CN109511264A - 多次甲基化合物 - Google Patents

Abstract

下述通式(I)所示的多次甲基化合物。(R¹～R⁷表示氢原子、C1～30烃基等；R⁵及R⁹表示氢原子、C1～30烃基等；R⁸表示C1～20卤代烷基、C6～20芳基等；X表示＞CR¹⁰R¹¹、氧原子或硫原子、或＞NR¹²；R¹⁰及R¹¹表示氢原子、C1～30烃基等；R¹²表示氢原子、C1～30烃基等；m为1～6；m＝1时，A不存在，m≥2时，A表示直接键合、氮原子、＞NR¹³、氧原子、硫原子、‑SO₂‑、‑SO‑、磷原子、＞PR¹³、E^m+、L^m‑或特定的有机基团；在m≥2且A不为E^m+或L^m‑的情况下，A以将R¹～R⁹所示的基团的氢原子取代的形式连结)。

Description

多次甲基化合物

技术领域

本发明涉及具有特定结构的多次甲基化合物。

背景技术

多次甲基化合物作为光吸收剂、增感剂、染料等，被广泛用于在显示器或光学透镜中使用的光学膜及光学滤波器、感光照相材料、染物、涂料、油墨、电子照相感光体、调色剂、热敏记录纸、转印带、光学记录色素、太阳能电池、光电转换元件、半导体材料、临床检查试剂、激光治疗用色素、染色等中。

专利文献1中公开了含有次甲基色素化合物的卤化银照片感光材料，专利文献2中公开了多次甲基化合物以及使用了该化合物的光学滤波器及光学记录材料，专利文献3中公开了含有多次甲基化合物的光电转换元件，专利文献4中公开了酸部花青色素。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2003-057777号公报

专利文献2：日本特开2008-222991号公报

专利文献3：美国专利申请公开第2013/0087682号说明书

专利文献4：美国专利第2526632号说明书

发明内容

然而，专利文献1～4中记载的化合物的耐光性及耐热性不充分。

本发明的目的在于提供耐光性及耐热性优异的多次甲基化合物。

本发明人等反复进行了深入研究，结果发现具有特定结构的多次甲基化合物能够实现上述目的，从而完成了本发明。

本发明是基于上述见解而完成的，提供下述通式(I)所示的多次甲基化合物。

[化学式1]

(式中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷分别独立地表示氢原子、羟基、硝基、氰基、卤素原子、羧基、磺酸基、磺酰胺基、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团或金属茂基，

R⁵及R⁹分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～30的烃基、或含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

R⁸为碳原子数为1～20的卤代烷基、碳原子数为6～20的芳基、或被羟基、硝基、氰基、卤素原子、羧基、磺酸基、磺酰胺基或氟代烷基取代的碳原子数为6～20的芳基，

X表示＞CR¹⁰R¹¹、氧原子、硫原子或＞NR¹²，

R¹⁰及R¹¹分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团或金属茂基，

R¹²表示氢原子、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹、R¹⁰、R¹¹及R¹²所示的基团中的亚甲基也可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-COS-、-OCS-、-SO₂-、-SO₃-、-NH-、-CONH-、-NHCO-、-SO₂NH-、-NH-SO₂-、-N＝CH-、-CH＝CH-、或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹、R¹⁰、R¹¹及R¹²所示的基团的烷基部分可为分支侧链或环状烷基，也可以具有取代基，

R¹与R²、R²与R³、R³与R⁴、R⁴与R⁵、R¹⁰与R¹¹及R¹²与R¹可分别键合而形成环，所形成的环也可以具有取代基，

m为1～6的整数，

m≥2时，多个存在的R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹及X可分别相同，也可分别不同，

m＝1时，A不存在，m≥2时，A表示直接键合、氮原子、＞NR¹³、氧原子、硫原子、-SO₂-、-SO-、磷原子、＞PR¹³、E^m+、L^m-、或者下述(i)、(ii)、(iii)、(iv)或(v)中所示的任一种连接基团，

R¹³表示氢原子或碳原子数为1～30的烃基，

R¹³所示的碳原子数为1～30的烃基中的亚甲基也可以被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-、或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

E^m+表示m价的阳离子，L^m-表示m价的阴离子，

在m≥2且A不为E^m+或L^m-的情况下，A以将R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸或R⁹所示的基团的氢原子取代的形式连结。)

(i)m＝2时，A可以为下述式(α)所示的连接基团。

[化学式2]

*-Z¹-X¹-Z²-* (α)

(式中，X¹表示＞NR¹⁴、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团、或者下述(α-1)、(α-2)或(α-3)所示的基团，

Z¹及Z²分别独立地表示直接键合、-O-、-S-、-SO₂-、-SO-、＞NR¹⁴或＞PR¹⁵，

R¹⁴及R¹⁵分别独立地表示氢原子或碳原子数为1～30的烃基，

R¹⁴及R¹⁵所示的基团中的亚甲基可被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

其中，上述式(α)所示的基团的碳原子数在1～35的范围内，式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

[化学式3]

(式中，R²¹表示被碳原子数为1～30的烃基或碳原子数为1～10的烷氧基取代的苯基，R²²表示碳原子数为1～10的烷氧基、碳原子数为1～30的烃基或卤素原子，

上述碳原子数为1～30的烃基及碳原子数为1～10的烷氧基的氢原子可被卤素原子取代，

d为0～4的整数，

式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

[化学式4]

(式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

[化学式5]

(式中，R²³及R²⁴分别独立地表示碳原子数为1～30的烃基、碳原子数为6～20的芳氧基、碳原子数为6～20的芳基硫基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团或卤素原子，

R²³及R²⁴所示的基团中的氢原子可被卤素原子取代，

R²³及R²⁴所示的基团中的亚甲基可被不饱和键、-O-、-S-、或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

关于R²³，相邻的R²³彼此可键合而形成环，

e表示0～4的数，f表示0～8的数，g表示0～4的数，h表示0～4的数，g与h的数的合计为2～4，

式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

(ii)m＝3时，A可为下述式(β)所示的连接基团。

[化学式6]

(式中，X²表示碳原子数为1～30的烃基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

X²所示的基团中的亚甲基也可以被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-、-O-CONH-、-NHCO-O-或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

Z¹、Z²及Z³分别独立地与上述式(α)中的Z¹及Z²所示的基团相同，

其中，上述通式(β)所示的基团的碳原子数在1～35的范围内，式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

(iii)m＝4时，A为下述式(γ)所示的连接基团。

[化学式7]

(式中，X³表示碳原子、碳原子数为1～30的烃基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

X³所示的基团中的亚甲基也可以被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-、-O-CONH-、-NHCO-O-或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

Z¹、Z²、Z³及Z⁴分别独立地与上述式(α)中的Z¹及Z²所示的基团相同。

其中，上述通式(γ)所示的基团的碳原子数在1～35的范围内，式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

(iv)m＝5时，A为下述式(δ)所示的连接基团。

[化学式8]

(式中，X⁴表示碳原子数为1～30的烃基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

X⁴所示的基团中的亚甲基也可以被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-、-O-CONH-、-NHCO-O-或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

Z¹、Z²、Z³、Z⁴及Z⁵分别独立地与上述式(α)中的Z¹及Z²所示的基团相同，

其中，上述通式(δ)所示的基团的碳原子数在2～35的范围内，式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

(v)m＝6时，A为下述式(ε)所示的连接基团。

[化学式9]

(式中，X⁵表示碳原子数为1～30的烃基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

X⁵所示的基团中的亚甲基也可以被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-、-O-CONH-、-NHCO-O-或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

Z¹、Z²、Z³、Z⁴、Z⁵及Z⁶分别独立地与上述式(α)中的Z¹和Z²所示的基团相同，

其中，上述通式(ε)所示的基团的碳原子数在2～35的范围内，式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

另外，本发明提供下述通式(II)所示的上述多次甲基化合物。

[化学式10]

(式中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹及X与上述通式(I)相同。)

另外，本发明提供下述通式(III)所示的上述多次甲基化合物。

[化学式11]

(式中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹及X与上述通式(I)相同，X¹、Z¹及Z²与上述通式(α)相同。)

另外，本发明提供上述通式(I)、(II)及(III)中的R⁹为下述式(ζ)所示的基团的上述多次甲基化合物。

[化学式12]

(式中，R³¹、R³²、R³³、R³⁴及R³⁵分别独立地表示氢原子、羟基、硝基、氰基、卤素原子、羧基、磺酸基、-SO₂NR³⁶R³⁷、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团或金属茂基，

R³¹、R³²、R³³、R³⁴及R³⁵中的一个以上为-SO₂NR³⁶R³⁷，

R³⁶及R³⁷分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团或金属茂基，

R³¹、R³²、R³³、R³⁴、R³⁵、R³⁶及R³⁷所示的基团中的亚甲基也可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-COS-、-OCS-、-SO₂-、-SO₃-、-NH-、-CONH-、-NHCO-、-SO₂NH-、-NH-SO₂-、-N＝CH-、-CH＝CH-、或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

R³¹、R³²、R³³、R³⁴、R³⁵、R³⁶及R³⁷所示的基团的烷基部分可为分支侧链或环状烷基，也可以具有取代基，

R³¹与R³²、R³²与R³³、R³³与R³⁴、R³⁴与R³⁵及R³⁶与R³⁷可分别键合而形成环，所形成的环也可以具有取代基。)

另外，本发明提供含有上述多次甲基化合物的组合物以及使用了该组合物的光学膜及光学滤波器。

具体实施方式

以下，基于优选的实施方式对本发明的多次甲基化合物进行说明。

本发明的多次甲基化合物具有上述通式(I)所示的结构。

作为R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的卤素原子，可举出氟、氯、溴、碘。

R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基没有特别限定，优选为碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为3～20的环烷基、碳原子数为4～20的环烷基烷基、碳原子数为6～30的芳基、碳原子数为7～30的芳基烷基、碳原子数为8～30的芳基烯基等，从吸光度高的方面出发，更优选碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为2～10的烯基、碳原子数为3～10的环烷基、碳原子数为4～10的环烷基烷基、碳原子数为6～10的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为8～20的芳基烯基。

作为上述碳原子数为1～20的烷基，可举出例如：甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、异戊基、叔戊基、己基、庚基、辛基、异辛基、2-乙基己基、叔辛基、壬基、异壬基、癸基、异癸基、十一烷基、十二烷基、十四烷基、十六烷基、十八烷基及二十烷基等，作为上述碳原子数为1～10的烷基，可举出例如：甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、异戊基、叔戊基、己基、庚基、辛基、异辛基、2-乙基己基、叔辛基、壬基、异壬基、癸基及异癸基等。

作为上述碳原子数为2～20的烯基，可举出例如：乙烯基、2-丙烯基、3-丁烯基、2-丁烯基、4-戊烯基、3-戊烯基、2-己烯基、3-己烯基、5-己烯基、2-庚烯基、3-庚烯基、4-庚烯基、3-辛烯基、3-壬烯基、4-癸烯基、3-十一碳烯基、4-十二碳烯基、3-环己烯基、2，5-环己二烯基-1-甲基、以及4，8，12-十四碳三烯基烯丙基等，作为上述碳原子数为2～10的烯基，可举出例如：乙烯基、2-丙烯基、3-丁烯基、2-丁烯基、4-戊烯基、3-戊烯基、2-己烯基、3-己烯基、5-己烯基、2-庚烯基、3-庚烯基、4-庚烯基、3-辛烯基、3-壬烯基以及4-癸烯基等。

上述碳原子数为3～20的环烷基是指整体具有3～20个碳原子的饱和单环式或饱和多环式烷基。可举出例如：环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基、金刚烷基、十氢萘基、八氢并环戊二烯、二环[1.1.1]戊基、及十四氢蒽基等，作为上述碳原子数为3～10的环烷基，可举出例如：环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基、金刚烷基、十氢萘基、八氢并环戊二烯及二环[1.1.1]戊基等。

上述碳原子数为4～20的环烷基烷基是指烷基的氢原子被环烷基取代而成的、整体具有4～20个碳原子的基团。可举出例如：环丙基甲基、环丁基甲基、环戊基甲基、环己基甲基、环庚基甲基、环辛基甲基、环壬基甲基、环癸基甲基、2-环丁基乙基、2-环戊基乙基、2-环己基乙基、2-环庚基乙基、2-环辛基乙基、2-环壬基乙基、2-环癸基乙基、3-环丁基丙基、3-环戊基丙基、3-环己基丙基、3-环庚基丙基、3-环辛基丙基、3-环壬基丙基、3-环癸基丙基、4-环丁基丁基、4-环戊基丁基、4-环己基丁基、4-环庚基丁基、4-环辛基丁基、4-环壬基丁基、4-环癸基丁基、3-3-金刚烷基丙基及十氢萘基丙基等，作为上述碳原子数为4～10的环烷基烷基，可举出例如：环丙基甲基、环丁基甲基、环戊基甲基、环己基甲基、环庚基甲基、环辛基甲基、环壬基甲基、2-环丁基乙基、2-环戊基乙基、2-环己基乙基、2-环庚基乙基、2-环辛基乙基、3-环丁基丙基、3-环戊基丙基、3-环己基丙基、3-环庚基丙基、4-环丁基丁基、4-环戊基丁基、4-环己基丁基、二环[1.1.0]丁基、二环[1.1.1]戊基、二环[2.1.0]戊基、二环[3.1.0]己基、二环[2.1.1]己基、二环[2.2.0]己基、二环[4.1.0]庚基、二环[3.2.0]庚基、二环[3.1.1]庚基、二环[2.2.1]庚基、二环[5.1.0]辛基、二环[4.2.0]辛基、二环[4.1.1]辛基、二环[3.3.0]辛基、二环[3.2.1]辛基、二环[2.2.2]辛基、螺[4，4]壬基、螺[4，5]癸基、十氢化萘、三环癸基、四环十二烷基、及雪松醇、环十二烷基等。

作为上述碳原子数为6～30的芳基，可以举出例如：苯基、甲苯基、二甲苯基、乙基苯基、萘基、蒽基及菲基等、被上述烷基、上述烯基、羧基、卤素原子等取代了1个以上的苯基、联苯基、萘基、蒽基，例如，4-氯苯基、4-羧基苯基、4-乙烯基苯基、4-甲基苯基、2，4，6-三甲基苯基等单环或稠环结构的芳香族系烃环或其连结结构，作为上述碳原子数为6～10的芳基，可举出例如：苯基、甲苯基、二甲苯基、乙基苯基及萘基等、被上述烷基、上述烯基、羧基、卤素原子等取代了1个以上的苯基、联苯基及萘基等，例如4-氯苯基、4-羧基苯基、4-乙烯基苯基、4-甲基苯基、2，4，6-三甲基苯基等单环或稠环结构的芳香族系烃环或其连结结构。

上述碳原子数为7～30的芳基烷基是指烷基的氢原子被芳基取代的、整体具有7～30个碳原子的基团，可举出例如：苄基、α-甲基苄基、α、α-二甲基苄基、2-苯基乙基、2-苯基丙基、3-苯基丙基、二苯基甲基、三苯基甲基、三苯基丙基及萘基丙基等，上述碳原子数为7～20的芳基烷基是指烷基的氢原子被芳基取代的、整体具有7～20个碳原子的基团，可举出例如：苄基、α-甲基苄基、α，α-二甲基苄基二甲基苄基、2-苯基乙基、2-苯基丙基、3-苯基丙基、二苯基甲基、三苯基甲基及萘基丙基等。

上述碳原子数为8～30的芳基烯基是指烯基的氢原子被芳基取代的、整体具有8～30个碳原子的基团，可举出例如：苯乙烯基、肉桂基、2-苯基-2-丙烯基、3-苯基-2-丙烯基、2-苯基-4-戊烯基、2-苯基-4-己烯基、2，2-二苯基乙烯基、3，3-苯基-2-丙烯基、2-萘基-2-丙烯基、3-萘基-2-丙烯基、3-萘基-2-苯基-2-丙烯基、5-蒽基-2-苯基-4-己烯基以及5-蒽基-2-萘基-4-己烯基等，上述碳原子数为8～20的芳基烯基是指烯基的氢原子被芳基取代的、整体具有8～20个碳原子的基团，可举出例如：苯乙烯基、肉桂基、2-苯基-2-丙烯基、3-苯基-2-丙烯基、2-苯基-4-戊烯基、2-苯基-4-己烯基、2，2-二苯基乙烯基、3，3-苯基-2-丙烯基、2-萘基-2-丙烯基、3-萘基-2-丙烯基、及3-萘基-2-苯基-2-丙烯基等。

R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的含有杂环的碳原子数为2～20的基团是指含有至少一个杂环的碳原子数为2～20的基团，碳原子数是指基团整体的碳原子数。在以下的说明中，在规定了含有杂环的基团的碳原子数的情况下，全部是指基团整体的碳原子数。作为上述含有杂环的碳原子数为2～20的基团，可举出例如：吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、哌嗪基、哌啶基、吡喃基、吡唑基、三嗪基、吡咯烷基、喹啉基、异喹啉基、咪唑基、苯并咪唑基、三唑基、呋喃基、呋喃基、苯并呋喃基、噻吩基、硫代苯基、苯并硫代苯基、噻二唑基、噻唑基、苯并噻唑基、噁唑基、苯并噁唑基、异噻唑基、异噁唑基、吲哚基、久洛尼定基、吗啉基、硫代吗啉基、2-吡咯烷酮-1-基、2-哌啶酮-1-基、2，4-二氧咪唑烷-3-基、2，4-二氧噁唑烷-3-基等单环或稠环结构的杂环或其连结结构。

上述碳原子数为1～30的烃基或上述含有杂环的碳原子数为2～20的基团可以具有下述取代基。

上述碳原子数为1～30的烃基为碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为3～20的环烷基或碳原子数为4～20的环烷基烷基时，作为取代基，可举出以下例示的取代基中的除烷基、芳基烷基以外的取代基。

上述碳原子数为1～30的烃基为碳原子数为6～30的芳基时，作为取代基，优选作为单环或稠环结构的芳香族系烃环(仅指环结构的部分。以下，在“芳香族系烃环”中相同。)或其连结结构的取代基，可举出以下例示的取代基中的除芳基以外的取代基。

上述碳原子数为1～30的烃基为碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为7～30的芳基烷基或碳原子数为8～30的芳基烯基时，作为优选的取代基，下述例示中，也可举出单环或稠环结构的芳香族系烃环或其连结结构所结合的烷基。

其中，以下例示的取代基中，烷基、芳基烷基、芳基烯基在碳原子数为7～30的芳基烷基或碳原子数为8～30的芳基烯基的芳香族系烃环上进行取代。

作为含有杂环的碳原子数为2～20的取代基，可举出以下例示的取代基中的除含有杂环的基团以外的取代基。

需要说明的是，上述碳原子数为1～30的烃基或上述含有杂环的碳原子数为2～20的基团具有以下的取代基中的含有碳原子的取代基的情况下，包含该取代基的整体的碳原子数满足规定的范围。即，碳原子数为1～30的烃基具有含有碳原子的取代基的情况下的碳原子数的范围以包含取代基的整体计为1～30，含有杂环的碳原子数为2～20的基团具有含有碳原子的取代基的情况下的碳原子数的范围以包含取代基的整体计为2～30，另外，例如，碳原子数为1～20的烷基具有含有碳原子的取代基的情况下的碳原子数的范围以包含取代基的整体计为1～20。

作为上述取代基，可举出例如：甲基、乙基、丙基、异丙基、环丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、戊基、异戊基、叔戊基、环戊基、己基、2-己基、2-乙基己基、3-己基(或己烷-3-基)、环己基、双环己基、1-甲基环己基、庚基、2-庚基、3庚基、异庚基、叔庚基、正辛基、异辛基、叔辛基、壬基、异壬基、癸基、月桂基等烷基；甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异丁氧基、戊氧基、异戊氧基、叔戊氧基、己氧基、环己氧基、庚氧基、异庚氧基、叔庚氧基、正辛氧基、异辛氧基、叔辛氧基、2-乙基己氧基、壬氧基、癸氧基等烷氧基；甲硫基、乙硫基、丙硫基、异丙硫基、丁硫基、仲丁硫基、叔丁硫基、异丁硫基、戊硫基、异戊硫基、叔戊硫基、己硫基、环己硫基、庚硫基、异庚硫基、叔庚硫基、正辛硫基、异辛硫基、叔辛硫基、2-乙基己硫基等烷硫基；乙烯基、1-甲基乙烯基、2-甲基乙烯基、2-丙烯基、1-甲基-3-丙烯基(或1-甲基-2-丙烯基)、3-丁烯基、1-甲基-3-丁烯基、异丁烯基、3-戊烯基、4-己烯基、环己烯基、二环己烯基、庚烯基、辛烯基、癸烯基、十五碳烯基、二十碳烯基及二十三碳烯基等烯基；苄基、苯乙基、二苯基甲基、三苯基甲基、苯乙烯基、肉桂基等芳烷基；苯基、萘基等芳基；苯氧基、萘氧基等芳氧基；苯基硫基、萘基硫基等芳基硫基；吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、哌啶基、吡喃基、吡唑基、三嗪基、吡咯基、喹啉基、异喹啉基、咪唑基、苯并咪唑基、三唑基、呋喃基、呋喃基、苯并呋喃基、噻吩基、苯硫基、苯并苯硫基、噻二唑基、噻唑基、苯并噻唑基、噁唑基、苯并噁唑基、异噻唑基、异噁唑基、吲哚基、2-吡咯烷酮-1-基、2-哌啶酮-1-基、2，4-二氧咪唑烷-3-基、2，4-二氧噁唑烷-3-基等含有杂环的基团；氟、氯、溴、碘等卤素原子；乙酰基、2-氯乙酰基、丙酰基、辛酰基、苯基羰基(苯甲酰基)、苯二甲酰基、4-三氟甲基苯甲酰基、三甲基乙酰基、水杨酰基、草酰基、硬脂酰基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、叔丁氧基羰基、正十八烷氧基羰基、氨基甲酰基等酰基；乙酰氧基、苯甲酰氧基等酰氧基；氨基、乙基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、丁基氨基、环戊基氨基、2-乙基己基氨基、十二烷基氨基、苯胺基、氯苯基氨基、甲苯胺基、茴香胺基、N-甲基-苯胺基、二苯基氨基、萘基氨基、2-吡啶基氨基、甲氧基羰基氨基、苯氧基羰基氨基、乙酰基氨基、苯甲酰基氨基、甲酰氨基、三甲基乙酰氨基、月桂酰基氨基、氨基甲酰基氨基、N，N-二甲基氨基羰基氨基、N，N-二乙基氨基羰基氨基、吗啉基羰基氨基、甲氧基羰基氨基、乙氧基羰基氨基、叔丁氧基羰基氨基、正十八烷氧基羰基氨基、N-甲基-甲氧基羰基氨基、苯氧基羰基氨基、氨磺酰氨基、N，N-二甲基氨基磺酰氨基、甲基磺酰氨基、丁基磺酰氨基、苯基磺酰氨基等取代氨基；磺酰胺基、含磺酰基的基团、羧酸基、氰基、磺酸基、羟基、硝基、巯基、亚胺基、氨基甲酰基、磷酸基等，这些基团可以进一步被取代。

另外，上述羧酸基、磺酸基及磷酸基等酸性基也可以与各种阳离子形成盐，上述取代氨基(例如二乙基氨基、二甲基氨基)也可以在季铵化后，例如用甲基、乙基等碳原子数为1～10的烷基季铵化后，与各种阴离子形成盐。作为上述阳离子，可以举出碱金属离子、碱土类金属离子、过渡金属阳离子、碳原子数为4以上的铵、脒鎓、胍鎓阳离子等，作为阴离子，例如，作为一价的阴离子，可以举出氯离子、溴离子、碘离子、氟离子等卤化物离子；高氯酸根离子、氯酸根离子、硫代氰酸根离子、六氟磷酸根离子、六氟锑酸根离子、四氟硼酸根离子等无机系阴离子；甲磺酸根离子、十二烷基磺酸根离子、苯磺酸根离子、甲苯磺酸根离子、三氟甲磺酸根离子、五氟苯磺酸根离子、二苯基胺-4-磺酸根离子、2-氨基-4-甲基-5-氯苯磺酸根离子、2-氨基-5-硝基苯磺酸根离子、酞菁磺酸根离子、全氟-4-乙基环己烷磺酸根离子、萘单磺酸、萘二磺酸、萘三磺酸、萘基胺单磺酸、萘基胺二磺酸、萘基胺三磺酸、萘酚单磺酸、萘酚二磺酸、萘酚三磺酸等有机磺酸系阴离子；硫代氰酸根离子、磷钨钼酸根离子、磷钨酸根离子、磷钼酸根离子、单宁酸根离子、酒石酸根离子、棕榈酸根离子、硬脂酸根离子、油酸根离子、亚油酸根离子、辛基磷酸根离子、十二烷基磷酸根离子、十八烷基磷酸根离子、苯基磷酸根离子、壬基苯基磷酸根离子、2，2’-亚甲基双(4，6-二叔丁基苯基)膦酸根离子等有机磷酸系阴离子、双三氟甲磺酰亚胺离子、双全氟丁烷磺酰亚胺离子、四(五氟苯基)硼酸根离子、三(氟烷基磺酰基)碳阴离子、四(五氟苯基)硼酸盐阴离子等。

作为R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的金属茂基，可举出二茂铁基、二茂镍基、二茂钴基、二茂铁烷基、及二茂铁烷氧基。

作为R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷，特别优选氢原子或下述式所示的基团。

[化学式13]

(式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

R⁵及R⁹所示的碳原子数为1～30的烃基及含有杂环的碳原子数为2～20的基团分别与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基及含有杂环的碳原子数为2～20的基团相同。

作为R⁵，特别优选下述式所示的基团。

[化学式14]

(式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

作为R⁹，特别优选下述式所示的基团。

[化学式15]

(式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

R⁸所示的碳原子数为1～20的卤代烷基是指上述碳原子数为1～20的烷基中的一个以上的氢原子被卤素原子取代的基团，可举出例如：氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、五氟乙基、4-三氟甲基苯基及4-三氟甲基苯甲酰基等。

R⁸所示的碳原子数为6～20的芳基与作为碳原子数为1～30的烃基的例子叙述的上述碳原子数为6～20的芳基相同。

可对R⁸所示的碳原子数为6～20的芳基进行取代的卤素原子与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的卤素原子相同。

作为可对R⁸所示的碳原子数为6～20的芳基进行取代的氟代烷基，可举出氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、五氟乙基等。

作为R⁸，特别优选下述式所示的基团。

[化学式16]

(式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

R¹⁰及R¹¹所示的碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团及金属茂基分别与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团及金属茂基相同。

作为＞CR¹⁰R¹¹，特别优选下述式所示的基团。

[化学式17]

(式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

R¹²所示的碳原子数为1～30的烃基及含有杂环的碳原子数为2～20的基团分别与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基及含有杂环的碳原子数为2～20的基团相同。

作为＞NR¹²，特别优选＞N-Me。

作为R¹与R²、R²与R³、R³与R⁴、R⁴与R⁵、R¹⁰与R¹¹、R¹²与R¹键合而形成的环结构，可举出环戊烷环、环己烷环及环庚烷环等碳原子数为5～10的脂肪族环、苯环、萘环和蒽环等碳原子数为6～16的芳香族环、哌啶环、哌嗪环、吡咯烷环、吗啉环、硫代吗啉环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、哒嗪环、三嗪环、喹啉环、异喹啉环、咪唑环、噁唑环、咪唑烷环、吡唑烷环、异噁唑烷环、亚氨基噁唑烷环、异噻唑烷环、罗丹宁环、硫代噁唑烷酮环、乙内酰硫脲环、茚满二酮环、硫茚环、吡唑啉酮环、吡啶酮环、吡唑烷二酮环、罗丹宁环、巴比妥酸环、硫代巴比妥酸环、噁唑酮环、乙内酰脲、乙内酰硫脲环、琥珀酰亚胺环及马来酰亚胺环等碳原子数为2～20的杂环，这些环也可以与其他环稠合，另外，可以具有与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基等同样的取代基。

R¹³所示的碳原子数为1～30的烃基与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基相同。

本发明中，关于“A以将R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸或R⁹所示的基团的氢原子取代的形式连接”，在R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、及R⁹为氢原子的情况下，是指以将该氢原子取代的形式连结。在R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷及R⁹为碳原子数为1～30的烃基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团的情况下，是指以将这些基团中所含的氢原子取代的形式连结。在R⁸为卤代烷基、碳原子数为6～20的芳基、或被羟基、硝基、氰基、卤素原子、羧基、磺酸基、磺酰胺基或氟代烷基取代的碳原子数为6～20的芳基的情况下，是指以将这些基团中所含的氢原子取代的形式连结。

在本发明的通式(I)所示的多次甲基化合物中，在m为2～6的整数的情况下，A可以以将多个通式(I)所示的多次甲基化合物的相同取代基的氢原子取代的形式连结，也可以以将不同取代基的氢原子取代的形式连结，但是，优选以将相同取代基的氢原子取代的形式连结。具体而言，在m为2的化合物的情况下，A可以以将一个通式(I)所示的多次甲基化合物的R⁵所示的基团的氢原子取代、将另一个通式(I)所示的多次甲基化合物的R⁵所示的基团的氢原子取代的形式，将2个通式(I)所示的多次甲基化合物连结。另外，A可以以将一个通式(I)所示的多次甲基化合物的R⁵所示的基团的氢原子取代、将另一个通式(I)所示的多次甲基化合物的R⁹所示的基团的氢原子取代的形式，将2个通式(I)所示的多次甲基化合物连结。

式(α)中，X¹所示的碳原子数为1～30的烃基及含有杂环的碳原子数为2～20的基团分别是从R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基及含有杂环的碳原子数为2～20的基团中除去1个任意的氢原子而衍生的2价基团。

式(α)中，R¹⁴及R¹⁵所示的碳原子数为1～30的烃基与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基相同。

式(α-1)中，R²¹及R²²所示的碳原子数为1～30的烃基与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基相同。

式(α-1)中，作为R²¹所示的基团中的碳原子数为1～10的烷氧基及R²²所示的基团中的碳原子数为1～10的烷氧基，可举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异丁氧基、戊氧基、异戊氧基、叔戊氧基、己氧基、环己氧基、庚氧基、异庚氧基、叔庚氧基、正辛氧基、异辛氧基、叔辛氧基、2-乙基己氧基、壬氧基、癸氧基等。

式(α-1)中的卤素原子与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的卤素原子相同。

上述通式(α-3)中，R²³及R²⁴所示的碳原子数为1～30的烃基及含有杂环的碳原子数为2～20的基团分别与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团相同。

上述通式(α-3)中的卤素原子均与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的卤素原子相同。

作为R²³及R²⁴所示的碳原子数为6～20的芳氧基，可举出苯基氧基、萘氧基、2-甲基苯基氧基、3-甲基苯基氧基、4-甲基苯基氧基、4-乙烯基苯基二氧基、3-异丙基苯基氧基、4-异丙基苯基氧基、4-丁基苯基氧基、4-叔丁基苯基氧基、4-己基苯基氧基、4-环己基苯基氧基、4-辛基苯基氧基、4-(2-乙基己基)苯基氧基、2，3-二甲基苯基氧基、2，4-二甲基苯基氧基、2，5-二甲基苯基氧基、2，6-二甲基苯基氧基、3，4-二甲基苯基氧基、3，5-二甲基苯基氧基、2，4-二叔丁基苯基氧基、2，5-二叔丁基苯基氧基、2，6-二叔丁基苯基氧基、2，4-二异戊基苯基氧基、2，5-叔戊基苯基氧基、4-环己基苯基氧基、2，4，5-三甲基苯基氧基、二茂铁基氧基等基团及这些基团被卤素原子取代而成的基团，

作为碳原子数为6～20的芳硫基，可举出将上述碳原子数为6～20的芳氧基的氧原子取代成硫原子而成的基团等。

上述式(α-3)中的R²³彼此键合而形成的环结构与R¹与R²、R²与R³、R³与R⁴、R⁴与R⁵、R¹⁰与R¹¹、R¹²与R¹键合而形成的环结构相同。

作为式(α)所示的基团，特别优选下述式所示的基团。

[化学式18]

(式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

上述式(β)、(γ)、(δ)及(ε)中，X²、X³、X⁴或X⁵所示的碳原子数为1～30的烃基分别为从R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基除去2个、3个、4个或5个任意的氢原子而衍生的3价、4价、5价或6价的烃基。同样地，X²、X³、X⁴或X⁵所示的含有杂环的碳原子数为2～20的基团分别为从R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的含有杂环的碳原子数为2～20的基团中除去2个、3个、4个或5个任意的氢原子而衍生的3价、4价、5价或6价的基团。

作为式(β)所示的基团，特别优选下述式所示的基团。

[化学式19]

(式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

作为式(γ)所示的基团，特别优选下述式所示的基团。

[化学式20]

(式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

式(ζ)中，R³¹、R³²、R³³、R³⁴及R³⁵所示的卤素原子与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的卤素原子相同。

R³¹、R³²、R³³、R³⁴、R³⁵、R³⁶及R³⁷所示的碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团及金属茂基分别与R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷所示的碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团及金属茂基相同。

R³¹与R³²、R³²与R³³、R³³与R³⁴、R³⁴与R³⁵及R³⁶与R³⁷键合而形成的环结构与R¹与R²、R²与R³、R³与R⁴、R⁴与R⁵、R¹⁰与R¹¹、R¹²与R¹键合而形成的环结构相同。

作为式(ζ)所示的基团，特别优选下述式所示的基团。

[化学式21]

(式中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。)

上述通式(I)或式(ζ)中，作为R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁹、R¹⁰、R¹¹、R¹²、或R³¹、R³²、R³³、R³⁴、R³⁵、R³⁶、R³⁷所示的碳原子数为1～30的烃基，优选为无取代的基团；被氟、氯、溴等卤素原子、取代氨基、磺酰胺基、磺酰基、羧基、氰基、磺酸基、羟基、硝基、巯基、亚胺基、氨基甲酰基、磷酸基等取代的基团；烷基中的亚甲基被-SO₂NH-、-NHSO₂-、-O-、-OCO-、-NHCO-或-CONH-取代的基团；以下说明的烷基(包含具有取代基的烷基)的末端甲基形成盐的基团。

在上述通式(I)或式(ζ)中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁹、R¹⁰、R¹¹、R¹²、R³¹、R³²、R³³、R³⁴、R³⁵、R³⁶、R³⁷所示的碳原子数为1～30的烃基的末端甲基可以具有由羧基、磺酸基及磷酸基等酸性基团与各种阳离子形成了盐的取代基，或者，可以具有将取代氨基季铵化后与各种阴离子形成了盐的取代基。

在这样的形成了盐的取代基中，作为与酸性基团形成盐的阳离子，可举出锂、钠、钾等碱金属离子、镁、钙、锶、钡等碱土金属离子、铝等典型金属离子、锌、镍、钴、铜、钒等过渡金属阳离子、碳原子数为4以上的铵等，作为与季铵化的取代氨基形成盐的阴离子，作为一价的离子，可举出氯离子、溴离子、碘离子、氟离子等卤化物离子；高氯酸根离子、六氟磷酸根离子、六氟锑酸根离子、四氟硼酸根离子等无机系阴离子；甲磺酸根离子、十二烷基磺酸根离子等有机磺酸系阴离子；磷钼酸根离子等杂多酸根离子、双三氟甲磺酰亚胺离子、双全氟丁烷磺酰亚胺离子、四(五氟苯基)硼酸根离子、三(氟烷基磺酰基)碳阴离子、四(五氟苯基)硼酸盐阴离子等。

上述形成了盐的取代基可以使用将酸性染料色淀化的沉淀剂、或将碱性染料色淀化的沉淀剂而获得。作为上述将酸性染料色淀化的沉淀剂，可以使用例如氯化钡、氯化铝、碱土金属盐、锰盐、钠盐等，作为上述将碱性染料色淀化的沉淀剂，可使用磷钨钼酸、磷钨酸、磷钼酸、硅钨钼酸、硅钼酸、单宁酸、酒石酸、高岭土、绿土、高级脂肪酸等，在水溶液或水分散液中根据需要进行加热、过滤而得到。

本发明的多次甲基化合物在上述通式(I)中的A为E^m+的情况下，m≥2，且通式(I)中的除A以外的部分成为m个一价的阴离子，这些阴离子成为与作为E^m+的m价的阳离子键合的状态。就后述的例示化合物而言，No.64～No.69是符合的。

关于E^m+所示的m价的阳离子，作为2价的阳离子，可以举出镁、钙、锶、钡等碱土金属离子；锌、铜、镍等过渡金属阳离子等，作为3价的阳离子，可以举出铝等典型金属离子；钴、铁等过渡金属阳离子等，作为4价以上的阳离子，可以举出锰等过渡金属阳离子等。

本发明的多次甲基化合物在上述通式(I)中的A为L^m-的情况下，m≥2且通式(I)中的除A以外的部分成为m个一价阳离子，这些阳离子成为与L^m-即m价阴离子键合的状态。就后述的例示化合物而言，化合物No.70～No.75是符合的。

关于L^m-所示的m价阴离子，作为2价的阴离子，可举出钨酸根离子、钼酸根离子(MoO₄ ^2-)、铬酸根离子等，作为3价的阴离子，可举出磷钼酸根离子、磷钨酸根离子、磷钨钼酸根离子、钒酸根离子等，作为4价的阴离子，可举出硅钨酸根离子等，作为5价以上的阴离子，可举出磷钒钼酸根离子、钼酸根离子(Mo₇O₂₄ ^6-)等。

需要说明的是，上述通式(I)所示的本发明的多次甲基化合物可以采用下述通式所示的结构，可以是任一个结构式，另外，可以将由任一个结构式所示的结构异构体分离使用，或者也可以以它们的混合物的形式使用。进而，在下述通式中，NR⁵基和R⁶基团相对于双键成为顺式配置(Z配置)，但这些基团成为反式配置(E配置)的化合物也包含在本发明的多次甲基化合物中。上述通式(I)被定义为包含起因于这些碳-碳双键的全部几何异构体的通式。

[化学式22]

(式中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹及X与上述通式(I)相同。)另外，在上述通式(II)及(III)以及后述的通式(IV)中，也与上述通式(I)同样地，存在相对于双键分别采取顺式配置(Z配置)或反式配置(E配置)的几何异构体，但本发明的多次甲基化合物不区分这些化合物，被定义为包含起因于这些碳-碳双键的全部几何异构体的化合物。

作为上述通式(I)所示的本发明的多次甲基化合物的具体例，可举出下述化合物No.1～No.75。

[化学式23]

[化学式24]

[化学式25]

[化学式26]

[化学式27]

[化学式28]

[化学式29]

[化学式30]

[化学式31]

[化学式32]

[化学式33]

[化学式34]

[化学式35]

[化学式36]

[化学式37]

[化学式38]

[化学式39]

[化学式40]

[化学式41]

本发明的多次甲基化合物中，上述通式(II)所示的多次甲基化合物在溶剂中的溶解性或分散性优异，因此优选。

上述通式(III)所示的多次甲基化合物由于升华性低，因而优选。

另外，下述通式(IV)所示的多次甲基化合物由于升华性低，因而优选。

[化学式42]

(式中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸及X与上述通式(I)相同，X¹、Z¹及Z²与上述通式(α)相同。)

上述通式(I)～(III)中的R⁹为上述式(ζ)所示的基团的多次甲基化合物显示出适当的吸收波长区域，因此优选作为红色的辅助着色剂。吸收波长区域优选为450～550nm，更优选为500～550nm。

上述通式(I)～(IV)中的R⁸为三氟甲基或4-硝基苯基的化合物由于耐光性及耐热性特别优异，因此优选。

上述通式(I)～(IV)中的X为＞CR¹⁰R¹¹或硫原子的化合物由于耐光性及耐热性优异，因此优选，特别是＞CR¹⁰R¹¹更优选。进而，CR¹⁰R¹¹中的R¹⁰及R¹¹为甲基的化合物由于耐热性特别优异，因此更优选。

通式(I)所示的多次甲基化合物中，m为1的化合物由于在溶剂中的溶解性或分散性优异，因此优选。另外，通式(I)所示的多次甲基化合物中，m为2的化合物由于升华性低，因此优选。

上述通式(I)所示的本发明的多次甲基化合物其制造方法没有特别限定，可以通过利用公知通常的反应的方法得到。该化合物例如在m＝1的情况下，如下述反应式1所示，可以通过使具有活性亚甲基的化合物与假吲哚季盐和脒化合物的反应产物反应的方法来合成。

[化学式43]

反应式1

(式中，R⁴¹、R⁴²及R⁴³表示氢原子、碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为6～30的芳基、碳原子数为7～30的芳基烷基或碳原子数为8～30的芳基烯基，An^q-表示q价的阴离子，q为1或2，p表示保持电荷为中性的系数，

R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹及X与上述通式(I)相同。)

另外，在m＝2、A为上述通式(α)所示的连接基团且与R⁵连接的情况下，如下述反应式2所示，可以使烷基二卤化物与2当量的假吲哚季盐反应，接着与上述反应式1同样地合成。

m＝3以上的多次甲基化合物即便在A与R⁵以外连接的情况下，也可以按照下述反应式2所示的路线合成。

[化学式44]

(式中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹及X与上述通式(I)相同，X¹、Z¹及Z²与上述式(α)相同，R⁴¹、R⁴²、R⁴³、An^q-、q及p与上述反应式1相同，X*为卤素原子。)

本发明的多次甲基化合物作为光吸收剂、增感剂、染料等，可用于光学膜、光学滤波器、感光照相材料、染物、涂料、油墨、电子照相感光体、调色剂、热敏记录纸、转印带、光学记录色素、太阳能电池、光电转换元件、半导体材料、临床检查试剂、激光治疗用色素、染色等用途。本发明的多次甲基化合物特别适合作为在光学膜或光学滤波器中使用的光吸收剂。

本发明的组合物含有本发明的多次甲基化合物，用于上述各种用途。本发明的组合物通常除了本发明的多次甲基化合物以外，还含有根据用途的树脂。

在本发明的组合物中，除此之外，还可以根据用途以必要量进一步含有必要成分、和例如后述的有机溶剂、除本发明的多次甲基化合物以外的光吸收剂、各种稳定剂等任选成分等。

在本发明的组合物中，本发明的多次甲基化合物和上述粘合剂树脂等的使用量没有特别限制，可以根据用途适当决定。

接着，对光学膜及光学滤波器进行说明。

本发明的光学膜及光学滤波器例如可以作为防反射膜、相位差膜、偏振膜、取向膜、保护膜、视角提高膜、增亮膜、遮光膜、电磁波屏蔽膜等光学膜，或者作为低通滤波器、彩色滤波器等光学滤波器，用于图像显示装置的显示器或光学透镜等中，除了使用含有本发明的多次甲基化合物的本发明的组合物来制作这一点以外，可以与以往的光学膜及光学滤波器同样。

以下对作为本发明的多次甲基化合物的用途之一的光学滤波器进行详细说明。

本发明的光学滤波器是使用本发明的组合物而制作的，具有由该组合物构成的层。由该组合物构成的层可以是后述的各层中的任一层。在制作本发明的光学滤波器时，本发明的组合物中通常配合粘合剂树脂。该粘合剂树脂根据由本发明的组合物构成的层的种类而不同，作为代表例，可举出例如：明胶、酪蛋白、淀粉、纤维素衍生物、海藻酸等天然高分子材料、或者聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯醇、聚氯乙烯、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚苯乙烯、聚酯、聚醚、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚氨酯、三聚氰胺树脂、环状烯烃树脂等合成高分子材料、后述的粘合剂等。

在本发明的光学滤波器、特别是图像显示用光学滤波器中，本发明的多次甲基化合物的使用量相对于光学滤波器的每单位面积通常为1～1000mg/m²，优选为5～100mg/m²的范围。在小于1mg/m²的使用量的情况下，无法充分发挥光吸收效果，在使用超过1000mg/m²的情况下，有可能滤波器的色调变得过强而使显示品质等降低，进而，亮度也有可能降低。需要说明的是，在本发明的多次甲基化合物为多种的混合物的情况下，本发明的多次甲基化合物的使用量为其合计量。

制造本发明的光学滤波器时，本发明的组合物中本发明的多次甲基化合物及上述粘合剂树脂等的使用量没有限制，通常如下所述。例如，如后所述，在制造具有由本发明的组合物构成的粘合层的本发明的光学滤波器的情况下，按照相对于作为上述粘合剂树脂的粘合剂的固体成分100质量份，本发明的多次甲基化合物为0.0001～50质量份、优选为0.001～5.0质量份、及甲乙酮等溶剂为0.1～1000质量份、优选为1.0～500质量份的方式制备粘合剂溶液(涂布液)，将该粘合剂溶液涂布于进行了易粘合处理的PET膜等透明支撑体上后，使其干燥，得到具有厚度为2～400μm、优选为5～40μm的粘合层的本发明的光学滤波器。进而，在使本发明的组合物中含有除本发明的多次甲基化合物以外的其他光吸收剂、各种稳定剂等任选成分等的情况下，或利用本发明的组合物构成除粘合层以外的层的情况下，各成分的配合比例按照上述的配合比例即可。

本发明的光学滤波器在用于图像显示装置的显示器的情况下，通常配置在显示器的前表面。例如，本发明的光学滤波器可以直接粘贴在显示器的表面上，在显示器前面设置有前面板的情况下，也可以粘贴在前面板的表侧(外侧)或背侧(显示器侧)。

作为本发明的光学滤波器的构成，可举出在透明支撑体上设置有光学滤波器层、底涂层、防反射层、硬涂层、润滑层、粘合层等任选的各层的构成。例如，可以设为使本发明的多次甲基化合物含在透明支撑体、或底涂层、防反射层、硬涂层、润滑层、粘合层等层的任一者中的构成，也可以设为具有与这些层不同的含有本发明的多次甲基化合物的颜色修正层的构成。作为本发明的光学滤波器的构成，在粘合层中含有本发明的多次甲基化合物的构成能削减制造工序，能廉价地制造层叠的光学滤波器，因此是优选的。

上述粘合层由上述粘合剂形成。作为上述粘合剂，可使用例如：硅系、聚氨酯系、丙烯酸系等粘合剂、聚乙烯醇缩丁醛系粘合剂、聚乙烯醚系粘合剂、乙烯-乙酸乙烯酯系粘合剂、聚烯烃系粘合剂、SBR系粘合剂、橡胶系粘合剂等公知的夹层玻璃用透明粘合剂，其中，优选使用丙烯酸系粘合剂，特别优选使用酸性丙烯酸系粘合剂。

作为上述丙烯酸系粘合剂，没有特别限定，可以使用具有羧基、羟基、酰胺基、氨基、环氧基等反应性官能团和烯键式不饱和双键的单体的均聚物、或将多种组合而成的共聚物、或者上述具有反应性官能团和烯键式不饱和双键的单体与(甲基)丙烯酸系单体或乙烯基系单体那样的具有烯键式不饱和双键的单体的共聚物，根据需要，为了提高粘合剂的凝聚力，可以使用含有金属螯合物系化合物、异氰酸酯系化合物、三聚氰胺化合物、环氧系化合物、胺系化合物、氮丙啶系化合物、噁唑啉化合物等交联剂的物质作为作为固化剂。

作为上述丙烯酸系粘合剂，可以使用市售的粘合剂，可以举出例如：DB bond 5541(Diabond公司制)、SK Dyne AS-1925、KP-2230、SK-1811L(综研化学公司)、DX2-PDP-19(日本触媒公司制)、AT-3001(Saiden化学公司制)、ORIBAIN BPS5896(东洋油墨公司制)、CS-9611(日东电工公司制)等。

在具有上述粘合层的本发明的光学滤波器的制造中，在使本发明的多次甲基化合物、本发明的多次甲基化合物以外的其他光吸收剂、各种稳定剂等任选成分含有在从透明支撑体和任意的各层中选择的任意的相邻的两者间的粘合层中的情况下，使本发明的多次甲基化合物等含在粘合剂中而制成本发明的组合物后，将该组合物作为粘合剂使用，将透明支撑体与任意的各层中的相邻的两者粘接即可。进而，也可以在粘合层的表面设置易密合的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等公知的隔离膜。

另外，作为上述透明支撑体的材料，可举出例如：玻璃等无机材料；二乙酰纤维素、三乙酰纤维素(TAC)、丙酰基纤维素、丁酰基纤维素、乙酰基丙酰基纤维素、硝基纤维素等纤维素酯；聚酰胺；聚碳酸酯；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚-1，4-环己烷二甲醇对苯二甲酸酯、聚乙烯-1，2-二苯氧基乙烷-4，4’-二羧酸酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯；聚苯乙烯；聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯等聚烯烃；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系树脂；聚碳酸酯；聚砜；聚醚砜；聚醚酮；聚醚酰亚胺；聚氧乙烯、降冰片烯树脂等高分子材料。透明支撑体的透射率优选为80％以上，更优选为86％以上。雾度优选为2％以下，更优选为1％以下。折射率优选为1.45～1.70。

在上述透明支撑体中，可以添加本发明的多次甲基化合物以外的其他光吸收剂、红外线吸收剂、紫外线吸收剂、荧光消光剂、酚系、磷系、硫系等抗氧化剂、阻燃剂、润滑剂、抗静电剂、无机微粒、耐光性赋予剂、芳香族亚硝基化合物、铵化合物、亚铵化合物、过渡金属螯合物、粘土矿物等，另外，也可以对上述透明支撑体实施各种表面处理。

作为本发明的多次甲基化合物以外的其他光吸收剂，例如，在将光学滤波器用于图像显示装置用途的情况下，可举出用于色调调整的光吸收剂、用于防止外光的反射或映入的光吸收剂，在图像显示装置为等离子体显示器的情况下，可举出用于防止红外遥控误工作的光吸收剂。

作为上述用于色调调整的上述光吸收剂，作为用于除去波长为450～620nm的橙色光的光吸收剂，可以举出：三次甲基吲哚鎓化合物、三次甲基苯并噁唑鎓化合物、三次甲基苯并噻唑鎓化合物等三次甲基花青衍生物；五次甲基噁唑鎓化合物、五次甲基噻唑鎓化合物等五次甲基花青衍生物；方酸内鎓色素衍生物；偶氮次甲基色素衍生物；呫吨色素衍生物；偶氮色素衍生物；氧杂菁色素衍生物；苯亚甲基色素衍生物；吡咯亚甲基色素衍生物；偶氮金属络合物衍生物：若丹明色素衍生物；酞菁衍生物；卟啉衍生物；二吡咯亚甲基金属螯合物等。

作为上述用于防止外光的反射或映入的光吸收剂(对应于波长480～500nm)，可以举出：三次甲基吲哚鎓化合物、三次甲基噁唑鎓化合物、三次甲基噻唑鎓化合物、亚吲哚基三次甲基噻唑鎓化合物等三次甲基花青衍生物；酞菁衍生物；萘菁衍生物；卟啉衍生物；二吡咯亚甲基金属螯合物化合物等。

作为上述用于防止红外遥控误工作的光吸收剂(对应于波长750～1100nm)，可举出二亚铵化合物；五次甲基苯并吲哚鎓化合物、五次甲基苯并噁唑鎓化合物、五次甲基苯并噻唑鎓化合物等五次甲基花青衍生物；七次甲基吲哚鎓化合物、七次甲基苯并吲哚鎓化合物、七次甲基噁唑鎓化合物、七次甲基苯并噻唑鎓化合物、七次甲基噻唑鎓化合物、七次甲基苯并噻唑鎓化合物等七次甲基花青衍生物；方酸内鎓衍生物；双(芪二硫醇)化合物、双(苯二硫醇)镍化合物、双(樟脑二硫醇)镍化合物等镍络合物；方酸内鎓衍生物；偶氮色素衍生物；酞菁衍生物；卟啉衍生物；二吡咯亚甲基金属螯合物化合物等。

另外，作为能添加到上述透明支撑体中的上述无机微粒，可举出例如：二氧化硅、二氧化钛、硫酸钡、碳酸钙、滑石、高岭土等。

作为可以对上述透明支撑体实施的上述各种表面处理，例如可举出药剂处理、机械处理、电晕放电处理、火焰处理、紫外线照射处理、高频处理、辉光放电处理、活性等离子体处理、激光处理、混酸处理、臭氧氧化处理等。

可设置在本发明的光学滤波器中的上述底涂层是在设置与任意的各层不同的含有光吸收剂的光学滤波器层的情况下在透明支撑体与光学滤波器层之间使用的层。上述底涂层形成为包含玻璃化转变温度为-60～60℃的聚合物的层、光学滤波器层侧的表面为粗糙面的层、或包含与光学滤波器层的聚合物具有亲和性的聚合物的层。另外，底涂层可以设置在未设置光学滤波器层的透明支撑体的面上，为了改善透明支撑体与设置在其上的层(例如，防反射层、硬涂层)的粘接力而设置，也可以为了改善用于将光学滤波器与图像显示装置粘接的粘接剂与光学滤波器的亲和性而设置。底涂层的厚度优选为2nm～20μm，更优选为5nm～5μm，进一步优选为20nm～2μm，进一步优选为50nm～1μm，最优选为80nm～300nm。包含玻璃化转变温度为-60～60℃的聚合物的底涂层通过聚合物的粘合性将透明支撑体与光学滤波器层粘接。玻璃化转变温度为-60～60℃的聚合物例如可以通过氯乙烯、偏氯乙烯、乙酸乙烯酯、丁二烯、氯丁橡胶、苯乙烯、氯丁二烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯腈或甲基乙烯基醚的聚合或它们的共聚而得到。玻璃化转变温度优选为50℃以下，更优选为40℃以下，进一步优选为30℃以下，进一步优选为25℃以下，最优选为20℃以下。底涂层在25℃下的弹性模量优选为1～1000MPa，更优选为5～800MPa，最优选为10～500MPa。光学滤波器层的表面为粗糙面的底涂层通过在粗糙面上形成光学滤波器层，粘接透明支撑体与光学滤波器层。光学滤波器层的表面为粗糙面的底涂层可以通过聚合物胶乳的涂布而容易地形成。胶乳的平均粒径优选为0.02～3μm，更优选为0.05～1μm。作为与光学滤波器层的粘合剂聚合物具有亲和性的聚合物，可以举出丙烯酸树脂、纤维素衍生物、海藻酸、明胶、酪蛋白、淀粉、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯基吡咯烷酮、可溶性尼龙以及高分子胶乳等。另外，在本发明的光学滤波器中，也可以设置两层以上的底涂层。底涂层中可以添加使透明支撑体溶胀的溶剂、消光剂、表面活性剂、抗静电剂、涂布助剂、硬膜剂等。

可在本发明的光学滤波器中设置的上述防反射层中，低折射率层是必须的。低折射率层的折射率低于上述透明支撑体的折射率。低折射率层的折射率优选为1.20～1.55，更优选为1.30～1.50。低折射率层的厚度优选为50～400nm，更优选为50～200nm。低折射率层以由折射率低的含氟聚合物形成的层(记载在日本特开昭57-34526号、日本特开平3-130103号、日本特开平6-115023号、日本特开平8-313702号、日本特开平7-168004号的各公报中)、通过溶胶-凝胶法得到的层(记载在日本特开平5-208811号、日本特开平6-299091号、日本特开平7-168003号的各公报中)、或者含有微粒的层(记载在日本特公昭60-59250号、日本特开平5-13021号、日本特开平6-56478号、日本特开平7-92306号、日本特开平9-288201号的各公报中)的形式形成。在含有微粒的层中，可以以微粒间或微粒内的微孔的形式在低折射率层中形成空隙。含有微粒的层优选具有3～50体积％的空隙率，更优选具有5～35体积％的空隙率。

为了防止宽的波长区域的反射，优选在上述防反射层中，在低折射率层的基础上层叠折射率高的层(中、高折射率层)。高折射率层的折射率优选为1.65～2.40，更优选为1.70～2.20。中折射率层的折射率以成为低折射率层的折射率与高折射率层的折射率的中间的值的方式进行调整。中折射率层的折射率优选为1.50～1.90，更优选为1.55～1.70。中、高折射率层的厚度优选为5nm～100μm，更优选为10nm～10μm，最优选为30nm～1μm。中、高折射率层的雾度优选为5％以下，更优选为3％以下，最优选为1％以下。中、高折射率层可以使用具有比较高的折射率的聚合物粘合剂形成。作为折射率高的聚合物，可以举出聚苯乙烯、苯乙烯共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰胺、三聚氰胺树脂、酚醛树脂、环氧树脂、通过环状(脂环式或芳香族)异氰酸酯与多元醇的反应而得到的聚氨酯等。其他的具有环状(芳香族、杂环式、脂环式)基的聚合物、具有除氟以外的卤素原子作为取代基的聚合物的折射率也高。也可以使用通过导入双键而能够进行自由基固化的单体的聚合反应而形成的聚合物。

为了得到更高的折射率，也可以在上述聚合物粘合剂中分散无机微粒。无机微粒的折射率优选1.80～2.80。无机微粒优选由金属的氧化物或硫化物形成。作为金属的氧化物或硫化物，可以举出氧化钛(例如，金红石、金红石/锐钛矿的混晶、锐钛矿、无定形结构)、氧化锡、氧化铟、氧化锌、氧化锆、硫化锌等。其中，特别优选氧化钛、氧化锡及氧化铟。无机微粒以这些金属的氧化物或硫化物为主要成分，还可以含有其他元素。主成分是指构成粒子的成分中含量(质量％)最多的成分。作为其他元素，可以举出Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S等。也可以使用能够通过覆膜形成性分散于溶剂中或其自身为液状的无机材料、例如各种元素的醇盐、有机酸的盐、与配位性化合物结合而成的配位化合物(例如螯合物化合物)、活性无机聚合物，形成中、高折射率层。

在上述防反射层的表面，可以赋予防眩功能(使入射光在表面散射，防止膜周围的景色转移到膜表面的功能)。例如，在透明膜的表面形成微细的凹凸，在其表面形成防反射层，或者在形成防反射层后，利用压花辊在表面形成凹凸，由此能够得到具有防眩功能的防反射层。具有防眩功能的防反射层通常具有3～30％的雾度。

可在本发明的光学滤波器中设置的上述硬涂层具有比上述透明支撑体的硬度高的硬度。硬涂层优选含有交联的聚合物。硬涂层可以使用丙烯酸系、氨基甲酸酯系、环氧系的聚合物、低聚物或单体(例如紫外线固化型树脂)等形成。也可以由二氧化硅系材料形成硬涂层。

在上述防反射层(低折射率层)的表面可以形成润滑层。润滑层具有对低折射率层表面赋予滑动性、改善耐损伤性的功能。润滑层可以使用聚有机硅氧烷(例如硅油)、天然蜡、石油蜡、高级脂肪酸金属盐、氟系润滑剂或其衍生物形成。润滑层的厚度优选为2～20nm。

在上述各层中使用聚合物或粘合剂树脂时，也可以同时使用有机溶剂，作为该有机溶剂，没有特别限定，可以适当使用公知的各种溶剂，例如可举出异丙醇等醇类；甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、丁基二甘醇等醚醇类；丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、二丙酮醇等酮类、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸甲氧基乙酯等酯类；丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯等丙烯酸酯类、2，2，3，3-四氟丙醇等氟化醇类；己烷、苯、甲苯、二甲苯等烃类；二氯甲烷、二氯乙烷、氯仿等氯化烃类等。这些有机溶剂可以单独使用或混合使用。

另外，上述的底涂层、防反射层、硬涂层、润滑层、光学滤波器层等可以通过通常的涂布方法形成。作为涂布方法，可以举出浸涂法、气刀涂布法、帘式涂布法、辊涂法、线棒涂布法、凹版涂布法、使用料斗的挤出涂布法(记载在美国专利第2681294号说明书中)等。也可以通过同时涂布来形成两层以上的层。关于同时涂布法，记载于美国专利第2761791号、美国专利第2941898号、美国专利第3508947号、美国专利第3526528号的各说明书及原崎勇次著“涂布工学”第253页(1973年朝仓书店发行)中。

在光学滤波器的制作中，在通过涂布而应用本发明的组合物的情况下，使本发明的组合物含有有机溶剂而将本发明的组合物制成涂布液。包含本发明的多次甲基化合物、粘合剂树脂、有机溶剂及本发明的多次甲基化合物以外的光吸收剂、各种稳定剂等任选成分等的涂布液的浓度(固体成分)优选为1～50质量％，特别优选为10～30质量％。

实施例

以下，举出实施例和比较例对本发明进行更详细的说明，但本发明并不限定于这些实施例等。

[实施例1]化合物No.1的制造

化合物No.1及其中间体的制造如下所示。

＜步骤1；中间体1A的制造方法＞

在烧瓶中加入(4-硝基苯甲酰基)乙酸乙酯(156.6g、0.66mol)、4-肼基苯磺酰胺盐酸盐(147.63g、0.66mol)、吡啶(475.60g)，在100℃下搅拌2小时后，向其中滴加甲醇并将析出的固体过滤，在减压下在120度下除去溶剂，得到180.60g的中间体1A(收率75.9％)。

[化学式45]

中间体1A

＜步骤2；中间体1B的制造＞

向2L烧瓶中加入1，1，2，3-四甲基-1H-苯并[e]吲哚鎓碘化物(245.86g，0.7mol)、N，N’-二苯基甲脒(164.85g，0.84mol)，BuOH(636.1g)，在内温85℃下进行3小时反应。用HPLC确认反应完成，滴加水(12.6g、0.7mol)，搅拌30分钟后，向其中滴加乙酸乙酯并将析出的固体过滤，在减压下、在80℃下干燥，得到262.1g的中间体1B(收率82.4％)。

[化学式46]

中间体1B

＜步骤3；化合物No.1的制造＞

向2L烧瓶中加入中间体1B(113.6g、0.25mol)和吡啶(736g)并搅拌后，在常温下向其中滴加乙酸酐(38g、0.375mol)，在50℃下进行1小时搅拌。向其中加入中间体1A(90.1g、0.25mol)，反应3小时后，进行油水分离(氯仿/水)，向取出的水层中滴加盐酸直至成为酸性，进行过滤，得到目标物80.7g(收率54.4％)。

[实施例2～11]化合物No.2～7及No.43～46的制造

使用对应的中间体，通过与实施例1同样的制造方法得到化合物No.2～7及43～46。

对于在实施例1～11中分别得到的化合物No.1～No.7、No.43～No.46及比较化合物No.1、No.2、No.3，进行以下的分析。另外，比较化合物No.1～No.3的结构如下所示。

[化学式47]

比较化合物No.1

[化学式48]

比较化合物No.2

[化学式49]

比较化合物No.3

＜最大吸收波长(λmax)和摩尔吸光系数(ε)＞

称量10mg化合物No.1～No.7或No.43～No.46，放入100ml量瓶中，向其中加入氯仿直至标线，用超声波振荡10分钟，得到均匀化的溶液。用移液管从得到的溶液中取出2ml，放入空的100ml量瓶中后，向其中加入氯仿直至标线，制备测定样品。

对于上述测定样品，用日本分光制U-3900进行下述测定。即，测定氯仿的基线后，将上述测定样品放入光路长度为1cm的石英池中，以0.5nm间隔以300nm/min对800～300nm的可见光区域进行吸光度测定，将在600～400nm下成为最大吸光度的波长作为λmax。另外，根据λmax的吸光度和其分子量，使用朗伯-比尔定律计算摩尔吸光系数ε。将结果示于表1。

＜分解温度＞

使用Seiko Instruments Inc.制造的差热同时热重量测定装置TG-DTA6200。在试样铝盘上称量2mg的化合物No.1～No.7或No.43～No.46，在氮气流200ml/min、升温速度10℃/min、测定温度范围35℃～550℃下进行测定。由得到的TG曲线的重量减少0％的切线和10％重量减少时的切线的交点算出分解温度。将结果示于表1。

<¹H-NMR>

将化合物分别溶解于氘代溶剂(DMSO-d6)中，测定¹H-NMR。将结果示于表2。

表1

表2-1

表2-2

〔评价例1〕

按照下述方法评价化合物No.3、No.4及比较化合物No.3的氧化电位。

结果示于表3中。

＜氧化电位测定＞

将高氯酸四丁基铵(Nacalai Tesque制造的用于极谱法的试剂)以0.1M的浓度溶解在脱水二氯甲烷中，在该溶液中以1.0×10^-3M溶解色素(化合物No.3、No.4或比较化合物No.3)。将5ml的该色素溶液加入到电化学单元中，安装Ag/AgCl参比电极和铂丝型对电极、铂作用极，利用BAS制电化学分析仪600C从-0.4V扫描至1.5V，求出氧化电位的峰值。

表3

由表3可知，本发明的多次甲基化合物(化合物No.3及No.4)与相当于通式(I)中的R⁸的基团为甲基的比较化合物(比较化合物No.3)相比，氧化电位更高。

[实施例12～21以及比较例1和2]

将化合物No.2～7或No.43～46或上述比较化合物No.1～No.3的0.5质量％丙酮溶液0.4g和聚甲基丙烯酸甲酯的25质量％甲苯溶液3.0g混合，进行15分钟超声波照射，制备了涂布液。将详情示于表4。

表4

	化合物名	涂布液
			实施例12	化合物No.2	涂布液No.1
实施例13	化合物No.3	涂布液No.2
			实施例14	化合物No.4	涂布液No.3
实施例15	化合物No.5	涂布液No.4
			实施例16	化合物No.6	涂布液No.5
实施例17	化合物No.7	涂布液No.6
			实施例18	化合物No.43	涂布液No.7
实施例19	化合物No.44	涂布液No.8
			实施例20	化合物No.45	涂布液No.9
实施例21	化合物No.46	涂布液No.10
			比较例1	比较化合物No.1	比较涂布液No.1
比较例2	比较化合物No.2	比较涂布液No.2
			比较例3	比较化合物No.3	比较涂布液No.3

利用棒涂机#30将上述得到的涂布液涂布在进行了易密合处理的188μm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上之后，在70℃下干燥15分钟，制作光学滤波器(膜厚7～8μm)。

〔评价例2〕

对上述光学滤波器进行以下的耐光性试验。

用氙气耐光性试验机(ATLAS制SUNTESTCPS+)对光学滤波器照射光48小时。测定光照射前后的光学滤波器的吸收极大波长下的吸光度，以初始值(光照射前)为100，算出光照射后的相对值(吸光度保持率)。优选吸光度保持率高。将结果示于表5。

表5

涂布液	化合物名	吸光度保持率(％)
			涂布液No.1	化合物No.2	88.3
涂布液No.2	化合物No.3	73.9
			涂布液No.3	化合物No.4	80.0
涂布液No.4	化合物No.5	63.6
			涂布液No.5	化合物No.6	54.0
涂布液No.6	化合物No.7	63.6
			涂布液No.7	化合物No.43	53.9
涂布液No.8	化合物No.44	87.6
			涂布液No.9	化合物No.45	97.0
涂布液No.10	化合物No.46	78.0
			比较涂布液No.1	比较化合物No.1	3.0
比较涂布液No.2	比较化合物No.2	43.1
			比较涂布液No.3	比较化合物No.3	42.8

由表5可知，本发明的光学滤波器的耐光性优异。

产业上的可利用性

根据本发明，能够提供耐光性及耐热性优异、适合光学膜及光学滤波器的多次甲基化合物。

Claims (7)

1.下述通式(I)所示的多次甲基化合物，

通式(I)中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁶及R⁷分别独立地表示氢原子、羟基、硝基、氰基、卤素原子、羧基、磺酸基、磺酰胺基、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团或金属茂基，

R⁵及R⁹分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～30的烃基、或含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

R⁸为碳原子数为1～20的卤代烷基、碳原子数为6～20的芳基、或被羟基、硝基、氰基、卤素原子、羧基、磺酸基、磺酰胺基或氟代烷基取代的碳原子数为6～20的芳基，

X表示＞CR¹⁰R¹¹、氧原子、硫原子或＞NR¹²，

R¹⁰及R¹¹分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团或金属茂基，

R¹²表示氢原子、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹、R¹⁰、R¹¹及R¹²所示的基团中的亚甲基也可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-COS-、-OCS-、-SO₂-、-SO₃-、-NH-、-CONH-、-NHCO-、-SO₂NH-、-NH-SO₂-、-N＝CH-、-CH＝CH-、或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹、R¹⁰、R¹¹及R¹²所示的基团的烷基部分可为分支侧链或环状烷基，也可以具有取代基，

R¹与R²、R²与R³、R³与R⁴、R⁴与R⁵、R¹⁰与R¹¹及R¹²与R¹可分别键合而形成环，所形成的环也可以具有取代基，

m为1～6的整数，

m≥2时，多个存在的R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹及X可分别相同，也可分别不同，

m＝1时，A不存在，m≥2时，A表示直接键合、氮原子、＞NR¹³、氧原子、硫原子、-SO₂-、-SO-、磷原子、＞PR¹³、E^m+、L^m-、或者下述(i)、(ii)、(iii)、(iv)或(v)中所示的任一种连接基团，

R¹³表示氢原子或碳原子数为1～30的烃基，

R¹³所示的碳原子数为1～30的烃基中的亚甲基也可以被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-、或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

E^m+表示m价的阳离子，L^m-表示m价的阴离子，

在m≥2且A不为E^m+或L^m-的情况下，A以将R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸或R⁹所示的基团的氢原子取代的形式连结，

(i)m＝2时，A可以为下述式(α)所示的连接基团，

*-Z¹-X¹-Z²-* (α)

式(α)中，X¹表示＞NR¹⁴、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团、或者下述(α-1)、(α-2)或(α-3)所示的基团，

Z¹及Z²分别独立地表示直接键合、-O-、-S-、-SO₂-、-SO-、＞NR¹⁴或＞PR¹⁵，

R¹⁴及R¹⁵分别独立地表示氢原子或碳原子数为1～30的烃基，

R¹⁴及R¹⁵所示的基团中的亚甲基可被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

其中，所述式(α)所示的基团的碳原子数在1～35的范围内，式(α)中的*是指在*部分处与相邻的基团键合，

式(α-1)中，R²¹表示被碳原子数为1～30的烃基或碳原子数为1～10的烷氧基取代的苯基，R²²表示碳原子数为1～10的烷氧基、碳原子数为1～30的烃基或卤素原子，

所述碳原子数为1～30的烃基及碳原子数为1～10的烷氧基的氢原子可被卤素原子取代，

d为0～4的整数，

式(α-1)中的*是指在*部分处与相邻的基团键合，

式(α-2)中的*是指在*部分处与相邻的基团键合，

式(α-3)中，R²³及R²⁴分别独立地表示碳原子数为1～30的烃基、碳原子数为6～20的芳氧基、碳原子数为6～20的芳基硫基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团或卤素原子，

R²³及R²⁴所示的基团中的氢原子可被卤素原子取代，

R²³及R²⁴所示的基团中的亚甲基可被不饱和键、-O-、-S-、或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

关于R²³，相邻的R²³彼此可键合而形成环，

e表示0～4的数，f表示0～8的数，g表示0～4的数，h表示0～4的数，g与h的数的合计为2～4，

式(α-3)中的*是指在*部分处与相邻的基团键合，

(ii)m＝3时，A可为下述式(β)所示的连接基团，

式(β)中，X²表示碳原子数为1～30的烃基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

X²所示的基团中的亚甲基也可以被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-、-O-CONH-、-NHCO-O-或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

Z¹、Z²及Z³分别独立地与所述式(α)中的Z¹及Z²所示的基团相同，

其中，所述通式(β)所示的基团的碳原子数在1～35的范围内，通式(β)中的*是指在*部分处与相邻的基团键合，

(iii)m＝4时，A为下述式(γ)所示的连接基团，

式(γ)中，X³表示碳原子、碳原子数为1～30的烃基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

X³所示的基团中的亚甲基也可以被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-、-O-CONH-、-NHCO-O-或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

Z¹、Z²、Z³及Z⁴分别独立地与所述式(α)中的Z¹及Z²所示的基团相同，

其中，所述通式(γ)所示的基团的碳原子数在1～35的范围内，通式(γ)中的*是指在*部分处与相邻的基团键合，

(iv)m＝5时，A为下述式(δ)所示的连接基团，

式(δ)中，X⁴表示碳原子数为1～30的烃基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

X⁴所示的基团中的亚甲基也可以被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-、-O-CONH-、-NHCO-O-或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

Z¹、Z²、Z³、Z⁴及Z⁵分别独立地与所述式(α)中的Z¹及Z²所示的基团相同，

其中，所述通式(δ)所示的基团的碳原子数在2～35的范围内，通式(δ)中的*是指在*部分处与相邻的基团键合，

(v)m＝6时，A为下述式(ε)所示的连接基团，

式(ε)中，X⁵表示碳原子数为1～30的烃基或含有杂环的碳原子数为2～20的基团，

X⁵所示的基团中的亚甲基也可以被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-、-CONH-、-O-CONH-、-NHCO-O-或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

Z¹、Z²、Z³、Z⁴、Z⁵及Z⁶分别独立地与所述式(α)中的Z¹及Z²所示的基团相同，

其中，所述通式(ε)所示的基团的碳原子数在2～35的范围内，通式(ε)中的*是指在*部分处与相邻的基团键合。

2.根据权利要求1所述的多次甲基化合物，其中，所述多次甲基化合物为下述通式(II)所示的多次甲基化合物，

通式(II)中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹及X与所述通式(I)相同。

3.根据权利要求1所述的多次甲基化合物，其中，所述多次甲基化合物为下述通式(III)所示的多次甲基化合物，

通式(III)中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹及X与所述通式(I)相同，X¹、Z¹及Z²与所述式(α)相同。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的多次甲基化合物，其中，通式(I)、(II)及通式(III)中的R⁹为下述式(ζ)所示的基团，

式(ζ)中，R³¹、R³²、R³³、R³⁴及R³⁵分别独立地表示氢原子、羟基、硝基、氰基、卤素原子、羧基、磺酸基、-SO₂NR³⁶R³⁷、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团或金属茂基，

R³¹、R³²、R³³、R³⁴及R³⁵中的一个以上为-SO₂NR³⁶R³⁷，

R³⁶及R³⁷分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～30的烃基、含有杂环的碳原子数为2～20的基团或金属茂基，

R³¹、R³²、R³³、R³⁴、R³⁵、R³⁶及R³⁷所示的基团中的亚甲基也可以被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-COS-、-OCS-、-SO₂-、-SO₃-、-NH-、-CONH-、-NHCO-、-SO₂NH-、-NH-SO₂-、-N＝CH-、-CH＝CH-、或将它们组合而成的基团在氧原子不相邻的条件下取代，

R³¹、R³²、R³³、R³⁴、R³⁵、R³⁶及R³⁷所示的基团的烷基部分可为分支侧链或环状烷基，也可以具有取代基，

R³¹与R³²、R³²与R³³、R³³与R³⁴、R³⁴与R³⁵及R³⁶与R³⁷可分别键合而形成环，所形成的环也可以具有取代基。

5.一种组合物，其含有权利要求1～4中任一项所述的多次甲基化合物。

6.一种光学膜，其使用了权利要求5所述的组合物。

7.一种光学滤波器，其使用了权利要求5所述的组合物。