TW202045683A - 閃爍器面板及使用其之x射線檢測器及x射線透視裝置 - Google Patents

閃爍器面板及使用其之x射線檢測器及x射線透視裝置 Download PDF

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Abstract

本發明係以提供一種靈敏度及清晰度優異的閃爍器面板為課題，其本旨係具有基板、及含有黏合劑樹脂與螢光體的閃爍器層的閃爍器面板，於前述閃爍器層，進一步含有下述通式(1)所表示的化合物及/或其鹽的閃爍器面板。

Description

閃爍器面板及使用其之X射線檢測器及X射線透視裝置
本發明係關於閃爍器面板、使用其之X射線檢測器及X射線透視裝置。
歷來，在醫療場所中，使用底片的X射線影像被廣泛地使用。但是，使用底片的X射線影像為類比影像資訊，因此近年來開發出平板型的放射線檢測器(flat panel detector：FPD)等之數位式放射線影像檢測裝置。
於間接轉換方式的FPD中，為了將X射線轉換為可見光，而使用了閃爍器面板。閃爍器面板具有含氧硫化釓(GOS)等之螢光體的閃爍器層，藉由X射線的照射而該螢光體會發光。藉由使用具有薄膜電晶體(thin film transistor，TFT)或電荷耦合裝置(charge coupled device，CCD)的感測器(光電轉換層)將自閃爍器面板發光的光轉換為電子訊號，而將X射線的資訊轉換為數位影像資訊。
對利用X射線作為放射線的放射線檢測裝置的X射線檢測器，冀望即使以低放射線量靈敏度亦高、又清晰度高者。例如，冀求在醫療場所中，藉由X射線診斷等的被驗者的曝露劑量儘可能減少。然而，降低對X射線檢測器照射的放射線量，即，降低入射X射線量時，相對地閃爍器面板的螢光體之發光亮度會變低。因此，於閃爍器面板，冀求即使於低放射線量，亮度亦高，即靈敏度高。
於此處，一般而言，每單位照射面積的閃爍器層中之螢光體的含量越多，則閃爍器面板的靈敏度變得越高。然而，單純地增加螢光體的含量的情形，因與含量成比例而閃爍器層的厚度變厚，而於閃爍器層發光的光到達感測器之前變得容易散射，且清晰度會降低。因此，為了獲得靈敏度與清晰度皆高的閃爍器面板，儘可能不增加厚度而增加螢光體的含量，即高密度填充螢光體係為重要。
就高密度填充螢光體的技術而言，已提議於閃爍器層添加偶合劑、界面活性劑的方法。例如，已報告藉由含有磷酸系偶合劑、氟系界面活性劑，可提高螢光體的填充密度，獲得靈敏度與清晰度高的放射線像轉換面板。(參照專利文獻1、2) [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2000-105299號公報 [專利文獻2]日本特開2000-121799號公報
[發明欲解決之課題]
然而，即使使用此等文獻記載之技術，閃爍器面板的靈敏度、清晰度亦不充足。
本發明係鑒於上述課題，以提供靈敏度及清晰度優異的閃爍器面板為目的。 [用以解決課題之手段]
為了解決上述課題，本發明主要具有以下之構成。即，一種閃爍器面板，其係具有基板、及含有黏合劑樹脂與螢光體的閃爍器層的閃爍器面板，於前述閃爍器層，進一步含有下述通式(1)所表示的化合物及/或其鹽。
Figure 02_image004
(上述通式(1)中，R係表示碳數1～30之烴基。m係表示1～20之整數。n係表示1或2。n為2的情形，複數之R係各自可為相同亦可為不同。) [發明之效果]
本發明之閃爍器面板係靈敏度與清晰度優異。
[用以實施發明的形態]
本發明之閃爍器面板係至少具有基板與閃爍器層。閃爍器層係吸收入射的X射線等之放射線的能量，發出例如波長300nm～800nm之範圍的電磁波，即，發出以可見光為中心橫跨紫外光至紅外光的範圍的光。閃爍器層係至少含有黏合劑樹脂、螢光體、以及後述的通式(1)所表示的化合物及/或其鹽。黏合劑樹脂係具有維繫複數之螢光體粒子，且固定閃爍器層中的螢光體粒子之相對的位置的作用。螢光體具有吸收X射線等之放射線的能量，並發出光的作用。
於圖1示意性呈示包含本發明之閃爍器面板的X射線檢測器之一態樣。X射線檢測器1係具有閃爍器面板2、輸出基板3及電源部12。
於圖1，閃爍器面板2係具有基板5與閃爍器層4。閃爍器層4係含有螢光體6與黏合劑樹脂7、及圖未呈示的通式(1)所表示的化合物及/或其鹽。
輸出基板3係於基板11上具有光電轉換層9及輸出層10。光電轉換層9係二維狀地形成具有圖未呈示的光感測器及TFT的畫素者，例如一般而言，於光電轉換層內，面向閃爍器層4，畫素被矩陣狀配列者。於光電轉換層9上可具有隔膜層8。閃爍器面板2之出光面與輸出基板3之光電轉換層9較佳為隔著隔膜層8而接著或密著。
於圖2示意性呈示包含具有隔壁的閃爍器面板的X射線檢測器13之一態樣。X射線檢測器13係具有閃爍器面板14、輸出基板3及電源部12。閃爍器面板14係具有基板15、及閃爍器層17，閃爍器層17係藉由隔壁16而被劃分。閃爍器層17係含有螢光體6與黏合劑樹脂7、及圖未呈示的通式(1)所表示的化合物及/或其鹽。輸出基板3係於基板11上具有光電轉換層9及輸出層10。光電轉換層9一般而言係二維地形成具有圖未呈示的光感測器與TFT的畫素者。於光電轉換層9上可具有隔膜層8。
於閃爍器層4、17發出的光係到達光電轉換層9而被光電轉換、輸出。
就構成本發明之閃爍器面板所使用的基板的材料而言，較佳為具有放射線可透性者，可列舉例如，各種玻璃、高分子材料、金屬等。就玻璃而言，可列舉例如，石英、硼矽酸玻璃、化學強化玻璃等。就高分子材料而言，可列舉例如，纖維素乙酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯等的聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、三乙酸酯、聚碳酸酯、碳纖維強化樹脂等。就金屬而言，可列舉例如，鋁、鐵、銅等。此等可使用二種以上。此等中，尤以放射線可透性高的高分子材料為較佳。又，平坦性及耐熱性優異的材料為較佳。
基板之厚度，由閃爍器面板的輕量化之觀點來看，例如，玻璃基板的情形較佳為2.0mm以下，更佳為1.0mm以下。又，由高分子材料所構成的基板的情形，較佳為3.0mm以下。
本發明之閃爍器面板較佳為具有劃分閃爍器層的隔壁。
為了提高強度或耐久性、耐熱性，隔壁較佳為由無機物所構成。所謂無機物，係指單純一部份的碳化合物(石墨或金鋼石等碳的同素異形體等)及碳以外的元素所構成的化合物。又，所謂「由無機物所構成」，並非以嚴格意義排除無機物以外的成分的存在，可容許成為原料的無機物本身所含有的雜質、於隔壁之製造過程中混入的雜質程度的無機物以外之成分的存在。
隔壁較佳為以玻璃為主成分者。所謂玻璃，係指含有矽酸鹽的無機非晶質固體。隔壁之主成分為玻璃時，隔壁係強度或耐久性、耐熱性提高，後述的反射層之形成步驟或螢光體之填充步驟中的變形或損壞變得難以發生。又，所謂「以玻璃為主成分」，係指構成隔壁的材料之50～100質量%為玻璃。
尤其，隔壁中為軟化點650℃以下之玻璃的低軟化點玻璃之所佔比例，將隔壁部分的體積設為100體積%時，較佳為95體積%以上，更佳為98體積%以上。藉由低軟化點玻璃之含有率為95體積%以上，隔壁於燒成步驟中，隔壁的表面變得容易平坦化。藉此，閃爍器面板，於隔壁的表面變得容易均勻地形成反射層。其結果，反射率變高，可更提高亮度。
就可使用作為低軟化點玻璃以外之成分的成分而言，可列舉為軟化點超過650℃的玻璃的高軟化點玻璃粉末或陶瓷粉末等。此等之粉末，於隔壁形成步驟中容易調整隔壁的形狀。為了提高低軟化點玻璃之含有率，低軟化點玻璃以外之成分的含量較佳為小於5體積%。
於隔壁及閃爍器面板之基板的表面，較佳為具有反射層，尤其是金屬反射層。藉由具有反射層，由於放射線的照射而於單元(cell)內發光的光有效率地到達光電轉換層，而亮度容易提升。
構成反射層的材料若具有將自螢光體發光的電磁波反射的機能，則未特別限定。可列舉例如，二氧化鈦、氧化鋁等之金屬氧化物；銀、鋁等之金屬。構成反射層的材料較佳為即使為薄膜反射率亦高者。藉由作成薄膜，可抑制單元的內容積的減少，且增加填充的螢光體量，因而閃爍器面板的亮度容易提升。因此，反射層較佳可以金屬構成，更佳為銀、鋁、及此等之合金。
反射層之厚度，可因應必要的反射特性而適當設定，未特別限定。例如，反射層之厚度較佳為10nm以上，更佳為50nm以上。又，反射層之厚度較佳為500nm以下，更佳為300nm以下。藉由設於隔壁的反射層之厚度為10nm以上，閃爍器面板係抑制透過隔壁而光漏出的情形，而獲得充分的光之遮蔽性，其結果，清晰度提升。藉由反射層之厚度為500nm以下，反射層之表面的凹凸不易變大，反射率不易降低。
本發明之閃爍器面板所使用的閃爍器層係至少含有黏合劑樹脂與螢光體，又進一步含有後述的通式(1)所表示的化合物及/或其鹽。於閃爍器層所含的黏合劑樹脂之量係使用於維繫螢光體粒子而形成閃爍器層之充分量。但是，只要不喪失作為黏合劑的機能，則由亮度的觀點來看，黏合劑樹脂之使用量係越少越佳。
就黏合劑樹脂而言，可列舉例如，熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等。更具體而言，可列舉例如，丙烯酸樹脂、纖維素系樹脂、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、酚樹脂、脲樹脂、氯乙烯樹脂、丁醛樹脂、矽氧樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚乙烯基甲苯、聚苯基苯等。此等可含有二種以上。此等之中，較佳為選自丙烯酸樹脂、丁醛樹脂的樹脂。
由於黏合劑樹脂對於自閃爍器層的光取出有影響，透明性高的樹脂係可使光取出效率更提升因而較佳。
作為螢光體，例如，就無機螢光體而言，可列舉硫化物系螢光體、鍺酸鹽系螢光體、鹵化物系螢光體、硫酸鋇系螢光體、磷酸鉿系螢光體、鉭酸鹽系螢光體、鎢酸鹽系螢光體、稀土類矽酸鹽系螢光體、稀土類氧硫化物系螢光體、稀土類磷酸鹽系螢光體、稀土類氧鹵化物系螢光體、鹼土類金屬磷酸鹽系螢光體、鹼土類金屬氟化鹵化物系螢光體。就稀土類矽酸鹽系螢光體而言，可列舉鈰活化稀土類矽酸鹽系螢光體，就稀土類氧流化物系螢光體而言，可列舉鐠活化稀土類氧硫化物系螢光體、鋱活化稀土類氧硫化物系螢光體、銪活化稀土類氧硫化物系螢光體，就稀土類磷酸鹽系螢光體而言，可列舉鋱活化稀土類磷酸鹽系螢光體，就稀土類氧鹵素螢光體而言，可列舉鋱活化稀土類氧鹵化物系螢光體、銩活化稀土類氧鹵化物系螢光體，就鹼土類金屬磷酸鹽系螢光體而言，可列舉銪活化鹼土類金屬磷酸鹽系螢光體，就鹼土類金屬氟化鹵化物系螢光體而言，可列舉銪活化鹼土類金屬氟化鹵化物系螢光體。就有機螢光體而言，可列舉對聯三苯、對聯四苯、2,5-二苯基
Figure 109100694-A0304-12-0059-1
唑、2,5-二苯基-1,3,4-
Figure 109100694-A0304-12-0059-1
二唑、萘、二苯基乙炔、二苯乙烯等。此等可含有二種以上。此等之中，較佳為選自鹵化物系螢光體、稀土類氧硫化物系螢光體的螢光體，更佳為使用稀土類氧硫化物系螢光體，因其容易被高密度地填充。又，於稀土類氧硫化物之中較佳為使用氧硫化釓，因其容易更高密度地被填充。氧硫化釓較佳為經鋱活化或銪活化者。
就螢光體的形狀而言，可列舉例如，粒子狀、柱狀、鱗片狀等。此等之中，較佳為粒子狀之螢光體。藉由將螢光體之形狀作成粒子狀，於閃爍器層中，因螢光體更均勻地分散，可抑制閃爍器層中的螢光體之發光的偏移，並可使其均勻地發光。
閃爍器層中所含的螢光體之平均粒徑，較佳為X射線螢光體之平均粒徑係0.5～50μm為較佳。螢光體之平均粒徑為0.5μm以上時，由放射線轉換為可見光的轉換效率更提升，可使靈敏度更提升。又，可抑制螢光體之凝集。螢光體之平均粒徑更佳為3μm以上，進一步較佳為4μm以上。另一方面，螢光體之平均粒徑為50μm以下時，閃爍器層表面之平滑性優異，且可抑制於影像的輝點的發生。螢光體之平均粒徑更佳為40μm以下，進一步較佳為30μm以下，又進一步更佳為18μm以下。
於此處，本發明中所謂的螢光體之平均粒徑，係指對於粒度的累積分布成為50%的粒徑，可使用粒度分布測定裝置(例如，MT3300；日機裝(股)製)而測定。更具體而言，於裝滿水的試料室中投入X射線螢光體，進行300秒超音波處理後測定粒度分布，將相對於累積分布成為50%的粒徑設為平均粒徑。
本發明之閃爍器面板係特徵為於閃爍器層中含有下述通式(1)所表示的化合物及/或其鹽。藉由含有通式(1)所表示的化合物及/或其鹽，可於閃爍器層中高密度填充螢光體。藉由螢光體為可高密度地填充，即使螢光體的使用量相同，亦可減少閃爍器層的厚度，故與不含有通式(1)所表示的化合物及/或其鹽的系統相比，於維持靈敏度的狀態下的清晰度的提升為可能。又，藉由調整閃爍器層之厚度，與不含有通式(1)所表示的化合物及/或其鹽的系統相比，可作成靈敏度、清晰度皆優異的閃爍器面板。
Figure 02_image006
(上述通式(1)中，R係表示碳數1～30之烴基。m係表示1～20之整數。n係表示1或2。n為2的情形，複數之R係各自可為相同亦可為不同。) 上述通式(1)所表示的化合物係具有作為磷酸基之一部分的羥基，又，於該羥基形成鹽亦無妨。詳細的機構雖不清楚，但藉由使用此種化合物作為閃爍器層中含有的化合物，變得容易地以高密度填充螢光體，且靈敏度和清晰度會提高。
上述通式(1)中，R為碳數1～30之烴基。於此處，「碳數」，於R具有取代基的情形，表示包含取代基所具有的碳的碳數。就烴基而言，可列舉脂肪族烴基、芳香族烴基。脂肪族烴基可為直鏈亦可為分支，亦可為一部分或全體為環狀。又，可為飽和烴基亦可為不飽和烴基。脂肪族烴基係氫之至少一部分亦可經鹵素、芳香族烴基等取代。又，鏈中可具有伸苯基等的芳香族烴基等。芳香族烴基係氫之至少一部分可經脂肪族烴基或鹵素等取代。此等之中，R較佳為飽和或不飽和之鏈狀烴基。烴基之碳數較佳為10以上，更佳為12以上。又，烴基之碳數較佳為27以下，更佳為24以下，進一步較佳為23以下。
就通式(1)所表示的化合物之鹽而言，可列舉例如，鋰鹽、鈉鹽、鉀鹽、銣鹽、銫鹽、鎂鹽、鈣鹽、鍶鹽、鋇鹽、銨鹽等。
通式(1)所表示的化合物及/或其鹽可於閃爍器層中物理吸附於螢光體表面。又，可與螢光體表面反應而化學吸附，亦可與由螢光體表面溶出的鹼反應而形成鹽。
通式(1)中，m為1～20。m為0的情形，閃爍器層中之螢光體的密度降低。由閃爍器層中之螢光體的密度容易提升來看，m較佳為3以上，更佳為5以上，進一步較佳為6以上。
通式(1)中，n為1或2。又，不論n之值為何，於鹽的情形為多價離子的金屬鹽亦無妨。n為1或2以外的情形，未觀察到閃爍器層中之螢光體的密度提升。
通式(1)所表示的化合物及/或其鹽可藉由一般的有機化合物的分析來檢測。例如，將閃爍器面板的閃爍器層溶解並分散於苄醇等的有機溶媒，藉由離心分離使螢光體沉降後，將有機溶媒中的溶出成分以液體層析質量分析法等的方法檢測，將結果對照現存的資料庫的數據，藉此可鑑定結構。
前述閃爍器層中之前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的含量，較佳為0.0001～1重量%。於此處，所謂前述閃爍器層中之前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的含量，係指相對於前述閃爍器層之總重量之前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的重量分率。又，為了確保正確而補充說明，閃爍器層的重量不包含隔壁的重量。又，基於前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的總含量，於含有前述通式(1)所表示的化合物或其鹽之任一者的情形時求得其含量，於含有前述通式(1)所表示的化合物及其鹽兩者的情形求得含量。前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的含量為0.0001重量%以上的情形，容易觀察到閃爍器層中之螢光體的密度提高。前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的含量，較佳為0.001重量%以上，更佳為0.003重量%以上，進一步較佳為0.005重量%以上。又，前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的含量為1重量%以下的情形，螢光體的密度更為提升。前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的含量較佳為0.5重量%以下，更佳為0.3重量%以下，進一步較佳為0.2重量%以下。
於閃爍器層中可含有複數種之通式(1)所表示的化合物及/或其鹽。例如，可含有通式(1)中的n為1的化合物、及n為2的化合物。於此情形，前述閃爍器層中之前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的含量係指相對於前述閃爍器層之總重量的前述通式(1)所表示的複數種之化合物及其鹽的總含量。
於本發明，閃爍器面板之製造方法未特別限定，但可列舉例如，於基板上，塗布包含螢光體、黏合劑樹脂、前述通式(1)所表示的化合物及/或其鹽、以及視需要之其它成分的螢光體糊，視需要進行加熱乾燥或曝光而形成閃爍器層的方法等。
就螢光體糊之塗布方法而言，可列舉例如，網版印刷法、使用棒式塗布機、輥式塗布機、模塗布機、刮刀式塗布機等的塗布方法等。此等之中，由即使厚膜亦容易塗布而使閃爍器層之膜厚成為均勻來看，較佳為使用輥式塗布機或模塗布機進行塗布。於模塗布機之中，使用狹縫模塗布機的塗布方法，可藉由吐出量調整閃爍器層厚度，且可高精密度調整閃爍器層之厚度。
螢光體糊除了作為形成閃爍器層的成分而先前說明的成分之外，亦可含有有機溶媒。有機溶媒較佳為對於黏合劑樹脂、通式(1)所表示的化合物及/或其鹽以及視需要所包含的可塑劑或分散劑等為良溶媒。就此種有機溶媒而言，可列舉例如，乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇單丁醚、二乙二醇單丁醚、三乙二醇單丁醚、聚乙二醇單丁醚、丙二醇單丁醚、二丙二醇單丁醚、二丙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇苯基醚、二乙二醇苯基醚、異丙醇、甲基乙基酮、環己酮、異丁醇、異丙醇、萜品醇、苄醇、四氫呋喃、二氫萜品醇、γ-丁內酯、乙酸二氫萜品酯(dihydroterpinyl acetate)、3-甲氧基-1-丁醇、3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、N,N-二甲基甲醯胺、己二醇等。此等可含有二種以上。此等之中，較佳為苄醇等的醇系之溶劑。
使用螢光體糊而製造閃爍器面板的情形，前述閃爍器層中之前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的含量，可藉由螢光體糊中的前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的含量而調整。於螢光體糊中含有溶媒等之揮發性成分，於螢光體糊塗布後進行乾燥而去除揮發性成分的情形，可藉由前述通式(1)所表示的化合物及其鹽相對於螢光體糊中之揮發性成分以外的總量的含量而調整。
其次，針對本發明之X射線檢測器進行說明。本發明之X射線檢測器係可藉由於具有光電轉換層的輸出基板上，設置前述之閃爍器面板而獲得。輸出基板係於基板上具有光電轉換層及輸出層。就光電轉換層而言，二維狀地形成具有光感測器與TFT的畫素者為一般的。
接著，針對本發明之X射線透視裝置進行說明。本發明之X射線透視裝置係具有使X射線發生的X射線發生部與前述之X射線檢測器。X射線透視裝置係由X射線發生部對目標照射X射線，穿透目標的X射線藉由X射線檢測器進行檢測的裝置。藉由於該X射線檢測部搭載本發明之X射線檢測器，可獲得高靈敏度、高清晰度之X射線透視裝置。 [實施例]
以下，列舉實施例及比較例進一步具體地說明本發明，但本發明未受此等限定，又，不應解釋為限定於此等之例。
以下呈示於各實施例及比較例所使用的材料。又，各材料之特性係藉由以下之方法測定。
(X射線螢光體之平均粒徑) 於粒度分布測定裝置(MT3300；日機裝(股)製)之裝滿水的試料室中投入X射線螢光體，進行300秒超音波處理後，測定粒度分布，將對於累積分布成為50%的粒徑作為平均粒徑。
(螢光體糊之原料) 螢光體粉末1：Gd2 O2 S：Tb(日亞化學工業(股)製：平均粒徑11μm) 黏合劑樹脂1：「S-LEC」(註冊商標)BL-1(積水化學工業(股)製)聚乙烯丁醛(polyvinyl butyral) 溶媒1：苄醇 界面活性劑1：「Phosphanol」(註冊商標)RS-710(東邦化學工業(股)製)。前述通式(1)所表示的化合物，R為碳數13之脂肪族烴基。m為10。n為1及n為2者所包含的混合物。 界面活性劑2：「Phosphanol」(註冊商標)RS-610(東邦化學工業(股)製)。前述通式(1)所表示的化合物，R為碳數13之脂肪族烴基。m為6。n為1及n為2者所包含的混合物。 界面活性劑3：「Phosphanol」(註冊商標)RS-410(東邦化學工業(股)製)。前述通式(1)所表示的化合物，R為碳數13之脂肪族烴基。m為3。n為1及n為2者所包含的混合物。 界面活性劑4：「Phosphanol」(註冊商標)RM-510(東邦化學工業(股)製)。前述通式(1)所表示的化合物，R為碳數24之脂肪族烴基取代芳香族烴基。m為11。n為1及n為2者所包含的混合物。 界面活性劑5：「PLYSURF」(註冊商標)A-219B(第一工業製藥(股)製)。前述通式(1)所表示的化合物，R為碳數12之烴基。m為15。n為1及n為2者所包含的混合物。 界面活性劑6：「PLYSURF」(註冊商標)A-215C(第一工業製藥(股)製)。前述通式(1)所表示的化合物，R為碳數13之不飽和脂肪族烴基。m為15。n為1及n為2者所包含的混合物。 界面活性劑7：「Phosphanol」(註冊商標)SC-6103(東邦化學工業(股)製)。前述通式(1)所表示的化合物之鈣鹽，R為碳數13之脂肪族烴基。m為6。n為1及n為2者所包含的混合物。 界面活性劑8：「Phosphanol」(註冊商標)RD-720N(東邦化學工業(股)製)。前述通式(1)所表示的化合物之鈉鹽，R為碳數18之脂肪族不飽和烴基。m為7。n為1及n為2者所包含的混合物。 界面活性劑9：「Phosphanol」(註冊商標)ML-200(東邦化學工業(股)製)。下述化學式(2)所表示的化合物，n為1及n為2者所包含的混合物。
Figure 02_image008
界面活性劑10：「Megafac」(註冊商標)F-563(DIC(股)製)。含氟基・親油性基寡聚物。非離子性。 界面活性劑11：「EMULGEN」(註冊商標)404(花王(股)製)。具有下述化學式(3)所表示的結構。
Figure 02_image010
可塑劑：TOP(大八化學工業(股)製)。參(2-乙基己基)磷酸酯。 磷酸：磷酸(東京化成工業(股)製) (黏合劑樹脂溶液1之調製) 將20g之黏合劑樹脂1與80g之溶媒1置入攪拌用容器，於60℃加熱攪拌8小時而獲得黏合劑樹脂溶液1。
(含有玻璃粉末的糊之原料) 感光性單體M-1 ： 三羥甲基丙烷三丙烯酸酯 感光性單體M-2 ： 四丙二醇二甲基丙烯酸酯 感光性聚合物1 ： 對由甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯=40/40/30之質量比而成的共聚物之羧基使與0.4當量之甲基丙烯酸縮水甘油酯加成反應者(重量平均分子量43000；酸值100) 光聚合起始劑1 ： 2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-
Figure 109100694-A0304-12-0020-6
啉基苯基)丁酮-1(BASF公司製) 聚合抑制劑1 ： 1,6-己二醇-雙[(3,5-二-三級丁基-4-羥苯基)丙酸酯]) 紫外線吸收劑溶液1 ： Sudan IV(東京應化工業股份有限公司製)的γ-丁內酯0.3質量%溶液 黏度調整劑1 ： 「Furonon」(註冊商標)EC121(共榮社化學公司製) 溶媒2 ： γ-丁內酯 低軟化點玻璃粉末1： SiO2 27質量%、B2 O3 31質量%、ZnO 6質量%、Li2 O 7質量%、MgO 2質量%、CaO 2質量%、BaO 2質量%、Al2 O3 23質量%、折射率(ng)1.56、玻璃軟化溫度588℃、熱膨脹係數70×10-7 (K-1 )、平均粒徑2.3μm (含有玻璃粉末的糊之製作) 將4質量份之感光性單體M-1、6質量份之感光性單體M-2、24質量份之感光性聚合物1、6質量份之光聚合起始劑1、0.2質量份之聚合抑制劑1及12.8質量份之紫外線吸收劑溶液1，添加於38質量份之溶媒2，於溫度80℃下加熱溶解。將獲得的溶液冷卻後，添加9質量份之黏度調整劑1，獲得有機溶液1。於50質量份之有機溶液1中添加50質量份之前述低軟化點玻璃粉末後，以3輥捏合機捏合，而獲得含有玻璃粉末的糊1。
(於基板上的隔壁之製作) 使用125mm×125mm×0.7mm之鈉玻璃板作為基板。於基板之表面，以模塗布機塗布含有玻璃粉末的糊1並乾燥而使乾燥後之厚度成為220μm，獲得含有玻璃粉末的糊1之塗布膜。接著，透過具有對應於所希望圖案的開口部的光罩(具有節距127μm、線寬15μm之格子狀開口部的鉻遮罩(chrome mask))，將含有玻璃粉末的糊1之塗布膜，使用超高壓水銀燈而以300mJ/cm2 的曝光量進行曝光。曝光後之塗布膜於0.5質量%之乙醇胺水溶液中顯影，去除未曝光部分，獲得格子狀的圖案。將獲得的格子狀之圖案，於空氣中580℃下燒成15分鐘，形成以玻璃為主成分之格子狀的隔壁。
(反射層之形成) 使用市售之濺鍍裝置、及濺鍍靶材，對前述之有隔壁形成的基板進行作為反射層之金屬膜的形成。金屬膜之厚度係以有隔壁形成的基板之附近配置玻璃平板，於該玻璃平板上的金屬膜之厚度成為300nm的條件下實施濺鍍。對於濺鍍靶材，使用為含有鈀及銅的銀合金的APC(FURUYA METAL公司製)。以下，亦將有此反射層形成的附隔壁的基板稱為附反射層的隔壁基板。
(閃爍器層的密度之評價) 將藉由自於各實施例及比較例所製作的閃爍器面板的重量減去先前測定的基板(於有反射層及隔壁形成的情形係包含此等)的重量而求得的閃爍器層的重量，除以閃爍器層的基板側之面相反側的面的面積乘與膜厚計算而求得的體積而算出。實施例1～11及比較例2～6係將比較例1之閃爍器面板之閃爍器層的密度設為100%而求得相對值，進行相對比較，實施例12～16及比較例8、9係將比較例7之閃爍器面板之閃爍器層的密度設為100%而求得相對值，進行相對比較。
(靈敏度・清晰度之評價) 將於各實施例及比較例所製作的閃爍器面板設置於市售之FPD(Paxscan2520V(Varian公司)製)，並製作X射線檢測器。由閃爍器面板之基板側照射依據於國際電氣標準會議(IEC)所定訂的規格IEC62220-1中評價數位影像系統的畫質的線質RQA5的管電壓70kVp之放射線，以FPD檢測閃爍器面板之靈敏度、清晰度。靈敏度係由入射線量與影像之數位值的圖的斜率算出。又，清晰度係藉由邊緣法計算，並使用2cycles/mm的值。實施例1～11及比較例2～6係各自將比較例1之靈敏度、清晰度設為100%，進行相對比較，實施例12～16及比較例8、9係各自將比較例7之靈敏度、清晰度設為100%，進行相對比較。
(實施例1) 添加97.97重量份之螢光體粉末1、0.03重量份之界面活性劑1、10重量份之黏合劑樹脂溶液1、6重量份之溶媒1而混合，使用行星式攪拌脫泡裝置(「Mazerustar」(註冊商標)KK-400；倉敷紡績(股)製)，於旋轉數1000rpm進行20分鐘攪拌脫泡，獲得螢光體糊1。將獲得的螢光體糊1，使用模塗布機，塗布於基板之PET薄膜上並於80℃乾燥4小時而使乾燥後之膜厚成為200μm，獲得PET薄膜上有閃爍器層形成的閃爍器面板。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層之密度為106%。又，靈敏度為106%，清晰度為100%。
(實施例2) 除了使用界面活性劑2替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層之密度為105%。又，靈敏度為105%，清晰度為100%。
(實施例3) 除了使用界面活性劑3替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為102%。又，靈敏度為102%，清晰度為100%。
(實施例4) 除了使用界面活性劑4替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為104%。又，靈敏度為104%，清晰度為100%。
(實施例5) 除了使用界面活性劑5替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為106%。又，靈敏度為106%，清晰度為100%。
(實施例6) 除了使用界面活性劑6替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為106%。又，靈敏度為106%，清晰度為100%。
(實施例7) 除了使用界面活性劑7替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為105%。又，靈敏度為105%，清晰度為100%。
(實施例8) 除了使用界面活性劑8替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為105%。又，靈敏度為105%，清晰度為100%。 (實施例9) 除了於實施例1，塗布螢光體糊1於基板之PET薄膜上使乾燥後之膜厚成為195μm以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為106%。又，靈敏度為103%，清晰度為102%。
(實施例10) 除了於實施例1添加97.7重量份之螢光體粉末1、0.3重量份之界面活性劑1、10重量份之黏合劑樹脂溶液1、6重量份之溶媒1而混合而調製螢光體糊以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.3重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為102%。又，靈敏度為102%，清晰度為100%。
(實施例11) 除了於實施例1添加97.997重量份之螢光體粉末1、0.003重量份之界面活性劑1、10重量份之黏合劑樹脂溶液1、6重量份之溶媒1而混合而調製螢光體糊以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.003重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為102%。又，靈敏度為102%，清晰度為100%。
(比較例1) 除了於實施例1不使用界面活性劑1，添加98重量份之螢光體粉末1、10重量份之黏合劑樹脂溶液1、6重量份之溶媒1而混合而調製螢光體糊以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為100%。又，靈敏度為100%，清晰度為100%。
(比較例2) 除了使用不具有聚氧化乙烯鏈的界面活性劑9替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為96%。又，靈敏度為96%，清晰度為100%。
(比較例3) 除了使用氟系之界面活性劑10替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為99%。又，靈敏度為99%，清晰度為100%。
(比較例4) 除了使用不具有磷酸基的界面活性劑11替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為97%。又，靈敏度為97%，清晰度為100%。
(比較例5) 除了使用為磷酸三酯的可塑劑替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之可塑劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為99%。又，靈敏度為99%，清晰度為100%。
(比較例6) 除了使用磷酸替代於實施例1之界面活性劑1以外，與實施例1同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之磷酸的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為100%。又，靈敏度為100%，清晰度為100%。
(實施例12) 與實施例1同樣地製作螢光體糊1，將獲得的螢光體糊1藉由真空印刷而填充於前述之附反射層的隔壁基板，於150℃乾燥15分鐘，並形成閃爍器層。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為107%。又，靈敏度為107%，清晰度為100%。
(實施例13) 除了使用界面活性劑4替代於實施例12之界面活性劑1以外，與實施例12同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為104%。又，靈敏度為104%，清晰度為100%。
(實施例14) 除了使用界面活性劑5替代於實施例12之界面活性劑1以外，與實施例12同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為107%。又，靈敏度為107%，清晰度為100%。
(實施例15) 除了使用界面活性劑6替代於實施例12之界面活性劑1以外，與實施例12同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為107%。又，靈敏度為107%，清晰度為100%。
(實施例16) 除了使用界面活性劑8替代於實施例12之界面活性劑1以外，與實施例12同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為106%。又，靈敏度為105%，清晰度為100%。
(比較例7) 除了於實施例12不使用界面活性劑1，添加98重量份之螢光體粉末1、10重量份之黏合劑樹脂溶液1、6重量份之溶媒1而混合而調製螢光體糊以外，與實施例12同樣地製作閃爍器面板並評價。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為100%。又，靈敏度為100%，清晰度為100%。
(比較例8) 除了使用界面活性劑9替代於實施例12之界面活性劑1以外，與實施例12同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為95%。又，靈敏度為95%，清晰度為100%。
(比較例9) 除了使用界面活性劑11替代於實施例12之界面活性劑1以外，與實施例12同樣地製作閃爍器面板並評價。閃爍器層中之界面活性劑的含量為0.03重量%。
獲得的閃爍器面板中的閃爍器層的密度為96%。又，靈敏度為96%，清晰度為100%。
1:X射線檢測器 2:閃爍器面板 3:輸出基板 4:閃爍器層 5:基板 6:螢光體 7:黏合劑樹脂 8:隔膜層 9:光電轉換層 10:輸出層 11:基板 12:電源部 13:X射線檢測器 14:閃爍器面板 15:基板 16:隔壁 17:閃爍器層
圖1係示意性表示包含本發明之閃爍器面板的X射線檢測器之一態樣的剖面圖。 圖2係示意性表示包含具有藉由隔壁劃分的閃爍器層的閃爍器面板的X射線檢測器之一態樣的剖面圖。
Figure 109100694-A0101-11-0002-2
1:X射線檢測器
2:閃爍器面板
3:輸出基板
4:閃爍器層
5:基板
6:螢光體
7:黏合劑樹脂
8:隔膜層
9:光電轉換層
10:輸出層
11:基板
12:電源部

Claims (6)

  1. 一種閃爍器面板，其係具有基板、及含有黏合劑樹脂與螢光體的閃爍器層的閃爍器面板，其中於前述閃爍器層係進一步含有下述通式(1)所表示的化合物及/或其鹽，
    Figure 03_image012
    (上述通式(1)中，R係表示碳數1～30之烴基；m係表示1～20之整數；n係表示1或2；n為2的情形，複數之R係各自可為相同亦可為不同)。
  2. 如請求項1之閃爍器面板，其中前述閃爍器層中之前述通式(1)所表示的化合物及其鹽的含量為0.0001～1重量%。
  3. 如請求項1或2之閃爍器面板，其中前述螢光體係含有氧硫化釓。
  4. 如請求項1至3中任一項之閃爍器面板，其具有劃分前述閃爍器層的隔壁。
  5. 一種X射線檢測器，其具有輸出基板，該輸出基板具有如請求項1至4中任一項之閃爍器面板及光電轉換層。
  6. 一種X射線透視裝置，其搭載如請求項5之X射線檢測器。
TW109100694A 2019-01-24 2020-01-09 閃爍器面板及使用其之x射線檢測器及x射線透視裝置 TWI824097B (zh)

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