, nízké porozity a vysoké tažnosti i dobré přilnavosti dalších povlaků. V niklovacích lázních se udržuje leskutvorná přísada v koncentraci 20 až 30 ml/ /1000 ml lázně při pracovních podmínkách teplota 55 až 70 °C a pH 3,5 až 4,5.Fluorescent additive for electrolytic deposition of nickel coatings from galvanic sulphate, chloride or nickel bromide and boric acid in different ratios based on a suitable combination 5 basic groups of organic compounds ensuring their catalytic, synergistic and retarding properties are essential reducing the kinetics of their degradation, reducing their sorption abilities and at the same time favorably it also affects the sorption properties of decomposition products, allowing for continuous filtration and periodic refilling of the bath a continuous coloring agent as well as a continuous choid galvanic bath. This simultaneously increases the stability galvanic bath, high leveling ability, high gloss excreted coatings, low porosity and high ductility and good adhesion of other coatings. It is maintained in the nickel-plating baths by the brightening additive at 20 to 30 ml / 1000 ml bath under working conditions temperature 55 to 70 ° C and pH 3.5 to 4.5.
Description
Vynález se týká leskutvorných přísad pro elektrolytické vylučování lesklých niklových povlaků z galvanických niklovacích lázní na bázi síranu nikelnatého-, chloridu nebo bromidu nikelnatébo a kyseliny borité v nejrůznějších poměrech.The present invention relates to brighteners for the electrolytic deposition of bright nickel coatings from nickel sulphate, nickel (II) chloride or bromide and boric acid galvanic baths in various proportions.
Až dosud byla pro galvanické vylučování lesklých niklových povlaků navržena a používána řada nejrůznějších přísad na bázi organických nebo anorganických látek, které jsou obvykle rozděleny do dvou tříd.To date, a wide variety of organic or inorganic additives have been designed and used for the galvanic deposition of shiny nickel coatings, which are usually divided into two classes.
Látky zařazované do· 1. třídy obsahují ve své molekule atom síry — jedná se nejčastěji o různé typy anorganických sulfokyselin a jejích esterů, sulfonamidů, sulfoimidů, sulfonů apod.Substances classified as · 1st class contain a sulfur atom in their molecule - these are most often different types of inorganic sulfo acids and its esters, sulfonamides, sulfoimides, sulfones, etc.
Do 2. třídy řadíme soli některých kovů (Zn, Cd, Pb apod.) a řadu organických sloučenin jako aldehydy, ketony, kyseliny, aminy, pyrazol, imidazoí, chinolin nebo jejich deriváty, azosloučeniny apod. Většina těchto samotných organických látek se během pokovení při pracovních podmínkách niklovací lázně tj. pH 3,5 až 4,5 a teplotách 55 až 70 °C rychle rozpadá na rozkladné produkty s negativním vlivem na chod lázně a rielze je proto samotné použít. Leskutvorný účinek samotných látek je malý nebo vůbec žádný. Výrazně se projevuje pouze v jejich určitých kombinacích, ve kterých je současně příznivě ovlivněna stabilita a podstatně zpomalena rychlost rozkladu. Při rozkladu vznikající rozkladné produkty se v galvanické lázni hromadí, což vede k poklesu kvality povlaků a projevuje se snižováním vyrovnávací schopnosti lázně, ztrátou lesku, zvýšením porozity povlaků, křehkostí, sníženou přilnavostí dalších povlaků v důsledku pasivace povrchové vrstvy. Snížení kvality povlaků může dosáhnout až hranice nepoužitelnosti.Class 2 includes salts of certain metals (Zn, Cd, Pb, etc.) and a number of organic compounds such as aldehydes, ketones, acids, amines, pyrazole, imidazoles, quinoline or their derivatives, azo compounds, etc. Most of these organic substances themselves during plating under working conditions of the nickel-plating bath, ie pH 3.5 to 4.5 and temperatures of 55 to 70 ° C, it decomposes rapidly into decomposition products with a negative effect on the operation of the bath and can therefore be used alone. The gloss-forming effect of the substances themselves is little or no. It is noticeable only in their certain combinations, in which the stability and the decomposition rate are considerably slowed down. The decomposition products formed in the galvanic bath accumulate, leading to a decrease in the quality of the coatings and manifesting itself in a reduction in the bath's buffering ability, loss of gloss, increased porosity of the coatings, brittleness, reduced adhesion of other coatings due to surface passivation. The deterioration of the quality of the coatings can reach the limit of unusability.
Z těchto důvodů je nezbytné reakční zplodiny z galvanické lázně odstraňovat. K rozkladu reakčních zplodin nejčastěji se používají silná oxidační činidla (peroxid vodíku nebo manganistan draselný] s následující absorpcí rozkladných zplodin na aktivním uhlí. Tím vznikají značné ekonomické ztráty (ztráta části' elektrolytu, rozklad prakticky celého· množství leskutvorných přísad a náklady na oxidovadla}. Odstranění reakčních produktů není dokonalé a musí se periodicky opakovat.For these reasons, it is necessary to remove the reaction products from the galvanic bath. Strong oxidizing agents (hydrogen peroxide or potassium permanganate) are most commonly used for decomposition of the reaction products, followed by absorption of the decomposition products on activated carbon, resulting in considerable economic losses (loss of part of the electrolyte, decomposition of virtually the total amount of pollutants and cost of oxidizers). The removal of the reaction products is incomplete and must be repeated periodically.
Uvedené nedostatky odstraňuje leskutvorná přísada podle vynálezu, jejíž podstataThe above-mentioned deficiencies are eliminated by the inventive brightener composition
Spočívá v tom, že sestává z 10 až 30 % hmot. aromatických sloučenin s nenasycenou vazbou mezi uhlíky sousedícími se sulfonovou skupinou, z 3 až 50 °/o hmot. solí nenasycených alifatických sulfonanů, 0,1 až 5 % hmotnostních solí- alifatických esterů kyseliny sulfojantarové, 0,05 až 5 % hmot. nenasycených alkoholů a jejich derivátů případně ethoxylovaných do jednoho nebo více stupňů, 0,01 až 5 % hmot. substituovaných sulfobetainů pyridinu a jeho derivátů, ze 75 až 88 % hmot. vody a dávkuje se do galvanické niklovací lázně v množství 0,5 až 5 % obj.It consists of 10 to 30 wt. % of aromatic compounds having an unsaturated bond between the carbons adjacent to the sulfone group, from 3 to 50 wt. % of salts of unsaturated aliphatic sulfonates, 0.1 to 5 wt.% salts of aliphatic sulfosuccinic esters, 0.05 to 5 wt. % unsaturated alcohols and derivatives thereof optionally ethoxylated to one or more stages, 0.01 to 5 wt. % of substituted sulfobetaine pyridine and its derivatives, from 75 to 88 wt. water and is added to the nickel-plating bath in an amount of 0.5 to 5% by volume.
Vhodná kombinace výše uvedených látek a jejich vzájemné poměry svými katalytickými, synerglckými a retardačními vlastnostmi zabezipečuje podstatné snížení kinetiky jejich rozpadu, snižuje sorpční schopnosti základních složek leskutvorné přísady na aktivním uhlí a současně příznivě ovlivňuje sorpční vlastnosti rozkladných produktů, což umožňuje kontinuální filtraci galvanické lázně přes aktivní uhlí a periodické doplňování lázně leskutvornou přísadou a tím i kontinuální chod lázně, který se příznivě projevuje i zvyšováním stálosti galvanických lázní, vysokou vyrovnávací schopností a leskem, nízkou pórozitou a vysokou tažností.A suitable combination of the above-mentioned substances and their relative proportions by their catalytic, synergistic and retarding properties ensures a substantial reduction of their decay kinetics, decreases the sorption properties of the basic components of the brightening agent on activated carbon, while favorably affecting the sorption properties of Coal and periodic replenishment of the bath with a gloss-forming additive and thus the continuous operation of the bath, which is positively manifested also by increasing the stability of galvanic baths, high leveling ability and gloss, low porosity and high ductility.
Dále je uveden příklad leskutvorné přísady pro galvanické vylučování lesklých niklových povlaků.The following is an example of a brightener for the galvanic deposition of shiny nickel coatings.
Příklad 1Example 1
115 g benzensulfoimidu, 45 g vinylsulřonanu sodného, 2,5 g izodecylsulfojantaranu dvojsodného, 0,8 g propargylalkoholu a 13,5 gramu fenylpyridinsulfobetainu se promísí s 870 g vody při normální teplotě v míchacím zařízení a získá se 1000 ml leskutvorné přísady vhodné pro vylučování lesklých niklových povlaků o tloušťce do 10 μΐη. Tato přísada se dávkuje do galvanické lázně, jež na 1000 ml obsahuje 300 g síranu nikelnatého, 60 g chloridu nikelnatého a 40 g kyseliny borité, v množství 20 ml/1. Pokovování zkušebních vzorků bylo provedeno· při proudové hustotě 5 Á/dm2, napětí 4,5 V a teplotě 60 °C po- dobu 10 minut. Niklovací lázeň měla pH 4,1. Vyloučené povlaky měly průměrnou tloušťku 10 /zm a tyto vlastnosti — vyrovnání 74 %, tažnost 4 %.115 g of benzenesulfoimide, 45 g of sodium vinylsulphonate, 2.5 g of disodium isodecylsulfosuccinate, 0.8 g of propargyl alcohol and 13.5 g of phenylpyridine sulfobetaine are mixed with 870 g of water at room temperature in a mixer to obtain 1000 ml of a brightener suitable for shiny nickel coatings up to 10 μΐη. This additive is dispensed into a galvanic bath containing, per 1000 ml, 300 g of nickel sulfate, 60 g of nickel chloride and 40 g of boric acid in an amount of 20 ml / l. The specimens were metallized at a current density of 5 A / dm 2 , a voltage of 4.5 V and a temperature of 60 ° C for 10 minutes. The nickel bath had a pH of 4.1. The deposited coatings had an average thickness of 10 µm and these properties - 74% alignment, 4% ductility.
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS844067A CS241666B1 (en) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CS844067A CS241666B1 (en) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS406784A1 CS406784A1 (en) | 1985-08-15 |
CS241666B1 true CS241666B1 (en) | 1986-04-17 |
Family
ID=5382586
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS844067A CS241666B1 (en) | 1984-05-30 | 1984-05-30 | Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CS (1) | CS241666B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6919014B2 (en) * | 2000-05-19 | 2005-07-19 | Atotech Deutschland Gmbh | Satin-finished nickel or nickel alloy coating |
-
1984
- 1984-05-30 CS CS844067A patent/CS241666B1/en unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6919014B2 (en) * | 2000-05-19 | 2005-07-19 | Atotech Deutschland Gmbh | Satin-finished nickel or nickel alloy coating |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CS406784A1 (en) | 1985-08-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2275214C (en) | Process to electrolytically deposit copper layers | |
US4428802A (en) | Palladium-nickel alloy electroplating and solutions therefor | |
EP0440027A2 (en) | Additive for acid-copper electroplating baths to increase throwing power | |
US20040187731A1 (en) | Acid copper electroplating solutions | |
US4033835A (en) | Tin-nickel plating bath | |
US4469569A (en) | Cyanide-free copper plating process | |
US3833486A (en) | Cyanide-free electroplating | |
CN113802158A (en) | Electroplating solution and application thereof, copper plating process and plated part | |
US4462874A (en) | Cyanide-free copper plating process | |
US4252618A (en) | Method of electroplating tin and alkaline electroplating bath therefor | |
US4069113A (en) | Electroplating gold alloys and electrolytes therefor | |
US4521282A (en) | Cyanide-free copper electrolyte and process | |
CS241666B1 (en) | Lusture agent for electrolytic deposition of lusture nickel coatings with thickness not more then 1%micrometers | |
US3617451A (en) | Thiosulfate copper plating | |
US4297179A (en) | Palladium electroplating bath and process | |
US5176813A (en) | Protection of lead-containing anodes during chromium electroplating | |
US3930965A (en) | Zinc-copper alloy electroplating baths | |
US3617452A (en) | Gold plating | |
CS241664B1 (en) | Lustre agent for electrolytic deposition of lustre nickel coatings with thickness not more then 25 micrometers | |
US4253920A (en) | Composition and method for gold plating | |
US3984291A (en) | Electrodeposition of tin-lead alloys and compositions therefor | |
CS241665B1 (en) | Lusture agent for electrolytic deposition of lustre nickel coatings with thickness not more then 5% micrometers | |
CA1180677A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
GB2167447A (en) | Cyanide free copper plating process | |
CA1163952A (en) | Palladium electrodeposition compositions and methods |