DE19540011C2 - Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickel- oder Nickellegierungsniederschlägen - Google Patents
Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickel- oder NickellegierungsniederschlägenInfo
- Publication number
- DE19540011C2 DE19540011C2 DE19540011A DE19540011A DE19540011C2 DE 19540011 C2 DE19540011 C2 DE 19540011C2 DE 19540011 A DE19540011 A DE 19540011A DE 19540011 A DE19540011 A DE 19540011A DE 19540011 C2 DE19540011 C2 DE 19540011C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrolyte
- nickel
- glare
- adducts
- operated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 43
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims description 10
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 8
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical class C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 9
- -1 alkali metal salts Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 7
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 claims description 5
- RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N Poloxamer Chemical class C1CO1.CC1CO1 RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 claims description 3
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- GPUMPJNVOBTUFM-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,3-trisulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(S(O)(=O)=O)C(S(=O)(=O)O)=CC2=C1 GPUMPJNVOBTUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N captafol Chemical compound C1C=CC[C@H]2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)C(Cl)Cl)C(=O)[C@H]21 JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 2
- JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N azane;7-fluoro-2,1,3-benzoxadiazole-4-sulfonic acid Chemical compound N.OS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C2=NON=C12 JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 abstract 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 7
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 6
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 4
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N Benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- DIKJULDDNQFCJG-UHFFFAOYSA-M sodium;prop-2-ene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC=C DIKJULDDNQFCJG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000003455 sulfinic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur galvanischen
Abscheidung von blendfreien Nickelniederschlägen auf einer
metallischen Oberfläche. Der Begriff Nickelniederschläge
umfaßt auch Nickellegierungsniederschläge. Der Begriff
metallische Oberfläche umfaßt auch metallisierte Ober
flächen von nichtmetallischen Gegenständen.
Bei dem bekannten Verfahren, von dem die Erfindung ausgeht
(DE 16 21 085 A1), wird mit einem Watts'schen Elektrolyten
gearbeitet, dem ein übliches Grundglanzmittel beigegeben
wird. Zum Begriff Watts'scher Elektrolyt wird verwiesen auf
LPW "Taschenbuch für Galvanotechnik", Band 1, Verfahrens
technik, 13. Ausgabe 1988, (S. 173 bis 177). Im Rahmen der
bekannten Maßnahmen, von denen die Erfindung ausgeht,
werden zum Zwecke der Erzeugung der blendfreien
Nickelniederschläge substituierte und/oder unsubstituierte
Äthylenoxid-Addukte oder Propylenoxid-Addukte oder Äthylen
oxid-Propylenoxid-Addukte verwendet und dem Elektrolyten
beigegeben. Dabei wird mit einer Konzentration der Addukte
im Bereich von 5 bis 100 mg/l gearbeitet. Die Abscheidung
wird so betrieben, daß der Elektrolyt eine Temperatur im
Bereich von 40 bis 75°C aufweist. Die Addukte werden so
ausgewählt, daß die Addukte im arbeitenden Elektrolyten
eine feindisperse Emulsion bilden, die sich als Trübung
äußert. Die Tröpfchen der Emulsion werden als Grund dafür
angesehen, daß sich eine blendfreie Oberfläche bildet. Die
Blendfreiheit ist jedoch verbesserungsbedürftig. Zwar wird
der Ausdruck blendfrei zur Kennzeichnung der Oberfläche der
Nickelabscheidung im Rahmen der bekannten Maßnahmen
benutzt, der erreichte Effekt ist jedoch eher ein
satinartiger Glanz und dieser Ausdruck wird für die im
Rahmen der bekannten Maßnahmen erreichbaren Effekte in der
Praxis auch verwendet (vgl. DE 16 21 085). Die
Blendfreiheit ist also verbesserungsbedürftig. Im einzelnen
ist zu den bekannten Maßnahmen folgendes zu bemerken: Die
zum Zwecke der Erzeugung der satinartig glänzenden
Nickelniederschläge im Rahmen der bekannten Maßnahmen
beigegebenen Substanzen sind nichtionogene Tenside. Diese
fallen bei höherer Elektrolyttemperatur aus. Sie bilden
einen organischen Fremdstoff im Elektrolyten, und zwar in
Form einer Emulsion. Es versteht sich, daß natürlich nicht
jedes beliebige nichtionogene Tensid Verwendung finden
kann, da der Trübungspunkt, das heißt, die Elektro
lyttemperatur, bei der das Tensid ausfällt, von der
chemischen Struktur und der Konzentration der Substanzen im
Elektrolyten abhängt. Zusätzlich geht ebenfalls die
Salzfracht des Elektrolyten in die Höhe des Trübungspunktes
ein. Trotz des mehr oder weniger fein verteilten Zustandes
der Emulsionstropfen ist die Gefahr der Zusammenballung zu
unpassend großen Konglomeraten aus Emulsionstropfen die die
satinglanzartige Abscheidung stören, so groß, daß besondere
Maßnahmen zwingend erforderlich sind, um das Verfahren
dauerhaft in der Praxis einsetzen zu können. Es ist
erforderlich, den Elektrolyten in einem entsprechend
dimensionierten Nebenkreislauf abzukühlen, damit der
Trübungspunkt des nichtionogenen Tensides deutlich
unterschritten wird und dieses sich im Elektrolyten löst.
Anschließend wird der Elektrolyt wieder auf die erforder
liche Arbeitstemperatur aufgeheizt. Der Betrieb und die
Steuerung der bekannten Maßnahmen müssen sehr vorsichtig
erfolgen, wenn anders sich auch schwarze Poren bilden
können. Insoweit sind die Blendfreiheit und die
Reproduzierbarkeit nicht ausreichend und nicht störungsfrei
gesichert.
Um die beschrieben Mängel zu vermeiden, ist es bekannt
(DE 23 27 881 C3), mit besonderen Fremdsubstanzen zu
arbeiten. Im Rahmen der insoweit bekannten Maßnahmen werden
organische Fremdsubstanzen im Elektrolyten durch Reaktion
zumindest einer kationenaktiven bzw. amphoteren Substanz
mit organischen Anionen wenigstens einer Verbindung,
erzeugt. Diese Anionen liefernden Substanzen sind unter
anderem Alkyl- oder Arylsulfate, -sulfonsäuren sowie
-sulfinsäuren wie Sulfonamide und Sulfonimide. Für den
entblendeten, aber glänzenden Charakter soll der Elektrolyt
zusätzlich bekannte primäre und/oder sekundäre Glanzmittel
enthalten. Diese organischen Fremdstoffe ergeben für
gewisse Produktionszeitspannen eine dekorativ brauchbare
Entblendung in Form eines Matteffektes. Nach dieser
Zeitspanne müssen die Fremdsubstanzen jedoch infolge von
Agglomerationserscheinungen abgefiltert werden. Das ist
aufwendig. Hinzu kommt, daß für den nächsten Arbeitszyklus
die organischen Fremdsubstanzen jeweils erneut gebildet
werden müssen, was ebenfalls aufwendig ist.
Der Erfindung liegt das technische Problem zugrunde, das
Verfahren des eingangs beschriebenen Aufbaus und der ein
gangs beschriebenen Zweckbestimmung so zu führen, daß
reproduzierbar eine wesentlich verbesserte definierte
Blendfreiheit erreicht wird.
Zur Lösung dieses technischen Problems ist Gegenstand der
Erfindung ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung von
blendfreien Nickelniederschlägen auf einer metallischen
Oberfläche mit den Merkmalen:
- 1.1) es wird mit einem Elektrolyten der Gruppe "Watts'scher Elektrolyt, Elektrolyte auf Basis von Sulfamat, Sulfonat, Fluoroborat" oder Mischungen davon gearbeitet, dem ein übliches Grundglanzmittel beigegeben worden ist,
- 1.2) es werden zum Zwecke der Erzeugung der blendfreien Nickelniederschläge substituierte und/oder un substituierte Äthylenoxid-Addukte oder Propylen oxid-Addukte oder Äthylenoxid-Propylenoxid-Addukte verwendet und dem Elektrolyten beigegeben,
- 1.3) die Konzentration der gemäß 1.2) beigegebenen Addukte wird in einen Bereich von größer Null bis kleiner 5 mg/l gewählt,
- 1.4) bei der galvanischen Abscheidung wird der Elektro lyt in einem Temperaturbereich von 40 bis 75°C betrieben,
mit der Maßgabe, daß die Konzentration gemäß 1.3) und die
Temperatur gemäß 1.4) so gewählt werden, daß der arbeitende
Elektrolyt bei Augeninspektion klar erscheint und bei
Lichtdurchfall eine diffuse Streuung praktisch nicht zeigt.
Elektrolyt steht für elektrolytisches Bad. Im allgemeinen
wird man mit einem Elektrolyten arbeiten, der eine
Richtanalyse mit 70 bis 140 g/l Nickel, 1 bis 20 g/l
Chlorid, 30 bis 50 g/l H3
BO3
und im Rest das
Grundglanzmittel sowie die Addukte und außerdem Wasser
aufweist. Nach bevorzugter Ausführungsform der Erfindung
werden als übliche Grundglanzmittel "Sulfonsäuren wie
Benzolsulfonsäure, Naphthalintrisulfonsäure, Alkansulfon
säuren oder auch Sulfonamide oder Sulfonimide oder die
entsprechenden Alkalisalze" oder Mischungen davon ver
wendet, und zwar in einer Menge von 0,5 bis 10 g/l. Als
Grundglanzmittel werden nach bevorzugter Ausführungsform
der Erfindung eine Substanz der Gruppe "der ungesättigten
aliphatischen Sulfonsäuren oder deren Alkalisalze" oder
Mischungen davon verwendet. Die Konzentration der
beigegebenen Grundglanzmittel wird zweckmäßigerweise im
Bereich von 0,5 bis 10 g/l gewählt. - Vorzugsweise wird bei
der elektrolytischen Abscheidung der Elektrolyt in einem
Temperaturbereich von 50 bis 65°C betrieben. Dem
Elektrolyten können weiterhin Netzmittel sowie organische
Sulfinsäuren bzw. deren Alkalisalze zugesetzt werden.
Die Erfindung geht von der Erkenntnis aus, daß auch ohne
Bildung einer sichtbaren, trüben Emulsion und entsprechen
der organischer Fremdkörper in dem Elektrolyten eine
qualitativ hochwertige Entblendung erreicht wird, wenn nach
der Lehre der Erfindung Verfahren wird. Die erfindungsgemäß
aufgebrachte Nickelschicht hat eine ganz andere Struktur
als die nach dem eingangs beschriebenen bekannten Verfahren
erzeugte. Das wird weiter unten im Zusammenhang mit
Ausführungsbeispielen erläutert. Es kann dahingestellt
bleiben, ob erfindungsgemäß überhaupt noch tropfenförmige
Ausfällungen auftreten. Tropfenförmige Ausfällungen sind im
Rahmen der Erfindung Ausfällungen, die hauptsächlich über
die Oberflächenspannung als Tropfen stabilisiert sind.
Jedenfalls treten die Effekte ein, die für die qualitativ
hochwertige reproduzierbare Blendfreiheit erforderlich sind
- und überraschenderweise werden störende Konglomerate, die
die Blendfreiheit stören und abgefiltert werden müssen,
nicht beobachtet.
Im Rahmen der Erfindung können die Stromdichten weitgehend
den betrieblichen Verhältnissen angepaßt werden. Bewährt
hat es sich, den Elektrolyten mit einer Stromdichte von 0,1
bis 10 A/dm2 zu betreiben. Vorzugsweise wird der Elektrolyt
mit einer Stromdichte von etwa 4 A/dm2 betrieben. Auch die
Behandlungszeit für die Nickelabscheidung ist weitgehend
beliebig und betrieblichen Verhältnissen anpaßbar,
insbesondere auch der Schichtdicke. Vorzugsweise wird im
Rahmen der Erfindung mit einer Behandlungszeit für die
Nickelabscheidung gearbeitet, die 1 bis 120 min., vor
zugsweise etwa 10 min. beträgt. Der Elektrolyt kann stets
nebenkreislauffrei betrieben werden. Nebenkreislauffrei
bedeutet, daß ein Nebenkreislauf mit Filtereinrichtungen
oder Kühleinrichtungen nicht erforderlich ist.
Zur Abscheidung eines blendfreien Nickelniederschlages
wurde einem Elektrolyten mit
550 g/l NiSO4 × 7 H2O,
50 g/l NiCl2 × 6 H2O,
40 g/l H3BO3,
2,6 g/l Benzoesäuresulfonimid-Natriumsalz, 1,8 g/l 2-Pro pensulfonat-Natriumsalz und 1,5 mg/l Polyethylenglykolme thylether (Molmasse 5000) zugesetzt. Bei einem pH-Wert von 3,8 bis 4,4 und einer Temperatur von 55°C lieferte der klare Elektrolyt bei einer Stromdichte von 5 A/dm2 und einer Behandlungszeit von 10 min. bei leichter Warenbewe gung auf einem Messingblech eine blendarme Nickelschicht mit einem Metallic-Effekt. Bild 1 zeigt die Oberfläche dieses Nickelniederschlages im Maßstab 600 : 1.
550 g/l NiSO4 × 7 H2O,
50 g/l NiCl2 × 6 H2O,
40 g/l H3BO3,
2,6 g/l Benzoesäuresulfonimid-Natriumsalz, 1,8 g/l 2-Pro pensulfonat-Natriumsalz und 1,5 mg/l Polyethylenglykolme thylether (Molmasse 5000) zugesetzt. Bei einem pH-Wert von 3,8 bis 4,4 und einer Temperatur von 55°C lieferte der klare Elektrolyt bei einer Stromdichte von 5 A/dm2 und einer Behandlungszeit von 10 min. bei leichter Warenbewe gung auf einem Messingblech eine blendarme Nickelschicht mit einem Metallic-Effekt. Bild 1 zeigt die Oberfläche dieses Nickelniederschlages im Maßstab 600 : 1.
In Bild 1 erkennt man einen Niederschlag in Form einer
Tropfenstruktur, der ein Tröpfendurchmesser von 1 bis 7 µm
zugeordnet werden kann.
Zur Abscheidung eines blendfreien Nickelniederschlages
wurde einem Elektrolyten mit
265 g/l NiSO4 × 7 H2O,
53 g/l NiCl2 × 6 H2O,
33 g/l H3BO3,
1 g/l Benzoesäuresulfonimid-Natriumsalz sowie 30 mg/l Propylenoxid-Ethylenoxid-Blockpolymer (Molmasse 2500) zuge setzt. Bei einem pH-Wert von 4,2 bis 4,4 und einer Temperatur von 52°C lieferte der trübe Elektrolyt bei einer Stromdichte von 5 A/dm2, Arbeitszeit 10 min., bei leichter Warenbewegung auf einem Messingblech einen seidenmatten, blendarmen Nickelniederschlag. Bild 2 zeigt die Oberfläche dieses Niederschlages im Maßstab 600 : 1.
265 g/l NiSO4 × 7 H2O,
53 g/l NiCl2 × 6 H2O,
33 g/l H3BO3,
1 g/l Benzoesäuresulfonimid-Natriumsalz sowie 30 mg/l Propylenoxid-Ethylenoxid-Blockpolymer (Molmasse 2500) zuge setzt. Bei einem pH-Wert von 4,2 bis 4,4 und einer Temperatur von 52°C lieferte der trübe Elektrolyt bei einer Stromdichte von 5 A/dm2, Arbeitszeit 10 min., bei leichter Warenbewegung auf einem Messingblech einen seidenmatten, blendarmen Nickelniederschlag. Bild 2 zeigt die Oberfläche dieses Niederschlages im Maßstab 600 : 1.
Man erkennt einen Niederschlag in Form einer
Tropfenstruktur, der ein Tröpfchendurchmesser von 5 bis 20
µm zugeordnet werden kann.
Die Blendfreiheit der Beschichtung nach Beispiel 1 ist
gegenüber der Ausführungsform nach Beispiel 2 deutlich
verbessert.
Zur Abscheidung eines blendfreien Nickellegierungsnieder
schlages wurde einem Elektrolyten mit
550 g/l NiSO4 × 7 H2O,
50 g/l CoSO4 × 7 H2O,
30 g/l NiCl2 × 6 H2O,
40 g/l H3BO3,
2,6 g/l Benzoesäuresulfonimid-Natriumsalz, 1,8 g/l 2- Propensulfonat-Natriumsalz und 1,5 mg/l Polyethylen glykolmethylether (Molmasse 5000) zugesetzt. Bei einem ph- Wert von 3,8-4,4 und einer Temperatur von 55°C lieferte der klare Elektrolyt bei einer Stromdichte von 5 A/dm2 und einer Behandlungszeit von 10 min. bei leichter Waren bewegung auf einem Messingblech eine blendarme Nickel- Kobalt-Schicht mit Metallic-Effekt. Die Schicht enthielt 68% Nickel und 32% Kobalt.
550 g/l NiSO4 × 7 H2O,
50 g/l CoSO4 × 7 H2O,
30 g/l NiCl2 × 6 H2O,
40 g/l H3BO3,
2,6 g/l Benzoesäuresulfonimid-Natriumsalz, 1,8 g/l 2- Propensulfonat-Natriumsalz und 1,5 mg/l Polyethylen glykolmethylether (Molmasse 5000) zugesetzt. Bei einem ph- Wert von 3,8-4,4 und einer Temperatur von 55°C lieferte der klare Elektrolyt bei einer Stromdichte von 5 A/dm2 und einer Behandlungszeit von 10 min. bei leichter Waren bewegung auf einem Messingblech eine blendarme Nickel- Kobalt-Schicht mit Metallic-Effekt. Die Schicht enthielt 68% Nickel und 32% Kobalt.
Claims (10)
1. Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien
Nickelniederschlägen oder Nickellegierungsniederschlägen
auf einer metallischen Oberfläche mit den Merkmalen:
- 1. 1.1) es wird mit einem Elektrolyten der Gruppe "Watts'scher Elektrolyt, Elektrolyte auf Basis von Sulfamat, Sulfonat, Fluoroborat" oder Mischungen davon gearbeitet, dem ein übliches Grundglanz mittel beigegeben worden ist,
- 2. 1.2) es werden zum Zwecke der Erzeugung der blendfreien Niederschläge substituierte und/oder un substituierte Äthylenoxid-Addukte oder Propylen oxid-Addukte oder Äthylenoxid-Propylenoxid-Addukte verwendet und dem Elektrolyten beigegeben,
- 3. 1.3) die Konzentration der gemäß 1.2) beigegebenen Addukte wird in einem Bereich von größer Null bis kleiner 5 mg/l gewählt,
- 4. 1.4) bei der galvanischen Abscheidung wird, der Elektrolyt in einem Temperaturbereich von 40 bis 75°C betrieben,
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei mit einem Watts'schen
Elektrolyten gearbeitet wird, der eine Richtanalyse mit
70 bis 140 g/l Nickel,
1 bis 20 g/l Chlorid,
30 bis 50 g/l H3BO3
und im Rest das Grundglanzmittel und die Addukte sowie Wasser aufweist.
70 bis 140 g/l Nickel,
1 bis 20 g/l Chlorid,
30 bis 50 g/l H3BO3
und im Rest das Grundglanzmittel und die Addukte sowie Wasser aufweist.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, wobei als
Grundglanzmittel eine Substanz der Gruppe "2-Sulfoben
zoesäureimid, 1,3-Benzoldisolfonsäure und Naphthalintrisul
fonsäure oder deren Alkalisalze" oder Mischungen davon bzw.
"Arylsulfonsäuren, Alkylsulfonsäuren, Sulfonamide und Sul
fonimide oder deren Alkalisalze" oder Mischungen davon ver
wendet werden, und zwar in einer Menge von 0,5 bis 10 g/l.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, wobei als
Grundglanzmittel eine Substanz der Gruppe "ungesättigte
aliphatische Sulfonsäuren oder deren Alkalisalze" oder
Mischungen davon verwendet werden.
5. Verfahren nach Anspruch 4, wobei die Konzentration der
beigegebenen Grundglanzmittel in einem Bereich von 0,5 bis
10 g/l gewählt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei bei
der galvanischen Abscheidung der Elektrolyt in einem
Temperaturbereich von 50 bis 65°C betrieben wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei der
Elektrolyt mit einer Stromdichte von 0,1 bis 10 A/dm2
betrieben wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der
Elektrolyt mit einer Stromdichte von etwa 4 A/dm2 betrieben
wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei mit
einer Behandlungszeit für die Nickelabscheidung gearbeitet
wird, die 1 bis 120 min., vorzugsweise etwa 10 min.,
beträgt.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei der
Elektrolyt nebenkreislauffrei betrieben wird.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19540011A DE19540011C2 (de) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickel- oder Nickellegierungsniederschlägen |
EP96116639A EP0770710B2 (de) | 1995-10-27 | 1996-10-17 | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickelniederschlägen |
ES96116639T ES2128135T5 (es) | 1995-10-27 | 1996-10-17 | Procedimiento para el deposito galvanico de precipitados de niquel antideslumbrantes. |
AT96116639T ATE175453T1 (de) | 1995-10-27 | 1996-10-17 | Verfahren zur galvanischen abscheidung von blendfreien nickelniederschlägen |
DE59601103T DE59601103D1 (de) | 1995-10-27 | 1996-10-17 | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickelniederschlägen |
JP8284052A JPH09202987A (ja) | 1995-10-27 | 1996-10-25 | 無光沢のニッケル層を電気的に析出させて形成する方法 |
US08/736,906 US5897763A (en) | 1995-10-27 | 1996-10-25 | Method of electroplating glare-free nickel deposits |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19540011A DE19540011C2 (de) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickel- oder Nickellegierungsniederschlägen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19540011A1 DE19540011A1 (de) | 1997-04-30 |
DE19540011C2 true DE19540011C2 (de) | 1998-09-10 |
Family
ID=7775920
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19540011A Expired - Lifetime DE19540011C2 (de) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickel- oder Nickellegierungsniederschlägen |
DE59601103T Expired - Lifetime DE59601103D1 (de) | 1995-10-27 | 1996-10-17 | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickelniederschlägen |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE59601103T Expired - Lifetime DE59601103D1 (de) | 1995-10-27 | 1996-10-17 | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickelniederschlägen |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5897763A (de) |
EP (1) | EP0770710B2 (de) |
JP (1) | JPH09202987A (de) |
AT (1) | ATE175453T1 (de) |
DE (2) | DE19540011C2 (de) |
ES (1) | ES2128135T5 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1656255B (zh) * | 2002-05-23 | 2010-06-16 | 埃托特克德国有限公司 | 用于电解沉积缎纹镍沉积物的酸电镀浴及方法 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6248228B1 (en) * | 1999-03-19 | 2001-06-19 | Technic, Inc. And Specialty Chemical System, Inc. | Metal alloy halide electroplating baths |
JP2002540291A (ja) * | 1999-03-19 | 2002-11-26 | テクニツク・インコーポレーテツド | 電気めっき槽 |
US6251253B1 (en) * | 1999-03-19 | 2001-06-26 | Technic, Inc. | Metal alloy sulfate electroplating baths |
US6797141B1 (en) * | 1999-11-25 | 2004-09-28 | Enthone Inc. | Removal of coagulates from a non-glare electroplating bath |
US6306275B1 (en) * | 2000-03-31 | 2001-10-23 | Lacks Enterprises, Inc. | Method for controlling organic micelle size in nickel-plating solution |
DE10025552C1 (de) | 2000-05-19 | 2001-08-02 | Atotech Deutschland Gmbh | Saures galvanisches Nickelbad und Verfahren zum Abscheiden eines satinglänzenden Nickel- oder Nickellegierungsüberzuges |
DE502006009414D1 (de) * | 2006-01-06 | 2011-06-09 | Enthone | Elektrolyt und verfahren zur abscheidung einer matten metallschicht |
PL2620529T3 (pl) * | 2012-01-25 | 2014-09-30 | Atotech Deutschland Gmbh | Sposób wytwarzania matowych warstw miedzianych |
JP6760166B2 (ja) | 2017-03-23 | 2020-09-23 | トヨタ自動車株式会社 | ニッケル皮膜の形成方法及び当該方法に使用するためのニッケル溶液 |
US11505867B1 (en) | 2021-06-14 | 2022-11-22 | Consolidated Nuclear Security, LLC | Methods and systems for electroless plating a first metal onto a second metal in a molten salt bath, and surface pretreatments therefore |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1621085A1 (de) * | 1967-05-16 | 1971-03-11 | Henkel & Cie Gmbh | Saures galvanisches Bad zur Erzeugung satinglaenzender Nickelniederschlaege |
DE2327881C3 (de) * | 1973-06-01 | 1979-02-08 | Langbein-Pfanhauser Werke Ag, 4040 Neuss |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2238861A (en) * | 1938-07-06 | 1941-04-15 | Harshaw Chem Corp | Electrodeposition of metals |
DE1134258B (de) * | 1959-05-06 | 1962-08-02 | Dehydag Gmbh | Saures galvanisches Nickelbad |
US3839166A (en) * | 1967-05-16 | 1974-10-01 | Henkel & Cie Gmbh | Method for obtaining nickel deposits with satin finish |
US3839165A (en) * | 1967-08-26 | 1974-10-01 | Henkel & Cie Gmbh | Nickel electroplating method |
BE794695A (fr) * | 1972-01-29 | 1973-05-16 | W Kampschulte & Cie K G Dr | Bain galvanique de nickel pour la separation de revetements de nickel satines mats |
JPS56152988A (en) * | 1980-04-30 | 1981-11-26 | Nobuyuki Koura | Nickel satin finish plating bath of heavy ruggedness |
JPS61238993A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 電気メツキ浴用添加剤 |
JPS62205041A (ja) * | 1986-03-05 | 1987-09-09 | Nisso Yuka Kogyo Kk | 1,4−ブチンジオ−ルのヒドロキシアルキルエ−テル化物の製造方法およびこれを用いたニツケルメツキ処理液 |
-
1995
- 1995-10-27 DE DE19540011A patent/DE19540011C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-10-17 AT AT96116639T patent/ATE175453T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-10-17 ES ES96116639T patent/ES2128135T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-17 EP EP96116639A patent/EP0770710B2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-17 DE DE59601103T patent/DE59601103D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-25 JP JP8284052A patent/JPH09202987A/ja active Pending
- 1996-10-25 US US08/736,906 patent/US5897763A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1621085A1 (de) * | 1967-05-16 | 1971-03-11 | Henkel & Cie Gmbh | Saures galvanisches Bad zur Erzeugung satinglaenzender Nickelniederschlaege |
DE2327881C3 (de) * | 1973-06-01 | 1979-02-08 | Langbein-Pfanhauser Werke Ag, 4040 Neuss |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
BRUGGER: Die galvan. Vernickelung, 2. Aufl., LEUZE Verlag, Saulgau, 1984, S. 15-19 * |
Galvanotechnik 62(1971)4, S. 327-331 * |
LPW "Handbuch der Galvanotechnik", Band 1, 13. Ausgabe, 1988, S. 173-177 * |
Metalloberfläche 25(1971)10, S. 345-352 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1656255B (zh) * | 2002-05-23 | 2010-06-16 | 埃托特克德国有限公司 | 用于电解沉积缎纹镍沉积物的酸电镀浴及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2128135T3 (es) | 1999-05-01 |
JPH09202987A (ja) | 1997-08-05 |
US5897763A (en) | 1999-04-27 |
ATE175453T1 (de) | 1999-01-15 |
DE19540011A1 (de) | 1997-04-30 |
EP0770710A1 (de) | 1997-05-02 |
EP0770710B2 (de) | 2002-08-14 |
DE59601103D1 (de) | 1999-02-18 |
EP0770710B1 (de) | 1999-01-07 |
ES2128135T5 (es) | 2003-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19540011C2 (de) | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickel- oder Nickellegierungsniederschlägen | |
DE1063003B (de) | Verfahren zur elektrolytischen Herstellung hochglaenzender Nickelueberzuege | |
DE10025552C1 (de) | Saures galvanisches Nickelbad und Verfahren zum Abscheiden eines satinglänzenden Nickel- oder Nickellegierungsüberzuges | |
DE2417952A1 (de) | Verfahren zur galvanischen abscheidung von nickel und/oder kobalt | |
DE10222962A1 (de) | Saurer galvanischer Badelektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung satinglänzender Nickelniederschläge | |
DE2630980C2 (de) | ||
DE2537065C2 (de) | ||
DE2718285A1 (de) | Verfahren und zusammensetzung zur herstellung einer galvanischen abscheidung | |
DE2431332C2 (de) | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzendem Nickel-Eisen | |
DE2459428C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Glanzbildners für saure galvanische Zinnbäder und dessen Verwendung | |
DE2352970C2 (de) | Wäßriges saures Nickelbad zum galvanischen Abscheiden von Glanznickelschichten vom Dispersionstyp und dessen Verwendung | |
DE3149043A1 (de) | "bad zur galvanischen abscheidung duenner weisser palladiumueberzuege und verfahren zur herstellung solcher ueberzuege unter verwendung des bades" | |
DE2835539A1 (de) | Verfahren und bad zur galvanischen abscheidung von glaenzendem bis spiegelndem zink | |
DE2215737C3 (de) | Wäßriges saures galvanisches Halbglanznickelbad | |
DE2333069A1 (de) | Elektrolytische abscheidung von glaenzenden nickel-eisen-ueberzuegen | |
DE2642666A1 (de) | Verfahren und zusammensetzung zur herstellung einer galvanischen abscheidung | |
DE2815786C2 (de) | Wäßriges Bad und Verfahren elektrochemischen Abscheidung von glänzenden Eisen-Nickel-Überzügen | |
DE1621031A1 (de) | Elektroabscheider von Nickel | |
DE2541304A1 (de) | Verfahren und bad zur galvanischen abscheidung von eisenlegierungen | |
DE3108466C2 (de) | Verwendung eines Acetylenalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung | |
DE1023648B (de) | Bad und Verfahren zur galvanischen Erzeugung glaenzender und einebnender Nickelueberzuege | |
DE2743847A1 (de) | Verfahren zur galvanischen abscheidung von nickel und kobalt alleine oder als binaere oder ternaere legierungen | |
DE1496898C3 (de) | Verfahren zur galvanischen Ab scheidung von stark glanzenden und eingeebneten Nickelschichten | |
DE957615C (de) | Mehrstufige galvanische Glanzvernickelung | |
DE2620963A1 (de) | Verfahren und bad zur herstellung eines galvanischen ueberzugs |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8365 | Fully valid after opposition proceedings | ||
R071 | Expiry of right |