JPH09202987A - 無光沢のニッケル層を電気的に析出させて形成する方法 - Google Patents
無光沢のニッケル層を電気的に析出させて形成する方法Info
- Publication number
- JPH09202987A JPH09202987A JP8284052A JP28405296A JPH09202987A JP H09202987 A JPH09202987 A JP H09202987A JP 8284052 A JP8284052 A JP 8284052A JP 28405296 A JP28405296 A JP 28405296A JP H09202987 A JPH09202987 A JP H09202987A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrolyte
- acid
- concentration
- nickel
- brightener
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 27
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 title 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 26
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical class C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 6
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 18
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 16
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 14
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 4
- JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N captafol Chemical compound C1C=CC[C@H]2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)C(Cl)Cl)C(=O)[C@H]21 JHRWWRDRBPCWTF-OLQVQODUSA-N 0.000 claims description 3
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 claims description 3
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 claims description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 238000005282 brightening Methods 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- GPUMPJNVOBTUFM-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,3-trisulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(O)(=O)=O)=C(S(O)(=O)=O)C(S(=O)(=O)O)=CC2=C1 GPUMPJNVOBTUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims 1
- WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N azane;7-fluoro-2,1,3-benzoxadiazole-4-sulfonic acid Chemical compound N.OS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C2=NON=C12 JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 1
- CTYRPMDGLDAWRQ-UHFFFAOYSA-N phenyl hydrogen sulfate Chemical compound OS(=O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CTYRPMDGLDAWRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 再現可能に、実質的に無光沢化ないし非光沢
性化を達成し得る、電気的ニッケル析出層の形成方法を
提供すること。 【解決手段】 電解液に添加されるべきアルキレン付加
物の濃度（５ｍｇ／ｌまで）および、電解液の温度（４
０から７５℃）を、電解液が透明（非混濁）に見え、入
射光が散乱しないように選定する方法。
性化を達成し得る、電気的ニッケル析出層の形成方法を
提供すること。 【解決手段】 電解液に添加されるべきアルキレン付加
物の濃度（５ｍｇ／ｌまで）および、電解液の温度（４
０から７５℃）を、電解液が透明（非混濁）に見え、入
射光が散乱しないように選定する方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属面上に無光沢
のニッケル層を電気的に析出させて形成する方法に関す
る。ここでニッケル析出層と称するのは、ニッケル合金
層を含めて意味し、また金属面と称するのは、非金属基
体面を含めて意味する。
のニッケル層を電気的に析出させて形成する方法に関す
る。ここでニッケル析出層と称するのは、ニッケル合金
層を含めて意味し、また金属面と称するのは、非金属基
体面を含めて意味する。
【０００２】
【従来の技術】本発明の出発点を成す公知方法（西独特
願公開１６２１０８５号公報）においては、慣用の基礎
光沢剤を添加したワット電解液で析出層形成される。こ
のワット電解液に関しては、１９８８年第１３版、「タ
ッシェンブーフ、フユール、ガルヴァノテヒニーク」第
１巻、「フェルファーレンステヒニーク」１７３−１７
７頁を参照され度い。本発明の出発点を成すこの公知技
術においては、無光沢ニッケル析出層を形成するため
に、置換および／または非置換エチレンオキシド付加物
もしくはプロピレンオキシド付加物あるいはエチレンオ
キシド／プロピレンオキシド付加物を使用し、これを電
解液に添加する。この場合、付加物の濃度、すなわち添
加割合は、５から１００ｍｇ／ｌの範囲になされ、析出
は電解液が４０から７５℃の範囲の温度を示すようにし
て行われる。付加物の量は、これが処理電解液に添加さ
れて、混濁した高分散乳濁液が形成されるように選定さ
れる。この公知方法によるニッケル析出層表面の特徴を
「無光沢」ないし「非光沢性」と称しているが、実際に
形成される表面は、シュス（サテン）様の光沢を示す。
この無光沢なる表現は、他の公知方法で形成される析出
層表面についても使用されている（上記西独特願公開１
６２１０８５号公報）。従って、この無光沢ないし非光
沢性なる用語も改善されねばならない。上記公知方法に
ついては、具体的に以下の点を認識すべきである。すな
わち、シュス様光沢を示すこのニッケル析出層を形成す
るために当該公知方法において添加される物質は、非イ
オン性表面活性剤であって、これは高温電解浴中におい
て沈澱し、電解液（乳濁液形態）中に有機異質物を形成
する。当然のことではあるが、任意の非イオン表面活性
剤を使用することはできない。混濁温度、すなわち表面
活性剤が沈澱する電解液温度は、この物質の化学的構造
および電解液中の濃度に依存するからである。高い混濁
温度においては、同様に電解液の塩含有分も影響を受け
る。このために、程度の差はあっても、乳濁液の液滴
が、高分散状態に在るにもかかわらず、凝集して、液滴
の不都合な集塊がもたらされ、これがシュス様光沢を示
す析出層の形成を阻害し、この層析出方法を持続させる
ためには、特別の対策を構ずる必要がある。このため
に、対応する規模、サイズの側流循環路で電解液を冷却
し、非イオン表面活性剤の混濁温度を低下させて、これ
を電解液に溶解させる。次いで電解液を再び必要な作用
温度に加熱する。上記公知方法の実施および制御は、ま
た黒色ピンホール形成のおそれがある場合、極めて慎重
に行われねばならない。それでも、非光沢性と再現可能
性は充分ではなく、また上述の障害がもたされない保障
はない。
願公開１６２１０８５号公報）においては、慣用の基礎
光沢剤を添加したワット電解液で析出層形成される。こ
のワット電解液に関しては、１９８８年第１３版、「タ
ッシェンブーフ、フユール、ガルヴァノテヒニーク」第
１巻、「フェルファーレンステヒニーク」１７３−１７
７頁を参照され度い。本発明の出発点を成すこの公知技
術においては、無光沢ニッケル析出層を形成するため
に、置換および／または非置換エチレンオキシド付加物
もしくはプロピレンオキシド付加物あるいはエチレンオ
キシド／プロピレンオキシド付加物を使用し、これを電
解液に添加する。この場合、付加物の濃度、すなわち添
加割合は、５から１００ｍｇ／ｌの範囲になされ、析出
は電解液が４０から７５℃の範囲の温度を示すようにし
て行われる。付加物の量は、これが処理電解液に添加さ
れて、混濁した高分散乳濁液が形成されるように選定さ
れる。この公知方法によるニッケル析出層表面の特徴を
「無光沢」ないし「非光沢性」と称しているが、実際に
形成される表面は、シュス（サテン）様の光沢を示す。
この無光沢なる表現は、他の公知方法で形成される析出
層表面についても使用されている（上記西独特願公開１
６２１０８５号公報）。従って、この無光沢ないし非光
沢性なる用語も改善されねばならない。上記公知方法に
ついては、具体的に以下の点を認識すべきである。すな
わち、シュス様光沢を示すこのニッケル析出層を形成す
るために当該公知方法において添加される物質は、非イ
オン性表面活性剤であって、これは高温電解浴中におい
て沈澱し、電解液（乳濁液形態）中に有機異質物を形成
する。当然のことではあるが、任意の非イオン表面活性
剤を使用することはできない。混濁温度、すなわち表面
活性剤が沈澱する電解液温度は、この物質の化学的構造
および電解液中の濃度に依存するからである。高い混濁
温度においては、同様に電解液の塩含有分も影響を受け
る。このために、程度の差はあっても、乳濁液の液滴
が、高分散状態に在るにもかかわらず、凝集して、液滴
の不都合な集塊がもたらされ、これがシュス様光沢を示
す析出層の形成を阻害し、この層析出方法を持続させる
ためには、特別の対策を構ずる必要がある。このため
に、対応する規模、サイズの側流循環路で電解液を冷却
し、非イオン表面活性剤の混濁温度を低下させて、これ
を電解液に溶解させる。次いで電解液を再び必要な作用
温度に加熱する。上記公知方法の実施および制御は、ま
た黒色ピンホール形成のおそれがある場合、極めて慎重
に行われねばならない。それでも、非光沢性と再現可能
性は充分ではなく、また上述の障害がもたされない保障
はない。
【０００３】上述の欠点を回避するために、特殊な異物
質で処理することは公知である（西独特許２３２７８８
１号公報）。この公知方法においては、少なくとも１種
類のカチオン活性ないし両性の物質を、電解液中におい
て、少なくとも１種類の化合物の有機アニオンと反応さ
せることにより、有機異物質が形成される。このアニオ
ン供与物質は、アルキルもしくはアリールスルファート
スルホン酸、スルフィン酸、スルホンアミド、スルホン
イミドである。非光沢性ではあるがなお光沢性の表面
は、公知、慣用の１級および／または２級光沢剤を電解
液に添加することによりもたらされる。この有機異物質
は、一定期間、装飾的に有効な、いわゆるマット効果
（つや消し効果）をもたらす。しかしながら、この期間
経過後、電解液中において凝集し、集塊化するので、濾
過、除去されねばならない。しかしながら、これには比
較的高コストを要し、またあらためてこの異物質を形成
させることも、同様のコストを必要とする。
質で処理することは公知である（西独特許２３２７８８
１号公報）。この公知方法においては、少なくとも１種
類のカチオン活性ないし両性の物質を、電解液中におい
て、少なくとも１種類の化合物の有機アニオンと反応さ
せることにより、有機異物質が形成される。このアニオ
ン供与物質は、アルキルもしくはアリールスルファート
スルホン酸、スルフィン酸、スルホンアミド、スルホン
イミドである。非光沢性ではあるがなお光沢性の表面
は、公知、慣用の１級および／または２級光沢剤を電解
液に添加することによりもたらされる。この有機異物質
は、一定期間、装飾的に有効な、いわゆるマット効果
（つや消し効果）をもたらす。しかしながら、この期間
経過後、電解液中において凝集し、集塊化するので、濾
過、除去されねばならない。しかしながら、これには比
較的高コストを要し、またあらためてこの異物質を形成
させることも、同様のコストを必要とする。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで、この技術分野
の課題ないし本発明の目的は、再現可能に、実質的に無
光沢化、非光沢性化を達成し得る、冒頭（技術分野の
項）に述べた方法を提供することである。
の課題ないし本発明の目的は、再現可能に、実質的に無
光沢化、非光沢性化を達成し得る、冒頭（技術分野の
項）に述べた方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】しかるに、上述の課題な
いし目的は、慣用の基礎的光沢剤を添加した、ワット電
解液、スルファマート、スルホナート、フルオロボラー
トをそれぞれ基礎とする各電解液、またはこれらの混合
電解液で処理され、無光沢ニッケル層を析出させるため
に、置換および／または非置換エチレンオキシド付加物
またはプロピレンオキシド付加物またはエチレンオキシ
ド／プロピレンオキシド付加物が上記電解液に添加され
ており、上記項により添加される付加物の濃度が、５ｍ
ｇ／ｌまでの範囲で選択され、電解析出される場合に、
電解液が４０から７５℃の温度で使用される各要件を充
足し、上記の濃度および上記の温度を、電解液が肉眼的
に透明に見え、入射光が実質上散乱しないように選定す
ることを特徴とする、金属面上に無光沢のニッケル層を
電気的に析出させて形成する方法により解決ないし達成
されることが本発明者らにより見出された。
いし目的は、慣用の基礎的光沢剤を添加した、ワット電
解液、スルファマート、スルホナート、フルオロボラー
トをそれぞれ基礎とする各電解液、またはこれらの混合
電解液で処理され、無光沢ニッケル層を析出させるため
に、置換および／または非置換エチレンオキシド付加物
またはプロピレンオキシド付加物またはエチレンオキシ
ド／プロピレンオキシド付加物が上記電解液に添加され
ており、上記項により添加される付加物の濃度が、５ｍ
ｇ／ｌまでの範囲で選択され、電解析出される場合に、
電解液が４０から７５℃の温度で使用される各要件を充
足し、上記の濃度および上記の温度を、電解液が肉眼的
に透明に見え、入射光が実質上散乱しないように選定す
ることを特徴とする、金属面上に無光沢のニッケル層を
電気的に析出させて形成する方法により解決ないし達成
されることが本発明者らにより見出された。
【０００６】一般的に、成分分析により、７０から１４
０ｇ／ｌのニッケル、１から２０ｇ／ｌの塩化物、３０
から５０ｇ／ｌのＨ3 ＢＯ3 を含有し、残余量を基礎光
沢剤、付加物、ことに水で占める電解液で処理される。
本発明による好ましい実施態様では慣用の基礎光沢剤と
して、スルホン酸、例えばベンゼンスルホン酸、ナフタ
リントリスルホン酸、アルカンスルホン酸、あるいはス
ルホンアミドもしくはスルホンイミドないしこれらのア
ルカリ金属塩またはこれらの混合物が、０．５から１０
ｇ／ｌの量割合で添加される。無光沢のニッケル析出層
を形成するため、本発明の好ましい実施態様において
は、不飽和脂肪族スルホン酸ないしアルカリ金属塩また
はこれらの混合物が使用される。この添加されるべき付
加物も、０．５から１０ｇ／ｌの量割合範囲で添加され
るのが好ましい。電気的析出処理において、電解液は、
５０から６５℃の温度で使用される。電解液には、さら
に架橋剤ならびに有機スルフィン酸ないしそのアルカリ
金属塩が添加され得る。
０ｇ／ｌのニッケル、１から２０ｇ／ｌの塩化物、３０
から５０ｇ／ｌのＨ3 ＢＯ3 を含有し、残余量を基礎光
沢剤、付加物、ことに水で占める電解液で処理される。
本発明による好ましい実施態様では慣用の基礎光沢剤と
して、スルホン酸、例えばベンゼンスルホン酸、ナフタ
リントリスルホン酸、アルカンスルホン酸、あるいはス
ルホンアミドもしくはスルホンイミドないしこれらのア
ルカリ金属塩またはこれらの混合物が、０．５から１０
ｇ／ｌの量割合で添加される。無光沢のニッケル析出層
を形成するため、本発明の好ましい実施態様において
は、不飽和脂肪族スルホン酸ないしアルカリ金属塩また
はこれらの混合物が使用される。この添加されるべき付
加物も、０．５から１０ｇ／ｌの量割合範囲で添加され
るのが好ましい。電気的析出処理において、電解液は、
５０から６５℃の温度で使用される。電解液には、さら
に架橋剤ならびに有機スルフィン酸ないしそのアルカリ
金属塩が添加され得る。
【０００７】本発明は、視覚的に認め得る混濁した乳濁
液をもたらさず、従って対応する有機は異物質を電解液
中に形成させないことにより、質的にも秀れた無光沢性
が達成され得るとの知見に基づく。本発明によりもたら
されるニッケル層は、前述した公知方法によりもたらさ
れるニッケル層と全く異なる構造を示す。これは以下の
実施態様に関連して詳述される。ここでは、本発明方法
によりほぼ水滴状構造の析出層がもたらされる得る旨を
述べるに止める。この水滴構造析出層は、基体（一般的
には金属であるが、非金属性材料でもよい）のほぼ全面
にわたり水滴状を成して安定化されている析出層であ
る。本発明によれば、無光沢性ないし非光沢性を阻害
し、濾過、除去を必要とする有害な集塊がもたらされ
ず、質的に高い、再現可能の無光沢性が得られる。
液をもたらさず、従って対応する有機は異物質を電解液
中に形成させないことにより、質的にも秀れた無光沢性
が達成され得るとの知見に基づく。本発明によりもたら
されるニッケル層は、前述した公知方法によりもたらさ
れるニッケル層と全く異なる構造を示す。これは以下の
実施態様に関連して詳述される。ここでは、本発明方法
によりほぼ水滴状構造の析出層がもたらされる得る旨を
述べるに止める。この水滴構造析出層は、基体（一般的
には金属であるが、非金属性材料でもよい）のほぼ全面
にわたり水滴状を成して安定化されている析出層であ
る。本発明によれば、無光沢性ないし非光沢性を阻害
し、濾過、除去を必要とする有害な集塊がもたらされ
ず、質的に高い、再現可能の無光沢性が得られる。
【０００８】本発明方法において、電流密度に処理状態
に適合せしめられ得るが、一般的には、電解液は、０．
１から１０Ａ／ｄｍ2 の電流密度で使用される。ことに
ほぼ４Ａ／ｄｍ2 の電流密度が好ましい、ニッケル析出
に必要な処理時間は、広い範囲において任意に選定され
得るが、これは処理条件、ことに層厚さに大きく依存す
る。しかしながら、本発明方法における処理時間は、一
般的に１から１２０分、ことに約１０分が通常である。
電解液は、常に側流循環路を設けることなく行われ得
る。この側流循環路不要と称するのは、公知技術におい
て必要とされた濾過装置ないし冷却装置を有する分岐回
路を設ける必要がないということである。
に適合せしめられ得るが、一般的には、電解液は、０．
１から１０Ａ／ｄｍ2 の電流密度で使用される。ことに
ほぼ４Ａ／ｄｍ2 の電流密度が好ましい、ニッケル析出
に必要な処理時間は、広い範囲において任意に選定され
得るが、これは処理条件、ことに層厚さに大きく依存す
る。しかしながら、本発明方法における処理時間は、一
般的に１から１２０分、ことに約１０分が通常である。
電解液は、常に側流循環路を設けることなく行われ得
る。この側流循環路不要と称するのは、公知技術におい
て必要とされた濾過装置ないし冷却装置を有する分岐回
路を設ける必要がないということである。
【０００９】
【実験例】実験例１ 無光沢ニッケル析出層を形成するために、 ５５０ｇ／ｌのＮｉＳＯ4 ×７Ｈ2 Ｏ ５０ｇ／ｌのＮｉＣｌ2 ×６Ｈ2 Ｏおよび ４０ｇ／ｌのＨ3 ＢＯ3 から成る電解液に、２．６ｇ／ｌ安息香酸スルホンイミ
ドのナトリウム塩、１．５ｍｇ／ｌのポリエチレン／グ
リコールメチルエーテル（分子量５０００）を添加し
た。このｐＨ値が３．８から４．４、温度が５５℃の透
明電解液を、電流密度５Ａ／ｄｍ2 で、１０分間、ニッ
ケル層析出のために使用し、眞鍮プレートを軽く運動さ
せながら、この上に無光沢ニッケル層を析出させた。添
付図面１（倍率６００倍の図面代用顕微鏡写真）は、こ
のニッケル析出層の表面を示す。この図１から、粒径１
から７μｍの水滴状構造の析出層が認められる。
ドのナトリウム塩、１．５ｍｇ／ｌのポリエチレン／グ
リコールメチルエーテル（分子量５０００）を添加し
た。このｐＨ値が３．８から４．４、温度が５５℃の透
明電解液を、電流密度５Ａ／ｄｍ2 で、１０分間、ニッ
ケル層析出のために使用し、眞鍮プレートを軽く運動さ
せながら、この上に無光沢ニッケル層を析出させた。添
付図面１（倍率６００倍の図面代用顕微鏡写真）は、こ
のニッケル析出層の表面を示す。この図１から、粒径１
から７μｍの水滴状構造の析出層が認められる。
【００１０】実験例２ 同様に無光沢ニッケル析出層を形成するために、 ２６５ｇ／ｌのＮｉＳＯ4 ×７Ｈ2 Ｏ ５３ｇ／ｌのＮｉＣｌ2 ×６Ｈ2 Ｏおよび ３３ｇ／ｌのＨ3 ＢＯ3 から成る電解液に、１ｇ／ｌ安息香酸スルホンイミドナ
トリウム塩と、３０ｍｇ／ｌのプロピレンオキシド／エ
チレンオキシドブロック共重合体（分子量２５００）を
添加した。ｐＨ値４．２から４．４、温度５２℃のこの
混濁電解液を、電流密度５Ａ／ｄｍ2 で、１０分間使用
して処理し、眞鍮プレートを軽く運動させながら、この
上にシュス様光沢を有する、非光沢性において劣るニッ
ケル析出層を得た。添付図面２（倍率６００倍の図面代
用顕微鏡写真）は、このニッケル析出層の表面を示す。
この図２から、粒径５から２０μｍの比較的大きい水滴
状構造の析出層が認められる。
トリウム塩と、３０ｍｇ／ｌのプロピレンオキシド／エ
チレンオキシドブロック共重合体（分子量２５００）を
添加した。ｐＨ値４．２から４．４、温度５２℃のこの
混濁電解液を、電流密度５Ａ／ｄｍ2 で、１０分間使用
して処理し、眞鍮プレートを軽く運動させながら、この
上にシュス様光沢を有する、非光沢性において劣るニッ
ケル析出層を得た。添付図面２（倍率６００倍の図面代
用顕微鏡写真）は、このニッケル析出層の表面を示す。
この図２から、粒径５から２０μｍの比較的大きい水滴
状構造の析出層が認められる。
【００１１】実験例１（実施例）による本発明析出層の
無光沢性は、実験例（対比例）のそれに付して著しく改
善されている。
無光沢性は、実験例（対比例）のそれに付して著しく改
善されている。
【図１】本発明によるニッケル析出層の表面構造を示
す、倍率６００倍の図面代用顕微鏡写真である。
す、倍率６００倍の図面代用顕微鏡写真である。
【図２】対比例によるニッケル析出層表面を示す、同様
の図面代用写真である。
の図面代用写真である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 596154594 Ｈｅｅｒｄｔｅｒ Ｂｕｓｃｈｓｔｒａｓ ｓｅ１−３，41460 Ｎｅｕｓｓ，Ｇｅｒ ｍａｎｙ (72)発明者 ゲルト、シェーンゲン ドイツ、52499、バエスヴァイラー、キル ヒガセ、67 (72)発明者 デトレフ、コーツィク ドイツ、45357、エッセン、ドナーベルク、 102
Claims (10)
- 【請求項１】 （１．１）慣用の基礎的光沢剤を添加し
た、ワット電解液、スルファマート、スルホナート、フ
ルオロボラートをそれぞれ基礎とする各電解液、または
これらの混合電解液で処理され、 （１．２）無光沢ニッケル層を析出させるために、置換
および／または非置換エチレンオキシド付加物またはプ
ロピレンオキシド付加物またはエチレンオキシド／プロ
ピレンオキシド付加物が上記電解液に添加されており、 （１．３）上記（１．２）項により添加される付加物の
濃度が、５ｍｇ／ｌまでの範囲で選択され、 （１．４）電解析出される場合に、電解液が４０から７
５℃の温度で使用される各要件を充足し、 上記（１．３）の濃度および上記（１．４）の温度を、
電解液が肉眼的に透明に見え、入射光が実質上散乱しな
いように選定することを特徴とする、金属面上に無光沢
のニッケル層を電気的に析出させて形成する方法。 - 【請求項２】 ７０から１４０ｇ／ｌのニッケル、１か
ら２０ｇ／ｌの塩化物、３０から５０ｇ／ｌのＨ3 ＢＯ
3 を含有し、残余量が基礎光沢剤、付加物および水で占
められる分析値を示すワット電解液で処理されることを
特徴とする、請求項（１）の方法。 - 【請求項３】 基礎光沢剤として、２−スルホン安息香
酸、１，３−ベンゼンジスルホン酸およびナフタリント
リスルホン酸ないしそのアルカリ金属塩またはこれらの
混合物、あるいはアリールスルホン酸、アルキルスルホ
ン酸、スルホンアミドおよびスルホンイミドないしその
アルカリ金属塩またはその混合物が、０．５から１０ｇ
／ｌの量で使用されることを特徴とする、請求項（１）
または（２）の方法。 - 【請求項４】 基礎光沢剤として、不飽和脂肪族スルホ
ン酸ないしそのアルカリ金属塩またはその混合物が使用
されることを特徴する、請求項（１）から（３）のいず
れかの方法。 - 【請求項５】 基礎光沢剤の濃度が、０．５から１０ｇ
／ｌの範囲で選定されることを特徴する、請求項（４）
の方法。 - 【請求項６】 電解析出させる場合に、電解浴が５０か
ら６５℃の温度で使用されることを特徴する、請求項
（１）から（５）のいずれかの方法。 - 【請求項７】 電解液が０．１から１０Ａ／ｄｍ2 の電
流密度で使用されることを特徴する、請求項（１）から
（６）のいずれかの方法。 - 【請求項８】 電解液がほぼ４Ａ／ｄｍ2 の電流密度で
使用されることを特徴する、請求項（１）から（７）の
いずれかの方法。 - 【請求項９】 ニッケル析出のための処理時間が１から
１２０分、ことにほぼ１０分であることを特徴とする、
請求項（１）から（８）の方法。 - 【請求項１０】 電解液が側流循環路なしに使用される
ことを特徴とする、請求項（１）から（９）の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19540011.9 | 1995-10-27 | ||
| DE19540011A DE19540011C2 (de) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von blendfreien Nickel- oder Nickellegierungsniederschlägen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09202987A true JPH09202987A (ja) | 1997-08-05 |
Family
ID=7775920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8284052A Pending JPH09202987A (ja) | 1995-10-27 | 1996-10-25 | 無光沢のニッケル層を電気的に析出させて形成する方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5897763A (ja) |
| EP (1) | EP0770710B2 (ja) |
| JP (1) | JPH09202987A (ja) |
| AT (1) | ATE175453T1 (ja) |
| DE (2) | DE19540011C2 (ja) |
| ES (1) | ES2128135T5 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015510038A (ja) * | 2012-01-25 | 2015-04-02 | アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングＡｔｏｔｅｃｈ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＧｍｂＨ | つや消し銅めっきの製造方法 |
| US11168405B2 (en) | 2017-03-23 | 2021-11-09 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method of forming nickel film and nickel solution used for the method |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6248228B1 (en) * | 1999-03-19 | 2001-06-19 | Technic, Inc. And Specialty Chemical System, Inc. | Metal alloy halide electroplating baths |
| US6251253B1 (en) * | 1999-03-19 | 2001-06-26 | Technic, Inc. | Metal alloy sulfate electroplating baths |
| KR100840451B1 (ko) * | 1999-03-19 | 2008-06-20 | 테크닉,인코포레이티드 | 수성 전기도금욕, 수성 전기도금욕의 제조 방법, 및 그 수성 전기도금욕을 이용한 도금 방법 |
| US6797141B1 (en) * | 1999-11-25 | 2004-09-28 | Enthone Inc. | Removal of coagulates from a non-glare electroplating bath |
| US6306275B1 (en) * | 2000-03-31 | 2001-10-23 | Lacks Enterprises, Inc. | Method for controlling organic micelle size in nickel-plating solution |
| DE10025552C1 (de) | 2000-05-19 | 2001-08-02 | Atotech Deutschland Gmbh | Saures galvanisches Nickelbad und Verfahren zum Abscheiden eines satinglänzenden Nickel- oder Nickellegierungsüberzuges |
| DE10222962A1 (de) * | 2002-05-23 | 2003-12-11 | Atotech Deutschland Gmbh | Saurer galvanischer Badelektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung satinglänzender Nickelniederschläge |
| JP4811880B2 (ja) * | 2006-01-06 | 2011-11-09 | エントン インコーポレイテッド | 艶消し金属層を堆積するための電解液および工程 |
| US11505867B1 (en) | 2021-06-14 | 2022-11-22 | Consolidated Nuclear Security, LLC | Methods and systems for electroless plating a first metal onto a second metal in a molten salt bath, and surface pretreatments therefore |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2238861A (en) * | 1938-07-06 | 1941-04-15 | Harshaw Chem Corp | Electrodeposition of metals |
| DE1134258B (de) * | 1959-05-06 | 1962-08-02 | Dehydag Gmbh | Saures galvanisches Nickelbad |
| DE1621085C3 (de) * | 1967-05-16 | 1980-02-14 | Henkel Kgaa, 4000 Duesseldorf | Saures galvanisches Bad zur Abscheidung satinglanzender Nickelniederschlage |
| US3839166A (en) * | 1967-05-16 | 1974-10-01 | Henkel & Cie Gmbh | Method for obtaining nickel deposits with satin finish |
| US3839165A (en) * | 1967-08-26 | 1974-10-01 | Henkel & Cie Gmbh | Nickel electroplating method |
| BE794695A (fr) * | 1972-01-29 | 1973-05-16 | W Kampschulte & Cie K G Dr | Bain galvanique de nickel pour la separation de revetements de nickel satines mats |
| DE2327881B2 (de) * | 1973-06-01 | 1978-06-22 | Langbein-Pfanhauser Werke Ag, 4040 Neuss | Verfahren zur galvanischen Abscheidung mattglänzender Nickel- bzw. Nickel/Kobalt-Niederschläge |
| JPS56152988A (en) * | 1980-04-30 | 1981-11-26 | Nobuyuki Koura | Nickel satin finish plating bath of heavy ruggedness |
| JPS61238993A (ja) * | 1985-04-16 | 1986-10-24 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 電気メツキ浴用添加剤 |
| JPS62205041A (ja) * | 1986-03-05 | 1987-09-09 | Nisso Yuka Kogyo Kk | １，４−ブチンジオ−ルのヒドロキシアルキルエ−テル化物の製造方法およびこれを用いたニツケルメツキ処理液 |
-
1995
- 1995-10-27 DE DE19540011A patent/DE19540011C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-10-17 DE DE59601103T patent/DE59601103D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-17 EP EP96116639A patent/EP0770710B2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-17 AT AT96116639T patent/ATE175453T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-10-17 ES ES96116639T patent/ES2128135T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-25 JP JP8284052A patent/JPH09202987A/ja active Pending
- 1996-10-25 US US08/736,906 patent/US5897763A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015510038A (ja) * | 2012-01-25 | 2015-04-02 | アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングＡｔｏｔｅｃｈ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＧｍｂＨ | つや消し銅めっきの製造方法 |
| US11168405B2 (en) | 2017-03-23 | 2021-11-09 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method of forming nickel film and nickel solution used for the method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0770710B2 (de) | 2002-08-14 |
| EP0770710B1 (de) | 1999-01-07 |
| ATE175453T1 (de) | 1999-01-15 |
| DE19540011C2 (de) | 1998-09-10 |
| US5897763A (en) | 1999-04-27 |
| ES2128135T3 (es) | 1999-05-01 |
| DE59601103D1 (de) | 1999-02-18 |
| DE19540011A1 (de) | 1997-04-30 |
| ES2128135T5 (es) | 2003-03-01 |
| EP0770710A1 (de) | 1997-05-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH09202987A (ja) | 無光沢のニッケル層を電気的に析出させて形成する方法 | |
| BR112013027921B1 (pt) | Banho de galvanização e método eletrodeposição de uma camada de cromo escuro em uma peça de trabalho | |
| CN1934293B (zh) | 具备灰色化处理面的表面处理铜箔、该表面处理铜箔的制造方法及使用了该表面处理铜箔的等离子显示器的前面面板用的电磁波屏蔽导电性丝网 | |
| US4911799A (en) | Electrodeposition of palladium films | |
| KR100776559B1 (ko) | 새틴 처리된 니켈 또는 니켈 합금 코팅물 | |
| MXPA04011604A (es) | Bano de recubrimiento electrolitico acido para deposicion electrolitica de depositos de niquel satinado. | |
| US4450052A (en) | Zinc and nickel tolerant trivalent chromium plating baths | |
| US3793162A (en) | Electrodeposition of ruthenium | |
| EP0255558A1 (en) | Baths or organic sulfonate solution for bismuth and bismuth alloy plating | |
| CA1162505A (en) | Process for high speed nickel and gold electroplate system | |
| NO147994B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| US4102755A (en) | Method of and electrolytic bath for the electrodeposition of semibright nickel and nickel-cobalt coatings upon a metal surface | |
| JPH1171695A (ja) | 低ストレスニッケルの電気メッキ | |
| JPS5912754B2 (ja) | 光輝酸性亜鉛メツキ | |
| CA1180677A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
| JPH0112840B2 (ja) | ||
| US2467580A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US3342566A (en) | Process for the electrodeposition of a decorative corrosion resistant nickel-chromium coating and products thereof | |
| US2485149A (en) | Bright nickel plating compositions and process | |
| US3215610A (en) | Method and bath for electrodepositing bright silver | |
| US3679381A (en) | Novel composite | |
| DE3909811C2 (ja) | ||
| US3745098A (en) | Electrodeposition of films of particles on cathodes | |
| US4764262A (en) | High quality, bright nickel plating | |
| US4010084A (en) | Method of and electrolytic bath for the electrodeposition of semibright nickel and nickel-cobalt coatings upon a metal surface |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060427 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060509 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060720 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060725 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061109 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071218 |