CN109476898A - 树脂组合物 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题是提供可以形成具有优异的耐溶剂性、耐热性、透明性和平坦化性的固化膜的树脂组合物。解决手段是包含具有下述式(1)所示的结构单元和下述式(2)所示的结构单元的自交联性共聚物、和产酸剂的树脂组合物。(式中，R0表示氢原子或甲基，X表示单键或亚乙基氧基，R1表示单键或亚甲基，A1表示碳原子数5或6的环烷基或联苯基，A2表示环氧环己基或环氧基。)

Description

树脂组合物
技术领域
本发明涉及包含自交联性共聚物、产酸剂和溶剂的树脂组合物、以及由该树脂组合物形成的平坦化膜和微透镜。
背景技术
在制造CCD/CMOS图像传感器、液晶显示器、有机EL显示器等电子器件的工序中，通过溶剂、碱等进行浸渍处理，为了防止通过这样的处理而元件劣化或损伤，进行在元件表面设置对该处理具有耐性的固化膜的操作。对这样的固化膜要求具有透明性，耐热性和耐光性高，长期不发生着色等变质，耐溶剂性、耐碱性优异等性能(专利文献1)。进一步，近年来，由于CCD/CMOS图像传感器的高精细化，需要提高传感器灵敏度，因此在为了高效地从微透镜向受光部聚光而将固化膜形成在滤色器上等的情况下，也要求该固化膜可以将在基底基板上形成的高低差平坦化(专利文献2和专利文献3)。此外，也进行由这样的固化膜制作微透镜的操作。
作为CCD/CMOS图像传感器用微透镜的制作方法之一，已知回蚀法(专利文献4和专利文献5)。即，通过在形成在滤色器上的微透镜用树脂层上形成抗蚀剂图案，通过热处理使该抗蚀剂图案回流来形成透镜图案。以使该抗蚀剂图案回流而形成的透镜图案作为蚀刻掩模而将下层的微透镜用树脂层回蚀，将透镜图案形状转印于微透镜用树脂层从而制作微透镜。例如专利文献6～专利文献8中公开了微透镜形成所使用的树脂组合物。然而，都是感光性(放射线敏感性)树脂组合物，并且不能说是对于通过上述回蚀法而形成微透镜而言适合的材料。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第2921770号
专利文献2：日本特开2008-208235号公报
专利文献3：国际公开第2013/005619号
专利文献4：日本特开平1-10666号
专利文献5：日本特开平6-112459号公报
专利文献6：日本特开2006-251464号公报
专利文献7：日本特开2007-033518号公报
专利文献8：日本特开2007-171572号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明是鉴于上述情况而提出的，其目的是提供能够形成具有优异的耐溶剂性、耐热性、透明性和平坦化性的固化膜的树脂组合物。
用于解决课题的手段
本发明人等为了解决上述课题而进行了深入研究，结果，完成了本发明。即，本发明为一种树脂组合物，其包含自交联性共聚物、产酸剂、和溶剂，所述自交联性共聚物具有下述式(1)所示的结构单元和下述式(2)所示的结构单元。
(式中，R0表示氢原子或甲基，X表示单键或亚乙基氧基，R1表示单键或亚甲基，A1表示碳原子数5或6的环烷基或联苯基，A2表示环氧环己基或环氧基。)
上述式(1)所示的结构单元例如为下述式(1-1)、式(1-2)或式(1-3)所示的结构单元。
上述式(2)所示的结构单元例如为下述式(2-1)或式(2-2)所示的结构单元。
(式中，R0表示氢原子或甲基。)
本发明此外为一种基板的埋入方法，其中，将上述树脂组合物涂布于具有凹部或高低差的基板，在大气中在1×10-8Pa～9×104Pa的减压下，在50℃～200℃的温度下将涂布了该树脂组合物的基板减压烘烤10分钟～180分钟。
本发明此外为一种固化膜的制作方法，将上述树脂组合物涂布在基板上后，使用加热装置将涂布了上述树脂组合物的基板进行烘烤，然后进行曝光。在上述曝光后，可以使用加热装置再次进行烘烤。
发明的效果
本发明的树脂组合物由于该组合物所包含的共聚物为自交联型，因此不需要必定添加交联剂。此外，由于包含潜在性的酸，因此保存稳定性优异。进一步，由本发明的树脂组合物形成的树脂膜具有优异的透明性、耐溶剂性、和平坦性。因此，由本发明的树脂组合物形成的固化膜可以将在基底基板上形成的高低差平坦化。此外，在由本发明的树脂组合物形成固化膜后涂布抗蚀剂的情况下、和由本发明的树脂组合物形成平坦化膜或微透镜后进行电极/配线形成工序的情况下，可以使上述固化膜与抗蚀剂的混合、由有机溶剂引起的平坦化膜或微透镜的变形和剥离这样的问题也显著减少。因此，本发明的树脂组合物作为形成平坦化膜和微透镜的材料是适合的。
附图说明
图1是表示在高低差基板上涂布本发明的树脂组合物，进行烘烤而形成的固化膜的示意图。
具体实施方式
以下，说明本发明的各成分的详细情况。从本发明的树脂组合物除去溶剂后的固体成分通常为1质量％～80质量％。
本发明的树脂组合物包含具有上述式(1)所示的结构单元和上述式(2)所示的结构单元的自交联性共聚物、产酸剂和溶剂。
在上述共聚物的结构单元中，上述式(1)所示的结构单元的含量为10mol％～90mol％。
上述共聚物的重均分子量通常为1,000～80,000，优选为3,000～50,000。需要说明的是，重均分子量是通过凝胶渗透色谱(GPC)，使用聚苯乙烯作为标准试样而获得的值。
此外，本发明的树脂组合物中的上述共聚物的含量，基于该树脂组合物的固体成分中的含量通常为5质量％～99.999质量％，例如为80质量％～99.999质量％。
在本发明中，获得上述共聚物的方法没有特别限定，一般而言，通过使包含用于获得上述共聚物的单体种类的单体混合物在聚合溶剂中，在通常50℃～120℃的温度下进行聚合反应来获得。这样操作而获得的共聚物通常为溶解于溶剂中的溶液状态，也可以不进行分离而以该状态用于本发明的树脂组合物。
此外，可以通过将上述那样操作而获得的共聚物的溶液投入到进行了搅拌的己烷、乙醚、甲醇、水等不良溶剂中使该共聚物再沉淀，将生成的沉淀物过滤、洗涤后，在常压或减压下进行常温或加热干燥，来将该共聚物制成粉体。通过这样的操作，可以除去与上述共聚物共存的聚合引发剂、未反应化合物。在本发明中，可以直接使用上述共聚物的粉体，或也可以将该粉体再溶解于例如后述的溶剂而制成溶液的状态使用。
本发明的产酸剂是通过光或热而产生酸，通过酸的作用而使上述的环氧基进行阳离子聚合的催化剂。作为产酸剂，通常使用阳离子成分与阴离子成分成对的有机盐化合物、或磺酸酯。
作为上述阳离子成分，可举出例如，有机锍、有机氧有机铵、有机有机碘等有机阳离子。此外，作为上述阴离子成分，可举出例如，B(C6F5)4 -、SbF6 -、AsF6 -、PF6 -、PF3(C2F5)3 -、BF4 -、CF3SO3 -、C4F9SO3 -、C(CF3SO2)3 -。作为上述磺酸酯，可举出例如，具有CF3SO3基的酯、具有C4F9SO3基的酯。
作为产酸剂，可以举出例如，
CPI〔注册商标〕110P、CPI 110B、CPI 210S、CPI 100P、CPI 101A、CPI 200K、TA-60、TA-60B、TA-100、TA-120、TA-160(以上，サンアプロ(株)制)、
Irgacure〔注册商标〕250、Irgacure 270、Irgacure 290、CGITPS-C1、GSID-26-1(以上，BASF制)、
サンエイドSI-60L、サンエイドSI-80L、サンエイドSI-100L、サンエイドSI-110L、サンエイドSI-150L、サンエイドSI-180L、サンエイドSI-45、サンエイドSI-45L、サンエイドSI-60、サンエイドSI-80、サンエイドSI-100、サンエイドSI-110、サンエイドSI-150、サンエイドSI-180、サンエイドSI-B2、サンエイドSI-B2A、サンエイドSI-B3、サンエイドSI-B3A、サンエイドSI-B4、サンエイドSI-B5、サンエイドSI-200、サンエイドSI-210、サンエイドSI-220、サンエイドSI-300、サンエイドSI-360(以上，三新化学工业(株)制)、
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DPI-105、DPI-106、DPI-109、DPI-201、BI-105、MPI-105、MPI-106、MPI-109、BBI-102、BBI-103、BBI-105、BBI-106、BBI-109、BBI-110、BBI-200、BBI-201、BBI-300、BBI-301TPS-102、TPS-103、TPS-105、TPS-106、TPS-109、TPS-200、TPS-300、TPS-1000、HDS-109、MDS-103、MDS-105、MDS-205、MDS-209、BDS-109、MNPS-109、DTS-102、DTS-103、DTS-105、DTS-200、NDS-103、NDS-105、NDS-155、NDS-165、SI-105、NDI-105、NDI-109、NAI-105、NAI-109(以上，みどり化学(株)制)、
アデカアークルズ〔注册商标〕SP-056、アデカアークルズSP-066、アデカアークルズSP-140、アデカアークルズSP-141、アデカアークルズSP-082、アデカアークルズSP-601、アデカアークルズSP-606、アデカアークルズSP-701、アデカアークルズSP-150、アデカアークルズSP-170、アデカアークルズSP-171(以上，(株)ADEKA制)。
这些产酸剂可以单独使用或组合使用2种以上。
本发明的树脂组合物中的产酸剂的含量，基于该树脂组合物的固体成分中的含量通常为0.001质量％～20质量％，优选为0.001质量％～10质量％。
本发明的树脂组合物的调制方法没有特别限定，可举出例如，将上述共聚物溶解于溶剂，在该溶液中以规定的比例混合产酸剂，制成均匀的溶液的方法。进一步，可举出在该调制方法的适当阶段，根据需要，进一步添加其它添加剂并进行混合的方法。
作为上述溶剂，只要是溶解上述共聚物、产酸剂的溶剂，就没有特别限定。作为那样的溶剂，可以举出例如，乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二甘醇单甲基醚、二甘醇单乙基醚、丙二醇、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯、丙二醇单丁基醚、丙二醇单丁基醚乙酸酯、甲苯、二甲苯、甲基乙基酮、环戊酮、环己酮、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、丙酮酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、2-庚酮、γ-丁内酯。这些溶剂可以单独使用，也可以组合使用2种以上。
这些溶剂中，从将本发明的树脂组合物涂布在基板上而形成的涂膜的流平性的提高的观点考虑，优选为丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、2-庚酮、乳酸乙酯、乳酸丁酯、环戊酮和环己酮。
此外，在使涂布性提高的目的下，本发明的树脂组合物也可以含有表面活性剂。作为该表面活性剂，可以举出例如，聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯鲸蜡基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚类、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯烷基芳基醚类、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物类、失水山梨糖醇单月桂酸酯、失水山梨糖醇单棕榈酸酯、失水山梨糖醇单硬脂酸酯、失水山梨糖醇单油酸酯、失水山梨糖醇三油酸酯、失水山梨糖醇三硬脂酸酯等失水山梨糖醇脂肪酸酯类、聚氧乙烯失水山梨糖醇单月桂酸酯、聚氧乙烯失水山梨糖醇单棕榈酸酯、聚氧乙烯失水山梨糖醇单硬脂酸酯、聚氧乙烯失水山梨糖醇三油酸酯、聚氧乙烯失水山梨糖醇三硬脂酸酯等聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯类等非离子系表面活性剂、エフトップ〔注册商标〕EF301、エフトップEF303、エフトップEF352(以上，三菱マテリアル电子化成(株)制)、メガファック〔注册商标〕F171、メガファックF173、メガファックR-30、メガファックR-40、メガファックR-40-LM(以上，DIC(株)制)、フロラードFC430、フロラードFC431(以上，住友スリーエム(株)制)、アサヒガード〔注册商标〕AG710、サーフロン〔注册商标〕S-382、サーフロンSC101、サーフロンSC102、サーフロンSC103、サーフロンSC104、サーフロンSC105、サーフロンSC106(旭硝子(株)制)、DFX-18、FTX-206D、FTX-212D、FTX-218、FTX-220D、FTX-230D、FTX-240D、FTX-212P、FTX-220P、FTX-228P、FTX-240G等フタージェント系列((株)ネオス制)等氟系表面活性剂、有机硅氧烷聚合物KP341(信越化学工业(株)制)。这些表面活性剂可以单独使用或组合使用2种以上。
此外，在使用上述表面活性剂的情况下，在本发明的树脂组合物中的含量，基于该树脂组合物的固体成分中的含量为3质量％以下，优选为1质量％以下，更优选为0.5质量％以下。
此外，只要不损害本发明的效果，本发明的树脂组合物可以根据需要包含交联剂、固化助剂、紫外线吸收剂、敏化剂、增塑剂、抗氧化剂、密合助剂等添加剂。
作为上述交联剂，优选为具有至少2个环氧环的化合物、或具有至少1个氧杂环丁烷环的化合物。
作为上述具有至少2个环氧环的化合物，可以举出例如，双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、双酚AD型环氧树脂、双酚S型环氧树脂等双酚型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂等酚醛清漆型环氧树脂、芴型环氧树脂、三苯酚甲烷三缩水甘油基醚等芳香族环氧树脂、以及它们的氢化物和溴化物、
1,4-丁二醇二缩水甘油基醚、1,6-己二醇二缩水甘油基醚、新戊二醇二缩水甘油基醚、甘油二缩水甘油基醚、甘油三缩水甘油基醚、三羟甲基丙烷二缩水甘油基醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油基醚、季戊四醇四缩水甘油基醚、山梨糖醇四缩水甘油基醚、山梨糖醇聚缩水甘油基醚、包含聚乙烯等碳原子数为2～9(优选为2～4)的亚烷基的聚氧亚烷基二醇聚缩水甘油基醚、1,4-环己烷二甲醇二缩水甘油基醚、肌醇三缩水甘油基醚、肌醇聚缩水甘油基醚、2,2-双(羟基甲基)-1-丁醇的1,2-环氧-4-(2-环氧乙烷基)环己烷加成物等脂肪族环氧树脂、
3,4-环氧环己基甲基-3’,4’-环氧环己烷甲酸酯、3,4-环氧-2-甲基环己基甲基-3’,4’-环氧-2’-甲基环己烷甲酸酯、双(3,4-环氧环己基)己二酸酯、双(3,4-环氧环己基甲基己二酸酯、双(3,4-环氧-6-甲基环己基甲基)己二酸酯、2-(3,4-环氧环己基-5,5-螺-3,4-环氧环己酮-间二烷、双(2,3-环氧环戊基)醚、二环戊二烯二环氧化物、1,2：8,9-二环氧苧烯、(3,4,3’,4’-二环氧)联二环己烷、二环壬二烯二环氧化物、ε-己内酯改性3’,4’-环氧环己基甲基3,4-环氧环己烷甲酸酯、丁烷四甲酸四(3,4-环氧环己基甲基)酯修饰ε-己内酯、四氢茚二环氧化物等脂环式环氧树脂、
邻苯二甲酸二缩水甘油酯、四氢邻苯二甲酸二缩水甘油酯、六氢邻苯二甲酸二缩水甘油酯、对羟基苯甲酸二缩水甘油酯、水杨酸的缩水甘油基醚-缩水甘油基酯、二聚酸缩水甘油酯、富马酸二缩水甘油酯、马来酸二缩水甘油酯等缩水甘油酯型环氧树脂和它们的氢化物、
异氰脲酸单烯丙基二缩水甘油基酯、异氰脲酸三缩水甘油酯、异氰脲酸三(4,5-环氧戊基)酯、二(4,5-环氧戊基)乙内酰脲、四缩水甘油基甘脲等含氮环环氧树脂。
作为上述具有至少2个环氧环的化合物的市售品，可以举出例如，jER〔注册商标〕825、jER 827、jER 828、jER 828EL、jER 828US、jER 828XA、jER 834、jER 1001、jER 1002、jER 1003、jER 1055、jER 1004、jER 1004AF、jER 1007、jER 1009、jER 1010、jER 1003F、jER 1004F、jER 1005F、jER1009F、jER 1004FS、jER 1006FS、jER 1007FS、jER 834X90、jER1001B80、jER 1001X70、jER 1001X75、jER 1001T75、jER 806、jER 806H、jER 807、jER4004P、jER 4005P、jER 4007P、jER 4010P、jER 1256、jER 4250、jER 4275、jER 1256B40、jER 1255HX30、jER YX8100BH30、jER YX6954BH30、jER YX7200B35、jER 5046B80、jER 152、jER 154、jER157S70、jER 1031S、jER 1032H60、jER 604、jER 630、jER 630LSD、jER871、jER872、jER 872X75、jER 168V70、jER YL6810、jER YX7700、jER YX8000、jER YX8034、jERYX8800、jER YL980、jER YL983U、jER YX7105、jER YX7110B80、jER YX7400、jER YX4000、jER YX4000H、jER YL6121H(以上，三菱化学(株)制)、
NC-3000、NC-3000-L、NC-3000-H、NC-3000-FH-75M、NC-3100、CER-3000-L、NC-2000、NC-2000-L、XD-1000、NC-7000L、NC-7300、NC-7300L、EPPN-501、EPPN-501H、EPPN-501HY、EPPN-502、EPPN-502H、EOCN-1020、EOCN-102S、EOCN-103S、EOCN-104S、CER-1020、EPPN-201、EPPN-202、BREN-S、BREN-105、RE-303S-L、RE-310S、RE-602S、LCE-21(以上，日本化药(株)制)、
EPICLON〔注册商标〕840、EPICLON 840-S、EPICLON 850、EPICLON 850-S、EPICLON850-LC、EPICLON EXA-850CRP、EPICLON860、EPICLON 1051、EPICLON 1050、EPICLON 1055、EPICLON 2050、EPICLON 3050、EPICLON 4050、EPICLON 7050、EPICLON HM-091、EPICLONHM-101、EPICLON 830、EPICLON 830-S、EPICLON 835、EPICLON EXA-830CRP、EPICLON EXA-830LVP、EPICLON EXA-835LV、EPICLON 152、EPICLON 153、EPICLON N-660、EPICLON N-665、EPICLON N-670、EPICLON N-673、EPICLON N-680、EPICLON N-690、EPICLON N-695、EPICLONN-665-EXP、EPICLON N-672-EXP、EPICLON N-655-EXP-S、EPICLON N-662-EXP-S、EPICLONN-670-EXP-S、EPICLON N-685-EXP-S、EPICLON N-730A、EPICLON N-740、EPICLON N-770、EPICLON N-775、EPICLON N-865、EPICLON HP-4032D、EPICLON HP-7200L、EPICLON HP-7200H、EPICLON HP-7200HH、EPICLON HP-7200HHH、EPICLON HP-4700、EPICLON HP-4770、EPICLON HP-5000、EPICLON HP-6000、EPICLON HP-4710、EPICLON EXA-4850-150、EPICLONEXA-4850-1000、EPICLON EXA-4816、EPICLON HP-820(以上，DIC(株)制)、
オグソール〔注册商标〕PG-100、オグソールCG-500、オグソールEG-200、オグソールEG-280、オグソールCG-400(以上，大阪ガスケミカル(株)制)、
エポライト40E、エポライト100E、エポライト200E、エポライト400E、エポライト70P、エポライト200P、エポライト400P、エポライト1500NP、エポライト1600、エポライト80MF、エポライト100MF、エポライト4000、エポライト3002(N)(以上，共荣社化学(株)制)、
デナコール〔注册商标〕EX-211、デナコールEX-212、デナコールEX-252、デナコールEX-810、デナコールEX-811、デナコールEX-850、デナコールEX-851、デナコールEX-821、デナコールEX-830、デナコールEX-832、デナコールEX-841、デナコールEX-861、デナコールEX-911、デナコールEX-941、デナコールEX-920、デナコールEX-931、デナコールEX-313、デナコールEX-314、デナコールEX-321、デナコールEX-411、デナコールEX-421、デナコールEX-512、デナコールEX-521、デナコールEX-612、デナコールEX-614、デナコールEX-614B、デナコールEX-201、デナコールEX-711、デナコールEX-721、デナコールEX-622、デナコールEX-1310、デナコールEX-1410、デナコールEX-1610、デナコールEX-610U、デナコールEX-211L、デナコールEX-212L、デナコールEX-214L、デナコールEX-216L、デナコールEX-321L、デナコールEX-722L、デナコールEX-850L、デナコールEX-946L、デナコールDLC-201、デナコールDLC-202、デナコールDLC-203、デナコールDLC-204、デナコールDLC-205(以上，ナガセケムテックス(株)制)、
エポトート〔注册商标〕YD-127、エポトートYD-128、エポトートYDF-170、エポトートYD-8125、エポトートYDF-8170C、エポトートZX-1059、エポトートYD-825GS、エポトートYD-825GSH、エポトートYDF-870GS、エポトートYDPN-138、エポトートYDCN-700、エポトートYDC-1312、エポトートYSLV-80XY、エポトートYSLV-120TE、エポトートST-3000、エポトートST-4000D、エポトートYD-171、エポトートFX-289BEK75、エポトートFX-305EK70、エポトートERF-001M30、PG-207GS、ZX-1658GS(以上，新日铁住金化学(株)制)、
アデカレジン〔注册商标〕EP-4100、アデカレジンEP-4100G、アデカレジンEP-4100E、アデカレジンEP-4100TX、アデカレジンEP-4100HF、アデカレジンEP-4300E、アデカレジンEP-4400、アデカレジンEP-4520S、アデカレジンEP-4530、アデカレジンEP-4901、アデカレジンEP-4901HF、アデカレジンEP-5100R、アデカレジンEP-4000、アデカレジンEP-4000S、アデカレジンEP-4000L、アデカレジンEP-4003S、アデカレジンEP-4005、アデカレジンEP-4010S、アデカレジンEP-4010L、アデカレジンEP-7001、アデカレジンEP-4080E、アデカレジンEP-4082HT、アデカレジンEP-4088S、アデカレジンEP-4088L、アデカレジンEP-3300E、アデカレジンEP-3300S、アデカレジンEPU-7N、アデカレジンEPU-73B、アデカレジンEPR-1415-1、アデカレジンEPR-21、アデカレジンEPR-2000、アデカレジンEPR-4030、アデカレジンEPR-49-23、アデカレジンEP-49-10N、アデカレジンED-503、アデカレジンED-503G、アデカレジンED-506、アデカレジンED-523T、アデカレジンED-505(以上，(株)ADEKA制)、
セロキサイド〔注册商标〕2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、セロキサイド3000、セロキサイド8000、EHPE〔注册商标〕3150、EHPE 3150CE、エポリード〔注册商标〕PB3600、エポリードPB4700、エポリードGT-401、エポリードGT-403(以上，(株)ダイセル制)、
TEPIC〔注册商标〕-G、TEPIC-S、TEPIC-SP、TEPIC-SS、TEPIC-HP、TEPIC-L、TEPIC-PAS B26L、TEPIC-PAS B22、TEPIC-VL、TEPIC-FL、TEPIC-UC(以上，日产化学工业(株)制)、
エピオール〔注册商标〕G-100、エピオールE-100LC、エピオールE-400、エピオールE-1000、エピオールTMP(以上，日油(株)制)、
リカレジン〔注册商标〕HBE-100、リカレジンDME-100、リカレジンBPO-20E、リカレジンBEO-60E(以上，新日本理化(株)制)、
CY175、CY177、CY179、CY182、CY184、CY192(以上，BASFジャパン(株)制)、
THI-DE(JXTGエネルギー(株)制)。
作为上述具有至少1个氧杂环丁烷环的化合物，可以举出例如，3-乙基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧杂环丁烷、丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲基酯、甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲基酯、3-乙基-3-[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基甲基]氧杂环丁烷、1,4-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基甲基]苯、1,4-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基甲基]环己烷、4,4’-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基甲基]联二环己烷、4,4’-双[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基甲基]联苯。
作为上述具有至少1个氧杂环丁烷环的化合物的市售品，可以举出例如，アロンオキセタン〔注册商标〕OXT-101、アロンオキセタンOXT-121、アロンオキセタンOXT-211、アロンオキセタンOXT-212、アロンオキセタンOXT-213、アロンオキセタンOXT-221(以上，东亚合成(株)制)、ETERNACOLL〔注册商标〕EHO、ETERNACOLL OXBP、ETERNACOLL OXTP、ETERNACOLL OXMA(以上，宇部兴产(株)制)。
上述交联剂可以单独使用也可以组合使用2种以上。
在使用上述交联剂的情况下，在本发明的树脂组合物中的含量，基于上述共聚物100质量％为1质量％～200质量％，优选为3质量％～100质量％，更优选为5质量％～50质量％。
作为上述敏化剂，可举出例如，9-羟基甲基蒽、9,10-二甲氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、9,10-二丙氧基蒽、9,10-二丁氧基蒽、9,10-二甲氧基-2-乙基蒽、9,10-二乙氧基-2-乙基蒽、9,10-二丙氧基-2-乙基蒽、9,10-二甲氧基-2-氯蒽、9,10-双(辛酰基氧基)蒽、9,10-二甲氧基蒽-2-磺酸甲酯、9,10-二乙氧基蒽-2-磺酸甲酯、9,10-二甲氧基蒽-2-羧酸甲酯、噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、4-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、蒽醌、1,2-二羟基蒽醌、2-乙基蒽醌、1,4-二乙氧基萘等。
作为上述敏化剂的市售品，可以举出例如，アントラキュアー〔注册商标〕UVS-1331、アントラキュアーUVS-1101、アントラキュアーUVS-581(以上，川崎化成工业(株)制)、KAYACURE〔注册商标〕DETX-S、KAYACURE EPA(以上，日本化药(株)制)。
上述敏化剂可以单独使用也可以组合使用2种以上。
在使用上述敏化剂的情况下，在本发明的树脂组合物中的含量，基于上述产酸剂100质量％为50质量％以下，优选为30质量％以下，更优选为20质量％以下。
以下，对本发明的树脂组合物的使用例进行说明。
在基板{例如，被氧化硅膜被覆了的硅等半导体基板、被氮化硅膜或氧化氮化硅膜被覆了的硅等半导体基板、形成了滤色器的硅等半导体基板、氮化硅基板、石英基板、玻璃基板(包含无碱玻璃、低碱玻璃、结晶玻璃)、形成了ITO膜的玻璃基板}上通过旋涂器、涂布机等适当的涂布方法涂布本发明的树脂组合物。然后，使用电热板、烘箱等加热装置进行预烘烤，从而形成涂膜。需要说明的是，在进行后述的减压烘烤的情况下，不需要必定实施预烘烤。也可以在上述基板上涂布本发明的树脂组合物后，无预烘烤而进行减压烘烤。
预烘烤条件从烘烤温度30℃～200℃、烘烤时间0.3分钟～60分钟中适当选择，优选烘烤温度为50℃～180℃，烘烤时间为0.5分钟～30分钟。预烘烤在大气中或在氮气、氩气、氦气等非活性气体中进行。
此外，作为由本发明的树脂组合物形成的固化膜的膜厚，为0.001μm～1000μm，优选为0.01μm～600μm。
预烘烤后，根据需要进行减压烘烤。作为减压烘烤的条件，从在1×10-8Pa～9×104Pa或1×10-7Pa～5×104Pa的减压下，50℃～200℃的温度、10分钟～180分钟的时间中适当选择。减压烘烤在大气中或在氮气、氩气、氦气等非活性气体中进行。通过该减压烘烤，能够将基板的凹部或高低差通过本发明的树脂组合物埋入。
接下来，在通过上述而获得的膜上，根据需要进行曝光。曝光可以使用例如，紫外线(例如，g射线、h射线、i射线)、KrF准分子激光、ArF准分子激光。在曝光后，使用电热板、烘箱等加热装置进行后烘烤。作为后烘烤条件，从烘烤温度100℃～300℃、烘烤时间0.5分～180分钟中适当选择。此外，后烘烤在大气中或在氮气、氩气、氦气等非活性气体中进行。
在微透镜形成中，在由本发明的树脂组合物形成的固化膜上涂布抗蚀剂溶液，通过规定的掩模进行曝光，根据需要进行曝光后加热(PEB)，进行碱显影、冲洗和干燥，从而形成规定的抗蚀剂图案。曝光可以使用例如，紫外线(例如，g射线、h射线、i射线)、KrF准分子激光、ArF准分子激光。
接着，通过进行加热处理(通常为不超过200℃的温度)，将上述抗蚀剂图案回流而形成透镜图案。以该透镜图案作为蚀刻掩模而将下层的微透镜用固化膜回蚀，将透镜图案形状转印于微透镜用树脂层，从而制作微透镜。
实施例
以下基于实施例更详细地说明本发明，但本发明不限定于这些实施例。
〔下述合成例中获得的共聚物的重均分子量的测定〕
装置：日本分光(株)制GPC系统
柱：Shodex〔注册商标〕KF-804L和803L
柱温箱：40℃
流量：1mL/分钟
洗脱液：四氢呋喃
[共聚物的合成]
＜合成例1＞
使3,4-环氧环己基甲基甲基丙烯酸酯(サイクロマー〔注册商标〕M100((株)ダイセル制))7.61g、丙烯酸环己酯40.0g、和2,2’-偶氮二异丁腈1.96g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯74.3g后，将该溶液经3小时滴加到将丙二醇单甲基醚乙酸酯41.3g保持于70℃的烧瓶中。滴加结束后，反应18小时，使用甲醇使其再沉淀，从而获得了具有上述式(1-1)所示的结构单元和上述式(2-1)(式中，R0表示甲基。)所示的结构单元的共聚物。所得的共聚物的重均分子量Mw为27,000(聚苯乙烯换算)。
＜合成例2＞
使甲基丙烯酸缩水甘油酯4.72g、丙烯酸环己酯25.0g、和2,2’-偶氮二异丁腈1.28g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯57.6g后，将该溶液经3小时滴加到将丙二醇单甲基醚乙酸酯35.4g保持于70℃的烧瓶中。滴加结束后，反应18小时，使用甲醇使其再沉淀，从而获得了具有上述式(1-1)所示的结构单元和上述式(2-2)(式中，R0表示甲基。)所示的结构单元的共聚物。所得的共聚物的重均分子量Mw为30,000(聚苯乙烯换算)。
＜合成例3＞
使3,4-环氧环己基甲基甲基丙烯酸酯(サイクロマー〔注册商标〕M100((株)ダイセル制))12.5g、丙烯酸环己酯20.0g、和2,2’-偶氮二异丁腈1.27g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯62.8g后，将该溶液经3小时滴加到将丙二醇单甲基醚乙酸酯38.6g保持于80℃的烧瓶中。滴加结束后，反应18小时，使用甲醇使其再沉淀，从而获得了具有上述式(1-1)所示的结构单元和上述式(2-1)(式中，R0表示甲基。)所示的结构单元的共聚物。所得的共聚物的重均分子量Mw为11,000(聚苯乙烯换算)。
＜合成例4＞
使3,4-环氧环己基甲基甲基丙烯酸酯(サイクロマー〔注册商标〕M100((株)ダイセル制))19.7g、乙氧基化邻苯基苯酚丙烯酸酯(NKエステル〔注册商标〕A-LEN-10(新中村化学工业(株)制))40.0g、和2,2’-偶氮二异丁腈3.7g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯148.0g后，将该溶液经3小时滴加到将丙二醇单甲基醚乙酸酯105.7g保持于70℃的烧瓶中。滴加结束后，反应18小时，使用甲醇使其再沉淀，从而获得了具有上述式(1-3)所示的结构单元和上述式(2-1)(式中，R0表示甲基。)所示的结构单元的共聚物。所得的共聚物的重均分子量Mw为15,000(聚苯乙烯换算)。
＜合成例5＞
使3,4-环氧环己基甲基甲基丙烯酸酯(サイクロマー〔注册商标〕M100((株)ダイセル制))43.9g、乙氧基化邻苯基苯酚丙烯酸酯(NKエステル〔注册商标〕A-LEN-10(新中村化学工业(株)制))15.0g、和2,2’-偶氮二异丁腈2.9g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯92.7g后，将该溶液经3小时滴加到将丙二醇单甲基醚乙酸酯51.5g保持于80℃的烧瓶中。滴加结束后，反应18小时，从而获得了具有上述式(1-3)所示的结构单元和上述式(2-1)(式中，R0表示甲基。)所示的结构单元的共聚物的溶液(固体成分浓度30质量％)。所得的共聚物的重均分子量Mw为8,000(聚苯乙烯换算)。
＜合成例6＞
使3,4-环氧环己基甲基甲基丙烯酸酯7.00g、丙烯酸甲酯15.0g、和2,2’-偶氮二异丁腈1.38g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯43.4g后，将该溶液经3小时滴加到将丙二醇单甲基醚乙酸酯26.7g保持于70℃的烧瓶中。滴加结束后，反应18小时，从而获得了共聚物的溶液(固体成分浓度25质量％)。所得的共聚物的重均分子量Mw为18,000(聚苯乙烯换算)。
＜合成例7＞
使3,4-环氧环己基甲基甲基丙烯酸酯11.4g、1-丙烯酰氧基-3-羟基金刚烷24.0g、和2,2’-偶氮二异丁腈1.09g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯67.9g后，将该溶液经3小时滴加到将丙二醇单甲基醚乙酸酯41.7g保持于70℃的烧瓶中。滴加结束后，反应18小时，从而获得了共聚物的溶液(固体成分浓度25质量％)。所得的共聚物的重均分子量Mw为11,000(聚苯乙烯换算)。
＜合成例8＞
使3,4-环氧环己基甲基甲基丙烯酸酯7.72g、丙烯酸异冰片基酯40.0g、和2,2’-偶氮二异丁腈1.52g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯91.4g后，将该溶液经3小时滴加到将丙二醇单甲基醚乙酸酯56.3g保持于70℃的烧瓶中。滴加结束后，反应18小时，从而获得了共聚物的溶液(固体成分浓度25质量％)。所得的共聚物的重均分子量Mw为24,000(聚苯乙烯换算)。
[树脂组合物的调制]
＜实施例1＞
使合成例1中获得的共聚物3.49g、作为光产酸剂的阳离子成分由(4-苯硫基苯基)二苯基锍构成且阴离子成分由B(C6F5)4 -构成的有机盐化合物CPI-110B(サンアプロ(株)制)0.000204g、和作为表面活性剂的DFX-18(ネオス(株)制)0.00170g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯16.7g而制成溶液。然后，使用孔径0.45μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜实施例2＞
使合成例2中获得的共聚物3.00g、作为光产酸剂的CPI-110B(サンアプロ(株)制)0.000180g、和作为表面活性剂的DFX-18(ネオス(株)制)0.00150g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯15.1g而制成溶液。然后，使用孔径0.45μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜实施例3＞
使合成例3中获得的共聚物16.0g、作为交联剂的三{2,2-双[(环氧乙烷-2-基甲氧基)甲基]丁基}-3,3’,3”-[1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮-1,3,5-三基]三丙酸酯(TEPIC〔注册商标〕-UC(日产化学工业(株)制))4.0g、作为光产酸剂的阳离子成分由(4-苯硫基苯基)二苯基锍构成且阴离子成分由PF3(C2F5)3 -构成的有机盐化合物CPI-210S(サンアプロ(株)制)1.0g、作为敏化剂的9,10-双(辛酰基氧基)蒽(アントラキュアー〔注册商标〕UVS-581(川崎化成工业(株)制))0.20g、和作为表面活性剂的DFX-18(ネオス(株)制)0.020g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯89.3g而制成溶液。然后，使用孔径0.45μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜实施例4＞
使合成例4中获得的共聚物16.0g、作为交联剂的异氰脲酸三(4,5-环氧戊基)酯(TEPIC〔注册商标〕-VL(日产化学工业(株)制))4.0g、作为光产酸剂的CPI-210S(サンアプロ(株)制)1.0g、作为敏化剂的9,10-二丁氧基蒽(アントラキュアー〔注册商标〕UVS-1331(川崎化成工业(株)制))0.20g、和作为表面活性剂的DFX-18(ネオス(株)制)0.020g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯89.3g而制成溶液。然后，使用孔径0.45μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜实施例5＞
使合成例5中获得的共聚物的溶液53.3g(包含固体成分16.0g)、作为交联剂的异氰脲酸三(4,5-环氧戊基)酯(TEPIC〔注册商标〕-VL(日产化学工业(株)制))4.0g、作为光产酸剂的CPI-210S(サンアプロ(株)制)1.0g、和作为表面活性剂的DFX-18(ネオス(株)制)0.020g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯51.1g而制成溶液。然后，使用孔径0.45μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜实施例6＞
使合成例4中获得的共聚物8.0g、作为交联剂的异氰脲酸三(4,5-环氧戊基)酯(TEPIC〔注册商标〕-VL(日产化学工业(株)制))2.0g、作为光产酸剂的三氟甲磺酸酯アデカアークルズ〔注册商标〕SP-606((株)ADEKA制)0.1g、和作为表面活性剂的DFX-18(ネオス(株)制)0.020g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯43.0g而制成溶液。然后，使用孔径0.45μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜实施例7＞
使合成例4中获得的共聚物10.0g、作为光产酸剂的三氟甲磺酸酯アデカアークルズ〔注册商标〕SP-606((株)ADEKA制)0.1g、和作为表面活性剂的DFX-18(ネオス(株)制)0.020g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯43.0g而制成溶液。然后，使用孔径0.45μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜实施例8＞
使合成例1中获得的共聚物10.0g和作为光产酸剂的CPI-110B(サンアプロ(株)制)0.0006g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯15.0g而制成溶液。然后，使用孔径5μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜实施例9＞
使合成例4中获得的共聚物10.0g、和作为光产酸剂的阳离子成分由有机锍构成且阴离子成分由C(CF3SO2)3 -构成的有机盐化合物GSID-26-1(BASF社制)0.0003g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯15.0g而制成溶液。然后，使用孔径5μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜比较例1＞
使合成例1中获得的共聚物3.13g、和作为表面活性剂的DFX-18(ネオス(株)制)0.00150g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯16.9g而制成溶液。然后，使用孔径0.45μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜比较例2＞
使合成例6中获得的共聚物的溶液13.0g(包含固体成分3.25g)、作为光产酸剂的CPI-110B(サンアプロ(株)制)0.000191g、和作为表面活性剂的DFX-18(ネオス(株)制)0.00160g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯6.13g而制成溶液。然后，使用孔径0.45μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜比较例3＞
使合成例7中获得的共聚物的溶液13.0g(包含固体成分3.25g)、作为光产酸剂的CPI-110B(サンアプロ(株)制)0.000192g、和作为表面活性剂的DFX-18(ネオス(株)制)0.00160g溶解于丙二醇单甲基醚9.72g而制成溶液。然后，使用孔径0.45μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
＜比较例4＞
使合成例8中获得的共聚物的溶液13.0g(包含固体成分3.25g)、作为光产酸剂的CPI-110B(サンアプロ(株)制)0.000195g、和作为表面活性剂的DFX-18(ネオス(株)制)0.00171g溶解于丙二醇单甲基醚乙酸酯6.28g而制成溶液。然后，使用孔径0.45μm的聚乙烯制微型过滤器进行过滤而调制出树脂组合物。
[耐溶剂性试验]
使用旋转涂布机将实施例1～实施例7和比较例1～比较例4中调制的树脂组合物分别涂布在硅晶片上，在电热板上在100℃下预烘烤1分钟。接着，通过具备380nm强化灯的无电极灯电源系统((株)オーク制作所制)，整面照射365nm下的曝光量为1000mJ/cm2的紫外线。接着，在电热板上在220℃下进行10分钟后烘烤，形成了膜厚1.0μm的膜。上述预烘烤和后烘烤都在大气中实施。对这些固化膜进行下述试验：在丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、环戊酮、乳酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、和2.38质量％浓度的氢氧化四甲基铵(TMAH)水溶液中，分别在23℃的温度条件下浸渍5分钟。在浸渍前后测定膜厚变化，在即使是浸渍溶剂之中的1种，相对于浸渍前的膜厚具有5％以上膜厚增减的情况设为“×”，将全部溶剂的膜厚增减都小于5％的情况设为“○”，评价了耐溶剂性。将评价结果示于表1中。
[透射率测定]
使用旋转涂布机将实施例1～实施例7和比较例1～比较例4中调制的树脂组合物分别涂布在石英基板上，在电热板上在100℃下预烘烤1分钟。接着，通过具备380nm强化灯的无电极灯电源系统((株)オーク制作所制)，整面照射365nm下的曝光量为1000mJ/cm2的紫外线。接着，在电热板上在220℃下进行10分钟后烘烤，形成了膜厚1.0μm的膜。上述预烘烤和后烘烤都在大气中实施。对这些固化膜，使用紫外可见分光光度计UV-2600((株)岛津制作所制)测定了波长400nm的透射率。将评价结果示于表1中。
[高低差平坦化性]
使用旋转涂布机将实施例1～实施例7和比较例1～比较例4中调制的树脂组合物分别涂布在高度0.5μm、线宽10μm、线间间隙10μm的高低差基板(参照图1)上，在电热板上在100℃下预烘烤1分钟。接着，通过具备380nm强化灯的无电极灯电源系统((株)オーク制作所制)，整面照射365nm下的曝光量为1000mJ/cm2的紫外线。接着，在电热板上在220℃下进行10分钟后烘烤，形成了膜厚1.0μm的膜。上述预烘烤和后烘烤都在大气中实施。由图1所示的h1(高低差基板1的高低差)和h2(固化膜2的高低差，即线上的固化膜的高度与间隙上的固化膜的高度的高低差)，使用“式：(1-(h2/h1))×100”求出平坦化率。将评价结果示于表1中。
[表1]
表1
由表1的结果可知，由本发明的树脂组合物形成的固化膜为高耐溶剂性并且为高透明性。进一步，由本发明的树脂组合物形成的固化膜具有平坦化率80％以上的优异的高低差平坦化性。另一方面，关于由比较例1中调制的树脂组合物形成的固化膜，由于不含有光产酸剂，此外，关于由比较例2～比较例4中调制的树脂组合物形成的固化膜，由于在220℃的烘烤温度下固化不充分，因此成为不满足耐溶剂性的结果，可知不适合于平坦化膜和微透镜用固化膜。进一步，由比较例3和比较例4中调制的树脂组合物形成的固化膜由于平坦化率小于80％，因此与由本发明的树脂组合物形成的固化膜相比成为高低差平坦化性差的结果。
[埋入性]
将实施例8和实施例9中调制的树脂组合物涂布在具有孔穴宽度为200μm见方、150μm见方、和100μm见方的凹部(孔穴深度400μm)的硅晶片上，在电热板上在150℃下预烘烤10分钟后，通过烘箱在3×102Pa的减压下在150℃下减压烘烤20分钟。接着，通过具备380nm强化灯的无电极灯电源系统((株)オーク制作所制)，整面照射365nm下的曝光量为1000mJ/cm2的紫外线。接着，利用烘箱在常压下在220℃下进行60分钟后烘烤。上述预烘烤、减压烘烤和后烘烤都在大气中实施。使用扫描型电子显微镜(SEM)，对涂布了实施例8和实施例9中调制的树脂组合物的具有凹部的硅晶片的截面进行观察，结果，在孔穴内部未观察到空隙和狭缝的发生，被均匀埋入。
符号的说明
1：高低差基板
2：固化膜
3：线宽
4：线间间隙
h1：高低差基板的高低差
h2：固化膜的高低差。

Claims (17)

1.一种树脂组合物，其包含自交联性共聚物、产酸剂和溶剂，所述自交联性共聚物具有下述式(1)所示的结构单元和下述式(2)所示的结构单元，
式中，R0表示氢原子或甲基，X表示单键或亚乙基氧基，R1表示单键或亚甲基，A1表示碳原子数5或6的环烷基或联苯基，A2表示环氧环己基或环氧基。
2.根据权利要求1所述的树脂组合物，所述式(1)所示的结构单元为下述式(1-1)、式(1-2)或式(1-3)所示的结构单元，
3.根据权利要求1或2所述的树脂组合物，所述式(2)所示的结构单元为下述式(2-1)或式(2-2)所示的结构单元，
式中，R0与权利要求1所记载的定义含义相同。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的树脂组合物，所述自交联性共聚物的重均分子量为1,000～80,000。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的树脂组合物，所述产酸剂为光产酸剂。
6.根据权利要求5所述的树脂组合物，相对于所述自交联性聚合物，包含0.001质量％～20质量％的所述光产酸剂。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的树脂组合物，其进一步含有表面活性剂。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的树脂组合物，其进一步含有交联剂。
9.根据权利要求8所述的树脂组合物，所述交联剂含有选自具有至少2个环氧环的化合物和具有至少1个氧杂环丁烷环的化合物中的至少1种。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的树脂组合物，其进一步含有敏化剂。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的树脂组合物，其用于形成平坦化膜。
12.根据权利要求1～10中任一项所述的树脂组合物，其用于形成微透镜。
13.一种基板的埋入方法，其中，将权利要求1～10中任一项所述的树脂组合物涂布于具有凹部或高低差的基板，然后在1×10-8Pa～9×104Pa的减压下，在50℃～200℃的温度下，将涂布了该树脂组合物的基板减压烘烤10分钟～180分钟。
14.根据权利要求13所述的埋入方法，所述减压烘烤在大气中或非活性气体中进行。
15.根据权利要求13或14所述的埋入方法，将涂布了所述树脂组合物的基板在大气中或非活性气体中在30℃～200℃的温度下预烘烤0.3分钟～60分钟后，进行所述减压烘烤。
16.一种固化膜的制作方法，其中，将权利要求1～10中任一项所述的树脂组合物涂布在基板上后，使用加热装置将涂布了所述树脂组合物的基板进行烘烤，然后进行曝光。
17.根据权利要求16所述的固化膜的制作方法，在所述曝光后，使用加热装置再次进行烘烤。
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