CN113272403B - 闪烁体面板、使用其的x射线检测器和x射线透视装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题在于，提供灵敏度和清晰度优异的闪烁体面板，主旨在于，闪烁体面板，其具有基板、以及含有粘接剂树脂和荧光体的闪烁体层，前述闪烁体层中进一步包含下述通式(1)所示的化合物和/或其盐。(下述通式(1)中，R表示碳原子数1~30的烃基；m表示1~20的整数；n表示1或2；n为2的情况下，多个R各自可以相同或不同)。
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Description

闪烁体面板、使用其的X射线检测器和X射线透视装置
技术领域
本发明涉及闪烁体面板、使用其的X射线检测器和X射线透视装置。
背景技术
以往，在医疗现场，广泛使用利用膜的X射线图像。然而，利用膜的X射线图像是模拟图像信息，因此近年来，在开发平板型的放射线检测器(flat panel detector：FPD)等数字方式的放射线检测装置。
间接转换方式的FPD中，为了将X射线转换为可见光，使用闪烁体面板。闪烁体面板具有包含硫氧化钆(GOS)等荧光体的闪烁体层，通过X射线的照射，该荧光体发射光。从闪烁体面板发射的光使用具有薄膜晶体管(TFT)、电荷耦合元件(CCD)的传感器(光电转换层)而转化为电信号，由此将X射线的信息转换为数字图像信息。
对作为放射线而利用X射线的放射线检测装置、即X射线检测器，期望即使放射线量低，灵敏度也高，而且清晰度高。例如，在医疗现场，要求尽可能减少因X射线诊断等而导致的受试者的暴露量。然而，如果减少对X射线检测器照射的放射线量、即入射X射线量，则闪烁体面板的荧光体的发光亮度相对变低。因此，闪烁体面板中，要求即使在低放射线量下亮度也高，即灵敏度高。
在此，一般而言，单位照射面积的闪烁体层中的荧光体的含量越多，则闪烁体面板的灵敏度越高。然而，在单纯增多荧光体的含量的情况下，与含量成比例地闪烁体层的厚度变厚，因此闪烁体层中发射的光到达传感器为止容易被散射，清晰度降低。因此，尽可能不增厚厚度而增多荧光体的含量、即高密度地填充荧光体对于得到灵敏度和清晰度均高的闪烁体面板是重要的。
作为高密度地填充荧光体的技术，提出了在闪烁体层中添加偶联剂、表面活性剂的方法。例如，报告了通过含有磷酸系偶联剂、氟系表面活性剂，能够提高荧光体的填充密度，得到灵敏度和清晰度高的放射线像转换面板。(参照专利文献1、2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2000-105299号公报
专利文献2：日本特开2000-121799号公报。
发明内容
发明所要解决的课题
然而，即使使用这些文献中记载的技术，闪烁体面板的灵敏度、清晰度也不充分。
本发明鉴于上述课题，目的在于，提供灵敏度和清晰度优异的闪烁体面板。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题，本发明主要具有以下的构成。即，
闪烁体面板，其具有基板、以及含有粘接剂树脂和荧光体的闪烁体层，前述闪烁体层中进一步包含下述通式(1)所示的化合物和/或其盐，
[化1]
Figure DEST_PATH_IMAGE002
(上述通式(1)中，R表示碳原子数1~30的烃基；m表示1~20的整数；n表示1或2；n为2的情况下，多个R各自可以相同或不同)。
发明的效果
本发明的闪烁体面板的灵敏度和清晰度优异。
附图说明
图1是示意性表示包含本发明的闪烁体面板的X射线检测器的一个方式的截面图。
图2是示意性表示包含具有被隔离壁区隔的闪烁体层的闪烁体面板的X射线检测器的一个方式的截面图。
具体实施方式
本发明的闪烁体面板至少具有基板和闪烁体层。闪烁体层吸收入射的X射线等放射线的能量，发射例如波长300nm~800nm的范围的电磁波、即以可见光为中心跨紫外光至红外光的范围的光。闪烁体层至少含有粘接剂树脂、荧光体以及后述通式(1)所示的化合物和/或其盐。粘接剂树脂将多个荧光体颗粒粘合，具有将闪烁体层中的荧光体颗粒的相对位置固定的作用。荧光体具有吸收X射线等放射线的能量、发射光的作用。
图1中，示意性示出包含本发明的闪烁体面板的X射线检测器的一个方式。X射线检测器1具有闪烁体面板2、输出基板3和电源部12。
图1中，闪烁体面板2具有基板5和闪烁体层4。闪烁体层4含有荧光体6和粘接剂树脂7、以及未图示的通式(1)所示的化合物和/或其盐。
输出基板3在基板11上具有光电转换层9和输出层10。光电转换层9一般而言，是将未图示的具有光传感器和TFT的像素形成为二维状的光电转换层，例如在光电转换层内，面向闪烁体层4，像素被排列为矩阵状。在光电转换层9上可以具有隔膜层8。优选使闪烁体面板2的出射面和输出基板3的光电转换层9经由隔膜层8而粘接或密合。
图2中，示意性示出包含具有隔离壁的闪烁体面板的X射线检测器13的一个方式。X射线检测器13具有闪烁体面板14、输出基板3和电源部12。闪烁体面板14具有基板15和闪烁体层17，闪烁体层17被隔离壁16区隔。闪烁体层17含有荧光体6和粘接剂树脂7、以及未图示的通式(1)所示的化合物和/或其盐。输出基板3在基板11上具有光电转换层9和输出层10。光电转换层9一般而言，是未图示的具有光传感器和TFT的像素形成为二维状的光电转换层。在光电转换层9上可以具有隔膜层8。
闪烁体层4、17中发射的光到达光电转换层9，进行光电转换，被输出。
作为构成本发明的闪烁体面板中使用的基板的材料，优选具有放射线透过性，可以举出例如各种玻璃、高分子材料、金属等。作为玻璃，可以举出例如石英、硼硅酸玻璃、化学强化玻璃等。作为高分子材料，可以举出例如纤维素乙酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、三乙酸酯、聚碳酸酯、碳纤维强化树脂等。作为金属，可以举出例如铝、铁、铜等。可以使用其中2种以上。这些之中，特别优选为放射线的透过性高的高分子材料。此外，优选为平坦性和耐热性优异的材料。
基板的厚度从闪烁体面板的轻量化的观点出发，例如玻璃基板的情况下，优选为2.0mm以下、更优选为1.0mm以下。此外，包含高分子材料的基板的情况下，优选为3.0mm以下。
本发明的闪烁体面板优选具有将闪烁体层区隔的隔离壁。
隔离壁为了提高强度、耐久性、耐热性，优选由无机物构成。无机物是指单纯的一部分碳化合物(石墨或金刚石等碳的同素异形体等)和由除了碳之外的元素构成的化合物。应予说明，“由无机物构成”并非在严格意义上排除无机物之外的成分的存在，允许成为原料的无机物本身含有的杂质、在隔离壁的制造的过程中混入的杂质程度的无机物之外的成分的存在。
隔离壁优选以玻璃作为主成分。玻璃是指含有硅酸盐的无机非晶质固体。如果隔离壁的主成分为玻璃，则隔离壁的强度、耐久性、耐热性提高，后述反射层的形成步骤、荧光体的填充步骤中的变形、损坏难以发生。应予说明，“以玻璃作为主成分”是指构成隔离壁的材料的50~100质量%为玻璃。
特别地，隔离壁的软化点为650℃以下的玻璃、即低软化点玻璃所占的比例在将隔离壁部分的体积记作100体积%时，优选设为95体积%以上、更优选设为98体积%以上。通过使低软化点玻璃的含有率为95体积%以上，隔离壁在煅烧步骤中，隔离壁的表面容易平坦化。由此，闪烁体面板在隔离壁的表面上容易均匀地形成反射层。其结果是，反射率变高，能够进一步提高亮度。
作为能够用作低软化点玻璃之外的成分的成分，可以举出软化点大于650℃的玻璃、即高软化点玻璃粉末、陶瓷粉末等。这些粉末在隔离壁形成步骤中容易调整隔离壁的形状。为了提高低软化点玻璃的含有率，低软化点玻璃之外的成分的含量优选低于5体积%。
在隔离壁和闪烁体面板的基板的表面上，优选具有反射层、特别是金属反射层。通过具有反射层，通过放射线的照射而在单元内发射的光高效率地到达光电转换层，亮度容易提高。
构成反射层的材料只要具有反射从荧光体发射的电磁波的功能，则没有特别限定。例如，可以举出氧化钛、氧化铝等金属氧化物、银、铝等金属。构成反射层的材料优选即使是薄膜反射率也高的物质。通过制成薄膜，能够抑制单元的内容积的减少、增多所填充的荧光体量，因此闪烁体面板的亮度容易提高。因此，反射层优选由金属形成，更优选为银、铝和它们的合金。
反射层的厚度可根据所需要的反射特性适当设定，没有特别限定。例如，反射层的厚度优选为10nm以上、更优选为50nm以上。此外，反射层的厚度优选为500nm以下、更优选为300nm以下。通过使设置于隔离壁的反射层的厚度为10nm以上，闪烁体面板抑制光透过隔离壁而漏出，得到充分的光的遮蔽性，其结果是，清晰度提高。通过使反射层的厚度为500nm以下，反射层的表面的凹凸难以变大，反射率难以降低。
本发明的闪烁体面板中使用的闪烁体层至少含有粘接剂树脂和荧光体，进一步含有后述通式(1)所示的化合物和/或其盐。闪烁体层中包含的粘接剂树脂的量使用对于将荧光体颗粒粘合而形成闪烁体层而言充分的量。但是，只要不丧失作为粘接剂的功能，在亮度的观点方面，粘接剂树脂的使用量越少越优选。
作为粘接剂树脂，可以举出例如热塑性树脂、热固性树脂、光固性树脂等。更具体而言，可以举出例如丙烯酸树脂、纤维素系树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、酚醛树脂、尿素树脂、氯乙烯树脂、缩丁醛树脂、硅酮树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚乙烯基甲苯、聚苯基苯等。可以含有这些中的2种以上。这些之中，优选为选自丙烯酸树脂、缩丁醛树脂中的树脂。
粘接剂树脂对从闪烁体层提取光造成影响，因此透明性高的树脂能够进一步提高光的提取效率，故而优选。
作为荧光体，作为例如无机荧光体，可以举出硫化物系荧光体、锗酸盐系荧光体、卤化物系荧光体、硫酸钡系荧光体、磷酸铪系荧光体、钽酸盐系荧光体、钨酸盐系荧光体、稀土类硅酸盐系荧光体、稀土类硫氧化物系荧光体、稀土类磷酸盐系荧光体、稀土类氧基卤化物系荧光体、碱土金属磷酸盐系荧光体、碱土金属氟化卤化物系荧光体。作为稀土类硅酸盐系荧光体，可以举出铈活化稀土类硅酸盐系荧光体，作为稀土类硫氧化物系荧光体，可以举出镨活化稀土类硫氧化物系荧光体、铽活化稀土类硫氧化物系荧光体、铕活化稀土类硫氧化物系荧光体，作为稀土类磷酸盐系荧光体，可以举出铽活化稀土类磷酸盐系荧光体，作为稀土类氧基卤素荧光体，可以举出铽活化稀土类氧基卤化物系荧光体、铥活化稀土类氧基卤化物系荧光体，作为碱土金属磷酸盐系荧光体，可以举出铕活化碱土金属磷酸盐系荧光体，作为碱土金属氟化卤化物系荧光体，可以举出铕活化碱土金属氟化卤化物系荧光体。作为有机荧光体，可以举出对三联苯、对四联苯、2,5-二苯基噁唑、2,5-二苯基-1,3,4-噁二唑、萘、二苯基乙炔、茋等。可以含有这些中的2种以上。这些之中，优选为选自卤化物系荧光体、稀土类硫氧化物系荧光体中的荧光体，从容易以高密度填充的观点出发，更优选使用稀土类硫氧化物系荧光体。此外，在稀土类硫氧化物中，从容易以更高密度填充的观点出发，优选使用硫氧化钆。硫氧化钆优选被铽活化或被铕活化。
作为荧光体的形状，可以举出例如颗粒状、柱状、鳞片状等。这些之中，优选为颗粒状的荧光体。通过将荧光体的形状制成颗粒状，荧光体更均匀地分散在闪烁体层中，因此抑制了闪烁体层中的荧光体的发光的偏重，能够均匀地发光。
闪烁体层中包含的荧光体、优选X射线荧光体的平均粒径优选为0.5~50μm。如果荧光体的平均粒径为0.5μm以上，则从放射线向可见光的转换效率进一步提高，能够进一步提高灵敏度。此外，能够抑制荧光体的凝集。荧光体的平均粒径更优选为3μm以上、进一步优选为4μm以上。另一方面，如果荧光体的平均粒径为50μm以下，则闪烁体层表面的平滑性优异，能够抑制图像中的亮点的产生。荧光体的平均粒径更优选为40μm以下、进一步优选为30μm以下、此外进一步优选为18μm以下。
在此，本发明中的荧光体的平均粒径是指相对于粒度的累积分布达到50%的粒径，可以使用粒度分布测定装置(例如MT3300；日机装(株)制)测定。更具体而言，在充满水的试样室中投入X射线荧光体，进行300秒超声处理后，测定粒度分布，将相对于累积分布达到50%的粒径记作平均粒径。
本发明的闪烁体面板的特征在于，在闪烁体层中含有下述通式(1)所示的化合物和/或其盐。通过含有通式(1)所示的化合物和/或其盐，能够在闪烁体层中以高密度填充荧光体。通过能够以高密度填充荧光体，即使荧光体的使用量相同，也能够减小闪烁体层的厚度，因此与不含通式(1)所示的化合物和/或其盐的体系相比，能够在维持灵敏度的状态下提高清晰度。此外，通过调整闪烁体层的厚度，与不含通式(1)所示的化合物和/或其盐的体系相比，能够制成灵敏度、清晰度均优异的闪烁体面板。
[化2]
Figure DEST_PATH_IMAGE004
(上述通式(1)中，R表示碳原子数1~30的烃基；m表示1~20的整数；n表示1或2；n为2的情况下，多个R各自可以相同或不同)。
上述通式(1)所示的化合物具有作为磷酸基的一部分的羟基，此外，该羟基可以形成盐。详细的机理尚不明确，但通过使用这样的化合物作为在闪烁体层中含有的化合物，荧光体容易以高密度填充，灵敏度和清晰度提高。
上述通式(1)中，R是碳原子数1~30的烃基。在此“碳原子数”在R具有取代基的情况下，表示包含取代基所具有的碳在内的碳原子数。作为烃基，可以举出脂肪族烃基、芳族烃基。脂肪族烃基可以为直链的或有支链，可以一部分或整体为环状。此外，可以为饱和烃基或不饱和烃基。脂肪族烃基的氢的至少一部分可以被卤素、芳族烃基等替代。此外，在链中可以具有亚苯基等芳族烃基等。芳族烃基的氢的至少一部分可以被脂肪族烃基、卤素等替代。这些之中，R优选为饱和或不饱和的链状烃基。烃基的碳原子数优选为10以上、更优选为12以上。此外，烃基的碳原子数优选为27以下、更优选为24以下、进一步优选为23以下。
作为通式(1)所示的化合物的盐，可以举出例如锂盐、钠盐、钾盐、铷盐、铯盐、镁盐、钙盐、锶盐、钡盐、铵盐等。
通式(1)所示的化合物和/或其盐在闪烁体层中，可以物理地吸附在荧光体表面上。此外，可以与荧光体表面反应而化学吸附，也可以与从荧光体表面溶出的碱反应而形成盐。
通式(1)中，m为1~20。在m为0的情况下，闪烁体层中的荧光体的密度降低。从闪烁体层中的荧光体的密度容易提高的观点出发，m优选为3以上、更优选为5以上、进一步优选为6以上。
通式(1)中，n为1或2。应予说明，无论n的值如何，在盐的情况下，可以为多价离子的金属盐。在n为1或2之外的情况下，未发现闪烁体层中的荧光体的密度的提高。
通式(1)所示的化合物和/或其盐可以通过一般的有机化合物的分析而检测。例如，将闪烁体面板的闪烁体层在苯甲醇等有机溶剂中溶解・分散，通过离心分离，使荧光体沉降后，通过液相色谱质谱法等方法检测有机溶剂中的溶出成分，将结果与现有的数据库的数据对照，由此能够鉴定结构。
前述闪烁体层中的前述通式(1)所示的化合物和其盐的含量优选为0.0001~1重量%。在此，前述闪烁体层中的前述通式(1)所示的化合物和其盐的含量是指前述通式(1)所示的化合物和其盐相对于前述闪烁体层的总重量的重量分数。应予说明，若为了谨慎而补充，则闪烁体层的重量中不含隔离壁的重量。此外，在含有前述通式(1)所示的化合物或其盐中任一者的情况下，求出其含量，在含有前述通式(1)所示的化合物和其盐两者的情况下，基于前述通式(1)所示的化合物和其盐的总含量而求出含量。在前述通式(1)所示的化合物和其盐的含量为0.0001重量%以上的情况下，容易确认到闪烁体层中的荧光体的密度的提高。前述通式(1)所示的化合物和其盐的含量优选为0.001重量%以上、更优选为0.003重量%以上、进一步优选为0.005重量%以上。此外，在前述通式(1)所示的化合物和其盐的含量为1重量%以下的情况下，荧光体的密度进一步提高。前述通式(1)所示的化合物和其盐的含量优选为0.5重量%以下、更优选为0.3重量%以下、进一步优选为0.2重量%以下。
在闪烁体层中可以含有多种通式(1)所示的化合物和/或其盐。例如，可以含有通式(1)中的n为1的化合物、和n为2的化合物。在该情况下，前述闪烁体层中的前述通式(1)所示的化合物和其盐的含量是指前述通式(1)所示的多种化合物和其盐相对于前述闪烁体层的总重量的总含量。
本发明中，闪烁体面板的制造方法没有特别限定，可以举出例如在基板上涂布包含荧光体、粘接剂树脂、前述通式(1)所示的化合物和/或其盐、以及根据需要的其它成分的荧光体糊剂，根据需要进行加热干燥、曝光，由此形成闪烁体层的方法等。
作为荧光体糊剂的涂布方法，可以举出例如使用丝网印刷法、棒涂机、辊涂机、模具涂布机、刮刀涂布机等的涂布方法等。这些之中，从即使为厚膜，也容易以使闪烁体层的膜厚均匀的方式涂布的观点出发，优选使用辊涂机、模具涂布机进行涂布。模具涂布机之中，使用狭缝模具涂布机的涂布方法能够通过喷射量调整闪烁体层厚度，能够高精度地调整闪烁体层的厚度。
荧光体糊剂除了作为形成闪烁体层的成分而在先说明的成分之外，还可以包含有机溶剂。有机溶剂优选相对于粘接剂树脂、通式(1)所示的化合物和/或其盐以及根据需要包含的增塑剂、分散剂等为良溶剂。作为这样的有机溶剂，可以举出例如乙二醇单丁基醚乙酸酯、二乙二醇单丁基醚乙酸酯、乙二醇单丁基醚、二乙二醇单丁基醚、三乙二醇单丁基醚、聚乙二醇单丁基醚、丙二醇单丁基醚、二丙二醇单丁基醚、二丙二醇单丁基醚乙酸酯、乙二醇苯基醚、二乙二醇苯基醚、异丙醇、甲基乙基酮、环己酮、异丁醇、异丙醇、松油醇、苯甲醇、四氢呋喃、二氢松油醇、γ-丁内酯、乙酸二氢松油酯、3-甲氧基-1-丁醇、3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、己二醇等。可以包含这些中的2种以上。这些之中，优选为苯甲醇等醇系的溶剂。
在使用荧光体糊剂而制造闪烁体面板的情况下，前述闪烁体层中的前述通式(1)所示的化合物和其盐的含量可以通过荧光体糊剂中的前述通式(1)所示的化合物和其盐的含量调整。在荧光体糊剂中包含溶剂等挥发性成分、在荧光体糊剂涂布后进行干燥而去除挥发性成分的情况下，可以通过荧光体糊剂中的前述通式(1)所示的化合物和其盐相对于除了挥发性成分以外的总量的含量而调整。
接着，针对本发明的X射线检测器进行说明。本发明的X射线检测器可以通过在具有光电转换层的输出基板上设置前述的闪烁体面板而得到。输出基板在基板上具有光电转换层和输出层。作为光电转换层，一般而言为具有光传感器和TFT的像素形成为二维状的光电转换层。
接着，针对本发明的X射线透视装置进行说明。本发明的X射线透视装置具有产生X射线的X射线发生部和前述的X射线检测器。X射线透视装置是对被照射物从X射线发生部照射X射线，通过X射线检测器检测透过被照射物的X射线的装置。通过在其X射线检测部中安装本发明的X射线检测器，能够得到高灵敏度、高清晰度的X射线透视装置。
实施例
以下，举出实施例和比较例进一步具体说明本发明，但本发明不因它们而受到限定，此外，不限定为这些例子来解释。
各实施例和比较例中使用的材料示于以下。此外，各材料的特性通过以下的方法测定。
(X射线荧光体的平均粒径)
在粒度分布测定装置(MT3300；日机装(株)制)的装满水的试样室中投入X射线荧光体，进行300秒超声处理后测定粒度分布，将相对于累积分布达到50%的粒径记作平均粒径。
(荧光体糊剂的原料)
荧光体粉末1：Gd2O2S：Tb(日亚化学工业(株)制：平均粒径11μm)
粘接剂树脂1：“エスレック”(注册商标)BL-1(积水化学工业(株)制)聚乙烯醇缩丁醛
溶剂1：苯甲醇
表面活性剂1：“Phosphanol”(注册商标)RS-710(东邦化学工业(株)制)。为前述通式(1)所示的化合物，R为碳原子数13的脂肪族烃基；m为10。包含n为1的物质和n为2的物质的混合物。
表面活性剂2：“Phosphanol”(注册商标)RS-610(东邦化学工业(株)制)。为前述通式(1)所示的化合物，R为碳原子数13的脂肪族烃基；m为6。包含n为1的物质和n为2的物质的混合物。
表面活性剂3：“Phosphanol”(注册商标)RS-410(东邦化学工业(株)制)。为前述通式(1)所示的化合物，R为碳原子数13的脂肪族烃基；m为3。包含n为1的物质和n为2的物质的混合物。
表面活性剂4：“Phosphanol”(注册商标)RM-510(东邦化学工业(株)制)。为前述通式(1)所示的化合物，R为碳原子数24的脂肪族烃基取代芳族烃基；m为11。包含n为1的物质和n为2的物质的混合物。
表面活性剂5：“プライサーフ”(注册商标)A-219B(第一工业制药(株)制)。为前述通式(1)所示的化合物，R为碳原子数12的烃基；m为15。包含n为1的物质和n为2的物质的混合物。
表面活性剂6：“プライサーフ”(注册商标)A-215C(第一工业制药(株)制)。为前述通式(1)所示的化合物，R为碳原子数13的不饱和脂肪族烃基；m为15。包含n为1的物质和n为2的物质的混合物。
表面活性剂7：“Phosphanol”(注册商标)SC-6103(东邦化学工业(株)制)。为前述通式(1)所示的化合物的钙盐，R为碳原子数13的脂肪族烃基；m为6。包含n为1的物质和n为2的物质的混合物。
表面活性剂8：“Phosphanol”(注册商标)RD-720N(东邦化学工业(株)制)。为前述通式(1)所示的化合物的钠盐，R为碳原子数18的脂肪族不饱和烃基；m为7。包含n为1的物质和n为2的物质的混合物。
表面活性剂9：“Phosphanol”(注册商标)ML-200(东邦化学工业(株)制)。为下述化学式(2)所示的化合物，包含n为1的物质和n为2的物质的混合物。
[化3]
Figure DEST_PATH_IMAGE006
表面活性剂10：“メガファック”(注册商标)F-563(DIC(株)制)。含氟基・亲油性基低聚物。非离子性。
表面活性剂11：“エマルゲン”(注册商标)404(花王(株)制)。具有下述化学式(3)所示的结构。
[化4]
Figure DEST_PATH_IMAGE008
增塑剂：TOP(大八化学工业(株)制)。磷酸三(2-乙基己基)酯。
磷酸：磷酸(东京化成工业(株)制)
(粘接剂树脂溶液1的制备)
将20g的粘接剂树脂1和80g的溶剂1加入搅拌用容器中，在60℃下加热搅拌8小时，得到粘接剂树脂溶液1。
(含玻璃粉末的糊剂的原料)
感光性单体M-1：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯
感光性单体M-2：四丙二醇二甲基丙烯酸酯
感光性聚合物1：相对于以甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯=40/40/30的质量比形成的共聚物的羧基，使0.4当量的甲基丙烯酸缩水甘油基酯加成反应而得到的物质(重均分子量43000；酸值100)
光聚合引发剂1：2-苯甲基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮-1(BASF公司制)
聚合抑制剂1：1,6-己二醇-双[(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯])
紫外线吸收剂溶液1：スダンIV(东京应化工业株式会社制)的γ-丁内酯0.3质量%溶液
粘度调节剂1：“フローノン”(注册商标)EC121(共荣社化学公司制)
溶剂2：γ-丁内酯
低软化点玻璃粉末1：
SiO2 27质量%、B2O3 31质量%、ZnO 6质量%、Li2O 7质量%、MgO 2质量%、CaO 2质量%、BaO 2质量%、Al2O3 23质量%、折射率(ng)1.56、玻璃软化温度588℃、热膨胀系数70×10-7(K-1)、平均粒径2.3μm
(含玻璃粉末的糊剂的制作)
将4质量份的感光性单体M-1、6质量份的感光性单体M-2、24质量份的感光性聚合物1、6质量份的光聚合引发剂1、0.2质量份的聚合抑制剂1和12.8质量份的紫外线吸收剂溶液1添加至38质量份的溶剂2中，在温度80℃下加热溶解。将所得溶液冷却后，添加9质量份的粘度调节剂1，得到有机溶液1。向50质量份的有机溶液1中添加50质量份的前述低软化点玻璃粉末后，通过三辊混炼机混炼，得到含玻璃粉末的糊剂1。
(在基板上的隔离壁的制作)
作为基板，使用125mm×125mm×0.7mm的钠玻璃板。在基板的表面上，将含玻璃粉末的糊剂1以干燥后的厚度达到220μm的方式用模具涂布机涂布并干燥，得到含玻璃粉末的糊剂1的涂布膜。接着，经由具有与期望的图案对应的开口部的光掩模(具有间距127μm、线宽15μm的格子状开口部的铬掩模)，将含玻璃粉末的糊剂1的涂布膜使用超高压水银灯以300mJ/cm2的曝光量进行曝光。曝光后的涂布膜在0.5质量%的乙醇胺水溶液中显影，去除未曝光部分，得到格子状的图案。将所得格子状的图案在空气中以580℃煅烧15分钟，形成以玻璃作为主成分的格子状的隔离壁。
(反射层的形成)
使用市售的溅射装置和溅射靶，对形成有前述的隔离壁的基板，进行作为反射层的金属膜的形成。金属膜的厚度在形成有隔离壁的基板的附近配置玻璃平板，在该玻璃平板上的金属膜的厚度达到300nm的条件下实施溅射。溅射靶中，使用含有钯和铜的银合金APC(フルヤ金属公司制)。以下，将该形成有反射层的带隔离壁的基板也称为带反射层的隔离壁基板。
(闪烁体层的密度的评价)
从各实施例和比较例中制作的闪烁体面板的重量减去预先测定的基板(在形成有反射层和隔离壁的情况下包含这些)的重量，将由此求出的闪烁体层的重量除以与闪烁体层的基板侧一面相反侧一面的面积和膜厚相乘求出的体积，由此算出。实施例1~11和比较例2~6以比较例1的闪烁体面板的闪烁体层的密度记作100%，求出相对值，进行相对比较，实施例12~16和比较例8、9以比较例7的闪烁体面板的闪烁体层的密度记作100%，求出相对值，进行相对比较。
(灵敏度・清晰度的评价)
将各实施例和比较例中制作的闪烁体面板设置在市售的FPD(Paxscan2520V(Varian公司)制)上，制作X射线检测器。国际电气标准会议(IEC)所规定的标准IEC62220-1中，将按照评价数字图像系统的画质的线质RQA5的管电压70kVp的放射线从闪烁体面板的基板侧照射，用FPD检测闪烁体面板的灵敏度、清晰度。灵敏度根据入射射线量与图像的数字值的图的斜率算出。此外，清晰度通过边缘法算出，使用2cycles/mm的值。实施例1~11和比较例2~6以比较例1的灵敏度、清晰度各自记作100%，进行相对比较，实施例12~16和比较例8、9以比较例7的灵敏度、清晰度各自记作100%，进行相对比较。
(实施例1)
添加97.97重量份的荧光体粉末1、0.03重量份的表面活性剂1、10重量份的粘接剂树脂溶液1、6重量份的溶剂1并混合，使用行星式搅拌脱泡装置(“マゼルスター”(注册商标)KK-400；仓敷纺织(株)制)，以转速1000rpm搅拌脱泡20分钟，得到荧光体糊剂1。将所得荧光体糊剂1使用模具涂布机以干燥后的膜厚达到200μm的方式在基板的PET膜上涂布，在80℃下干燥4小时，得到在PET膜上形成有闪烁体层的闪烁体面板。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为106%。此外，灵敏度为106%，清晰度为100%。
(实施例2)
实施例1中，使用表面活性剂2替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为105%。此外，灵敏度为105%，清晰度为100%。
(实施例3)
实施例1中，使用表面活性剂3替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为102%。此外，灵敏度为102%，清晰度为100%。
(实施例4)
实施例1中，使用表面活性剂4替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为104%。此外，灵敏度为104%，清晰度为100%。
(实施例5)
实施例1中，使用表面活性剂5替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为106%。此外，灵敏度为106%，清晰度为100%。
(实施例6)
实施例1中，使用表面活性剂6替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为106%。此外，灵敏度为106%，清晰度为100%。
(实施例7)
实施例1中，使用表面活性剂7替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为105%。此外，灵敏度为105%，清晰度为100%。
(实施例8)
实施例1中，使用表面活性剂8替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为105%。此外，灵敏度为105%，清晰度为100%。
(实施例9)
实施例1中，以干燥后的膜厚达到195μm的方式在基板的PET膜上涂布荧光体糊剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为106%。此外，灵敏度为103%，清晰度为102%。
(实施例10)
实施例1中，添加97.7重量份的荧光体粉末1、0.3重量份的表面活性剂1、10重量份的粘接剂树脂溶液1、6重量份的溶剂1并混合，制备荧光体糊剂，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.3重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为102%。此外，灵敏度为102%，清晰度为100%。
(实施例11)
实施例1中，添加97.997重量份的荧光体粉末1、0.003重量份的表面活性剂1、10重量份的粘接剂树脂溶液1、6重量份的溶剂1并混合，制备荧光体糊剂，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.003重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为102%。此外，灵敏度为102%，清晰度为100%。
(比较例1)
实施例1中，不使用表面活性剂1，添加98重量份的荧光体粉末1、10重量份的粘接剂树脂溶液1、6重量份的溶剂1并混合，制备荧光体糊剂，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为100%。此外，灵敏度为100%，清晰度为100%。
(比较例2)
实施例1中，使用不具有聚环氧乙烷链的表面活性剂9替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为96%。此外，灵敏度为96%，清晰度为100%。
(比较例3)
实施例1中，使用氟系的表面活性剂10替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为99%。此外，灵敏度为99%，清晰度为100%。
(比较例4)
实施例1中，使用不具有磷酸基的表面活性剂11替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为97%。此外，灵敏度为97%，清晰度为100%。
(比较例5)
实施例1中，使用作为磷酸三酯的增塑剂替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的增塑剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为99%。此外，灵敏度为99%，清晰度为100%。
(比较例6)
实施例1中，使用磷酸替代表面活性剂1，除此之外，与实施例1同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的磷酸的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为100%。此外，灵敏度为100%，清晰度为100%。
(实施例12)
与实施例1同样地制作荧光体糊剂1，将所得荧光体糊剂1通过真空印刷填充在前述的带反射层的隔离壁基板中，在150℃下干燥15分钟，形成闪烁体层。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为107%。此外，灵敏度为107%，清晰度为100%。
(实施例13)
实施例12中，使用表面活性剂4替代表面活性剂1，除此之外，与实施例12同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为104%。此外，灵敏度为104%，清晰度为100%。
(实施例14)
实施例12中，使用表面活性剂5替代表面活性剂1，除此之外，与实施例12同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为107%。此外，灵敏度为107%，清晰度为100%。
(实施例15)
实施例12中，使用表面活性剂6替代表面活性剂1，除此之外，与实施例12同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为107%。此外，灵敏度为107%，清晰度为100%。
(实施例16)
实施例12中，使用表面活性剂8替代表面活性剂1，除此之外，与实施例12同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为106%。此外，灵敏度为105%，清晰度为100%。
(比较例7)
实施例12中，不使用表面活性剂1，添加98重量份的荧光体粉末1、10重量份的粘接剂树脂溶液1、6重量份的溶剂1并混合，制备荧光体糊剂，除此之外，与实施例12同样地制作闪烁体面板，进行评价。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为100%。此外，灵敏度为100%，清晰度为100%。
(比较例8)
实施例12中，使用表面活性剂9替代表面活性剂1，除此之外，与实施例12同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为95%。此外，灵敏度为95%，清晰度为100%。
(比较例9)
实施例12中，使用表面活性剂11替代表面活性剂1，除此之外，与实施例12同样地制作闪烁体面板，进行评价。闪烁体层中的表面活性剂的含量为0.03重量%。
所得闪烁体面板中的闪烁体层的密度为96%。此外，灵敏度为96%，清晰度为100%。
附图标记说明
1 X射线检测器
2 闪烁体面板
3 输出基板
4 闪烁体层
5 基板
6 荧光体
7 粘接剂树脂
8 隔膜层
9 光电转换层
10 输出层
11 基板
12 电源部
13 X射线检测器
14 闪烁体面板
15 基板
16 隔离壁
17 闪烁体层

Claims (6)

1.闪烁体面板，其具有基板、以及含有粘接剂树脂和荧光体的闪烁体层，前述闪烁体层中进一步含有下述通式(1)所示的化合物和/或其盐，
[化1]
Figure DEST_PATH_IMAGE001
上述通式(1)中，R表示碳原子数10~30的烃基；m表示3~20的整数；n表示1或2；n为2的情况下，多个R各自可以相同或不同。
2.根据权利要求1所述的闪烁体面板，其中，前述闪烁体层中的前述通式(1)所示的化合物和其盐的含量为0.0001~1重量%。
3.根据权利要求1或2所述的闪烁体面板，其中，前述荧光体含有硫氧化钆。
4.根据权利要求1或2所述的闪烁体面板，其具有区隔前述闪烁体层的隔离壁。
5.X射线检测器，其具有权利要求1~4中任一项所述的闪烁体面板和具有光电转换层的输出基板。
6.X射线透视装置，其安装有权利要求5所述的X射线检测器。
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