CN113185437A - 一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法 - Google Patents
一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113185437A CN113185437A CN202110381157.3A CN202110381157A CN113185437A CN 113185437 A CN113185437 A CN 113185437A CN 202110381157 A CN202110381157 A CN 202110381157A CN 113185437 A CN113185437 A CN 113185437A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- acid
- solvent
- cyclic
- stirring
- anion structure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical class C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 42
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 title claims abstract description 17
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 claims abstract description 14
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims abstract description 8
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 5
- ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZFEAYIKULRXTAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 24
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 6
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QENJZWZWAWWESF-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(C(O)=O)C=C1C QENJZWZWAWWESF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 claims description 4
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 3
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FZPXKEPZZOEPGX-UHFFFAOYSA-N n,n-dibutylaniline Chemical compound CCCCN(CCCC)C1=CC=CC=C1 FZPXKEPZZOEPGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 claims description 3
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 claims description 3
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CCFAKBRKTKVJPO-UHFFFAOYSA-N 1-anthroic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C(=O)O)=CC=CC3=CC2=C1 CCFAKBRKTKVJPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DNUYOWCKBJFOGS-UHFFFAOYSA-N 2-[[10-(2,2-dicarboxyethyl)anthracen-9-yl]methyl]propanedioic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(C(=O)O)C(O)=O)=C(C=CC=C3)C3=C(CC(C(O)=O)C(O)=O)C2=C1 DNUYOWCKBJFOGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical compound O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 claims description 2
- GYJREHMTTLYKRJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-fluorophenyl)-2-(phenylmethoxycarbonylamino)propanoic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(=O)NC(C(=O)O)CC1=CC=CC=C1F GYJREHMTTLYKRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- TUXYZHVUPGXXQG-UHFFFAOYSA-N 4-bromobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Br)C=C1 TUXYZHVUPGXXQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BBYDXOIZLAWGSL-UHFFFAOYSA-N 4-fluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 BBYDXOIZLAWGSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IUMDEBKXOXPBEX-UHFFFAOYSA-N 4-fluorocyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(F)CC1 IUMDEBKXOXPBEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 claims description 2
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 claims description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- FPIQZBQZKBKLEI-UHFFFAOYSA-N ethyl 1-[[2-chloroethyl(nitroso)carbamoyl]amino]cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound ClCCN(N=O)C(=O)NC1(C(=O)OCC)CCCCC1 FPIQZBQZKBKLEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- IJFXRHURBJZNAO-UHFFFAOYSA-N meta--hydroxybenzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC(O)=C1 IJFXRHURBJZNAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YZERDTREOUSUHF-UHFFFAOYSA-N pentafluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F YZERDTREOUSUHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N phenyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 238000003889 chemical engineering Methods 0.000 abstract description 2
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 abstract description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract 1
- HCFRWBBJISAZNK-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxycyclohexylcarboxylic acid Chemical compound OC1CCC(C(O)=O)CC1 HCFRWBBJISAZNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C381/00—Compounds containing carbon and sulfur and having functional groups not covered by groups C07C301/00 - C07C337/00
- C07C381/12—Sulfonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/41—Preparation of salts of carboxylic acids
- C07C51/412—Preparation of salts of carboxylic acids by conversion of the acids, their salts, esters or anhydrides with the same carboxylic acid part
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C51/48—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by liquid-liquid treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C62/00—Compounds having carboxyl groups bound to carbon atoms of rings other than six—membered aromatic rings and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
- C07C62/02—Saturated compounds containing hydroxy or O-metal groups
- C07C62/04—Saturated compounds containing hydroxy or O-metal groups with a six-membered ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
本发明适用于精细化工技术领域,提供一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,包括以下步骤:步骤S01、按照一定摩尔比提供原料含环状结构的有机酸、碱和溶剂,进行搅拌;步骤S02、搅拌2h后加入氯化三苯基硫鎓盐,自然搅拌;步骤S03、自然搅拌加入与步骤S01中的不同的溶剂并进行萃取;步骤S04、萃取后静置分层,将有机相合并利用离子交换树脂进行洗涤,抽干溶剂后得到含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐产品。本发明提供的制备方法所制得的三苯基硫鎓盐产品纯度高,金属杂质含量小,且制备过程简单,反应条件温和,易于操作和实现工业化,具有良好的经济效益且对环境友好。
Description
技术领域
本发明属于精细化工技术领域,尤其涉及一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法。
背景技术
三苯基硫鎓盐作为一种新型光致产酸剂,在集成电路、半导体工业中248nm及以下深紫外光致抗蚀剂中得到广泛应用。此外,三苯基硫鎓盐还可以作为自由基、阳离子聚合的引发剂,它们不仅本身可做为光引发剂、抗蚀剂,用于紫外光固化体系中,还可作为合成中间体,用于制备其它类型的光引发剂及光致产酸剂,进而在高分子材料工业中得到应用。而含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐由于含有三苯基硫鎓盐以及环状阴离子的结构,可作为光刻胶上面的光致抑制剂,由于其独特的环状结构亦可作为化合物中间体,关于在光刻胶中间的应用,需要电子级的试剂,所以应用前景广泛。
然而,目前现有技术中三苯基硫鎓盐的制备方法过程复杂,产品纯度较低,金属杂质高。
因此,本发明提供一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法用于解决上述问题。
发明内容
本发明实施例提供一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,旨在解决目前现有技术中三苯基硫鎓盐的制备方法过程复杂,产品纯度较低,金属杂质高的问题。
本发明实施例是这样实现的,本发明提供一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,包括以下步骤:
步骤S01、按照一定摩尔比提供原料含环状结构的有机酸、碱和溶剂A,进行搅拌;
步骤S02、搅拌2h后加入氯化三苯基硫鎓盐,自然搅拌一段时间;
步骤S03、自然搅拌后加入与步骤S01中的不同的溶剂B并进行萃取;
步骤S04、萃取后静置分层,将有机相合并利用离子交换树脂进行洗涤,抽干溶剂后得到含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐产品。
更进一步地,所述碱包括氢氧化钠、氢氧化钾、氢化钠、氢化钾、氢化钙、丁基锂、二异丙胺基锂、氢氧化铵、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、碳酸钾、碳酸钠、三乙胺、二乙胺、三丁胺、苯胺、二甲基苯胺、二丁基苯胺、二苯胺和三苯胺中的一种或多种组成的混合物。
更进一步地,所述溶剂A和所述溶剂B包括水、甲醇、乙醇、乙醚、甲基叔丁基醚、正己烷、乙腈、石油醚、乙酸乙酯、二氯甲烷、三氯甲烷和二氯乙烷中的一种或多种组成的混合物。
更进一步地,所述含环状结构的有机酸与碱的摩尔比为1:1-2。
更进一步地,所述含环状结构的有机酸与所述三苯基硫鎓盐的摩尔比为1:1.6-2.0。
更进一步地,步骤S01中所述4-羟基环己基甲酸与溶剂A的质量比为1:5-7。
更进一步地,步骤S03中所述4-羟基环己基甲酸与二氯甲烷的质量比为1:3-5。
更进一步地,步骤S02中的搅拌时间为13-24h。
更进一步地,步骤S03中在加热的情况下进行萃取,其加热的温度为30-90℃
更进一步地,所述含环状结构的有机酸包括甲酸、乙酸、丁酸、己酸、环戊己甲酸、环己基甲酸、苯甲酸、苯乙酸、二苯基甲酸、对甲基苯甲酸、对甲氧基苯甲酸、对硝基苯甲酸、对羟基苯甲酸、邻羟基苯甲酸、间羟基苯甲酸、2、4、5-三甲基苯甲酸、对氟苯甲酸、全氟苯甲酸、对氯苯甲酸、对溴苯甲酸、萘甲酸、蒽甲酸、4-羟基环己基甲酸或4-氟环己基甲酸中的任意一种。
有益效果:本发明通过提供一定摩尔比提供原料4-羟基环己基甲酸、碱和溶剂,控制反应条件,制得产品纯度高、金属杂质含量小的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐,本发明提供的制备方法制备过程简单,反应条件温和,易于操作和实现工业化;制备过程中所用的有机试剂可以回收利用,产生的废水中只有盐类,基本不产生三废,具有良好的经济效益且对环境友好。
附图说明
图1是本发明提供的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法的步骤流程图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
请参阅图1,图1是本发明提供的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法的步骤流程图。
本发明提供一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,包括以下步骤:
步骤S01、按照一定摩尔比提供原料含环状结构的有机酸、碱和溶剂A,进行搅拌。具体的,所述碱包括氢氧化钠、氢氧化钾、氢化钠、氢化钾、氢化钙、丁基锂、二异丙胺基锂、氢氧化铵、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、碳酸钾、碳酸钠、三乙胺、二乙胺、三丁胺、苯胺、二甲基苯胺、二丁基苯胺、二苯胺和三苯胺中的一种或几种的混合物。所述溶剂包括包括水、甲醇、乙醇、乙醚、甲基叔丁基醚、正己烷、乙腈、石油醚、乙酸乙酯、二氯甲烷、三氯甲烷和二氯乙烷中的一种或多种组成的混合物。在本实施例中,所述含环状结构的有机酸为4-羟基环己基甲酸。当所述碱选择氢氧化钠时,所述4-羟基环己基甲酸与所述氢氧化钠的摩尔比为1:1.2-1.5。当所述溶剂A为水时,所述4-羟基环己基甲酸与水的质量比为1:5-7。
步骤S02、搅拌2h后加入氯化三苯基硫鎓盐,自然搅拌一段时间。具体的,所述4-羟基环己基甲酸与所述三苯基硫鎓盐的摩尔比为1:1.6-2.0。更进一步的,自然搅拌时间为13-24h。更优的,所述自然搅拌时间选择为14h。
其具体反应式为:
步骤S03、自然搅拌后加入与步骤S01中的不同的溶剂B并进行萃取。所述溶剂B包括水、甲醇、乙醇、乙醚、甲基叔丁基醚、正己烷、乙腈、石油醚、乙酸乙酯、二氯甲烷、三氯甲烷和二氯乙烷中的一种或多种组成的混合物。具体的,该步骤中溶剂B为二氯甲烷,4-羟基环己基甲酸与二氯甲烷的质量比为1:3-5。更进一步的,步骤S03中在加热的情况下进行萃取,加热的温度为60-80℃,更优的,其加热温度可以为70℃。
步骤S04、萃取后静置分层,将有机相合并并进入千级洁净间利用离子交换树脂进行洗涤,抽干溶剂后得到含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐产品。
为具体阐述本发明提供的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法的具体步骤,下面提供三个实施例进行说明。
实施例一
在装有冷凝回流的四口瓶中加入水100g,4-羟基环己基甲酸14.4g(0.1mol)以及氢氧化钠5.6g(0.14mol),搅拌2h左右后向其中加入三苯基硫鎓盐44.71g(0.17mol),加入完毕后,自然搅拌反应14h后向其中加入50g二氯甲烷进行萃取,每次搅拌30min后静置分层,取出有机相,重复三次,有机相合并,合并后进入千级洁净间利用离子交换树脂洗涤30min后,抽干溶剂及可得到单个金属杂质含量小于20ppb的产品。
实施例二
在装有冷凝回流的四口瓶中加入水100g,4-羟基环己基甲酸14.4g(0.1mol)以及氢氧化钠5.6g(0.14mol),搅拌2h左右后向其中加入三苯基硫鎓盐44.71g(0.17mol),加入完毕后,自然搅拌反应14h后向其中加入50g乙酸乙酯加热至70℃情况下进行萃取,每次搅拌30min后静置分层,取出有机相,重复三次,有机相合并,合并后进入千级洁净间利用离子交换树脂在加热70℃情况下洗涤30min,之后抽干溶剂及可得到单个金属杂质含量小于25ppb的产品。
实施例三
在装有冷凝回流的四口瓶中加入水100g,4-羟基环己基甲酸14.4g(0.1mol)以及氢氧化钠25.34g(0.14mol),搅拌2h左右后向其中加入三苯基硫鎓盐44.71g(0.17mol),加入完毕后,自然搅拌反应14h后向其中加入50g乙酸乙酯加热至70℃情况下进行萃取,每次搅拌30min后静置分层,取出有机相,重复三次,有机相合并,合并后进入千级洁净间利用离子交换树脂在加热70℃情况下洗涤30min,之后放入冰箱中冷却结晶过夜,检测可得到单个金属杂质小于10ppb的产品。
综上所述,本发明提供一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,通过提供一定摩尔比提供原料4-羟基环己基甲酸、强碱和溶剂,制得含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐,本发明制得的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐,产品纯度高,金属杂质均小于25ppb;且制备过程简单,反应条件温和,易于操作和实现工业化;制备过程中所用的有机试剂可以回收利用,产生的废水中只有盐类,基本不产生三废,具有良好的经济效益且对环境友好。
需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (10)
1.一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤S01、按照一定摩尔比提供原料含环状结构的有机酸、碱和溶剂A,进行搅拌;
步骤S02、搅拌2h后加入氯化三苯基硫鎓盐,自然搅拌一段时间;
步骤S03、自然搅拌后加入与步骤S01中的不同的溶剂B并进行萃取;
步骤S04、萃取后静置分层,将有机相合并利用离子交换树脂进行洗涤,抽干溶剂后得到含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐产品。
2.如权利要求1所述的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,其特征在于,所述碱包括氢氧化钠、氢氧化钾、氢化钠、氢化钾、氢化钙、丁基锂、二异丙胺基锂、氢氧化铵、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、碳酸钾、碳酸钠、三乙胺、二乙胺、三丁胺、苯胺、二甲基苯胺、二丁基苯胺、二苯胺和三苯胺中的一种或多种组成的混合物。
3.如权利要求1所述的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,其特征在于,所述溶剂A和所述溶剂B包括水、甲醇、乙醇、乙醚、甲基叔丁基醚、正己烷、乙腈、石油醚、乙酸乙酯、二氯甲烷、三氯甲烷和二氯乙烷中的一种或多种组成的混合物。
4.如权利要求2所述的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,其特征在于,所述含环状结构的有机酸与所述碱的摩尔比为1:1-2。
5.如权利要求1所述的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,其特征在于,所述含环状结构的有机酸与所述三苯基硫鎓盐的摩尔比为1:1.6-2.0。
6.如权利要求3所述的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,其特征在于,步骤S01中所述含环状结构的有机酸与溶剂A的质量比为1:5-7。
7.如权利要求1所述的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,其特征在于,步骤S03中所述含环状结构的有机酸与溶剂B的质量比为1:3-5。
8.如权利要求1所述的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,其特征在于,步骤S02中的搅拌时间为13-24h。
9.如权利要求1所述的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,其特征在于,步骤S03中在加热的情况下进行萃取,其加热的温度为30-90℃。
10.如权利要求1所述的含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法,其特征在于,所述含环状结构的有机酸包括甲酸、乙酸、丁酸、己酸、环戊己甲酸、环己基甲酸、苯甲酸、苯乙酸、二苯基甲酸、对甲基苯甲酸、对甲氧基苯甲酸、对硝基苯甲酸、对羟基苯甲酸、邻羟基苯甲酸、间羟基苯甲酸、2、4、5-三甲基苯甲酸、对氟苯甲酸、全氟苯甲酸、对氯苯甲酸、对溴苯甲酸、萘甲酸、蒽甲酸、4-羟基环己基甲酸或4-氟环己基甲酸中的任意一种。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110381157.3A CN113185437A (zh) | 2021-04-09 | 2021-04-09 | 一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110381157.3A CN113185437A (zh) | 2021-04-09 | 2021-04-09 | 一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113185437A true CN113185437A (zh) | 2021-07-30 |
Family
ID=76975253
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110381157.3A Pending CN113185437A (zh) | 2021-04-09 | 2021-04-09 | 一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113185437A (zh) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101003591A (zh) * | 2005-12-27 | 2007-07-25 | 住友化学株式会社 | 适用于产酸物的树脂和含有该树脂的化学放大正性光刻胶组合物 |
CN101086620A (zh) * | 2006-06-09 | 2007-12-12 | 住友化学株式会社 | 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物 |
JP2008024776A (ja) * | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物および半導体装置 |
US20090186296A1 (en) * | 2008-01-18 | 2009-07-23 | Youichi Ohsawa | Positive resist compositions and patterning process |
TW202041554A (zh) * | 2019-03-28 | 2020-11-16 | 日商Jsr股份有限公司 | 感放射線性樹脂組成物及抗蝕劑圖案的形成方法 |
WO2021039331A1 (ja) * | 2019-08-29 | 2021-03-04 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 |
-
2021
- 2021-04-09 CN CN202110381157.3A patent/CN113185437A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101003591A (zh) * | 2005-12-27 | 2007-07-25 | 住友化学株式会社 | 适用于产酸物的树脂和含有该树脂的化学放大正性光刻胶组合物 |
CN101086620A (zh) * | 2006-06-09 | 2007-12-12 | 住友化学株式会社 | 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物 |
JP2008024776A (ja) * | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | エポキシ樹脂組成物および半導体装置 |
US20090186296A1 (en) * | 2008-01-18 | 2009-07-23 | Youichi Ohsawa | Positive resist compositions and patterning process |
TW202041554A (zh) * | 2019-03-28 | 2020-11-16 | 日商Jsr股份有限公司 | 感放射線性樹脂組成物及抗蝕劑圖案的形成方法 |
WO2021039331A1 (ja) * | 2019-08-29 | 2021-03-04 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
刘亚明: "《发酵技术在中医药中的应用》", 31 March 2010, 中国中医药出版社 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN112409298B (zh) | 一种基于对羟基肉桂酸的环氧树脂单体及其制备方法和应用 | |
CN104610094B (zh) | 一种制备丁酮肟的方法 | |
CN110922597B (zh) | 一种双酚s衍生物型聚硫酸酯的合成方法 | |
CN112142574B (zh) | 一种9,9-二[4-(2-羟基乙氧基)苯基]芴的合成方法 | |
CN111410634A (zh) | 一种高效动态n-甲基咪唑合成纯化新技术 | |
CN113185437A (zh) | 一种含环状阴离子结构的三苯基硫鎓盐的制备方法 | |
CN115093544A (zh) | 一种席夫碱结构丁香醛基环氧树脂及其制备方法 | |
CN110950823A (zh) | 一种植物油基脂肪酸环氧单体及其制备方法 | |
CN102827202B (zh) | 采用亚磷酸三乙酯副产物制取亚磷酸二乙酯的工艺 | |
CN102372689B (zh) | 一种三氟甲基碳酸亚乙酯的制备方法 | |
CN116023333A (zh) | 一种生物基咪唑及其制备方法与应用 | |
CN104744703A (zh) | 一种含硅的桐油基醇酸树脂及其制备方法和应用 | |
CN111072479A (zh) | 一种高纯2-甲基-2-金刚烷醇甲基丙烯酸酯的提纯方法 | |
CN104804032A (zh) | 一种二硫化双-(γ-丙基三乙氧基硅烷)的溶剂法合成工艺 | |
CN112250596A (zh) | 2-羟基-5-壬基苯甲醛肟的新型合成方法 | |
CN114149314A (zh) | Vk2的合成方法 | |
CN102617515A (zh) | 电子封装用缩水甘油酯型环氧树脂及其制备方法 | |
CN110016039A (zh) | 一种一锅法制备螺[1’,3’,3’-三甲基吲哚-苯并二氢吡喃]的合成方法 | |
CN111777579A (zh) | 由呋喃二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法 | |
CN116425611A (zh) | 一种偏二苯基丙酮、敌鼠钠盐的制备方法 | |
CN114031773B (zh) | 一种超支化聚咪唑啉类化合物及其制备方法和应用 | |
CN115490717A (zh) | 一种n-(三甲基硅基)吗啉的合成方法 | |
CN110862332B (zh) | 以离子液体为溶剂合成o-(3-氯-2-丙烯基)羟胺的工艺 | |
CN102212044A (zh) | 一种氧杂环丁烷类化合物的合成方法 | |
CN117756702A (zh) | 一种n-羟基-5-冰片烯-2,3-二甲酰亚胺-全氟代丁烷磺酸酯的合成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20210730 |