KR20210119389A - 신틸레이터 패널, 그것을 사용한 x선 검출기 및 x선 투시 장치 - Google Patents

신틸레이터 패널, 그것을 사용한 x선 검출기 및 x선 투시 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 감도 및 선예도가 우수한 신틸레이터 패널을 제공하는 것을 과제로 하고, 기판과, 바인더 수지와 형광체를 함유하는 신틸레이터층을 갖는 신틸레이터 패널로서, 상기 신틸레이터층에는 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 포함하는 신틸레이터 패널로 하는 것을 취지로 한다.(상기 일반식(1) 중, R은 탄소수 1~30의 탄화수소기를 나타낸다. m은 1~20의 정수를 나타낸다. n은 1 또는 2를 나타낸다. n이 2일 경우, 복수의 R은 각각 동일해도 달라도 좋다.)

Description

신틸레이터 패널, 그것을 사용한 X선 검출기 및 X선 투시 장치
본 발명은 신틸레이터 패널, 그것을 사용한 X선 검출기 및 X선 투시 장치에 관한 것이다.
종래, 의료 현장에 있어서, 필름을 사용한 X선 화상이 널리 사용되어 왔다. 그러나, 필름을 사용한 X선 화상은 아날로그 화상 정보이기 때문에, 최근, 플랫 패널형의 방사선 디텍터(flat panel detector: FPD) 등의 디지털 방식의 방사선 검출 장치가 개발되고 있다.
간접 변환 방식의 FPD에 있어서는, X선을 가시광선으로 변환하기 위해서 신틸레이터 패널이 사용된다. 신틸레이터 패널은 산황화가돌리늄(GOS) 등의 형광체를 포함하는 신틸레이터층을 갖고, X선의 조사에 의해 상기 형광체가 광을 발광한다. 신틸레이터 패널로부터 발광된 광을 박막 트랜지스터(TFT)나 전하 결합 소자(CCD)를 갖는 센서(광전 변환층)를 사용하여 전기 신호로 변환함으로써, X선의 정보를 디지털 화상 정보로 변환한다.
방사선으로서 X선을 이용하는 방사선 검출 장치인 X선 검출기에는, 낮은 방사선량으로도 감도가 높고, 또한 선예도가 높은 것이 기대된다. 예를 들면, 의료 현장에 있어서는, X선 진단 등에 의한 피험자의 피폭량을 가능한 한 저감하는 것이 요구되고 있다. 그러나, X선 검출기에 조사하는 방사선량, 즉 입사 X선량을 저감하면, 상대적으로 신틸레이터 패널의 형광체의 발광 휘도가 낮아진다. 그 때문에, 신틸레이터 패널에 있어서는, 낮은 방사선량에 있어서도 휘도가 높은, 즉 감도가 높은 것이 요구된다.
여기에서, 일반적으로는, 단위 조사 면적당의 신틸레이터층 중의 형광체의 함유량이 많을수록 신틸레이터 패널의 감도는 높아진다. 그러나, 형광체의 함유량을 단순하게 많이 했을 경우, 함유량에 비례해서 신틸레이터층의 두께가 두꺼워지기 때문에, 신틸레이터층에 있어서 발광한 광이 센서에 도달할 때까지 산란되기 쉬워지고, 선예도가 저하되어 버린다. 그 때문에, 가능한 한 두께를 두껍게 하지 않고 형광체의 함유량을 많이 하는 것, 즉 형광체를 고밀도로 충전하는 것이, 감도와 선예도가 모두 높은 신틸레이터 패널을 얻기 위해서 중요하다.
형광체를 고밀도로 충전하는 기술로서, 신틸레이터층에 커플링제나 계면활성제를 첨가하는 방법이 제안되어 있다. 예를 들면, 인산계 커플링제나 불소계 계면활성제를 함유함으로써 형광체의 충전 밀도를 높일 수 있고, 감도와 선예도가 높은 방사선상 변환 패널이 얻어지는 것이 보고되어 있다.(특허문헌 1, 2 참조)
일본 특허공개 2000-105299호 공보 일본 특허공개 2000-121799호 공보
그러나, 이들 문헌에 기재된 기술을 이용해도, 신틸레이터 패널의 감도, 선예도는 불충분했다.
본 발명은 상기 과제를 감안하여 감도 및 선예도가 우수한 신틸레이터 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은 주로서 이하의 구성을 갖는다. 즉,
기판과, 바인더 수지와 형광체를 함유하는 신틸레이터층을 갖는 신틸레이터 패널로서, 상기 신틸레이터층에는, 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 더 포함하는 신틸레이터 패널이다.
Figure pct00001
(상기 일반식(1) 중, R은 탄소수 1~30의 탄화수소기를 나타낸다. m은 1~20의 정수를 나타낸다. n은 1 또는 2를 나타낸다. n이 2일 경우, 복수의 R은 각각 동일해도 달라도 좋다.)
본 발명의 신틸레이터 패널은 감도와 선예도가 우수하다.
도 1은 본 발명의 신틸레이터 패널을 포함하는 X선 검출기의 일형태를 모식적으로 나타낸 단면도이다.
도 2는 격벽으로 구획된 신틸레이터층을 갖는 신틸레이터 패널을 포함하는 X선 검출기의 일형태를 모식적으로 나타낸 단면도이다.
본 발명의 신틸레이터 패널은 적어도 기판과 신틸레이터층을 갖는다. 신틸레이터층은 입사된 X선 등의 방사선의 에너지를 흡수해서, 예를 들면, 파장 300㎚~800㎚의 범위의 전자파, 즉, 가시광을 중심으로 자외광으로부터 적외광에 걸치는 범위의 광을 발광한다. 신틸레이터층은, 적어도 바인더 수지, 형광체 및 후술하는 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 함유한다. 바인더 수지는, 복수의 형광체 입자를 묶어 놓고, 신틸레이터층에 있어서의 형광체 입자의 상대적인 위치를 고정하는 작용을 갖는다. 형광체는 X선 등의 방사선의 에너지를 흡수하고, 광을 발광하는 작용을 갖는다.
도 1에 본 발명의 신틸레이터 패널을 포함하는 X선 검출기의 일형태를 모식적으로 나타낸다. X선 검출기(1)는 신틸레이터 패널(2), 출력 기판(3) 및 전원부(12)를 갖는다.
도 1에 있어서, 신틸레이터 패널(2)은 기판(5)과 신틸레이터층(4)을 갖고 있다. 신틸레이터층(4)은, 형광체(6)와 바인더 수지(7)와, 도시하지 않은 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 함유하고 있다.
출력 기판(3)은 기판(11) 상에 광전 변환층(9) 및 출력층(10)을 갖는다. 광전 변환층(9)은, 도시하지 않은 포토 센서와 TFT를 갖는 화소를 2차원 형상으로 형성한 것, 예를 들면 광전 변환층 내에 있어서 신틸레이터층(4)에 면하고, 화소가 매트릭스 형상으로 배열되어 있는 것이 일반적이다. 광전 변환층(9) 상에 격막층(8)을 가져도 좋다. 신틸레이터 패널(2)의 출광면과 출력 기판(3)의 광전 변환층(9)을, 격막층(8)을 개재해서 접착 또는 밀착시키는 것이 바람직하다.
도 2에, 격벽을 갖는 신틸레이터 패널을 포함하는 X선 검출기(13)의 일형태를 모식적으로 나타낸다. X선 검출기(13)는 신틸레이터 패널(14), 출력 기판(3) 및 전원부(12)를 갖는다. 신틸레이터 패널(14)은 기판(15)과 신틸레이터층(17)을 갖고, 신틸레이터층(17)은 격벽(16)에 의해 구획되어 있다. 신틸레이터층(17)은, 형광체(6)와 바인더 수지(7)와, 도시하지 않은 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 함유한다. 출력 기판(3)은 기판(11) 상에 광전 변환층(9) 및 출력층(10)을 갖는다. 광전 변환층(9)은, 도시하지 않은 포토 센서와 TFT를 갖는 화소를 2차원 형상으로 형성한 것이 일반적이다. 광전 변환층(9) 상에 격막층(8)을 가져도 좋다.
신틸레이터층(4, 17)에서 발광한 광은 광전 변환층(9)에 도달해서 광전 변환되어 출력된다.
본 발명의 신틸레이터 패널에 사용되는 기판을 구성하는 재료로서는, 방사선투과성을 갖는 것이 바람직하고, 예를 들면, 각종 유리, 고분자 재료, 금속 등을 들 수 있다. 유리로서는, 예를 들면 석영, 붕규산 유리, 화학적 강화 유리 등을 들 수 있다. 고분자 재료로서는, 예를 들면, 셀룰로오스아세테이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 트리아세테이트, 폴리카보네이트, 탄소 섬유 강화 수지 등을 들 수 있다. 금속으로서는, 예를 들면 알루미늄, 철, 구리 등을 들 수 있다. 이것을 2종 이상 사용해도 좋다. 이것들 중에서도, 특히 방사선의 투과성이 높은 고분자 재료가 바람직하다. 또한, 평탄성 및 내열성이 우수한 재료가 바람직하다.
기판의 두께는, 신틸레이터 패널의 경량화의 관점으로부터, 예를 들면, 유리 기판의 경우에는 2.0㎜ 이하가 바람직하고, 1.0㎜ 이하가 보다 바람직하다. 또한, 고분자 재료로 이루어지는 기판의 경우에는 3.0㎜ 이하가 바람직하다.
본 발명의 신틸레이터 패널은 신틸레이터층을 구획하는 격벽을 갖는 것이 바람직하다.
격벽은 강도나 내구성, 내열성을 높이기 위해서, 무기물로 이루어지는 것이 바람직하다. 무기물이란, 단순한 일부의 탄소 화합물(그래파이트 또는 다이아몬드 등 탄소의 동소체 등) 및 탄소 이외의 원소로 구성되는 화합물을 말한다. 또한, 「무기물로 이루어지다」란, 엄밀한 의미에서 무기물 이외의 성분의 존재를 배제하는 것이 아니고, 원료로 되는 무기물 자체가 함유하는 불순물이나, 격벽의 제조의 과정에 있어서 혼입되는 불순물 정도의 무기물 이외의 성분의 존재는 허용된다.
격벽은 유리를 주성분으로 하는 것이 바람직하다. 유리란, 규산염을 함유하는 무기 비정질 고체를 말한다. 격벽의 주성분이 유리이면, 격벽은, 강도나 내구성, 내열성이 높아지고, 후술하는 반사층의 형성 공정이나 형광체의 충전 공정에 있어서의 변형이나 손괴가 발생하기 어려워진다. 또한, 「유리를 주성분으로 하다」란, 격벽을 구성하는 재료의 50~100질량%가 유리인 것을 말한다.
특히는, 격벽은, 연화점 650℃ 이하의 유리인 저연화점 유리가 차지하는 비율이, 격벽 부분의 체적을 100체적%로 했을 때, 95체적% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 98체적% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다. 저연화점 유리의 함유율이 95체적% 이상임으로써, 격벽은, 소성 공정에 있어서 격벽의 표면이 평탄화되기 쉬워진다. 이것에 의해, 신틸레이터 패널은 격벽의 표면에 균일하게 반사층을 형성하기 쉬워진다. 그 결과, 반사율이 높아지고, 휘도를 보다 높일 수 있다.
저연화점 유리 이외의 성분으로서 사용할 수 있는 성분으로서는, 연화점 650℃를 초과하는 유리인 고연화점 유리 분말이나 세라믹 분말 등을 들 수 있다. 이들 분말은 격벽 형성 공정에 있어서 격벽의 형상을 조정하기 쉽게 한다. 저연화점 유리의 함유율을 높이기 위해서, 저연화점 유리 이외의 성분의 함유량은 5체적% 미만인 것이 바람직하다.
격벽 및 신틸레이터 패널의 기판의 표면에는 반사층, 특히는 금속 반사층을 갖는 것이 바람직하다. 반사층을 가짐으로써, 방사선의 조사에 의해 셀 내에서 발광한 광이 효율적으로 광전 변환층까지 도달하고, 휘도가 향상되기 쉽다.
반사층을 구성하는 재료는, 형광체로부터 발광한 전자파를 반사하는 기능이 있으면, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 산화티탄이나 산화알류미늄 등의 금속 산화물, 은이나 알루미늄 등의 금속을 들 수 있다. 반사층을 구성하는 재료는 박막으로도 반사율이 높은 것이 바람직하다. 박막으로 함으로써 셀의 내용적의 감소를 억제하고, 충전되는 형광체량을 많이 할 수 있으므로, 신틸레이터 패널의 휘도가 향상되기 쉽다. 그 때문에, 반사층은 금속으로 되어 있는 것이 바람직하며, 은, 알루미늄, 및 이것들의 합금인 것이 보다 바람직하다.
반사층의 두께는, 필요한 반사 특성에 따라 적당히 설정할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 반사층의 두께는 10㎚ 이상인 것이 바람직하고, 50㎚ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 반사층의 두께는 500㎚ 이하인 것이 바람직하고, 300㎚ 이하인 것이 보다 바람직하다. 격벽에 형성된 반사층의 두께가 10㎚ 이상임으로써, 신틸레이터 패널은, 격벽을 투과해서 광이 누출되는 것을 억제하여 충분한 광의 차폐성이 얻어지고, 그 결과, 선예도가 향상된다. 반사층의 두께가 500㎚ 이하임으로써, 반사층의 표면의 요철이 커지기 어렵고, 반사율이 저하되기 어렵다.
본 발명의 신틸레이터 패널에 사용되는 신틸레이터층은, 적어도 바인더 수지와 형광체를 함유하고, 후술하는 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 더 함유한다. 신틸레이터층에 포함되는 바인더 수지의 양은 형광체 입자를 묶어 놓고 신틸레이터층을 형성하기에 충분한 양이 사용된다. 단, 바인더로서의 기능을 잃어버리지 않는 한에 있어서, 휘도의 관점에서는 바인더 수지의 사용량은 적으면 적을수록 바람직하다.
바인더 수지로서는, 예를 들면 열가소성 수지, 열경화성 수지, 광경화성 수지 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 예를 들면 아크릴 수지, 셀룰로오스계 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 요소 수지, 염화비닐 수지, 부티랄 수지, 실리콘 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리비닐톨루엔, 폴리페닐 벤젠 등을 들 수 있다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다. 이것들 중에서도, 아크릴 수지, 부티랄 수지로부터 선택된 수지가 바람직하다.
바인더 수지는, 신틸레이터층으로부터의 광의 인출에 영향을 주는 점으로부터, 투명성이 높은 수지가 광의 인출 효율을 보다 향상시킬 수 있으므로 바람직하다.
형광체로서는, 예를 들면, 무기 형광체로서는 황화물계 형광체, 게르만산염계 형광체, 할로겐화물계 형광체, 황산 바륨계 형광체, 인산 하프늄계 형광체, 탄탈산염계 형광체, 텅스텐산염계 형광체, 희토류 규산염계 형광체, 희토류 산황화물계 형광체, 희토류 인산염계 형광체, 희토류 옥시할로겐화물계 형광체, 알칼리 토류 금속 인산염계 형광체, 알칼리 토류 금속 불화할로겐화물계 형광체를 들 수 있다. 희토류 규산염계 형광체로서는, 세륨 부활 희토류 규산염계 형광체를 들 수 있고, 희토류 산황화물계 형광체로서는, 프라세오디뮴 부활 희토류 산황화물계 형광체, 테르븀 부활 희토류 산황화물계 형광체, 유로퓸 부활 희토류 산황화물계 형광체를 들 수 있고, 희토류 인산염계 형광체로서는 테르븀 부활 희토류 인산염계 형광체를 들 수 있고, 희토류 옥시할로겐 형광체로서는, 테르븀 부활 희토류 옥시할로겐화물계 형광체, 툴륨 부활 희토류 옥시할로겐화물계 형광체를 들 수 있고, 알칼리 토류 금속 인산염계 형광체로서는, 유로퓸 부활 알칼리 토류 금속 인산염계 형광체를 들 수 있고, 알칼리 토류 금속 불화할로겐화물계 형광체로서는, 유로퓸 부활 알칼리 토류 금속 불화할로겐화물계 형광체를 들 수 있다. 유기 형광체로서는 p-터페닐, p-쿼터페닐, 2,5-디페닐옥사졸, 2,5-디페닐-1,3,4-옥소디아졸, 나프탈렌, 디페닐아세틸렌, 스틸벤 등을 들 수 있다. 이것들을 2종 이상 함유해도 좋다. 이것들 중에서도, 할로겐화물계 형광체, 희토류 산황화물계 형광체로부터 선택된 형광체가 바람직하고, 고밀도로 충전되기 쉬운 점으로부터 희토류 산황화물계 형광체를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 희토류 산황화물 중에서는 한층 더 고밀도로 충전되기 쉬운 점으로부터 산황화가돌리늄을 사용하는 것이 바람직하다. 산황화가돌리늄은 테르븀 부활 또는 유로퓸 부활된 것이 바람직하다.
형광체의 형상으로서는, 예를 들면, 입자 형상, 기둥 형상, 인편 형상 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도 입자 형상의 형광체가 바람직하다. 형광체의 형상을 입자 형상으로 함으로써, 신틸레이터층 중에 있어서 형광체가 보다 균일하게 분산되는 점으로부터, 신틸레이터층 중에 있어서의 형광체의 발광의 치우침을 억제하여, 균일하게 발광시킬 수 있다.
신틸레이터층에 포함되는 형광체, 바람직하게 X선 형광체의 평균 입자 지름은 0.5~50㎛가 바람직하다. 형광체의 평균 입자 지름이 0.5㎛ 이상이면, 방사선으로부터 가시광으로의 변환 효율이 보다 향상되고, 감도를 보다 향상시킬 수 있다. 또한, 형광체의 응집을 억제할 수 있다. 형광체의 평균 입자 지름은 3㎛ 이상이 보다 바람직하고, 4㎛ 이상이 더욱 바람직하다. 한편, 형광체의 평균 입자 지름이 50㎛ 이하이면, 신틸레이터층 표면의 평활성이 우수하고, 화상에의 휘점의 발생을 억제할 수 있다. 형광체의 평균 입자 지름은 40㎛ 이하가 보다 바람직하고, 30㎛ 이하가 더욱 바람직하고, 18㎛ 이하가 보다 더욱 바람직하다.
여기에서, 본 발명에 있어서의 형광체의 평균 입자 지름이란, 입도의 누적 분포에 대하여 50%가 되는 입자 지름을 말하고, 입도 분포 측정 장치(예를 들면, MT3300; 닛키소(주)제)를 사용하여 측정할 수 있다. 보다 구체적으로는, 물을 채운 시료실에 X선 형광체를 투입하고, 300초간 초음파 처리를 행한 후에 입도 분포를 측정하고, 누적 분포에 대하여 50%가 되는 입자 지름을 평균 입자 지름으로 한다.
본 발명의 신틸레이터 패널은, 신틸레이터층 중에 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 함유하는 것을 특징으로 한다. 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 함유함으로써, 신틸레이터층 중에 형광체를 고밀도로 충전할 수 있다. 형광체가 고밀도로 충전 가능함으로써 형광체의 사용량이 동일해도 신틸레이터층의 두께를 작게 할 수 있기 때문에, 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 함유하지 않는 계에 비하여, 감도를 유지한 상태에서의 선예도의 향상이 가능하다. 또한, 신틸레이터층의 두께를 조정함으로써 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 함유하지 않는 계에 비하여, 감도, 선예도가 모두 우수한 신틸레이터 패널로 할 수 있다.
Figure pct00002
(상기 일반식(1) 중, R은 탄소수 1~30의 탄화수소기를 나타낸다. m은 1~20의 정수를 나타낸다. n은 1 또는 2를 나타낸다. n이 2일 경우, 복수의 R은 각각 동일해도 달라도 좋다.)
상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물은 인산기의 일부로서의 수산기를 갖고 있고, 또한, 상기 수산기에 있어서 염을 형성하고 있어도 개의치 않는다. 상세한 기구는 명확하지는 않지만, 신틸레이터층 중에 함유하는 화합물로서 이와 같은 화합물을 사용함으로써, 형광체가 고밀도로 충전되기 쉬워지고, 감도와 선예도가 향상된다.
상기 일반식(1) 중, R은 탄소수 1~30의 탄화수소기이다. 여기에서 「탄소수」는, R이 치환기를 가질 경우에는 치환기가 갖는 탄소를 포함시킨 탄소수를 나타낸다. 탄화수소기로서는 지방족 탄화수소기, 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. 지방족 탄화수소기는 직쇄라도 분기되어 있어도 좋고, 일부 또는 전체가 환상이라도 좋다. 또한, 포화 탄화수소기라도 불포화 탄화수소기라도 좋다. 지방족 탄화수소기는 수소의 적어도 일부가 할로겐, 방향족 탄화수소기 등에 의해 치환되어 있어도 좋다. 또한, 쇄 중에 페닐렌기 등의 방향족 탄화수소기 등을 갖고 있어도 좋다. 방향족 탄화수소기는 수소의 적어도 일부가 지방족 탄화수소기나 할로겐 등에 의해 치환되어 있어도 좋다. 이것들 중에서도, R은 포화 또는 불포화의 쇄상 탄화수소기인 것이 바람직하다. 탄화수소기의 탄소수는 10 이상이 바람직하고, 12 이상이 보다 바람직하다. 또한, 탄화수소기의 탄소수는 27 이하가 바람직하고, 24 이하가 보다 바람직하고, 23 이하가 더욱 바람직하다.
일반식(1)으로 나타내어지는 화합물의 염으로서는, 예를 들면, 리튬염, 나트륨염, 칼륨염, 루비듐염, 세슘염, 마그네슘염, 칼슘염, 스트론튬염, 바륨염, 암모늄염 등을 들 수 있다.
일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염은, 신틸레이터층 중에 있어서, 형광체 표면에 물리적으로 흡착되어 있어도 좋다. 또한, 형광체 표면과 반응해서 화학 흡착하고 있어도 좋고, 형광체 표면으로부터 용출한 염기와 반응해서 염을 형성하고 있어도 좋다.
일반식(1) 중, m은 1~20이다. m이 0일 경우, 신틸레이터층 중의 형광체의 밀도가 저하된다. 신틸레이터층 중의 형광체의 밀도가 향상되기 쉬운 점으로부터, m은 3 이상이 바람직하고, 5 이상이 보다 바람직하고, 6 이상이 더욱 바람직하다.
일반식(1) 중, n은 1 또는 2이다. 또한, n의 값에 관계없이, 염일 경우에 다가 이온의 금속염이라도 개의치 않는다. n이 1 또는 2 이외일 경우에는, 신틸레이터층 중의 형광체의 밀도의 향상은 확인되지 않는다.
일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염은, 일반적인 유기 화합물의 분석에 의해 검출할 수 있다. 예를 들면, 신틸레이터 패널의 신틸레이터층을, 벤질알콜 등의 유기 용매에 용해·분산하고, 원심 분리에 의해 형광체를 침강시킨 뒤, 유기 용매 중의 용출 성분을, 액체 크로마토그래피 질량 분석법 등의 방법으로 검출하고, 결과를 기존의 데이터베이스의 데이터와 대조함으로써 구조를 동정할 수 있다.
상기 신틸레이터층 중의, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 함유량은 0.0001~1중량%가 바람직하다. 여기에서, 상기 신틸레이터층 중의, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 함유량은, 상기 신틸레이터층의 총중량에 대한, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 중량분률을 말한다. 또한, 만약을 위해 보족하면, 신틸레이터층의 중량에 격벽의 중량은 포함되지 않는다. 또한, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 또는 그 염의 어느 일방을 함유할 경우는 그 함유량을, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 양방을 함유하는 경우에는 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 총함유량에 의거하여 함유량은 구해진다. 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 함유량이 0.0001중량% 이상일 경우, 신틸레이터층 중의 형광체의 밀도의 향상이 확인되기 쉽다. 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 함유량은, 바람직하게는 0.001중량% 이상이며, 보다 바람직하게는 0.003중량% 이상이며, 더 바람직하게는 0.005중량% 이상이다. 또한, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 함유량이 1중량% 이하일 경우, 형광체의 밀도가 보다 향상된다. 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 함유량은, 바람직하게는 0.5중량% 이하이며, 보다 바람직하게는 0.3중량% 이하이며, 더 바람직하게는 0.2중량% 이하이다.
일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 신틸레이터층 중에 복수종 함유해도 좋다. 예를 들면, 일반식(1)에 있어서의 n이 1인 화합물과, n이 2인 화합물을 함유하고 있어도 좋다. 이 경우, 상기 신틸레이터층 중의, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 함유량은, 상기 신틸레이터층의 총중량에 대한, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 복수종의 화합물 및 그 염의 총함유량을 말한다.
본 발명에 있어서, 신틸레이터 패널의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 기판 상에, 형광체, 바인더 수지, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염, 및 필요에 따라서 기타 성분을 포함하는 형광체 페이스트를 도포하고, 필요에 따라서 가열 건조나 노광 행함으로써 신틸레이터층을 형성하는 방법 등을 들 수 있다.
형광체 페이스트의 도포 방법으로서는, 예를 들면, 스크린 인쇄법, 바 코터, 롤 코터, 다이 코터, 블레이드 코터 등을 사용한 도포 방법 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 후막이라도 신틸레이터층의 막두께가 균일해지도록 도포하기 쉬운 점으로부터, 롤 코터나 다이 코터를 사용하여 도포하는 것이 바람직하다. 다이 코터 중에서도, 슬릿 다이 코터를 사용한 도포 방법은, 신틸레이터층 두께를 토출량에 의해 조정 가능하고, 신틸레이터층의 두께를 고정밀도로 조정할 수 있다.
형광체 페이스트는, 신틸레이터층을 형성하는 성분으로서 먼저 설명한 성분에 추가해서, 유기 용매를 포함해도 개의치 않는다. 유기 용매는 바인더 수지, 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염 및 필요에 따라서 포함되는 가소제나 분산제 등에 대하여, 양용매인 것이 바람직하다. 그와 같은 유기 용매로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜페닐에테르, 디에틸렌글리콜페닐에테르, 이소프로필알콜, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 이소부틸알콜, 이소프로필알콜, 테르피네올, 벤질알콜, 테트라히드로푸란, 디히드로터피네올, γ-부티로락톤, 디히드로터피닐아세테이트, 3-메톡시-1-부탄올, 3-메톡시-3-메틸-1-부탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, N,N-디메틸포름아미드, 헥실렌글리콜 등을 들 수 있다. 이것들을 2종 이상 포함해도 좋다. 이것들 중에서도, 벤질알콜 등의 알콜계의 용제가 바람직하다.
형광체 페이스트를 사용하여 신틸레이터 패널을 제조할 경우, 상기 신틸레이터층 중의, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 함유량은, 형광체 페이스트 중에 있어서의 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 함유량에 의해 조정할 수 있다. 형광체 페이스트 중에 용매 등의 휘발성 성분이 포함되고, 형광체 페이스트 도포 후에 건조를 행하여 휘발성 성분이 제거되는 경우에는, 형광체 페이스트 중의, 휘발성 성분 이외의 총량에 대한, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 함유량에 의해 조정할 수 있다.
이어서, 본 발명의 X선 검출기에 대하여 설명한다. 본 발명의 X선 검출기는, 광전 변환층을 갖는 출력 기판 상에, 상술의 신틸레이터 패널을 설치함으로써 얻을 수 있다. 출력 기판은 기판 상에 광전 변환층 및 출력층을 갖는다. 광전 변환층으로서는, 포토 센서와 TFT를 갖는 화소를 2차원 형상으로 형성한 것이 일반적이다.
이어서, 본 발명의 X선 투시 장치에 대하여 설명한다. 본 발명의 X선 투시 장치는 X선을 발생시키는 X선 발생부와 상술의 X선 검출기를 갖는다. X선 투시 장치는, 피사체에 대하여 X선 발생부로부터 X선을 조사하고, 피사체를 투과한 X선을 X선 검출기에 의해 검출하는 장치이다. 그 X선 검출부에 본 발명의 X선 검출기를 탑재함으로써, 고감도, 고선예도의 X선 투시 장치를 얻을 수 있다.
(실시예)
이하에, 실시예 및 비교예를 들어서 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이것들에 의해 한정되는 것은 아니고, 또한 이들 예에 한정해서 해석되는 것은 아니다.
각 실시예 및 비교예에 있어서 사용한 재료를 이하에 나타낸다. 또한, 각 재료의 특성은 이하의 방법에 의해 측정했다.
(X선 형광체의 평균 입자 지름)
입도 분포 측정 장치(MT3300; 닛키소(주)제)의 물을 채운 시료실에 X선 형광체를 투입하고, 300초간 초음파 처리를 행한 후에 입도 분포를 측정하고, 누적 분포에 대하여 50%가 되는 입자 지름을 평균 입자 지름으로 했다.
(형광체 페이스트의 원료)
형광체 분말 1: Gd2O2S: Tb(니치아 카가쿠 고교(주)제: 평균 입자 지름 11㎛)
바인더 수지 1: "S 레크"(등록상표) BL-1(세키스이 카가쿠 고교(주)제)폴리비닐부티랄
용매 1: 벤질알콜
계면활성제 1: "포스파놀"(등록상표) RS-710(도호 카가쿠 고교(주)제). 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물이며, R은 탄소수 13의 지방족 탄화수소기. m은 10. n이 1인 것과 n이 2인 것이 포함되어 있는 혼합물.
계면활성제 2: "포스파놀"(등록상표) RS-610(도호 카가쿠 고교(주)제). 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물이며, R은 탄소수 13의 지방족 탄화수소기. m은 6. n이 1인 것과 n이 2인 것이 포함되어 있는 혼합물.
계면활성제 3: "포스파놀"(등록상표) RS-410(도호 카가쿠 고교(주)제). 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물이며, R은 탄소수 13의 지방족 탄화수소기. m은 3. n이 1인 것과 n이 2인 것이 포함되어 있는 혼합물.
계면활성제 4: "포스파놀"(등록상표) RM-510(도호 카가쿠 고교(주)제). 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물이며, R은 탄소수 24의 지방족 탄화수소기 치환 방향족 탄화수소기. m은 11. n이 1인 것과 n이 2인 것이 포함되어 있는 혼합물.
계면활성제 5: "플라이 서프"(등록상표) A-219B(다이이치 고교 세이야쿠(주)제). 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물이며, R은 탄소수 12의 탄화수소기. m은 15. n이 1인 것과 n이 2인 것이 포함되어 있는 혼합물.
계면활성제 6: "플라이 서프"(등록상표) A-215C(다이이치 고교 세이야쿠(주)제). 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물이며, R은 탄소수 13의 불포화 지방족 탄화수소기. m은 15. n이 1인 것과 n이 2인 것이 포함되어 있는 혼합물.
계면활성제 7: "포스파놀"(등록상표) SC-6103(도호 카가쿠 고교(주)제). 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물의 칼슘염이며, R은 탄소수 13의 지방족 탄화수소기. m은 6. n이 1인 것과 n이 2인 것이 포함되어 있는 혼합물.
계면활성제 8: "포스파놀"(등록상표) RD-720N(도호 카가쿠 고교(주)제). 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물의 나트륨염이며, R은 탄소수 18의 지방족 불포화 탄화수소기. m은 7. n이 1인 것과 n이 2인 것이 포함되어 있는 혼합물.
계면활성제 9: "포스파놀"(등록상표) ML-200(도호 카가쿠 고교(주)제). 하기화학식(2)으로 나타내어지는 화합물이며, n이 1인 것과 n이 2인 것이 포함되어 있는 혼합물.
Figure pct00003
계면활성제 10: "메가팩"(등록상표) F-563(DIC(주)제). 함불소기·친유성기 올리고머. 비이온성.
계면활성제 11: "에뮬겐"(등록상표) 404(카오(주)제). 하기 화학식(3)으로 나타내어지는 구조를 갖는다.
Figure pct00004
가소제: TOP(다이하치 카가쿠 고교(주)제). 트리스(2-에틸헥실)포스페이트.
인산: 인산(토쿄 카세이 고교(주)제)
(바인더 수지 용액 1의 조제)
20g의 바인더 수지 1과, 80g의 용매 1을 교반용 용기에 넣고, 60℃에서 8시간 가열 교반해서 바인더 수지 용액 1을 얻었다.
(유리 분말 함유 페이스트의 원료)
감광성 모노머 M-1: 트리메티롤프로판트리아크릴레이트
감광성 모노머 M-2: 테트라프로필렌글리콜디메타크릴레이트
감광성 폴리머 1: 메타크릴산/메타크릴산 메틸/스티렌=40/40/30의 질량비로 이루어지는 공중합체의 카르복실기에 대하여 0.4당량의 글리시딜메타크릴레이트를 부가 반응시킨 것(중량 평균 분자량 43000; 산가 100)
광중합개시제 1: 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부타논-1(BASF사제)
중합금지제 1: 1,6-헥산디올-비스[(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트])
자외선흡수제 용액 1: 스단IV(도쿄 오카 고교 가부시키가이샤제)의 γ-부티로락톤 0.3질량% 용액
점도조정제 1: "플로논"(등록상표) EC121(교에이샤 카가쿠사제)
용매 2: γ-부티로락톤
저연화점 유리 분말 1:
SiO2 27질량%, B2O3 31질량%, ZnO 6질량%, Li2O 7질량%, MgO 2질량%, CaO 2질량%, BaO 2질량%, Al2O3 23질량%, 굴절률(ng) 1.56, 유리 연화 온도 588℃, 열팽창계수 70×10-7(K-1), 평균 입자 지름 2.3㎛
(유리 분말 함유 페이스트의 제작)
4질량부의 감광성 모노머 M-1, 6질량부의 감광성 모노머 M-2, 24질량부의 감광성 폴리머 1, 6질량부의 광중합개시제 1, 0.2질량부의 중합금지제 1 및 12.8질량부의 자외선흡수제 용액 1을, 38질량부의 용매 2에 첨가하고, 온도 80℃에서 가열 용해했다. 얻어진 용액을 냉각한 후, 9질량부의 점도조정제 1을 첨가해서, 유기 용액 1을 얻었다. 50질량부의 유기 용액 1에, 50질량부의 상기 저연화점 유리 분말을 첨가한 후, 3개 롤러 혼련기에서 혼련하고, 유리 분말 함유 페이스트 1을 얻었다.
(기판 상에의 격벽의 제작)
기판으로서, 125㎜×125㎜×0.7㎜의 소다 유리판을 사용했다. 기판의 표면에, 유리 분말 함유 페이스트 1을, 건조 후의 두께가 220㎛로 되도록 다이 코터로 도포해서 건조하고, 유리 분말 함유 페이스트 1의 도포막을 얻었다. 이어서, 소망의 패턴에 대응하는 개구부를 갖는 포토마스크(피치 127㎛, 선폭 15㎛의, 격자 형상 개구부를 갖는 크롬 마스크)를 통해, 유리 분말 함유 페이스트 1의 도포막을, 초고압 수은등을 이용하여 300mJ/㎠의 노광량에서 노광했다. 노광 후의 도포막은 0.5질량%의 에탄올아민 수용액 중에서 현상하고, 미노광 부분을 제거하여 격자 형상의 패턴을 얻었다. 얻어진 격자 형상의 패턴을 공기 중 580℃에서 15분간 소성해서, 유리를 주성분으로 하는 격자 형상의 격벽을 형성했다.
(반사층의 형성)
시판의 스퍼터 장치, 및 스퍼터 타깃을 사용하고, 상기 격벽이 형성된 기판에 대하여 반사층으로서의 금속막의 형성을 행했다. 금속막의 두께는, 격벽이 형성된 기판의 근방에 유리 평판을 배치해서, 상기 유리 평판 상에 있어서의 금속막의 두께가 300㎚로 되는 조건에서 스퍼터를 실시했다. 스퍼터 타깃에는 팔라듐 및 구리를 함유하는 은합금인 APC(후루야 킨조쿠사제)를 사용했다. 이하, 이 반사층이 형성된 격벽 부착 기판을 반사층 부착 격벽 기판이라고도 한다.
(신틸레이터층의 밀도의 평가)
각 실시예 및 비교예에 있어서 제작한 신틸레이터 패널의 중량으로부터 미리 측정해 둔 기판(반사층 및 격벽이 형성되어 있을 경우는 이것들을 포함한다)의 중량을 감산함으로써 구한 신틸레이터층의 중량을, 신틸레이터층의 기판측의 면과는 반대측의 면의 면적과 막두께를 적산해서 구한 체적으로 나눔으로써 산출했다. 실시예 1~11 및 비교예 2~6은 비교예 1의 신틸레이터 패널의 신틸레이터층의 밀도를 100%로 해서 상대값을 구하여 상대 비교를 행하고, 실시예 12~16 및 비교예 8, 9는 비교예 7의 신틸레이터 패널의 신틸레이터층의 밀도를 100%로 해서 상대값을 구하여 상대 비교를 행했다.
(감도·선예도의 평가)
각 실시예 및 비교예에 있어서 제작한 신틸레이터 패널을, 시판의 FPD(Paxscan2520V(Varian사)제)에 설치해서, X선 검출기를 제작했다. 국제 전기 표준 회의(IEC)에서 정하는 규격 IEC62220-1에 있어서, 디지털 화상 시스템의 화질을 평가하는 선질 RQA5에 준거한 관전압 70kVp의 방사선을, 신틸레이터 패널의 기판측으로부터 조사해서, 신틸레이터 패널의 감도, 선예도를 FPD에서 검출했다. 감도는 입사선량과 화상의 디지털값의 그래프의 경사로부터 산출했다. 또한, 선예도는 엣지법에 의해 산출하고, 2cycles/㎜의 값을 사용했다. 실시예 1~11 및 비교예 2~6은 비교예 1의 감도, 선예도를 각각 100%로 해서 상대 비교를 행하고, 실시예 12~16 및 비교예 8, 9는 비교예 7의 감도, 선예도를 각각 100%로 해서 상대 비교를 행했다.
(실시예 1)
형광체 분말 1을 97.97중량부, 계면활성제 1을 0.03중량부, 바인더 수지 용액 1을 10중량부, 용매 1을 6중량부 첨가하여 혼합하고, 유성식 교반 탈포 장치("마젤스타"(등록상표) KK-400; 구라보세키(주)제)를 사용하고, 회전수 1000rpm으로 20분간 교반 탈포해서 형광체 페이스트 1을 얻었다. 얻어진 형광체 페이스트 1을, 다이 코터를 사용하여, 건조 후의 막두께가 200㎛로 되도록 기판의 PET 필름 상에 도포하고, 80℃에서 4시간 건조하여, PET 필름 상에 신틸레이터층이 형성된 신틸레이터 패널을 얻었다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 106%였다. 또한, 감도는 106%, 선예도는 100%였다.
(실시예 2)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 2를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 105%였다. 또한, 감도는 105%, 선예도는 100%였다.
(실시예 3)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 3을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 102%였다. 또한, 감도는 102%, 선예도는 100%였다.
(실시예 4)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 4를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 104%였다. 또한, 감도는 104%, 선예도는 100%였다.
(실시예 5)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 5를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 106%였다. 또한, 감도는 106%, 선예도는 100%였다.
(실시예 6)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 6을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여, 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 106%였다. 또한, 감도는 106%, 선예도는 100%였다.
(실시예 7)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 7을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 105%였다. 또한, 감도는 105%, 선예도는 100%였다.
(실시예 8)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 8을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 105%였다. 또한, 감도는 105%, 선예도는 100%였다.
(실시예 9)
실시예 1에 있어서, 건조 후의 막두께가 195㎛로 되도록 기판의 PET 필름 상에 형광체 페이스트 1을 도포한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 106%였다. 또한, 감도는 103%, 선예도는 102%였다.
(실시예 10)
실시예 1에 있어서, 형광체 분말 1을 97.7중량부, 계면활성제 1을 0.3중량부, 바인더 수지 용액 1을 10중량부, 용매 1을 6중량부 첨가하고 혼합해서 형광체 페이스트를 조제한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.3중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 102%였다. 또한, 감도는 102%, 선예도는 100%였다.
(실시예 11)
실시예 1에 있어서, 형광체 분말 1을 97.997중량부, 계면활성제 1을 0.003중량부, 바인더 수지 용액 1을 10중량부, 용매 1을 6중량부 첨가하고 혼합해서 형광체 페이스트를 조제한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.003중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 102%였다. 또한, 감도는 102%, 선예도는 100%였다.
(비교예 1)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1을 사용하지 않고, 형광체 분말 1을 98중량부, 바인더 수지 용액 1을 10중량부, 용매 1을 6중량부 첨가하고 혼합해서 형광체 페이스트를 조제한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 100%였다. 또한, 감도는 100%, 선예도는 100%였다.
(비교예 2)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 폴리에틸렌옥시드쇄를 갖지 않는 계면활성제 9를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 96%였다. 또한, 감도는 96%, 선예도는 100%였다.
(비교예 3)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 불소계의 계면활성제 10을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 99%였다. 또한, 감도는 99%, 선예도는 100%였다.
(비교예 4)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 인산기를 갖지 않는 계면활성제 11을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 97%였다. 또한, 감도는 97%, 선예도는 100%였다.
(비교예 5)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 인산 트리에스테르인 가소제를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 가소제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 99%였다. 또한, 감도는 99%, 선예도는 100%였다.
(비교예 6)
실시예 1에 있어서, 계면활성제 1 대신에 인산을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 인산의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 100%였다. 또한, 감도는 100%, 선예도는 100%였다.
(실시예 12)
실시예 1과 마찬가지로 형광체 페이스트 1을 제작하고, 얻어진 형광체 페이스트 1을, 상기 반사층 부착 격벽 기판에 진공 인쇄에 의해 충전하고, 150℃에서 15분 건조하여 신틸레이터층을 형성했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 107%였다. 또한, 감도는 107%, 선예도는 100%였다.
(실시예 13)
실시예 12에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 4를 사용한 것 이외는, 실시예 12와 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 104%였다. 또한, 감도는 104%, 선예도는 100%였다.
(실시예 14)
실시예 12에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 5를 사용한 것 이외는, 실시예 12와 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 107%였다. 또한, 감도는 107%, 선예도는 100%였다.
(실시예 15)
실시예 12에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 6을 사용한 것 이외는, 실시예 12과 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 107%였다. 또한, 감도는 107%, 선예도는 100%였다.
(실시예 16)
실시예 12에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 8을 사용한 것 이외는, 실시예 12와 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 106%였다. 또한, 감도는 105%, 선예도는 100%였다.
(비교예 7)
실시예 12에 있어서, 계면활성제 1을 사용하지 않고, 형광체 분말 1을 98중량부, 바인더 수지 용액 1을 10중량부, 용매 1을 6중량부 첨가하고 혼합해서 형광체 페이스트를 조제한 것 이외는, 실시예 12와 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 100%였다. 또한, 감도는 100%, 선예도는 100%였다.
(비교예 8)
실시예 12에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 9를 사용한 것 이외는, 실시예 12와 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 95%였다. 또한, 감도는 95%, 선예도는 100%였다.
(비교예 9)
실시예 12에 있어서, 계면활성제 1 대신에 계면활성제 11을 사용한 것 이외는, 실시예 12와 마찬가지로 신틸레이터 패널을 제작하여 평가했다. 신틸레이터층 중의 계면활성제의 함유량은 0.03중량%였다.
얻어진 신틸레이터 패널에 있어서의 신틸레이터층의 밀도는 96%였다. 또한, 감도는 96%, 선예도는 100%였다.
1 : X선 검출기
2 : 신틸레이터 패널
3 : 출력 기판
4 : 신틸레이터층
5 : 기판
6 : 형광체
7 : 바인더 수지
8 : 격막층
9 : 광전 변환층
10 : 출력층
11 : 기판
12 : 전원부
13 : X선 검출기
14 : 신틸레이터 패널
15 : 기판
16 : 격벽
17 : 신틸레이터층

Claims (6)

  1. 기판과, 바인더 수지와 형광체를 함유하는 신틸레이터층을 갖는 신틸레이터 패널로서, 상기 신틸레이터층에는, 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및/또는 그 염을 더 포함하는 신틸레이터 패널.
    Figure pct00005

    (상기 일반식(1) 중, R은 탄소수 1~30의 탄화수소기를 나타낸다. m은 1~20의 정수를 나타낸다. n은 1 또는 2를 나타낸다. n이 2일 경우, 복수의 R은 각각 동일해도 달라도 좋다.)
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 신틸레이터층 중의, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물 및 그 염의 함유량이 0.0001~1중량%인 신틸레이터 패널.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 형광체가 산황화가돌리늄을 함유하는 신틸레이터 패널.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 신틸레이터층을 구획하는 격벽을 갖는 신틸레이터 패널.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 신틸레이터 패널 및 광전 변환층을 갖는 출력 기판을 갖는 X선 검출기.
  6. 제 5 항에 기재된 X선 검출기를 탑재한 X선 투시 장치.
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