WO2020009081A1 - ガラス板、反射防止層付きガラス板、およびガラス板の製造方法 - Google Patents

ガラス板、反射防止層付きガラス板、およびガラス板の製造方法 Download PDF

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美砂 稲本
暁 留野
有紀 青嶋
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Ａｇｃ株式会社
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    • Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]

Definitions

  • the present invention relates to a glass plate, a glass plate with an antireflection layer, and a method for manufacturing a glass plate.
  • a transparent cover member made of glass or the like is disposed on the front side of the display device.
  • a cover member a glass plate that achieves both writing quality and display resolution and a glass plate that is excellent in texture have been proposed (Patent Documents 1 and 2).
  • the present inventors have found that, in a glass plate having excellent touch feeling, writing quality in pen input, and display resolution, a problem of warpage of the glass plate occurs due to the formation of an uneven structure.
  • An object of the present invention is to provide a glass plate which is excellent in touch feeling, writing quality in pen input and display resolution, and in which warpage is suppressed.
  • the glass plate of the present invention is excellent in touch feeling, writing quality in pen input, and display resolution, and warpage is suppressed.
  • FIG. 1 is a sectional view showing an example of the glass plate 1 of the present invention.
  • ⁇ "-"Indicating a numerical value range means that the numerical values described before and after it are included as the lower limit and the upper limit.
  • FIG. 1 is a sectional view showing an example of the glass plate 1 of the present invention.
  • the glass plate 1 includes a first main surface 2 and a second main surface 3 facing the first main surface 2.
  • the first main surface 2 has a work-affected layer 4 immediately below. That is, the glass plate 1 has the work-affected layer 4 on the outermost surface on the first main surface 2 side.
  • the glass plate 1 examples include soda lime glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, and aluminoborosilicate glass.
  • the glass plate 1 is particularly preferably soda lime glass or aluminosilicate glass.
  • the thickness of the glass plate 1 is preferably 0.1 to 20 mm.
  • the thickness of the glass plate 1 is more preferably 0.3 mm or more, and particularly preferably 0.4 mm or more.
  • the thickness of the glass plate 1 is more preferably 0.7 mm or less, and particularly preferably 0.6 mm or less.
  • the thickness of the glass plate 1 is more preferably 3 mm or more, and particularly preferably 5 mm or more.
  • the thickness of the glass plate 1 is more preferably 15 mm or less, and particularly preferably 10 mm or less.
  • the first main surface 2 of the glass plate 1 is preferably chemically strengthened.
  • the chemically stressed first main surface 2 has a compressive stress value of 200 MPa to 1000 MPa.
  • the depth of the chemically stressed compressive stress layer on the first main surface 2 is 5 ⁇ m to 150 ⁇ m.
  • the second main surface 3 is also chemically strengthened.
  • the glass plate 1 preferably has a relative difference (absolute value of difference) between the Al / Si value on the first main surface 2 and the Al / Si value on the second main surface 3 is 0.1 or less.
  • the relative difference between the values of Al / Si is 0.1 or less, the residual stress generated on the first main surface 2 and the second main surface 3 Can reduce the relative difference in the residual stress generated in the glass sheet 1, and the warpage of the glass sheet 1 can be suppressed.
  • the first main surface 2 and the second main surface 3 of the glass plate 1 are chemically strengthened, the relative difference between the compressive stress value of the first main surface 2 and the compressive stress value of the second main surface 3 is 20 MPa. As described below, the warpage of the chemically strengthened glass plate 1 is also suppressed.
  • the relative difference between the Al / Si value on the first main surface 2 and the Al / Si value on the second main surface 3 is more preferably 0.05 or less, particularly preferably 0.03 or less. .
  • Al / Si is a value calculated as follows.
  • the binding energy of Al2p and the binding energy of Si2p of the first main surface 2 and the second main surface 3 of the glass plate 1 were measured using a X-ray photoelectron spectrometer (PHI1500 VersaProbe: manufactured by ULVAC-PHI).
  • the measurement range of Al2p was 70 eV to 80 eV, the energy step was 0.1, and the number of integration was 200.
  • the measurement range of Si2p was in a range of 96 eV to 111 eV, the energy step was 0.1, and the number of integration was 50 times.
  • the value of Al / Si was a value obtained by dividing the peak area of the binding energy peak of Al2p after background correction by the peak area of the binding energy peak of Si2p after background correction. Note that each energy peak was normalized by setting the peak of C1s, which is carbon generated by exposure to the atmosphere, to 284.5 eV.
  • the glass plate 1 of the present invention preferably has an absolute value of warpage before chemical strengthening of 200 ⁇ m or less.
  • the absolute value of the warpage before chemical strengthening is 200 ⁇ m or less
  • the absolute value of the warpage after chemical strengthening can be controlled to 300 ⁇ m or less.
  • the absolute value of the warpage of the glass plate 1 is a value obtained by measuring a glass plate having a thickness of 0.5 mm and each of the four sides having a length of 100 mm. The absolute value of the warpage of the glass plate 1 was measured using a flatness tester (FT-17, manufactured by Nidek).
  • the absolute value of the warpage of the glass plate 1 having a thickness of 0.5 mm can be calculated even for glass plates 1 having different thicknesses. This is because it is generally known that the absolute value of the warpage of a glass sheet is inversely proportional to the square of the thickness of the glass sheet. Therefore, for example, when the absolute value of the warpage of a glass plate having a thickness of 0.7 mm and each of the four sides having a length of 100 mm is 100 ⁇ m, a thickness of 0.5 mm and a length of each of the four sides being 100 mm The absolute value of the warpage of the glass plate can be calculated to be 196 ⁇ m based on the above knowledge.
  • the average length RSm of the element is 2500 nm to 6000 nm
  • the root mean square height Sq is 3 nm to 45 nm
  • the skewness Ssk is a negative value.
  • “Average element length RSm” is an average pitch of irregularities on a roughness curve defined by JIS B0601: 2001.
  • RSm Average pitch of irregularities on a roughness curve defined by JIS B0601: 2001.
  • RSm is 6000 nm or less, the residual stress generated on the first main surface 2 of the glass plate 1 can be reduced, and the warpage of the glass plate 1 can be suppressed.
  • RSm is preferably 2600 nm or more, and particularly preferably 2800 nm or more.
  • RSm is preferably at most 5,500 nm, particularly preferably at most 5,000 nm.
  • Root mean square height Sq is a standard deviation of a distance from an average plane defined by ISO25178.
  • Sq is 3 nm or more, the first main surface 2 of the glass plate 1 has a smooth tactile sensation when touched with a finger, and has a good touch sensation.
  • the first main surface 2 of the glass plate 1 has Sq of 45 nm or less, the roughness can be reduced, and the resolution of the display and the transparency when the power of the display is turned off can be kept high.
  • Sq is preferably at least 5 nm, particularly preferably at least 7 nm.
  • Sq is preferably at most 40 nm, particularly preferably at most 16 nm.
  • “Skewness Ssk” indicates the symmetry of the height distribution defined by ISO25178.
  • the first main surface 2 of the glass plate 1 has a surface with many valleys, and has a hard tip such as a pen, so that the structure is not easily broken even when repeatedly rubbed, and good writing quality is maintained.
  • Ssk is preferably -0.2 or less, more preferably -0.3 or less, and particularly preferably -0.5 or less.
  • Ssk is preferably -3.0 or more, more preferably -2.5 or more, and particularly preferably -2.0 or more.
  • the fact that Sq is 3 nm to 45 nm and that Ssk is a negative value in the first main surface 2 of the glass plate 1 means that the first main surface 2 has many valleys and relatively uniform valley depths. It indicates that there is.
  • the first main surface 2 of the glass plate 1 having such a surface shape is excellent in touch feeling, writing quality in pen input, and display resolution. Further, by controlling RSm in the first main surface 2 of the glass plate 1 to 2500 nm to 6000 nm, the residual stress generated in the first main surface 2 can be reduced, and the warpage of the glass plate 1 is suppressed.
  • the glass plate 1 has a work-affected layer 4 immediately below the first main surface 2 due to the formation of the uneven structure.
  • the “work-affected layer” is a region that holds a larger amount of water than other portions of the glass plate 1. Since the glass plate 1 has the deteriorated layer 4 having a large amount of water content, warpage is suppressed. The warpage of the glass plate 1 is caused by residual stress generated in the affected layer 4. Although the detailed mechanism by which the work-affected layer 4 suppresses warpage is unknown, the work-affected layer 4 that has a large amount of moisture has a part of the network constituting the glass that has been cut, and the mobility as the network has increased. The present inventors believe that the residual stress generated in the work-affected layer 4 was alleviated, and the warpage of the glass plate 1 was suppressed.
  • the relationship between the average hydrogen concentration Hs of the affected layer 4 and the average hydrogen concentration Hb of the internal region existing under the affected layer 4 satisfies 1 ⁇ Hs / Hb ⁇ 50. If Hs / Hb is more than 1 and less than 50, the water content of the affected layer 4 increases. When the moisture content of the work-affected layer 4 increases, the bond constituting the glass becomes easy to move, and the residual stress generated in the work-affected layer 4 is relaxed, whereby the warpage of the glass plate 1 can be suppressed.
  • the internal region refers to a region having a depth of 500 nm to 1000 nm from the first main surface side of the glass plate.
  • the average hydrogen concentration Hs and the average hydrogen concentration Hb are calculated as follows.
  • Hs / Hb calculation method Using a secondary ion mass spectrometry (SIMS), a depth profile of the intensity of 1 H ⁇ and 30 Si ⁇ of the glass plate 1 is obtained. Then, 1 H - is divided by the profile, 1 H - - the profile 30 Si obtain the intensity ratio depth profile - / 30 Si. From the obtained 1 H ⁇ / 30 Si ⁇ intensity ratio depth profile, the average 1 H ⁇ / 30 Si ⁇ intensity ratio in the region of the affected layer 4 is defined as the average hydrogen concentration Hs of the affected layer 4.
  • the average 1 H ⁇ / 30 Si ⁇ intensity ratio in the region from 500 nm to 1000 nm in depth is calculated from the average hydrogen concentration Hb in the internal region.
  • Hs / Hb is obtained by dividing the obtained average hydrogen concentration Hs of the affected layer 4 by the average hydrogen concentration Hb of the internal region.
  • Hs / Hb is more preferably 1.50 or more, further preferably 5.00 or more, particularly preferably 9.00 or more, and most preferably 10.0 or more.
  • Hs / Hb is more preferably less than 45, further preferably less than 40, and particularly preferably less than 35.
  • the soluble component for example, metal ion such as Na +
  • the glass plate surface may become cloudy, which is preferable. Absent.
  • the affected layer has an appropriate amount of moisture. Specifically, if Hs / Hb is 50 or more, there is a possibility that white scorching or the like may occur on the glass plate to cause a defect. Therefore, it is preferable that Hs / Hb is less than 50.
  • the SIMS measurement conditions are as follows.
  • Use of neutralizing gun Yes.
  • the thickness of the affected layer 4 is preferably 30 nm to 500 nm.
  • the thickness of the work-affected layer 4 is 30 nm or more, a concavo-convex structure in which RSm is 2500 nm to 6000 nm, Sq is 3 nm to 45 nm, and Ssk is a negative value can be easily formed. If the thickness of the work-affected layer 4 is 500 nm or less, the residual stress generated in the work-affected layer 4 can be reduced, so that the warpage of the glass sheet 1 can be suppressed.
  • the thickness of the work-affected layer 4 is defined as the maximum height Sz calculated from the AFM image of the surface of the glass plate 1 measured with a scanning probe microscope using SPIP (Scanning Image Procedure).
  • the thickness of the affected layer 4 is more preferably at least 40 nm, particularly preferably at least 50 nm.
  • the thickness of the deteriorated layer 4 is more preferably 400 nm or less, particularly preferably 300 nm or less, and most preferably 150 nm or less.
  • the density of work-affected layer 4 is preferably 2.39g / cm 3 ⁇ 2.51g / cm 3. If the density of the work-affected layer 4 is 2.39 g / cm 3 to 2.51 g / cm 3 , the residual stress generated in the work-affected layer 4 can be reduced, so that the warpage of the glass sheet 1 can be suppressed.
  • Sa (nm) / RSm (nm) is preferably 0.001 to 0.01.
  • Sa / RSm is 0.001 or more, a concavo-convex structure having RSm of 2500 nm to 6000 nm, Sq of 3 nm to 45 nm, and Ssk of a negative value can be easily produced.
  • Sa / RSm is 0.01 or less, the roughness curve can be made gentle, the residual stress generated in the affected layer 4 can be reduced, and the warpage of the glass sheet 1 can be suppressed.
  • Sa / RSm is more preferably 0.006 or less, particularly preferably 0.003 or less.
  • Maximum peak height Sp is the maximum value of the height from the average plane defined by ISO25178.
  • Sp is preferably 20 nm to 250 nm.
  • Sp is 20 nm or more, a concavo-convex structure having RSm of 2500 nm to 6000 nm, Sq of 3 nm to 45 nm, and Ssk of a negative value can be easily produced.
  • Sp is 250 nm or less, the residual stress generated in the affected layer 4 can be reduced, and the warpage of the glass sheet 1 can be suppressed.
  • Sp is more preferably 25 nm or more, and particularly preferably 30 nm or more.
  • Sp is more preferably 150 nm or less, and particularly preferably 60 nm or less.
  • the glass plate 1 preferably has a haze of 2.0% or less when light is incident from the first main surface 2 side.
  • the haze of the glass plate 1 is 2.0% or less
  • the haze of the glass plate 1 having an antireflection layer provided with an antireflection layer on the first main surface 2 of the glass plate 1 is 2.0% or less.
  • the haze of the glass plate 1 is more preferably 1.0% or less, and particularly preferably 0.8% or less.
  • the lower limit of the haze of the glass plate 1 is 0.0%.
  • the antireflection layer can be formed by alternately stacking layers made of a high-refractive-index material and layers made of a low-refractive-index material. Further, the antireflection layer may have an inclined structure in which the refractive index continuously changes in the thickness direction of the film.
  • the refractive index of the layer made of the high refractive index material is preferably 1.70 to 2.70
  • the refractive index of the layer made of the low refractive index material is preferably 1.30 to 1.55.
  • the method for forming these antireflection layers is not particularly limited.
  • the film may be formed by an evaporation method such as electron beam evaporation or resistance heating, a CVD method, a plasma CVD method, a sputtering method, or a coating method.
  • the second main surface 3 of the glass plate 1 preferably has Sa of 0.0 nm to 0.2 nm and RSm of 10000 nm to 15000 nm.
  • Sa and RSm of the second main surface 3 are within the above ranges, the bonding property with the display is excellent, and the haze of the glass plate 1 can be suppressed to 2.0% or less.
  • RSm When forming an uneven structure on the second main surface 3 of the glass plate 1, as in the case of the first main surface 2, RSm should be 2500 nm to 6000 nm, Sq should be 3 nm to 45 nm, and Ssk should be a negative value. Is preferred.
  • the second main surface 3 of the glass plate 1 having such a surface shape, the residual stress generated on the second main surface 3 can be reduced, and the residual stress difference generated on the first main surface 2 and the second main surface 3 is reduced. The warpage of the glass plate 1 is suppressed.
  • the method for manufacturing the glass plate 1 includes a step of forming a concavo-convex structure, such as a wet etching process, a grinding process, a polishing process, a thermal roughening process, a sandblasting process, a plasma etching process, and a wet etching process on the surface of the glass plate.
  • Blast processing is mentioned. In particular, wet etching or wet blasting is preferred.
  • the wet etching treatment is performed using hydrofluoric acid, sulfuric acid, and ammonium fluoride.
  • wet blasting is a process in which abrasive particles and a liquid are uniformly stirred to form a slurry, and the slurry is sprayed from a spray nozzle onto the surface of a glass plate using compressed air. It is preferable to form the affected layer 4 directly below the first main surface 2 of the glass plate by wet blasting.
  • the spray angle with respect to the surface of the glass plate is preferably 25 ° to 80 °. The spray angle is the angle between the flow of the slurry discharged from the nozzle and the surface of the glass plate.
  • the spray angle with respect to the surface of the glass plate is 25 ° or more, the uneven structure having excellent touch feeling, writing comfort by pen input, and display resolution can be formed while keeping the thickness of the affected layer 4 within a certain range.
  • the injection angle is 80 ° or less, the thickness of the affected layer 4 can be suppressed to 500 nm or less, and the warpage of the glass plate 1 is suppressed.
  • the injection angle is more preferably 30 ° or more, and particularly preferably 40 ° or more.
  • the injection angle is more preferably equal to or less than 70 °, and particularly preferably equal to or less than 60 °.
  • the average particle size of the abrasive grains is preferably 4 ⁇ m or less, more preferably 3 ⁇ m or less, and particularly preferably 2 ⁇ m or less.
  • the average particle diameter of the abrasive grains is obtained by measuring at least 20 points of the maximum length of the abrasive grains on an arbitrary surface of 10000 ⁇ m 2 using a scanning microscope and an image analyzer and averaging them.
  • the components of the glass plate 1 according to one embodiment of the present invention have been described above. These are merely examples, and it is apparent to those skilled in the art that the glass plate 1 of the present invention may have another configuration, for example, an antireflection layer or a fingerprint removing layer.
  • Examples 1 to 9 are working examples, and Examples 10 to 14 are comparative examples.
  • Example 1 Two aluminosilicate glasses (100 mm ⁇ 100 mm ⁇ 0.5 mm in thickness) were prepared as glass plates.
  • the composition of the aluminosilicate glass is as follows: 64.3 mol% of SiO 2 , 10.5 mol% of Al 2 O 3 , 16.0 mol% of Na 2 O, 0.8 mol% of K 2 O, 8.3 mol% of MgO, 0.2 mol of ZrO 2 %Met.
  • the injection angle with respect to the surface of the glass plate was 45 °
  • the distance between the glass plate and the injection port was 30 mm
  • the processing speed was 20 mm / sec
  • the injection pressure was 0.1 MPa
  • the number of times of processing was 10 times.
  • an antireflection layer was formed on the first main surface 2 of the glass plate 1 obtained in Example 1 by a sputtering method to obtain a glass plate with an AR film.
  • the antireflection layer had a four-layer structure of a niobium oxide layer (thickness 14 nm) / a silicon oxide layer (thickness 31 nm) / a niobium oxide layer (thickness 113 nm) / a silicon oxide layer (thickness 87 nm).
  • Example 1 A glass plate 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the structure shown in Table 1 was used.
  • the average particle diameter of # 4000 is 3 ⁇ m
  • the average particle diameter of # 3000 is 4 ⁇ m.
  • Example 9 the composition of the prepared aluminosilicate glass was 67.1 mol% of SiO 2, 13.1 mol% of Al 2 O 3, 3.6 mol% of B 2 O 3, 13.7 mol% of Na 2 O, and K 2 Glass plate 1 and a glass plate with an AR film were obtained in the same manner as in Example 1 except that O was set to 0.1 mol% and MgO to 2.4 mol%, and the configuration shown in Table 1 was used.
  • Hs / Hb on the first main surface of the glass plate 1 was calculated after necessary data was obtained by the “Hs / Hb measurement method”.
  • Example 10 a glass plate 1 and a glass plate with an AR film were obtained in the same manner as in Example 1 except that the uneven structure was not formed.
  • Example 11 In Example 11, a glass plate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the sand blasting was used instead of the wet blasting. The sand blasting was performed using a white alumina abrasive grain (# 3000, average particle diameter: 4 ⁇ m) at a projection pressure of 0.2 MPa.
  • RSm Using a laser microscope (VK-X250, manufactured by KEYENCE CORPORATION), the first main surface 2 of the glass plate 1 having the uneven structure was measured to obtain RSm.
  • the number of acquired data was 1024 ⁇ 768 pixels, the measurement area was 32 ⁇ m ⁇ 24 ⁇ m, and the line roughness measurement in the measurement area was 30 or more.
  • the scanning area was a square area of 8 ⁇ m on a side, the number of acquired data was 512 ⁇ 512, and the scanning frequency was 0.4 kHz. However, in Example 11, the scanning area was a square area of 24 ⁇ m on a side.
  • Al2p and the binding energy of Si2p of the first main surface 2 and the second main surface 3 of the glass plate 1 were measured using an X-ray photoelectron spectrometer (PHI1500 VersaProbe: manufactured by ULVAC-PHI).
  • the measurement range of Al2p was 70 eV to 80 eV, the energy step was 0.1, and the number of integration was 200.
  • the measurement range of Si2p was in a range of 96 eV to 111 eV, the energy step was 0.1, and the number of integration was 50 times.
  • the value of Al / Si was a value obtained by dividing the peak area of the binding energy peak of Al2p after background correction by the peak area of the binding energy peak of Si2p after background correction. Note that each energy peak was normalized by setting the peak of C1s, which is carbon generated by exposure to the atmosphere, to 284.5 eV.
  • a background subtractive (Truncate) function of software (MultiPak) attached to the X-ray photoelectron spectrometer was used.
  • the relative difference between the value of Al / Si on the first principal surface 2 and the value of Al / Si on the second principal surface is determined by the difference between the value of Al / Si on the first principal surface and the value of Al / Si on the second principal surface.
  • the absolute value of the subtracted value was used.
  • the warpage was measured and found to be 10.1 ⁇ m and 2.2 ⁇ m.
  • the chemical strengthening treatment was performed under the condition that the glass plate 1 was immersed in a molten salt containing potassium nitrate at 450 ° C. for 2 hours.
  • the sensory test was used to evaluate the writing taste when characters and graphics were input to the first main surface 2 of the glass plate 1 having the uneven structure by using a pen.
  • a pen made by Wacom Corp. (KP-503E) as a pen, the writing taste on the first main surface 2 of the glass plate 1 almost matches the writing taste of the HB mechanical pencil on paper.
  • the case was evaluated as ⁇ , the case close to the writing taste was evaluated as ⁇ , and the case in which the feeling was slippery or less slippery than the writing taste was evaluated as ⁇ , and the writing taste was determined.
  • Display resolution The resolution of the image displayed on the display device when the glass plate 1 was placed on the front side of the display device was evaluated.
  • the glass plates 1 obtained in Examples 1 to 9 were excellent in touch feeling, writing quality with pen input, and display resolution, and warpage was suppressed.
  • the glass plate obtained in Example 10 was excellent in warpage and resolution of the display, but was inferior in feel and writing quality in pen input.
  • the glass plate obtained in Example 11 was excellent in touch feeling and writing quality in pen input, but was inferior in warpage and display resolution.
  • the glass plates obtained in Examples 12 to 14 were excellent in the feel and the resolution of the display, but were inferior in writing quality and warpage in pen input. Note that the tactile sensation, the resolution, and the like do not change significantly even when the AR film is provided, as compared with the case without the AR film.
  • the glass plate 1 of the present invention is useful as a cover member for a display input device.
  • glass plate 2 first main surface 3: second main surface 4: work-affected layer

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Abstract

本発明は、第１主面と、第１主面に対向する第２主面とを備え、第１主面の直下に、加工変質層を有し、第１主面の少なくとも一部において、要素の平均長さＲＳｍが２５００ｎｍ～６０００ｎｍであり、二乗平均平方根高さＳｑが３ｎｍ～４５ｎｍであり、スキューネスＳｓｋが負の値である、ガラス板に関する。

Description

ガラス板、反射防止層付きガラス板、およびガラス板の製造方法
　本発明は、ガラス板、反射防止層付きガラス板、およびガラス板の製造方法に関する。
　指またはペンによる入力で文字及び図形等の入力を行うことができるディスプレイ入力装置には、ディスプレイ装置の前面側に、ガラス等で構成される透明なカバー部材が配置されている。カバー部材として、書き味とディスプレイの解像度とを両立するガラス板や、手触り感に優れるガラス板が、提案されている（特許文献１、特許文献２）。
日本国特開２０１８－２０９４２号公報 国際公開第２０１７／０９４６８３号
　本発明者らは、手触り感、ペン入力における書き味及びディスプレイの解像度に優れるガラス板において、凹凸構造の形成によりガラス板の反りという問題が生じること、を見出した。
　本発明は、手触り感、ペン入力における書き味及びディスプレイの解像度に優れ、反りが抑制されたガラス板の提供を課題とする。
　本発明者らは、鋭意検討の結果、ガラス板の表面に形成される凹凸構造が特定の条件を満たすことで、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、以下の構成により、上記課題を解決できることを見出した。
　第１主面と、前記第１主面に対向する第２主面とを備え、
　前記第１主面の直下に、加工変質層を有し、
　前記第１主面の少なくとも一部において、要素の平均長さＲＳｍが２５００ｎｍ～６０００ｎｍであり、二乗平均平方根高さＳｑが３ｎｍ～４５ｎｍであり、スキューネスＳｓｋが負の値である、ガラス板が、提供される。
　本発明のガラス板は、手触り感、ペン入力における書き味及びディスプレイの解像度に優れ、反りが抑制されている。
図１は本発明のガラス板１の一例を示す断面図である。
　本発明のガラス板及びその製造方法について、説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されない。
　数値範囲を示す「～」は、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。
　（ガラス板）
　図１は、本発明のガラス板１の一例を示す断面図である。ガラス板１は、第１主面２と、第１主面２に対向する第２主面３とを備える。第１主面２は、直下に加工変質層４を有する。すなわち、ガラス板１は、第１主面２側の最表面に、加工変質層４を有する。
　図１における寸法比は、説明の便宜上、実際のものとは異なる。
　ガラス板１としては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ホウ珪酸ガラス及びアルミノボロシリケートガラスが挙げられる。ガラス板１としては、特に、ソーダライムガラス又はアルミノシリケートガラスであることが好ましい。
　ガラス板１の厚さは、０．１～２０ｍｍであることが好ましい。タブレットやスマートフォンのカバーガラス用途において、ガラス板１の厚さは、０．３ｍｍ以上であることがさらに好ましく、０．４ｍｍ以上であることが特に好ましい。ガラス板１の厚さは、０．７ｍｍ以下であることがさらに好ましく、０．６ｍｍ以下であることが特に好ましい。また、デジタルサイネージ用途において、ガラス板１の厚さは、３ｍｍ以上であることがさらに好ましく、５ｍｍ以上であることが特に好ましい。ガラス板１の厚さは、１５ｍｍ以下であることがさらに好ましく、１０ｍｍ以下であることが特に好ましい。
　ガラス板１の第１主面２は、化学強化されていることが好ましい。この場合、化学強化された第１主面２の圧縮応力値は、２００ＭＰａ～１０００ＭＰａであることが好ましい。また、化学強化された第１主面２の圧縮応力層の深さは、５μｍ～１５０μｍであることが好ましい。さらに、第２主面３も、化学強化されていることが好ましい。
　ガラス板１は、第１主面２におけるＡｌ／Ｓｉの値及び第２主面３におけるＡｌ／Ｓｉの値の相対的差異（差の絶対値）が、０．１以下であることが好ましい。Ａｌ／Ｓｉの値の相対的差異が０．１以下であると、第１主面２に凹凸構造を形成したガラス板１において、第１主面２に生じた残留応力及び第２主面３に生じた残留応力の相対的差異を低減でき、ガラス板１の反りが抑制される。また、ガラス板１の第１主面２及び第２主面３が化学強化された場合、第１主面２の圧縮応力値及び第２主面３の圧縮応力値の相対的差異は、２０ＭＰａ以下になり、化学強化したガラス板１の反りも抑制される。第１主面２におけるＡｌ／Ｓｉの値及び第２主面３におけるＡｌ／Ｓｉの値の相対的差異は、０．０５以下であることがさらに好ましく、０．０３以下であることが特に好ましい。
　Ａｌ／Ｓｉの値は、以下のように算出した値である。
　Ｘ線光電子分光計（ＰＨＩ１５００　ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅ：アルバックファイ社製）を用いて、ガラス板１の第１主面２及び第２主面３の、Ａｌ２ｐの結合エネルギー及びＳｉ２ｐの結合エネルギーを測定した。Ａｌ２ｐの測定範囲は、７０ｅＶ～８０ｅＶとし、エネルギーステップは０．１とし、積算回数は２００回とした。Ｓｉ２ｐの測定範囲は、９６ｅＶ～１１１ｅＶの範囲とし、エネルギーステップは０．１とし、積算回数は５０回とした。Ａｌ／Ｓｉの値は、バックグラウンド補正後のＡｌ２ｐの結合エネルギーピークのピーク面積を、バックグラウンド補正後のＳｉ２ｐの結合エネルギーピークのピーク面積で除した値とした。なお、それぞれのエネルギーピークは、大気暴露によって生じるカーボンであるＣ１ｓのピークを２８４．５ｅＶとして規格化した。
　本発明のガラス板１は、化学強化前の反りの絶対値が２００μｍ以下であることが好ましい。化学強化前の反りの絶対値が２００μｍ以下であると、化学強化後の反りの絶対値を３００μｍ以下に制御することができる。なお、本発明において、ガラス板１の反りの絶対値は、厚さが０．５ｍｍであり、四辺のそれぞれの長さが１００ｍｍであるガラス板を測定したときの値である。ガラス板１の反りの絶対値は、フラットネステスター（ＦＴ－１７、ニデック社製）を用いて、測定した。なお、厚さが０．５ｍｍであるガラス板１の反りの絶対値は、厚さの異なるガラス板１でも算出できる。一般的にガラス板の反りの絶対値は、ガラス板の厚さの二乗に反比例することが知られているためである。したがって、例えば、厚さが０．７ｍｍで四辺のそれぞれの長さが１００ｍｍであるガラス板の反りの絶対値が１００μｍであった場合、厚さが０．５ｍｍで四辺のそれぞれの長さが１００ｍｍであるガラス板の反りの絶対値は、上記知見に基づき、１９６μｍと算出できる。
　（ガラス板の第１主面）
　ガラス板１の第１主面２の少なくとも一部において、要素の平均長さＲＳｍが２５００ｎｍ～６０００ｎｍであり、二乗平均平方根高さＳｑが３ｎｍ～４５ｎｍであり、スキューネスＳｓｋが負の値である。
　「要素の平均長さＲＳｍ」は、ＪＩＳＢ０６０１：２００１で規定される粗さ曲線における凹凸の平均ピッチである。ガラス板１の第１主面２は、ＲＳｍが２５００ｎｍ以上であると、ペン入力時に、滑りすぎず適度なひっかかり感があり書きやすくなる。さらに、ＲＳｍが２５００ｎｍ以上であると、ガラス板１の第１主面２に生じる残留応力を低減でき、ガラス板１の反りが抑制できる。ガラス板１の第１主面２は、ＲＳｍが６０００ｎｍ以下であると、ペン入力時に、ざらざらした凸凹感がなく滑らかに書きやすくなる。さらに、ＲＳｍが６０００ｎｍ以下であると、ガラス板１の第１主面２に生じる残留応力を低減でき、ガラス板１の反りが抑制できる。ＲＳｍは、２６００ｎｍ以上であることが好ましく、２８００ｎｍ以上であることが特に好ましい。ＲＳｍは、５５００ｎｍ以下であることが好ましく、５０００ｎｍ以下であることが特に好ましい。
　「二乗平均平方根高さＳｑ」は、ＩＳＯ２５１７８で規定される平均面からの距離の標準偏差である。ガラス板１の第１主面２は、Ｓｑが３ｎｍ以上であると、指で触った時になめらかな触感となり、手触り感がよい。ガラス板１の第１主面２は、Ｓｑが４５ｎｍ以下であると、ザラザラ感を低減でき、ディスプレイの解像度とディスプレイの電源を切った際の透明感を高く保てる。Ｓｑは、５ｎｍ以上であることが好ましく、７ｎｍ以上であることが特に好ましい。Ｓｑは、４０ｎｍ以下であることが好ましく、１６ｎｍ以下であることが特に好ましい。
　「スキューネスＳｓｋ」は、ＩＳＯ２５１７８で規定される高さ分布の対称性を示す。ガラス板１の第１主面２は、Ｓｓｋが負の値であると、谷が多い表面となり、ペンのような先端が固いもので繰り返し擦っても構造が崩れにくく、良い書き味が持続する。Ｓｓｋは、－０．２以下であることが好ましく、－０．３以下であることがより好ましく、－０．５以下であることが特に好ましい。Ｓｓｋは、－３．０以上であることが好ましく、－２．５以上であることがより好ましく、－２．０以上であることが特に好ましい。
　ガラス板１の第１主面２において、Ｓｑが３ｎｍ～４５ｎｍであること及びＳｓｋが負の値であることは、第１主面２に、谷が多く、谷の深さが比較的均一であることを示している。このような表面形状を有するガラス板１の第１主面２は、手触り感、ペン入力における書き味及びディスプレイの解像度に優れる。さらに、ガラス板１の第１主面２において、ＲＳｍを２５００ｎｍ～６０００ｎｍに制御することにより、第１主面２に生じる残留応力を低減でき、ガラス板１の反りが抑制される。
　ガラス板１は、第１主面２の直下に、凹凸構造の形成に起因した加工変質層４を有する。「加工変質層」とは、ガラス板１の他の部位が保有する水分量よりも多くの水分量を保有する領域のことである。ガラス板１は、保有する水分量の多い加工変質層４を有することで、反りが抑制される。ガラス板１の反りは、加工変質層４に生じる残留応力に起因する。加工変質層４が反りを抑制する詳細なメカニズムは不明だが、保有する水分量の多い加工変質層４は、ガラスを構成するネットワークの一部が切れて、ネットワークとしての運動性が高まった状態にあるため、加工変質層４に生じた残留応力が緩和され、ガラス板１の反りが抑制された、と本発明者らは考えている。
　加工変質層４の平均水素濃度Ｈｓと、加工変質層４の下部に存在する内部領域の平均水素濃度Ｈｂとの関係が、１＜Ｈｓ／Ｈｂ＜５０を満たすことが好ましい。Ｈｓ／Ｈｂが１超かつ５０未満であると、加工変質層４の保有する水分量が多くなる。加工変質層４の保有する水分量が多くなると、ガラスを構成する結合が動きやすくなり、加工変質層４に生じた残留応力を緩和することで、ガラス板１の反りを抑制できる。内部領域とは、ガラス板の第１主面側から深さ５００ｎｍから１０００ｎｍまでの領域を指す。なお、平均水素濃度Ｈｓ及び平均水素濃度Ｈｂは、以下のようにして算出する。
　（Ｈｓ／Ｈｂ算出法）
　二次イオン質量分析法（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ　Ｉｏｎ　Ｍａｓｓ　Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ：ＳＩＭＳ）を用いて、ガラス板１の１Ｈ－及び３０Ｓｉ－の強度の深さ方向プロファイルを取得する。その後、１Ｈ－プロファイルを３０Ｓｉ－プロファイルで除して、１Ｈ－／３０Ｓｉ－強度比の深さ方向プロファイルを得る。得られた１Ｈ－／３０Ｓｉ－強度比の深さ方向プロファイルより、加工変質層４の領域における平均１Ｈ－／３０Ｓｉ－強度比を加工変質層４の平均水素濃度Ｈｓとする。同様に、得られた１Ｈ－／３０Ｓｉ－強度比の深さ方向プロファイルより、深さ５００ｎｍから１０００ｎｍまでの領域における平均１Ｈ－／３０Ｓｉ－強度比を、内部領域の平均水素濃度Ｈｂとする。得られた加工変質層４の平均水素濃度Ｈｓを内部領域の平均水素濃度Ｈｂで除して、Ｈｓ／Ｈｂを求める。Ｈｓ／Ｈｂは、１．５０以上であることがより好ましく、５．００以上であることがさらに好ましく、９．００以上であることが特に好ましく、１０．０以上であることが最も好ましい。Ｈｓ／Ｈｂは、４５未満であることがより好ましく、４０未満であることがさらに好ましく、３５未満であることが特に好ましい。
　ここで、加工変質層の水分量が多すぎる場合、ガラス板中の可溶性成分（例えばＮａ＋等の金属イオン）と加工変質層の水分とが反応し、ガラス板表面が白濁することがあるので好ましくない。一方、ガラス板の反りを緩和するためには、加工変質層に適度な水分量があることが好ましい。具体的には、Ｈｓ／Ｈｂが５０以上になると、ガラス板に白ヤケ等が発生して欠点となるおそれがあるので、Ｈｓ／Ｈｂは５０未満であることが好ましい。
　なお、ＳＩＭＳの測定条件は以下の通りである。
装置：アルバックファイ社製　ＡＤＥＰＴ１０１０
一次イオン種：Ｃｓ＋
一次イオンの加速電圧：５ｋＶ
一次イオンの電流値：５００ｎＡ
一次イオンの入射角：試料面の法線に対して６０°
一次イオンのラスターサイズ：３００×３００μｍ２
二次イオンの極性：マイナス
二次イオンの検出領域：６０×６０μｍ２（一次イオンのラスターサイズの４％）
中和銃の使用：有。
　加工変質層４の厚さは、３０ｎｍ～５００ｎｍであることが好ましい。加工変質層４の厚さが３０ｎｍ以上であると、ＲＳｍが２５００ｎｍ～６０００ｎｍ、Ｓｑが３ｎｍ～４５ｎｍ及びＳｓｋが負の値である凹凸構造を容易に作成できる。加工変質層４の厚さが５００ｎｍ以下であると、加工変質層４に生じる残留応力を低減できるため、ガラス板１の反りを抑制できる。なお、本発明において、加工変質層４の厚さは、走査型プローブ顕微鏡で測定したガラス板１の表面のＡＦＭ像からＳＰＩＰ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ　Ｉｍａｇｅ　Ｐｒｏｃｅｓｒｏｒ）を用いて算出した最大高さＳｚとした。加工変質層４の厚さは、４０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、５０ｎｍ以上であることが特に好ましい。加工変質層４の厚さは、４００ｎｍ以下であることがさらに好ましく、３００ｎｍ以下であることが特に好ましく、１５０ｎｍ以下であることが最も好ましい。
　加工変質層４の密度は、２．３９ｇ／ｃｍ３～２．５１ｇ／ｃｍ３であることが好ましい。加工変質層４の密度が２．３９ｇ／ｃｍ３～２．５１ｇ／ｃｍ３であると、加工変質層４に生じる残留応力を低減できるため、ガラス板１の反りを抑制できる。
　「算術平均高さＳａ／要素の平均長さＲＳｍ」は、粗さ曲線のなだらかさを示す。ガラス板１の第１主面２において、Ｓａ（ｎｍ）／ＲＳｍ（ｎｍ）は、０．００１～０．０１であることが好ましい。Ｓａ／ＲＳｍが０．００１以上であると、ＲＳｍが２５００ｎｍ～６０００ｎｍ、Ｓｑが３ｎｍ～４５ｎｍ及びＳｓｋが負の値である凹凸構造を容易に作製できる。Ｓａ／ＲＳｍが０．０１以下であると、粗さ曲線をなだらかにすることができ、加工変質層４に生じる残留応力を低減でき、ガラス板１の反りを抑制できる。Ｓａ／ＲＳｍは、０．００６以下であることがさらに好ましく、０．００３以下であることが特に好ましい。
　「最大山高さＳｐ」は、ＩＳＯ２５１７８で規定される平均面からの高さの最大値である。ガラス板１の第１主面２において、Ｓｐは、２０ｎｍ～２５０ｎｍであることが好ましい。Ｓｐが２０ｎｍ以上であると、ＲＳｍが２５００ｎｍ～６０００ｎｍ、Ｓｑが３ｎｍ～４５ｎｍ及びＳｓｋが負の値である凹凸構造を容易に作製できる。Ｓｐが２５０ｎｍ以下であると、加工変質層４に生じる残留応力を低減でき、ガラス板１の反りを抑制できる。Ｓｐは、２５ｎｍ以上であることがさらに好ましく、３０ｎｍ以上であることが特に好ましい。Ｓｐは、１５０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、６０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
　ガラス板１は、第１主面２の側から光を入射して測定したヘイズが、２．０％以下であることが好ましい。ガラス板１のヘイズが２．０％以下であると、ガラス板１の第１主面２の上に反射防止層を備えた、反射防止層付きガラス板１のヘイズを、２．０％以下にできる。ガラス板１のヘイズは、１．０％以下であることがより好ましく、０．８％以下であることが特に好ましい。ガラス板１のヘイズの下限値は、０．０％である。
　反射防止層は、高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層とを、交互に積層することにより構成できる。また、反射防止層は、膜の厚さ方向に屈折率が連続的に変化する傾斜構造を有していてもよい。ここで高屈折率材料からなる層の屈折率は１．７０～２．７０、低屈折率材料からなる層の屈折率は１．３０～１．５５であることが好ましい。これらの反射防止層の形成方法は特に限られない。例えば、電子ビーム蒸着や抵抗加熱などの蒸着法、ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、スパッタリング法、または塗布法などで成膜されてもよい。
　（ガラス板の第２主面）
　ガラス板１の第２主面３は、Ｓａが０．０ｎｍ～０．２ｎｍであり、ＲＳｍが１００００ｎｍ～１５０００ｎｍであることが好ましい。第２主面３のＳａ及びＲＳｍが上記範囲であると、ディスプレイとの貼合性に優れ、ガラス板１のヘイズを２．０％以下に抑えることができる。
　ガラス板１の第２主面３に凹凸構造を形成する場合、第１主面２と同様に、ＲＳｍが２５００ｎｍ～６０００ｎｍであり、Ｓｑが３ｎｍ～４５ｎｍであり、Ｓｓｋが負の値であることが好ましい。このような表面形状を有するガラス板１の第２主面３であれば、第２主面３に生じる残留応力を低減でき、第１主面２及び第２主面３に生じる残留応力差が低減され、ガラス板１の反りが抑制される。
　（ガラス板の製造方法）
　ガラス板１の製造方法は、凹凸構造を形成する工程を含み、かかる工程として、ガラス板の表面に対する、湿式エッチング処理、研削処理、研磨処理、熱粗化処理、サンドブラスト処理、プラズマエッチング処理、ウェットブラスト処理が挙げられる。特に、湿式エッチング処理又はウェットブラスト処理が、好ましい。
　湿式エッチング処理は、弗酸、硫酸、フッ化アンモニウムを用いて行われる。
　ウェットブラスト処理は、砥粒と液体とを均一に撹拌してスラリーとしたものを、圧縮エアを用いて噴射ノズルからガラス板の表面に噴射する処理である。ウェットブラスト処理により、ガラス板の第１主面２の直下に加工変質層４を形成することが好ましい。砥粒を含むスラリーをガラス板の表面に噴射するウェットブラスト処理において、ガラス板の表面に対する噴射角度は２５°～８０°であることが好ましい。噴射角度は、ノズルから吐出されたスラリーの流れとガラス板の表面とのなす角のことである。ガラス板の表面に対する噴射角度が２５°以上であると、加工変質層４の厚さを一定範囲に抑えつつ、手触り感、ペン入力による書き心地及びディスプレイの解像度に優れる凹凸構造を形成できる。噴射角度が８０°以下であると、加工変質層４の厚さを５００ｎｍ以下に抑えることができ、ガラス板１の反りが抑制される。噴射角度は、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることが特に好ましい。噴射角度は、７０°以下であることがより好ましく、６０°以下であることが特に好ましい。
　砥粒の平均粒子径は、４μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であることがより好ましく、２μｍ以下であることが特に好ましい。砥粒の平均粒子径が４μｍ以下であると、反りと手触り感とディスプレイの解像度とを両立できる。なお、砥粒の平均粒子径は、走査型顕微鏡及び画像解析装置を用いて、任意の表面１００００μｍ２における砥粒の最大長さを少なくとも２０点測定し、それらを平均して求める。
　以上、本発明の一実施形態によるガラス板１の構成要素について説明した。これらは単なる一例であって、本発明のガラス板１がその他の構成、例えば反射防止層や指紋除去性層を有していてもよいことは、当業者に明らかである。
　以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。例１～例９は実施例であり、例１０～例１４は比較例である。
　（例１）　ガラス板として、アルミノシリケートガラス（１００ｍｍ×１００ｍｍ×厚さ０．５ｍｍ）を２枚準備した。アルミノシリケートガラスの組成は、ＳｉＯ２　６４．３ｍｏｌ％、Ａｌ２Ｏ３　１０．５ｍｏｌ％、Ｎａ２Ｏ　１６．０ｍｏｌ％、Ｋ２Ｏ　０．８ｍｏｌ％、ＭｇＯ　８．３ｍｏｌ％、ＺｒＯ２　０．２ｍｏｌ％であった。
　ガラス板の一方の主面に対し、ホワイトアルミナ砥粒（＃６０００、平均粒子径：２μｍ）と水とからなるスラリーを、噴射して、凹凸構造を形成した。ガラス板の表面に対する噴射角度は４５°、ガラス板と噴射口との距離は３０ｍｍ、処理速度は２０ｍｍ／ｓｅｃ、噴射圧力は０．１ＭＰａ、処理回数は１０回であった。
　スラリーを噴射後、ガラス板の表面を水で洗浄し、ガラス板１を得た。
　一方、例１で得たガラス板１の第１主面２に、スパッタ法で反射防止層（ＡＲ膜）を成膜し、ＡＲ膜付きガラス板も得た。反射防止層は、酸化ニオブ層（厚さ１４ｎｍ）／酸化ケイ素層（厚さ３１ｎｍ）／酸化ニオブ層（厚さ１１３ｎｍ）／酸化ケイ素層（厚さ８７ｎｍ）の４層構成とした。
　（例２～例９、例１２～例１４）
　表１に示す構成とした以外は、例１と同様にして、ガラス板１を得た。なお、ホワイトアルミナ砥粒において、＃４０００の平均粒子径は３μｍ、＃３０００の平均粒子径は４μｍである。
　なお、例９において、準備したアルミノシリケートガラスの組成を、ＳｉＯ２　６７．１ｍｏｌ％、Ａｌ２Ｏ３　１３．１ｍｏｌ％、Ｂ２Ｏ３　３．６ｍｏｌ％、Ｎａ２Ｏ　１３．７ｍｏｌ％、Ｋ２Ｏ　０．１ｍｏｌ％、ＭｇＯ　２．４ｍｏｌ％とし、表１に示す構成とした以外は、例１と同様にして、ガラス板１及びＡＲ膜付きガラス板を得た。
　また、例２、例６、例９および例１１においては、上記「Ｈｓ／Ｈｂ測定法」により必要なデータを取得してから、ガラス板１の第１主面におけるＨｓ／Ｈｂを算出した。
　（例１０）
　例１０において、凹凸構造を形成しない以外は、例１と同様にして、ガラス板１及びＡＲ膜付きガラス板を得た。
　（例１１）
　例１１において、ウェットブラスト処理をサンドブラスト処理とした以外は、例１と同様にして、ガラス板を得た。サンドブラスト処理は、ホワイトアルミナ砥粒（＃３０００、平均粒子径：４μｍ）を投射圧０．２ＭＰａで行った。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　得られたガラス板について、ＲＳｍ、Ｓａ、Ｓｑ、Ｓｓｋ、Ｓｐ、Ｓｚ、Ａｌ／Ｓｉ、ヘイズ、反りの絶対値、手触り感、ペン入力における書き味及びディスプレイの解像度について、評価を行った。結果を表２に示す。
　（ＲＳｍ）
　レーザー顕微鏡（ＶＫ－Ｘ２５０、キーエンス社製）を用いて、凹凸構造を形成したガラス板１の第１主面２を測定し、ＲＳｍを得た。取得データ数は１０２４×７６８ピクセル、測定エリアは３２μｍ×２４μｍ、測定エリアにおける線粗さ計測は３０か所以上とした。
　（Ｓａ、Ｓｑ、Ｓｓｋ、Ｓｐ、Ｓｚ）
　走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＩ３８００Ｎ、ＳＩＩナノテクノロジー社製）を用いて、凹凸構造を形成したガラス板１の第１主面２を測定し、ＡＦＭ像を取得した。取得したＡＦＭ像を、ＳＰＩＰ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ　Ｉｍａｇｅ　Ｐｒｏｃｅｓｒｏｒ）により画像解析することで、Ｓａ、Ｓｑ、Ｓｓｋ、Ｓｐ、Ｓｚを得た。なお、３か所で得られたＡＦＭ像から得た値の平均値を、本発明におけるＳａ、Ｓｑ、Ｓｓｋ、Ｓｐ、Ｓｚとした。走査エリアは一辺８μｍの正方形領域、取得データ数は５１２×５１２、走査周波数は０．４ｋＨｚ、とした。但し、例１１では、走査エリアを一辺２４μｍの正方形領域とした。
　（Ａｌ／Ｓｉ）
　Ｘ線光電子分光計（ＰＨＩ１５００　ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅ：アルバックファイ社製）を用いて、ガラス板１の第１主面２及び第２主面３のＡｌ２ｐの結合エネルギー及びＳｉ２ｐの結合エネルギーを測定した。Ａｌ２ｐの測定範囲は、７０ｅＶ～８０ｅＶとし、エネルギーステップは０．１とし、積算回数は２００回とした。Ｓｉ２ｐの測定範囲は、９６ｅＶ～１１１ｅＶの範囲とし、エネルギーステップは０．１とし、積算回数は５０回とした。Ａｌ／Ｓｉの値は、バックグラウンド補正後のＡｌ２ｐの結合エネルギーピークのピーク面積を、バックグラウンド補正後のＳｉ２ｐの結合エネルギーピークのピーク面積で除した値とした。なお、それぞれのエネルギーピークは、大気暴露によって生じるカーボンであるＣ１ｓのピークを２８４．５ｅＶとして規格化した。また、バックグラウンド補正は、Ｘ線光電子分光計に付属したソフト（ＭｕｌｔｉＰａｋ）のＢａｃｋｇｒｏｕｎｄＳｕｂｔｒａｃｔ（Ｔｒｕｎｃａｔｅ）機能を使用した。
　第１主面２におけるＡｌ／Ｓｉの値及び前記第２面主面におけるＡｌ／Ｓｉの値の相対的差異は、第１主面におけるＡｌ／Ｓｉの値から第２主面におけるＡｌ／Ｓｉの値を減じた値の絶対値とした。
　（ヘイズ）
　ヘイズメーター（ＨＺ－２、スガ試験機社製）を用いて、凹凸構造を形成したガラス板１の第１主面２側から光を入射し、ＪＩＳＫ７３６１に準拠する条件で、ヘイズを測定した。なお、３か所で得られた値の平均値を、本発明に係るガラス板１のヘイズとした。
　（ヘイズＡＲ）
　ヘイズメーター（ＨＺ－２、スガ試験機社製）を用いて、第１主面にＡＲ膜が形成されたガラス板１の第１主面２側から光を入射し、ＪＩＳＫ７３６１に準拠する条件で、ヘイズを測定した。なお、３か所で得られた値の平均値を、ＡＲ膜付きガラス板のヘイズとした。
　（反りの絶対値）
　フラットネステスター（ＦＴ－１７、ニデック社製）を用いて、ガラス板１の反りを測定し、反りの絶対値を得た。ガラス板１の厚さは０．５ｍｍで、四辺のそれぞれの長さは１００ｍｍであった。
　なお、例１及び例４で得られたガラス板１を化学強化した後、反りを測定したところ、１０．１μｍ及び２．２μｍであった。化学強化処理は、硝酸カリウムを含む４５０℃の溶融塩に、ガラス板１を２時間浸漬する条件で行った。
　（手触り感）
　触感計（Ｔｙｐｅ３３、新東科学社製）を用いて、凹凸構造を形成したガラス板１の第１主面２における動摩擦係数を測定した。動摩擦係数は、ガラス板１の第１主面２にニトリル手袋をした指を接触させた状態で移動した時に、垂直方向にかかる力と進行方向にかかる力とを測定し、算出した。なお、動摩擦係数は、３か所で得られた値の平均値とした。◎：動摩擦係数が２．０以下。○：動摩擦係数が２．０以上～２．５未満。×：動摩擦係数が２．５以上。
　（ペン入力における書き味）
　凹凸構造を形成したガラス板１の第１主面２に対して、ペンにより文字及び図形等の入力を行った際の書き味を、官能試験により評価した。ペンとしてワコム社製プロペン（ＫＰ－５０３Ｅ）を使用し、ガラス板１の第１主面２上での書き味が、紙上でのＨＢのシャープペンシルの書き味と感覚的とほぼ一致している場合を◎とし、当該書き味に近い場合を○とし、当該書き味よりも滑りやすい、滑りにくいなど感覚的に異なる場合を×として、書き味の判定を行った。
　（ディスプレイの解像度）
　ディスプレイ装置の前面側に、ガラス板１を配置した場合の、ディスプレイ装置に表示される映像の解像度について評価を行った。◎：鮮明な映像が見え、像に滲みが見られない。○：映像が十分に視認できるが、僅かに像の滲みが見られる。×：映像が不鮮明であり、かつ像の滲みが目立つ。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　例１～例９で得られたガラス板１は、手触り感、ペン入力における書き味及びディスプレイの解像度に優れ、反りが抑制されていた。例１０で得られたガラス板は、反りとディスプレイの解像度に優れていたものの、手触り感とペン入力における書き味が劣っていた。例１１で得られたガラス板は、手触り感とペン入力における書き味とに優れていたものの、反りとディスプレイの解像度とが劣っていた。例１２～例１４で得られたガラス板は、手触り感とディスプレイの解像度とに優れていたものの、ペン入力における書き味と反りとに劣っていた。なお、触感、解像度等は、ＡＲ膜をつけても、ＡＲ膜なしと比べて大きく変わらない。
　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。本出願は２０１８年７月４日出願の日本特許出願（特願２０１８－１２７７３３）、２０１８年９月２１日出願の日本特許出願（特願２０１８－１７７６６０）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
　本発明のガラス板１は、ディスプレイ入力装置用のカバー部材として有用である。
１：ガラス板
２：第１主面
３：第２主面
４：加工変質層
 

Claims (12)

  1. 　第１主面と、前記第１主面に対向する第２主面とを備え、
    　前記第１主面の直下に、加工変質層を有し、
    　前記第１主面の少なくとも一部において、要素の平均長さＲＳｍが２５００ｎｍ～６０００ｎｍであり、二乗平均平方根高さＳｑが３ｎｍ～４５ｎｍであり、スキューネスＳｓｋが負の値である、ガラス板。
  2. 　前記加工変質層は、前記ガラス板の他の部位が保有する水分量よりも多くの水分量を保有し、
    　前記加工変質層の平均水素濃度Ｈｓと、前記加工変質層の下部に存在する内部領域の平均水素濃度Ｈｂとの関係が、１＜Ｈｓ／Ｈｂ＜５０を満たす請求項１に記載のガラス板。
  3. 　前記第１主面において、算術平均高さＳａを前記要素の平均長さＲＳｍで除した値が０．００１～０．０１である、請求項１または２に記載のガラス板。
  4. 　前記第１主面において、前記スキューネスＳｓｋが－３．０～－０．２である、請求項１～３のいずれか１項に記載のガラス板。
  5. 　前記第１主面におけるＡｌ／Ｓｉの値と前記第２主面におけるＡｌ／Ｓｉの値との差の絶対値が、０．１以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載のガラス板。但し、ＡｌはＸ線光電子分光法により測定したＡｌ２ｐの結合エネルギーのピーク面積であり、ＳｉはＸ線光電子分光法により測定したＳｉ２ｐの結合エネルギーのピーク面積である。
  6. 　前記第１主面において、最大山高さＳｐが２０ｎｍ～２５０ｎｍである、請求項１～５のいずれか１項に記載のガラス板。
  7. 　前記加工変質層の厚さが３０ｎｍ～５００ｎｍである、請求項１～６のいずれか１項に記載のガラス板。
  8. 　前記ガラス板の反りの絶対値が、２００μｍ以下である、請求項１～７のいずれか１項に記載のガラス板。
  9. 　請求項１～８のいずれか１項に記載のガラス板と、
    　前記ガラス板の前記第１主面に形成される反射防止層とを備え、
    　前記第１主面の側から光を入射したときのヘイズが２．０％以下である、反射防止層付きガラス板。
  10. 　請求項１～８のいずれか１項に記載のガラス板を製造する方法であって、
    　第１主面と、前記第１主面に対向する第２主面とを備えるガラス板の、前記第１主面に、ウェットブラスト処理を行う工程を備える、ガラス板の製造方法。
  11. 　前記ウェットブラスト処理において、前記ガラス板の表面に対する、砥粒を含むスラリーの噴射角度が２５°～８０°である、請求項１０に記載のガラス板の製造方法。
  12. 　前記ウェットブラスト処理において、砥粒がアルミナであり、砥粒の平均粒子径が４μｍ以下である、請求項１０または１１に記載のガラス板の製造方法。
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