CN114302922A - 水性涂料用表面处理沉淀二氧化硅 - Google Patents

水性涂料用表面处理沉淀二氧化硅 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种表面处理沉淀二氧化硅，其是在沉淀二氧化硅的表面具有0.5～5.0％的醚系非离子表面活性剂的水性涂料用表面处理沉淀二氧化硅，其中，上述表面处理沉淀二氧化硅的铝含量以Al2O3换算处于0.30～1.00质量％的范围，由激光衍射法测定的体积平均粒径D50为3.0～10.0μm的范围、并且比D90/D50为2.0以下，其中，D90是由激光衍射法测定的粒度分布中的自下位起的体积积算累积值为90％时的粒径。根据本发明，能够提供一种即使将其以粉体的形式直接添加到水性涂料中也不会发生凝集而能够在短时间内润湿、并且即使由于时间的推移而发生沉淀其再分散性也良好的表面处理二氧化硅。

Description

水性涂料用表面处理沉淀二氧化硅
技术领域
本发明涉及作为水性涂料的消光剂使用的表面处理沉淀二氧化硅(surface-treated precipitated silica)。详细说明，本发明涉及下述的表面处理二氧化硅，其即使直接添加到水性涂料中也不会发生凝集而能够在短时间内润湿，即使由于时间的推移而发生沉淀，再分散性也良好。
关联申请的相互参考
本申请主张2019年11月20日提交的日本特愿2019-209954号的优先权，在本文中特别作为公开援用其全部记载。
背景技术
沉淀二氧化硅(precipitated silica)是非晶态合成二氧化硅的1种，大致被分类成凝胶二氧化硅和湿式法二氧化硅。已知沉淀二氧化硅可作为涂料的消光剂使用，特别是通过粉碎、分级等处理而进行了微米尺寸控制的沉淀二氧化硅被广泛用作金属用涂料、塑料用涂料的消光剂。另一方面，还已知有对这些二氧化硅实施表面处理而具有特定功能的涂料用表面处理二氧化硅。例如，专利文献1中公开了一种表面处理二氧化硅，其中，通过利用多链型非离子表面活性剂对湿式法二氧化硅进行表面处理，即使在涂料中发生沉淀，再分散性也良好。专利文献2中公开了使特定量的聚乙烯蜡被覆在具有特定细孔容积的非晶态二氧化硅上而成的消光剂。
专利文献1：日本特开平9-25440号公报
专利文献2：日本特表平11-512124号公报
专利文献1和2的全部记载特别作为公开援用在本文中。
发明内容
发明所要解决的课题
近年来，出于对人的呼吸器官会带来有害影响的原因，向大气中排出的VOC的限制更为严格。另外，出于对环境的考虑，也正在从使用了对人体有害的溶剂的涂料向水性涂料或不使用溶剂的无溶剂涂料改变。与之相伴，作为消光剂使用的二氧化硅也要求适合于水性的物质。
专利文献1的表面处理二氧化硅作为溶剂系涂料用途的再分散性良好，但在用于水性涂料中的情况下具有下述问题：二氧化硅之间发生凝集沉淀，形成硬饼而成为不能再分散的状态。
专利文献2的消光剂作为无溶剂或低溶剂的UV固化型的涂料用途具有良好的消光性能。但是，由于该消光剂利用蜡进行了表面处理，因此具有在水性涂料中不能充分分散、不能发挥出消光效果的问题。
在将作为消光剂的沉淀二氧化硅直接添加到水性涂料中的情况下，具有沉淀二氧化硅发生凝集而在涂料中不分散，产生所谓凸块、或者发生经时性沉淀而形成硬饼等问题。因此，通常预先制备浓度10～20％的程度的二氧化硅分散液，根据需要添加到加入有树脂、颜料等的水性涂料中来进行使用。
但是，在向水性涂料中添加二氧化硅分散液时，涂料整体被稀释而变成低浓度的涂料。其结果具有涂膜厚度变化、干燥所需要的时间和能量比溶剂系涂料增加等问题。此外，从削减工时的方面出发，也优选不进行制备二氧化硅分散液的工序。
因此，本发明的目的在于开发出一种表面处理二氧化硅，即使将其以粉体的形式直接添加到水性涂料中也不会发生凝集而能够在短时间内润湿，并且即使由于时间的推移而发生沉淀，再分散性也良好。
用于解决课题的手段
本发明人为了解决上述课题，对于即使直接添加到水性涂料中也不会发生凝集而能够在短时间内润湿、并且即使由于时间的推移而发生沉淀再分散性也良好的表面处理二氧化硅的开发进行了深入研究。其结果，本发明人发现，将含有特定量铝的特定的沉淀二氧化硅的表面利用醚系非离子表面活性剂进行处理而得到的二氧化硅是有效的，从而完成了本发明。特别是在利用聚氧化烯烷基醚非离子表面活性剂进行处理时，能够提供即使由于时间的推移而发生沉淀，再分散性也特别良好的表面处理沉淀二氧化硅。
本发明如下。
[1]
一种表面处理沉淀二氧化硅，其是在沉淀二氧化硅的表面具有0.5～5.0％的醚系非离子表面活性剂的水性涂料用表面处理沉淀二氧化硅，其中，上述表面处理沉淀二氧化硅的铝含量以Al2O3换算处于0.30～1.00质量％的范围，由激光衍射法测定的体积平均粒径D50为3.0～10.0μm的范围、并且比D90/D50为2.0以下，其中，D90是由激光衍射法测定的粒度分布中的自下位起的体积积算累积值为90％时的粒径。
[2]
如[1]中所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，上述表面处理沉淀二氧化硅的BET比表面积为60～280m2/g的范围。
[3]
如[1]或[2]中所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，上述醚系非离子表面活性剂是聚氧化烯烷基醚非离子表面活性剂。
[4]
如[1]～[3]中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，上述醚系非离子表面活性剂的HLB为10.0～15.0的范围。
[5]
如[1]～[4]中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，上述表面处理沉淀二氧化硅的加热减重为9.0％以下。
[6]
如[1]～[5]中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其表观比重处于0.05～0.30g/mL的范围。
[7]
如[1]～[6]中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，上述表面处理沉淀二氧化硅的铝含量以Al2O3换算处于0.45～0.85质量％的范围。
[8]
如[1]～[7]中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，上述由激光衍射法测定的体积平均粒径D50为3.5～9.0μm的范围。
[9]
如[1]～[8]中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，上述比D90/D50为1.4～1.9。
发明效果
根据本发明，能够提供一种表面处理沉淀二氧化硅，其即使直接添加到水性涂料中也不会发生凝集而能够在短时间内润湿，即使由于时间的推移而发生沉淀，再分散性也良好。该表面处理沉淀二氧化硅作为水性涂料的消光剂是有用的。
具体实施方式
本发明的表面处理沉淀二氧化硅是在沉淀二氧化硅的表面具有0.5～5.0％的醚系非离子表面活性剂的水性涂料用表面处理沉淀二氧化硅。上述表面处理沉淀二氧化硅的铝含量以Al2O3换算处于0.30～1.00质量％的范围，由激光衍射法测定的体积平均粒径D50为3.0～10.0μm的范围、且比D90/D50为2.0以下，其中，D90是由激光衍射法测定的粒度分布中的自下位起的体积积算累积值为90％时的粒径。本发明的表面处理沉淀二氧化硅为水性涂料用，作为水性涂料的消光剂有用。本发明中的水性涂料是指水溶性树脂涂料和分散体涂料、乳液涂料。
本发明的表面处理沉淀二氧化硅中，铝含量以Al2O3换算处于0.30～1.00质量％的范围。铝含量以Al2O3换算小于0.30质量％的铝少的沉淀二氧化硅难以与水特别是工业用水等包含矿物质的水融合，即使利用例如醚系非离子表面活性剂进行表面处理，涂料也会增粘并且容易沉淀。另一方面，铝含量以Al2O3换算高于1.00质量％的沉淀二氧化硅由于铝的添加量多，因此在湿式合成时，在合成中途二氧化硅的凝集增强。因此，所得到的沉淀二氧化硅颗粒会变得过硬，即使进行粉碎也会残留粗大颗粒。因此，即使将铝含量以Al2O3换算大于1.00质量％的沉淀二氧化硅利用醚系非离子表面活性剂进行表面处理，凝集颗粒也容易发生经时性沉淀。
铝含量(Al2O3换算)优选为0.40～0.90质量％的范围、更优选为0.45～0.85质量％的范围。
表面处理沉淀二氧化硅的铝含量为上述范围的沉淀二氧化硅的制备可以利用常规方法进行，对于常规方法中的铝的添加方法没有特别限定。但是，从表面处理沉淀二氧化硅不会与水性涂料中的其他添加剂发生相互作用的方面出发，优选铝向沉淀二氧化硅中的添加不是利用表面处理进行添加，而是在沉淀二氧化硅的合成时添加到合成原料中、或者在合成中途添加。
本发明的表面处理沉淀二氧化硅中，由激光衍射法测定的体积平均粒径D50为3.0～10.0μm的范围、且比D90/D50为2.0以下。其中，D90是由激光衍射法测定的粒度分布中的自下位起的体积积算累积值为90％时的粒径。若利用D50为3.0～10.0μm的范围、且比D90/D50为2.0以下的表面处理沉淀二氧化硅，则能够充分发挥出作为消光剂所期望的功能。D50小于3.0μm时，由于粒径过小，因此二氧化硅颗粒会被埋没在涂膜中，无法得到充分的消光效果。D50大于10.0μm的情况下，涂膜表面粗涩，外观受损，因此不适于消光用途。比D90/D50大于2.0时，将本发明的表面处理沉淀二氧化硅直接添加到水性涂料中的情况下，会发生凝集沉淀、或成为涂料中的所谓凸块的产生原因。D50优选为3.5～9.0μm的范围。比D90/D50的下限没有特别限定，例如为0.5、优选为1.0。比D90/D50优选为1.2～2.0、更优选为1.4～1.9的范围。
本发明的表面处理沉淀二氧化硅在沉淀二氧化硅的表面具有0.5～5.0％的醚系非离子表面活性剂。若醚系非离子表面活性剂的量少，则渗透效果(以下称为湿润性)少；若该表面活性剂的量多，则会发生溶出，对涂料带来不良影响，因此使其为上述范围。醚系非离子表面活性剂的量优选为1.0～4.0％、进一步优选为2.0～3.0％的范围。
本发明中的醚系非离子表面活性剂对水的湿润性良好，并且对于涂料中的树脂成分或其他的添加颜料、添加剂也实质上不会带来影响。特别是本发明人对大部分醚系非离子表面活性剂进行了调查，结果在聚氧化烯烷基醚类中得到了良好的结果。其理由尚不确定，尽管并非旨在拘泥于该理由，但推测，由于聚氧化烯部与二氧化硅表面可适当地亲和因此得到了良好的结果。以下举出聚氧化烯烷基醚类的更具体的例子。以下示例均可以市售品的形式获得。聚氧化烯支链癸基醚(Noigen XL、Noigen LF：聚氧化烯部分由聚氧短链亚烷基和聚氧乙烯的聚合物构成。第一工业制药公司制造等)、聚氧乙烯异癸基醚(NoigenSD：第一工业制药公司制造等)、聚氧乙烯月桂基醚(DKSNL：第一工业制药公司制造等)、聚氧乙烯十三烷基醚(Noigen TDS：第一工业制药公司制造等)、聚氧化烯十三烷基醚(NoigenTDX：聚氧化烯部分由聚氧丙烯和聚氧乙烯的聚合物构成。第一工业制药公司制造等)、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚(EMULGEN LS：花王公司制造、Pepol AS：东邦化学工业公司制造等)、聚氧乙烯烷基醚(Naroacty CL、三洋化成工业公司制造等)、聚氧乙烯2-乙基己基醚(Newcol1000系：日本乳化剂公司制造等)、聚氧乙烯十六烷基醚(Newcol1600系：日本乳化剂公司制造等)、聚氧乙烯油基醚(EMULGEN 408：花王公司制造、Newcol1200系：日本乳化剂公司制造等)等。
这些之中，在本发明中优选使用Noigen XL-61(聚氧乙烯十三烷基醚。HLB：13)、EMULGEN LS-106(聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚。HLB：13)等。
本发明的表面处理沉淀二氧化硅可以通过向沉淀二氧化硅的表面供给醚系非离子表面活性剂的方法来制备。作为制备方法(处理方法)，可以举出将沉淀二氧化硅与表面活性剂利用高速流动混合器等进行混合的干式处理法、或者在二氧化硅浆料中混合表面活性剂溶液并进行干燥的湿式处理法等。但是，处理方法并无限定。干式处理法中的混合方法中，可以使用FM混合器、轴向混合器等。湿式处理法中的干燥方法中存在旋转闪速干燥机(SFD)、喷雾干燥机(SD)等，优选能够瞬时干燥的SD。
若醚系非离子表面活性剂的HLB低，则表面活性剂难以与水混合，因此表面处理沉淀二氧化硅的湿润效果降低。若醚系非离子表面活性剂的HLB高，则亲水性增高，表面活性剂容易从二氧化硅表面脱离到溶液侧或涂料侧。从这样的方面出发，醚系非离子表面活性剂的HLB优选为10.0～15.0、更优选为11.0～14.0、进一步优选为11.0～13.0的范围。
本发明的表面处理沉淀二氧化硅的BET比表面积优选为60～280m2/g的范围。此处的BET比表面积是指表面处理后的二氧化硅(表面处理沉淀二氧化硅)的BET比表面积，通过使其为60m2/g以上，可使二氧化硅的消光效果更大。通过使其为280m2/g以下，沉淀二氧化硅的制造容易，二氧化硅一次颗粒之间的凝集力也不会过强，得到即使添加到水性涂料中，也不容易发生沉淀的表面处理沉淀二氧化硅。
本发明的表面处理沉淀二氧化硅的加热减重优选为9.0％以下。加热减重越小，对消光有效的二氧化硅的量越多，因而优选。本发明的表面处理沉淀二氧化硅的表观比重优选为0.05～0.30g/mL的范围。通过使表观比重为该范围具有下述优点：由于比重一定程度地增大，因此处理良好；由于比重不会过大，因此在沉淀时不容易形成硬饼。
本发明的表面处理沉淀二氧化硅能够适当地用于市售的水性涂料。水性涂料中，向作为基础的水溶性树脂涂料、或分散体涂料、或乳液涂料中根据需要混配着色用的颜料、添加剂等。通常，水性涂料的固体成分浓度被调整为10～50％、粘度被调整为数十～数千厘泊。但并非旨在限定于该范围的固体成分浓度和粘度。本发明的表面处理沉淀二氧化硅最适合于在塑料产品、木材产品、金属产品、混凝土产品、灰浆产品、纸产品、皮革(leather)产品(皮革产品和合成皮革产品)的涂布中使用的水性涂料。
实施例
以下基于实施例更详细地说明本发明。但是，实施例为本发明的例示，并非旨在将本发明限定于实施例。
<表面处理沉淀二氧化硅的评价>
1)表面处理沉淀二氧化硅中的铝含量的测定
使用扫描型荧光X射线分析装置(型号：ZSX PrimusII、Rigaku公司制造)对表面处理沉淀二氧化硅中的铝(Al)含量进行定量。使用校正曲线法进行Al质量％浓度的定量分析，即，进行Al质量％浓度已知的标准样品的荧光X射线强度测定，求出Al元素的荧光X射线强度与浓度之间的关系，根据表面处理沉淀二氧化硅的荧光X射线强度计算出Al元素的含量(质量％浓度)。将所定量的铝含量利用装置附带的分析软件进行氧化物换算，计算出Al2O3质量％浓度。测定试样通过将表面处理沉淀二氧化硅装入到环状模具中进行压制的加压成型法来制作。
2)表面处理沉淀二氧化硅的平均粒径(D50、D90、D90/D50)
使用激光衍射式粒度分布测定装置(型号：Microtrac MT-3000、Microtrac BEL公司制造)测定粒度分布，分别求出粒度分布中的自下位起的体积积算累积值的50％的值(D50)、90％的值(D90)、以及D90与D50之比(D90/D50)。
3)表面处理沉淀二氧化硅的加热减重
基于JIS K-5101，根据在105℃干燥2小时后的减重值求出加热减重。
4)表面处理沉淀二氧化硅的表观比重
根据基于JIS K-6220的表观比重测定法进行测定。向机筒(内径22.00mm、深度100mm)中添注二氧化硅1.0g，施加击打使二氧化硅上表面平坦。接着，使活塞(外径21.80mm、长度115mm、质量190g)从上方缓慢地落下，测定在机筒上部突出的活塞高度，通过下述计算来计算出表观比重。
G＝S/{(H2-H1)×0.7854D2}
G：表观比重(g/cm3)
S：试样的重量(g)
H2：试样存在时的活塞与机筒的高度差(cm)
H1：试样不存在时的活塞与机筒的高度差(cm)
D：机筒直径(cm)
5)表面处理沉淀二氧化硅的BET比表面积
使用全自动比表面积测定装置(型号：Macsorb(R)HM model-1200、Mountech公司制造)通过单点法对于表面处理沉淀二氧化硅的BET比表面积进行测定。
<表面处理沉淀二氧化硅的湿润性和涂料评价>
6)湿润性；湿润速度的评价
在200mL的带刻度的烧杯中填充50mL的水(pH7.0、电导率100μS/cm)，从上方一次性投入1g的表面处理沉淀二氧化硅，测定总量完全与水融合为止的时间，将其作为湿润速度。关于评价，将湿润速度低于60秒的情况记为A、60～180秒记为B、180秒以上记为C，只有A为合格。
7)水性涂料评价
在200mL的带刻度的烧杯中加入水性乳液涂料(商品名：BURNOCKWE-301；DIC公司制造)60g、纯水20g、表面处理沉淀二氧化硅3g，利用高速混合机(型号：Labolution；Primix公司制造)在750rpm分散5分钟，制成涂料。
7-a)分散性
将涂料用No.20刮条涂布机涂布至市售的ABS板(100mm×200mm、黑色、CoatingTesta公司制造)，通过视频显微镜计数在任意的8.9mm×6.7mm的范围中存在的200μm以上的沉淀二氧化硅凝集物(所谓的凸块)的个数。改变位置在5处对凸块的个数进行测定，以该凸块的累计个数对分散性进行评价。
评价以下述A至C的3个等级进行判定，只有A为合格。
A：凸块的累计个数 0
B：凸块的累计个数 1～4
C：凸块的累计个数 5以上
7-b)再分散性评价
将涂料30g装入50mL带盖容器中，静置2周，其后利用振荡器(型号：V-SX、Iwaki公司制造)振荡1分钟，制成沉淀状态的观察试样。关于沉淀状态，通过按照使盖成为底面的方式翻转容器时残留在容器底部的二氧化硅的比例来确认。沉淀状态的评价通过下述A～C的3个等级来进行，只有A为合格。
A：振荡-翻转后，在容器的底部未确认到二氧化硅的沉淀的状态。
B：振荡-翻转后，在容器的底部确认到少量的二氧化硅的沉淀的状态。
C：振荡-翻转后，在容器的底部确认到大量的二氧化硅的状态。
实施例1
向具备搅拌机和循环泵的带夹套的240L不锈钢容器中加入温水93.5kg、并加入3号硅酸钠(SiO2浓度10.0wt％、SiO2/Na2O摩尔比3.2)直至pH达到10.5为止，一边进行搅拌和循环一边升温至86.0℃(之后搅拌和循环、温度条件以相同条件实施直至反应停止)。接着按照将pH维持在10.0～11.0的方式一边进行搅拌和循环一边用时200分钟同时滴加上述3号硅酸钠66.5kg、98.0wt％浓硫酸、30.0wt％硫酸铝水溶液0.674kg，进行中和反应，中和反应结束后，添加硫酸至达到pH3为止，使反应完全停止。其后将所得到的反应物利用压滤机过滤，进行水洗，得到二氧化硅滤饼。
将所得到的二氧化硅滤饼使用往返旋转式搅拌机(型号：Ajiter AP04型：岛崎工程公司制造)制成浆料，添加相对于二氧化硅为2.0％的市售的聚氧化烯烷基醚非离子表面活性剂(商品名：Noigen XL-61；第一工业制药公司制造、HLB：13)，再搅拌后，利用盘式喷雾干燥机(型号：Spray Dryer AN-40R型Ashizawa Niro Atomizer公司制造)在出口温度110℃的条件下进行喷雾干燥后，利用喷射式粉碎机(型号：PJM-100NP；Nippon PneumaticMfg.工业公司制造)进行粉碎，利用风力分级机(型号：Classiel N-5型Seishin企业公司制造)去除粗颗粒，得到表面处理沉淀二氧化硅(Al2O3浓度：0.80质量％)。
实施例2
除了使聚氧化烯烷基醚非离子表面活性剂的量相对于沉淀二氧化硅为0.5％来进行添加以外，利用与实施例1同样的方法得到表面处理沉淀二氧化硅。
实施例3
除了使聚氧化烯烷基醚非离子表面活性剂的量相对于沉淀二氧化硅为4.5％来进行添加以外，利用与实施例1同样的方法得到表面处理沉淀二氧化硅。
实施例4
在与实施例1相同的容器、原料中，将容器内温度变更为84.0℃、温水变更为74.0kg、3号硅酸钠变更为86.5kg、硫酸铝水溶液变更为0.933kg，除此以外，利用与实施例1相同的方法得到表面处理沉淀二氧化硅。与实施例1相比，该表面处理沉淀二氧化硅的BET比表面积低、且粒径大。
实施例5
在实施例1中，将硫酸铝水溶液变更为0.337kg，除此以外，利用与实施例1相同的方法得到表面处理沉淀二氧化硅(Al2O3浓度：0.40质量％)。
实施例6
将市售的沉淀二氧化硅Nipsil E-150J(Tosoh Silica公司制造)作为原粉，将其制成浆料。其后利用与实施例1相同的方法将聚氧化烯烷基醚非离子表面活性剂相对于沉淀二氧化硅添加2.0％，经干燥、粉碎、分级得到表面处理沉淀二氧化硅。
比较例1
除了在实施例1中不添加表面活性剂以外，利用与实施例1同样的方法得到表面未处理的沉淀二氧化硅。
比较例2
除了将实施例1的聚氧化烯烷基醚非离子表面活性剂变更为阴离子表面活性剂(商品名：Neocol YSK；第一工业制药公司制造、HLB：11)以外，利用与实施例4同样的方法得到表面处理沉淀二氧化硅。
比较例3
除了将实施例1中的硫酸铝水溶液变更为0.169kg以外，利用与实施例1相同的方法得到表面处理沉淀二氧化硅(Al2O3浓度：0.20质量％)。
比较例4
利用与日本特开平9-25440号(专利文献1)的实施例4相同的方法得到相对于二氧化硅添加了2.0％多链型非离子表面活性剂的表面处理沉淀二氧化硅。即，将市售的沉淀二氧化硅Nipsil E-200A(Tosoh Silica公司制造)1,000g投入到亨舍尔混合机中，将分子量90,000的多链型非离子表面活性剂Discole 206(第一工业制药公司制造、HLB：6.0)20g溶解在40mL的乙醇中并将所得到的溶液在搅拌混合下按照均匀的方式喷雾添加至上述二氧化硅整体。进一步进行10分钟的混合处理后，取出进行干燥，直至醇完全飞散为止，得到基于多链型非离子表面活性剂的表面处理沉淀二氧化硅。
比较例5
除了将实施例1中的硫酸铝水溶液变更为1.01kg以外，利用与实施例1相同的方法得到表面处理沉淀二氧化硅(Al2O3浓度：1.2质量％)。
比较例6
除了按照实施例1中的粉碎后的平均粒径(D50)为11.5μm的方式变更喷射式粉碎机的粉碎条件以外，利用与实施例1相同的方法得到表面处理沉淀二氧化硅。
[表1]
Figure BDA0003514127200000111
*1醚非离子表面活性剂聚氧乙烯十三烷基醚Noigen XL-61；第一工业制药公司制造
*2阴离子表面活性剂Neocol YSK；第一工业制药公司制造
*3多链型非离子表面活性剂Discole 206；第一工业制药公司制造
[表2]
Figure BDA0003514127200000121
工业实用性
本发明在水性涂料的消光剂的相关领域中有用。

Claims (9)

1.一种表面处理沉淀二氧化硅，其是在沉淀二氧化硅的表面具有0.5％～5.0％的醚系非离子表面活性剂的水性涂料用表面处理沉淀二氧化硅，其中，所述表面处理沉淀二氧化硅的铝含量以Al2O3换算处于0.30质量％～1.00质量％的范围，由激光衍射法测定的体积平均粒径D50为3.0μm～10.0μm的范围、并且比D90/D50为2.0以下，其中，D90是由激光衍射法测定的粒度分布中的自下位起的体积积算累积值为90％时的粒径。
2.如权利要求1所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，所述表面处理沉淀二氧化硅的BET比表面积为60m2/g～280m2/g的范围。
3.如权利要求1或2所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，所述醚系非离子表面活性剂是聚氧化烯烷基醚非离子表面活性剂。
4.如权利要求1～3中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，所述醚系非离子表面活性剂的HLB为10.0～15.0的范围。
5.如权利要求1～4中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，所述表面处理沉淀二氧化硅的加热减重为9.0％以下。
6.如权利要求1～5中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，表观比重处于0.05g/mL～0.30g/mL的范围。
7.如权利要求1～6中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，所述表面处理沉淀二氧化硅的铝含量以Al2O3换算处于0.45质量％～0.85质量％的范围。
8.如权利要求1～7中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，所述由激光衍射法测定的体积平均粒径D50为3.5μm～9.0μm的范围。
9.如权利要求1～8中任一项所述的表面处理沉淀二氧化硅，其中，所述比D90/D50为1.4～1.9。
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