CN112368248A - 玻璃板、带有减反射层的玻璃板以及玻璃板的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种玻璃板，其具有第一主面和与第一主面相反的第二主面，其中，在第一主面的直接下方具有加工变质层，并且在第一主面的至少一部分中，要素的平均长度RSm为2500nm～6000nm、均方根高度Sq为3nm～45nm、偏斜度Ssk为负值。

Description

玻璃板、带有减反射层的玻璃板以及玻璃板的制造方法
技术领域
本发明涉及玻璃板、带有减反射层的玻璃板以及玻璃板的制造方法。
背景技术
在能够通过利用手指或笔的输入来进行文字和图形等的输入的显示器输入装置中，在显示装置的正面侧配置由玻璃等构成的透明的保护构件。作为保护构件，提出了兼顾书写感和显示器的分辨率的玻璃板、触感优异的玻璃板(专利文献1、专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2018-20942号公报
专利文献2：国际公开第2017/094683号
发明内容
发明所要解决的问题
本发明人发现，在触感、笔输入时的书写感以及显示器的分辨率优异的玻璃板中，由于凹凸结构的形成而产生玻璃板翘曲的问题。
本发明的课题在于提供触感、笔输入时的书写感以及显示器的分辨率优异、并且抑制了翘曲的玻璃板。
用于解决问题的手段
本发明人进行了深入研究，结果发现，通过在玻璃板的表面上形成的凹凸结构满足特定的条件，能够解决上述课题，从而完成了本发明。
即，发现通过以下的方案能够解决上述课题。
本发明提供一种玻璃板，其具有第一主面和与所述第一主面相反的第二主面，其中，
在所述第一主面的直接下方具有加工变质层，并且
在所述第一主面的至少一部分中，要素的平均长度RSm为2500nm～6000nm、均方根高度Sq为3nm～45nm、偏斜度Ssk为负值。
发明效果
在本发明的玻璃板中，触感、笔输入时的书写感以及显示器的分辨率优异，并且抑制了翘曲。
附图说明
图1为表示本发明的玻璃板1的一例的截面图。
具体实施方式
对本发明的玻璃板及其制造方法进行说明。
以下记载的构成要件的说明有时基于本发明的代表性的实施方式进行，但本发明并不限于这样的实施方式。
表示数值范围的“～”表示包含在其前后记载的数值作为下限值和上限值。
(玻璃板)
图1为表示本发明的玻璃板1的一例的截面图。玻璃板1具有第一主面2和与第一主面2相反的第二主面3。第一主面2在直接下方具有加工变质层4。即，玻璃板1在第一主面2一侧的最外表面具有加工变质层4。
为了便于说明，图1中的尺寸比与实际的尺寸比不同。
作为玻璃板1，可以列举：钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃和铝硼硅酸盐玻璃。作为玻璃板1，特别优选为钠钙玻璃或铝硅酸盐玻璃。
玻璃板1的厚度优选为0.1mm～20mm。在平板电脑、智能手机的保护玻璃用途中，玻璃板1的厚度进一步优选为0.3mm以上，特别优选为0.4mm以上。玻璃板1的厚度进一步优选为0.7mm以下，特别优选为0.6mm以下。另外，在数字标牌用途中，玻璃板1的厚度进一步优选为3mm以上，特别优选为5mm以上。玻璃板1的厚度进一步优选为15mm以下，特别优选为10mm以下。
玻璃板1的第一主面2优选进行了化学强化。在此情况下，化学强化后的第一主面2的压应力值优选为200MPa～1000MPa。另外，化学强化后的第一主面2的压应力层的深度优选为5μm～150μm。此外，优选第二主面3也进行了化学强化。
玻璃板1的第一主面2中的Al/Si的值与第二主面3中的Al/Si的值的相对差异(差的绝对值)优选为0.1以下。当Al/Si的值的相对差异为0.1以下时，在第一主面2上形成了凹凸结构的玻璃板1中，能够减少在第一主面2中产生的残余应力与在第二主面3中产生的残余应力的相对差异，抑制玻璃板1的翘曲。另外，在玻璃板1的第一主面2和第二主面3进行了化学强化的情况下，第一主面2的压应力值和第二主面3的压应力值的相对差异为20MPa以下，也抑制化学强化后的玻璃板1的翘曲。第一主面2中的Al/Si的值与第二主面3中的Al/Si的值的相对差异进一步优选为0.05以下，特别优选为0.03以下。
Al/Si的值是以如下所述的方式计算出的值。
使用X射线光电子能谱仪(PHI1500Versa Probe：ULVAC-PHI公司制造)测定玻璃板1的第一主面2和第二主面3的Al2p的结合能和Si2p的结合能。将Al2p的测定范围设定为70eV～80eV，将能量步长设定为0.1，将累积次数设定为200次。将Si2p的测定范围设定为96eV～111eV的范围，将能量步长设定为0.1，将累积次数设定为50次。Al/Si的值为将背景修正后的Al2p的结合能峰的峰面积除以背景修正后的Si2p的结合能峰的峰面积而得到的值。需要说明的是，各个能量峰通过将作为通过大气暴露而产生的碳的C1s的峰设为284.5eV而进行了归一化。
本发明的玻璃板1的化学强化前的翘曲的绝对值优选为200μm以下。当化学强化前的翘曲的绝对值为200μm以下时，能够将化学强化后的翘曲的绝对值控制在300μm以下。需要说明的是，在本发明中，玻璃板1的翘曲的绝对值是测定厚度为0.5mm且四边各自的长度为100mm的玻璃板时的值。玻璃板1的翘曲的绝对值使用平坦度测试仪(FT-17，Nidek公司制造)测定。需要说明的是，厚度为0.5mm的玻璃板1的翘曲的绝对值也可以用厚度不同的玻璃板1计算出。这是因为已知通常玻璃板的翘曲的绝对值与玻璃板的厚度的平方成反比。因此，例如，在厚度为0.7mm且四边各自的长度为100mm的玻璃板的翘曲的绝对值为100μm的情况下，基于上述认识，厚度为0.5mm且四边各自的长度为100mm的玻璃板的翘曲的绝对值可以计算为196μm。
(玻璃板的第一主面)
在玻璃板1的第一主面2的至少一部分中，要素的平均长度RSm为2500nm～6000nm，均方根高度Sq为3nm～45nm，偏斜度Ssk为负值。
“要素的平均长度RSm”是在JISB0601：2001中规定的粗糙度曲线中的凹凸的平均间距。当RSm为2500nm以上时，玻璃板1的第一主面2在笔输入时不会过滑，具有适度的卡住感(ひっかかリ感)，容易书写。此外，当RSm为2500nm以上时，能够降低在玻璃板1的第一主面2中产生的残余应力，并且能够抑制玻璃板1的翘曲。当RSm为6000nm以下时，玻璃板1的第一主面2在笔输入时，没有粗糙的凹凸感，容易平滑地书写。此外，当RSm为6000nm以下时，能够降低在玻璃板1的第一主面2中产生的残余应力，并且能够抑制玻璃板1的翘曲。RSm优选为2600nm以上，特别优选为2800nm以上。RSm优选为5500nm以下，特别优选为5000nm以下。
“均方根高度Sq”是在ISO25178中规定的从平均面起算的距离的标准偏差。当Sq为3nm以上时，玻璃板1的第一主面2在用手指接触时为光滑的触感，触感良好。当Sq为45nm以下时，玻璃板1的第一主面2能够降低粗糙感，并且能够将显示器的分辨率和高的切断显示器的电源时的透明感保持得高。Sq优选为5nm以上，特别优选为7nm以上。Sq优选为40nm以下，特别优选为16nm以下。
“偏斜度Ssk”表示在ISO25178中规定的高度分布的对称性。当Ssk为负值时，玻璃板1的第一主面2成为波谷多的表面，即使用如笔等的前端硬的东西反复摩擦，结构也不容易坍塌，持续良好的书写感。Ssk优选为-0.2以下，更优选为-0.3以下，特别优选为-0.5以下。Ssk优选为-3.0以上，更优选为-2.5以上，特别优选为-2.0以上。
在玻璃板1的第一主面2中，Sq为3nm～45nm和Ssk为负值表示在第一主面2中，波谷多，波谷的深度比较均匀。具有这样的表面形状的玻璃板1的第一主面2在触感、笔输入时的书写感以及显示器的分辨率方面优异。此外，通过在玻璃板1的第一主面2中，将RSm控制为2500nm～6000nm，能够降低在第一主面2中产生的残余应力，抑制玻璃板1的翘曲。
玻璃板1在第一主面2的直接下方具有因形成凹凸结构而产生的加工变质层4。“加工变质层”是指所保有的水分量比玻璃板1的其它部位所保有的水分量多的区域。玻璃板1通过具有所保有的水分量多的加工变质层4，抑制翘曲。玻璃板1的翘曲由在加工变质层4中产生的残余应力引起。加工变质层4抑制翘曲的详细机理尚不明确，但本发明人认为，所保有的水分量多的加工变质层4处于由于切断构成玻璃的网络的一部分因而作为网络的运动性提高的状态，因此在加工变质层4中产生的残余应力松弛，抑制了玻璃板1的翘曲。
加工变质层4的平均氢浓度Hs与存在于加工变质层4的下部的内部区域的平均氢浓度Hb的关系优选满足1＜Hs/Hb＜50。当Hs/Hb大于1且小于50时，加工变质层4所保有的水分量变多。当加工变质层4所保有的水分量变多时，构成玻璃的键合容易活动，松弛在加工变质层4中产生的残余应力，由此能够抑制玻璃板1的翘曲。内部区域是指从自玻璃板的第一主面侧起算的深度为500nm至深度为1000nm的区域。需要说明的是，平均氢浓度Hs和平均氢浓度Hb以如下所述的方式计算出。
(Hs/Hb计算方法)
使用二次离子质谱分析法(Secondary Ion Mass Spectrometry：SIMS)获得玻璃板1的1H-和30Si-的强度的深度方向分布。然后，将1H-分布除以30Si-分布，得到1H-/30Si-强度比的深度方向分布。根据所得到的1H-/30Si-强度比的深度方向分布，将加工变质层4的区域中的平均1H-/30Si-强度比作为加工变质层4的平均氢浓度Hs。同样地，根据所得到的1H-/30Si-强度比的深度方向分布，将深度500nm至深度1000nm的区域中的平均1H-/30Si-强度比作为内部区域的平均氢浓度Hb。将所得到的加工变质层4的平均氢浓度Hs除以内部区域的平均氢浓度Hb，求出Hs/Hb。Hs/Hb更优选为1.50以上，进一步优选为5.00以上，特别优选为9.00以上，最优选为10.0以上。Hs/Hb更优选为小于45，进一步优选为小于40，特别优选为小于35。
在此，在加工变质层的水分量过多的情况下，玻璃板中的可溶性成分(例如Na+等金属离子)与加工变质层的水分发生反应，有时玻璃板表面产生白色浑浊，因此是不优选的。另一方面，为了缓和玻璃板的翘曲，优选在加工变质层中具有适度的水分量。具体而言，当Hs/Hb为50以上时，有可能在玻璃板上产生白色风化(白ヤケ)等而成为缺陷，因此Hs/Hb优选为小于50。
需要说明的是，SIMS的测定条件如下所述。
装置：ULVAC-PHI公司制造，ADEPT1010
一次离子种类：Cs+
一次离子的加速电压：5kV
一次离子的电流值：500nA
一次离子的入射角：相对于试样面的法线为60°
一次离子的光栅尺寸：300×300μm2
二次离子的极性：负
二次离子的检测区域：60×60μm2(一次离子的光栅尺寸的4％)
中和枪的使用：有。
加工变性层4的厚度优选为30nm～500nm。当加工变性层4的厚度为30nm以上时，能够容易地制作RSm为2500nm～6000nm、Sq为3nm～45nm以及Ssk为负值的凹凸结构。当加工变质层4的厚度为500nm以下时，能够降低在加工变质层4中产生的残余应力，因此能够抑制玻璃板1的翘曲。需要说明的是，在本发明中，加工变质层4的厚度为使用SPIP(扫描图像处理软件)由利用扫描探针显微镜测定的玻璃板1的表面的AFM图像计算出的最大高度Sz。加工变性层4的厚度进一步优选为40nm以上，特别优选为50nm以上。加工变性层4厚度进一步优选为400nm以下，特别优选为300nm以下，最优选为150nm以下。
加工变质层4的密度优选为2.39g/cm3～2.51g/cm3。当加工变质层4的密度为2.39g/cm3～2.51g/cm3时，能够降低在加工变质层4中产生的残余应力，因此能够抑制玻璃板1的翘曲。
“算术平均高度Sa/要素的平均长度RSm”表示粗糙度曲线的平滑度。在玻璃板1的第一主面2中，Sa(nm)/RSm(nm)优选为0.001～0.01。当Sa/RSm为0.001以上时，能够容易地制作RSm为2500nm～6000nm、Sq为3nm～45nm以及Ssk为负值的凹凸结构。当Sa/RSm为0.01以下时，能够使粗糙度曲线变得平缓，能够降低在加工变质层4中产生的残余应力，并且能够抑制玻璃板1的翘曲。Sa/RSm进一步优选为0.006以下，特别优选为0.003以下。
“最大峰高Sp”是在ISO25178中规定的从平均面起算的高度的最大值。在玻璃板1的第一主面2中，Sp优选为20nm～250nm。当Sp为20nm以上时，能够容易地制作RSm为2500nm～6000nm、Sq为3nm～45nm以及Ssk为负值的凹凸结构。当Sp为250nm以下时，能够降低在加工变质层4中产生的残余应力，并且能够抑制玻璃板1的翘曲。Sp进一步优选为25nm以上，特别优选为30nm以上。Sp进一步优选为150nm以下，特别优选为60nm以下。
在从第一主面2一侧入射光时测定的玻璃板1的雾度优选为2.0％以下。当玻璃板1的雾度为2.0％以下时，能够使在玻璃板1的第一主面2上具有减反射层的带有减反射层的玻璃板1的雾度为2.0％以下。玻璃板1的雾度更优选为1.0％以下，特别优选为0.8％以下。玻璃板1的雾度的下限值为0.0％。
减反射层可以通过将包含高折射率材料的层和包含低折射率材料的层交替地层叠而构成。另外，减反射层也可以具有折射率在膜厚方向上连续变化的渐变结构。在此，包含高折射率材料的层的折射率优选为1.70～2.70，包含低折射率材料的层的折射率优选为1.30～1.55。这些减反射层的形成方法没有特别限制。例如，可以通过电子束蒸镀、电阻加热等蒸镀法；CVD法；等离子体CVD法；溅射法或涂布法等成膜。
(玻璃板的第二主面)
玻璃板1的第二主面3的Sa优选为0.0nm～0.2nm，RSm优选为10000nm～15000nm。当第二主面3的Sa和RSm在上述范围内时，与显示器的贴合性优异，能够将玻璃板1的雾度抑制在2.0％以下。
在玻璃板1的第二主面3上形成凹凸结构的情况下，与第一主面2同样地，RSm优选为2500nm～6000nm，Sq优选为3nm～45nm，Ssk优选为负值。如果是具有这样的表面形状的玻璃板1的第二主面3，则能够降低在第二主面3中产生的残余应力，降低在第一主面2和第二主面3中产生的残余应力的差，抑制玻璃板1的翘曲。
(玻璃板的制造方法)
玻璃板1的制造方法包含形成凹凸结构的工序，作为该工序，可以列举对玻璃板的表面进行的湿式蚀刻处理、磨削处理、研磨处理、热粗糙化处理、喷砂处理、等离子体蚀刻处理、湿喷砂处理。特别优选湿式蚀刻处理或湿喷砂处理。
湿式蚀刻处理使用氢氟酸、硫酸、氟化铵来进行。
湿喷砂处理是使用压缩空气从喷射喷嘴向玻璃板的表面喷射将磨粒和液体均匀搅拌而形成的浆料的处理。优选通过湿喷砂处理在玻璃板的第一主面2的直接下方形成加工变质层4。在向玻璃板的表面喷射包含磨粒的浆料的湿喷砂处理中，相对于玻璃板的表面的喷射角度优选为25°～80°。喷射角度是从喷嘴喷出的浆液的流动与玻璃板的表面所成的角。当相对于玻璃板的表面的喷射角度为25°以上时，能够将加工变质层4的厚度控制在一定范围内，并且能够形成触感、由笔输入带来的书写感以及显示器的分辨率优异的凹凸结构。当喷射角度为80°以下时，能够将加工变质层4的厚度控制为500nm以下，并且抑制玻璃板1的翘曲。喷射角度更优选为30°以上，特别优选为40°以上。喷射角度更优选为70°以下，特别优选为60°以下。
磨粒的平均粒径优选为4μm以下，更优选为3μm以下，特别优选为2μm以下。当磨粒的平均粒径为4μm以下时，能够兼顾翘曲、触感和显示器的分辨率。需要说明的是，磨粒的平均粒径通过使用扫描显微镜和图像分析装置测定任意的表面10000μm2上的至少20个点的磨粒的最大长度，并将它们平均而求出。
以上，对本发明的一个实施方式的玻璃板1的构成要素进行了说明。这些仅仅是一个例子，本发明的玻璃板1可以具有其它的结构、例如减反射层、指纹去除性层，这对于本领域技术人员而言是显而易见的。
实施例
以下，通过实施例对本发明进行详细说明，但是本发明并不限于此。例1～例9为实施例，例10～例14为比较例。
(例1)作为玻璃板，准备2张铝硅酸盐玻璃(100mm×100mm×厚度0.5mm)。铝硅酸盐玻璃的组成为：64.3摩尔％的SiO2、10.5摩尔％的Al2O3、16.0摩尔％的Na2O、0.8摩尔％的K2O、8.3摩尔％的MgO、0.2摩尔％的ZrO2。
对玻璃板的一个主面喷射包含白色氧化铝磨粒(#6000，平均粒径：2μm)和水的浆料，从而形成凹凸结构。相对于玻璃板的表面的喷射角度为45°，玻璃板与喷射口的距离为30mm，处理速度为20mm/秒，喷射压力为0.1MPa，处理次数为10次。
在喷射浆料后，用水清洗玻璃板的表面，从而得到了玻璃板1。
另一方面，通过溅射法在例1中得到的玻璃板1的第一主面2上形成减反射层(AR膜)，从而也得到了带有AR膜的玻璃板。减反射层为氧化铌层(厚度14nm)/氧化硅层(厚度31nm)/氧化铌层(厚度113nm)/氧化硅层(厚度87nm)的4层结构。
(例2～例9、例12～例14)
除了采用表1所示的结构以外，与例1同样地操作而得到了玻璃板1。需要说明的是，在白色氧化铝磨粒中，#4000的平均粒径为3μm，#3000的平均粒径为4μm。
需要说明的是，在例9中，将所准备的铝硅酸盐玻璃的组成设定为：67.1摩尔％的SiO2、13.1摩尔％的Al2O3、3.6摩尔％的B2O3、13.7摩尔％的Na2O、0.1摩尔％的K2O、2.4摩尔％的MgO，制成表1所示的构成，除此以外，与例1同样地操作而得到了玻璃板1和带有AR膜的玻璃板。
另外，在例2、例6、例9和例11中，通过上述“Hs/Hb测定法”获得必要的数据，然后计算出玻璃板1的第一主面中的Hs/Hb。
(例10)
在例10中，除了不形成凹凸结构以外，与例1同样地操作而得到了玻璃板1和带有AR膜的玻璃板。
(例11)
在例11中，除了将湿喷砂处理设定为喷砂处理以外，与例1同样地操作而得到了玻璃板。喷砂处理通过用白色氧化铝磨粒(#3000、平均粒径：4μm)在投射压力0.2MPa下进行。
Figure BDA0002872986050000121
对所得到的玻璃板进行关于RSm、Sa、Sq、Ssk、Sp、Sz、Al/Si、雾度、翘曲的绝对值、触感、笔输入时的书写感以及显示器的分辨率的评价。将结果示于表2中。
(RSm)
使用激光显微镜(VK-X250，基恩士公司制造)测定形成了凹凸结构的玻璃板1的第一主面2，得到了RSm。所获得的数据量为1024×768像素，测定区域为32μm×24μm，测定区域中的线粗糙度测量为30处以上。
(Sa、Sq、Ssk、Sp、Sz)
使用扫描探针显微镜(SPI3800N，SII Nanotechnology公司制造)测定形成了凹凸结构的玻璃板1的第一主面2，获得AFM图像。通过SPIP(扫描图像处理软件)对所获得的AFM图像进行图像分析，得到了Sa、Sq、Ssk、Sp、Sz。需要说明的是，将从在3处得到的AFM图像得到的值的平均值作为本发明中的Sa、Sq、Ssk、Sp、Sz。将扫描区域设定为一边为8μm的正方形区域，所获得的数据量为512×512，扫描频率设定为0.4kHz。但是，在例11中，将扫描区域设定为一边为24μm的正方形区域。
(Al/Si)
使用X射线光电子能谱仪(PHI1500Versa Probe：ULVAC-PHI公司制造)测定玻璃板1的第一主面2和第二主面3的Al2p的结合能和Si2p的结合能。将Al2p的测定范围设定为70eV～80eV，将能量步长设定为0.1，将累积次数设定为200次。将Si2p的测定范围设定为96eV～111eV的范围，将能量步长设定为0.1，将累积次数设定为50次。Al/Si的值为将背景修正后的Al2p的结合能峰的峰面积除以背景修正后的Si2p的结合能峰的峰面积而得到的值。需要说明的是，各个能量峰通过将作为通过大气暴露而产生的碳的C1s的峰设为284.5eV而进行了归一化。另外，背景修正使用X射线光电子能谱仪附带的软件(MultiPak)的背景减除(Background Subtract)(Truncate：截断)功能。
第一主面2中的Al/Si的值与上述第二主面2中的Al/Si的值的相对差异为通过从第一主面中的Al/Si的值中减去第二主面中的Al/Si的值而得到的值的绝对值。
(雾度)
使用雾度计(HZ-2，Suga Testing Machine公司制造)，将光从形成了凹凸结构的玻璃板1的第一主面2一侧入射，在根据JISK 7361的条件下测定雾度。需要说明的是，将在3处得到的值的平均值作为本发明的玻璃板1的雾度。
(雾度AR)
使用雾度计(HZ-2，Suga Testing Machine公司制造)，将光从在第一主面上形成了AR膜的玻璃板1的第一主面2一侧入射，在根据JISK 7361的条件下测定雾度。需要说明的是，将在3处得到的值的平均值作为带有AR膜的玻璃板的雾度。
(翘曲的绝对值)
使用平坦度测试仪(FT-17，Nidek公司制造)测定玻璃板1的翘曲，得到了翘曲的绝对值。玻璃板1的厚度为0.5mm，四边各自的长度为100mm。
需要说明的是，对在例1和例4中得到的玻璃板1进行化学强化，然后测定翘曲，结果为10.1μm和2.2μm。化学强化处理在将玻璃板1浸渍在包含硝酸钾的450℃的熔融盐中2小时的条件下进行。
(触感)
使用触感仪(Type33，新东科学公司制造)测定形成了凹凸结构的玻璃板1的第一主面2中的动摩擦系数。动摩擦系数通过使戴着丁腈手套的手指在与玻璃板1的第一主面2接触的状态下移动时，测定施加在垂直方向上的力和施加在行进方向上的力而计算出。需要说明的是，动摩擦系数为在3处得到的值的平均值。◎：动摩擦系数为2.0以下。○：动摩擦系数大于等于2.0～小于2.5。×：动摩擦系数为2.5以上。
(笔输入时的书写感)
对于形成了凹凸结构的玻璃板1的第一主面2，通过感官试验评价利用笔进行文字和图形等的输入时的书写感。作为笔，使用和冠公司制造的Pro Pen(KP-503E)，将在玻璃板1的第一主面2上的书写感与在纸上的HB的自动铅笔的书写感在感觉上基本一致的情况判定为◎，将接近于该书写感的情况判定为○，将与该书写感相比更容易滑动、难以滑动等在感觉上不同的情况判定为×，进行书写感的判定。
(显示器的分辨率)
对在显示装置的正面侧配置玻璃板1的情况下的显示装置所显示的图像的分辨率进行评价。◎：能够看到清晰的图像，在图像上看不到渗色。○：虽然能够充分地可视图像，但能够看到少量的图像的渗色。×：图像不清晰并且图像渗色明显。
表2
Figure BDA0002872986050000161
在例1～例9中得到的玻璃板1的触感、笔输入时的书写感以及显示器的分辨率优异，并且抑制了翘曲。在例10中得到的玻璃板虽然翘曲和显示器的分辨率优异，但是触感和笔输入时的书写感差。在例11中得到的玻璃板虽然触感和笔输入时的书写感优异，但是翘曲和显示器的分辨率差。在例12～例14中得到的玻璃板虽然触感和显示器的分辨率优异，但是笔输入时的书写感和翘曲差。需要说明的是，虽然带有AR膜，但是触感、分辨率等与没有AR膜相比没有大的变化。
参照特定的方式详细地说明了本发明，但是在不脱离本发明的精神和范围的情况下可以实施各种变更、修正，这对于本领域技术人员而言是显而易见的。本申请基于2018年7月4日申请的日本专利申请(日本特愿2018-127733)、2018年9月21日申请的日本专利申请(日本特愿2018-177660)，其内容作为参考并入本文中。
产业实用性
本发明的玻璃板1作为显示器输入装置用保护构件是有用的。
标号说明
1：玻璃板
2：第一主面
3：第二主面
4：加工变质层

Claims (12)

1.一种玻璃板，其具有第一主面和与所述第一主面相反的第二主面，其中，
在所述第一主面的直接下方具有加工变质层，并且
在所述第一主面的至少一部分中，要素的平均长度RSm为2500nm～6000nm、均方根高度Sq为3nm～45nm、偏斜度Ssk为负值。
2.如权利要求1所述的玻璃板，其中，所述加工变质层保有比所述玻璃板的其它部位所保有的水分量多的水分量，并且
所述加工变质层的平均氢浓度Hs与存在于所述加工变质层下部的内部区域的平均氢浓度Hb的关系满足1＜Hs/Hb＜50。
3.如权利要求1或2所述的玻璃板，其中，在所述第一主面中，算术平均高度Sa除以所述要素的平均长度RSm而得到的值为0.001～0.01。
4.如权利要求1～3中任一项所述的玻璃板，其中，在所述第一主面中，所述偏斜度Ssk为-3.0～-0.2。
5.如权利要求1～4中任一项所述的玻璃板，其中，所述第一主面中的Al/Si的值与所述第二主面中的Al/Si的值之差的绝对值为0.1以下，其中，Al为通过X射线光电子能谱法测定的Al2p的结合能的峰面积，Si为通过X射线光电子能谱法测定的Si2p的结合能的峰面积。
6.如权利要求1～5中任一项所述的玻璃板，其中，在所述第一主面中，最大峰高Sp为20nm～250nm。
7.如权利要求1～6中任一项所述的玻璃板，其中，所述加工变质层的厚度为30nm～500nm。
8.如权利要求1～7中任一项所述的玻璃板，其中，所述玻璃板的翘曲的绝对值为200μm以下。
9.一种带有减反射层的玻璃板，其中，所述带有减反射层的玻璃板具有：
权利要求1～8中任一项所述的玻璃板；和
形成在所述玻璃板的所述第一主面上的减反射层，并且，
将光从所述第一主面一侧入射时的雾度为2.0％以下。
10.一种玻璃板的制造方法，其为制造权利要求1～8中任一项所述的玻璃板的方法，其中，
所述玻璃板的制造方法具有：对具有第一主面和与所述第一主面相反的第二主面的玻璃板的所述第一主面进行湿喷砂处理的工序。
11.如权利要求10所述的玻璃板的制造方法，其中，在所述湿喷砂处理中，包含磨粒的浆料相对于所述玻璃板的表面的喷射角度为25°～80°。
12.如权利要求10或11所述的玻璃板的制造方法，其中，在所述湿喷砂处理中，磨粒为氧化铝，磨粒的平均粒径为4μm以下。
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