CN109343735A - 一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置，涉及触控显示技术领域，可解决触控显示装置厚度较大的问题。触控显示基板，包括：衬底基板和设置在所述衬底基板上的彩色光阻图案以及用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；还包括：触控层，所述触控层包括沿第一方向依次排列的多个第一触控电极和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极；其中，所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉设置，且交叉位置处通过所述黑矩阵图案相互绝缘。用于减小触控显示装置的厚度。

Description

一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置
技术领域
本发明涉及触控显示技术领域，尤其涉及一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置。
背景技术
目前，触控显示装置(Touch Screen Panel，简称TSP)是一种极富吸引力的全新多媒体人机交互设备，主要应用于多个领域，如公共信息的查询、电子游戏、点歌点菜或多媒体教学等。
然而，如图1所示，现有的触控显示装置(图1以触控显示装置为有机电致发光显示装置(Organic Electro-luminescent Display，简称OLED)为例进行示意)，都是将显示层10、触控层20和彩色滤光片30(Color Filter)简单的叠加在一起。虽然达到了彩色和人机交互的效果，但是三者叠加时，由于触控层20和彩色滤光片30之间需要设置第一绝缘层40，且触控层20的第一触控电极201和第二触控电极202的交叉位置处需要设置第二绝缘层50，第一绝缘层40和第二绝缘层50的厚度约6000埃，因而设置两层绝缘层使得触控显示装置的厚度较大。而触控显示装置的厚度较大会导致触控显示装置的一些性能不能满足，例如对于柔性触控显示装置，会导致显示装置不易弯折，容易出现屏幕破碎的问题。
发明内容
本发明的实施例提供一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置，可解决触控显示装置厚度较大的问题。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
第一方面，提供一种触控显示基板，包括：衬底基板和设置在所述衬底基板上的彩色光阻图案以及用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；还包括：触控层，所述触控层包括沿第一方向依次排列的多个第一触控电极和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极；其中，所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉设置，且交叉位置处通过所述黑矩阵图案相互绝缘。
优选的，所述第一触控电极和所述第二触控电极同层设置，每个所述第一触控电极包括直接连接的多个第一子触控电极，每个所述第二触控电极包括间隔排布的多个第二子触控电极；所述触控层还包括位于所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉位置处的架桥，所述架桥用于将相邻所述第二子触控电极连通。
进一步优选的，所述架桥的材料为非透明导电材料。
优选的，所述第一触控电极和所述第二触控电极设置在不同层。
优选的，所述衬底基板为柔性衬底基板。
优选的，所述触控显示基板还包括设置在所述触控层、所述彩色光阻图案以及所述黑矩阵图案远离所述衬底基板一侧的平坦层。
第二方面，提供一种触控显示装置，包括上述的触控显示基板。
优选的，所述触控显示基板还包括设置在所述触控层、所述彩色光阻图案以及所述黑矩阵图案靠近所述衬底基板一侧的显示层和封装层；所述显示层设置在所述衬底基板和所述封装层之间；其中，所述显示层包括多个亚像素，每个所述亚像素包括第一电极、发光功能层和第二电极。
优选的，所述触控显示装置还包括阵列基板以及设置在所述阵列基板和所述触控显示基板之间的液晶层。
第三方面，还提供一种触控显示基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成彩色光阻图案和用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；形成触控层，所述触控层包括沿第一方向依次排列的多个第一触控电极和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极；其中，所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉设置，且交叉位置处通过所述黑矩阵图案相互绝缘。
优选的，所述触控显示基板的制备方法具体包括：在所述衬底基板上形成沿第一方向依次排列的多个所述第一触控电极和沿第二方向依次排列的多个所述第二触控电极；所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉设置，每个所述第一触控电极包括直接连接的多个第一子触控电极，每个所述第二触控电极包括间隔排布的多个第二子触控电极；形成所述彩色光阻图案和用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；所述黑矩阵图案至少覆盖所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉位置处的所述第一触控电极；在所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉位置处形成架桥，所述架桥用于将相邻所述第二子触控电极连通。
优选的，所述触控显示基板的制备方法具体包括：在所述衬底基板上形成架桥；形成所述彩色光阻图案和用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；所述黑矩阵图案至少位于所述架桥上；形成沿第一方向依次排列的多个所述第一触控电极和沿第二方向依次排列的多个所述第二触控电极；所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉设置，每个所述第一触控电极包括直接连接的多个第一子触控电极，每个所述第二触控电极包括间隔排布的多个第二子触控电极，相邻所述第二子触控电极通过所述架桥连通，所述架桥和所述第一触控电极通过所述黑矩阵图案相互绝缘。
优选的，所述触控显示基板的制备方法具体包括：在所述衬底基板上形成沿第一方向依次排列的多个所述第一触控电极；形成彩色光阻图案和用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；形成沿第二方向依次排列的多个所述第二触控电极；其中，所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉设置，且交叉位置处通过所述黑矩阵图案相互绝缘。
本发明实施例提供一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置，由于触控层中第一触控电极和第二触控电极的交叉位置处通过黑矩阵图案相互绝缘，因而无需在第一触控电极和第二触控电极的交叉位置处单独再设置绝缘层。此外，由于触控层中第一触控电极和第二触控电极的交叉位置处通过黑矩阵图案相互绝缘，则黑矩阵图案必然是在制作触控层的过程中制作的，而不是先制作触控层，再制作黑矩阵图案，或者先制作黑矩阵图案，再制作触控层，因此也无需在触控层和彩色滤光片之间设置绝缘层。这样一来，相对于现有技术既要在第一触控电极和第二触控电极的交叉位置处设置第二绝缘层，又要在触控层和彩色滤光片之间设置第一绝缘层，本发明实施例由于减少了两层绝缘层，因而减小了触控显示基板的厚度。此外，由于本发明实施例减少了第一绝缘层和第二绝缘层的制作工序如CVD工序以及第二绝缘层的刻蚀工序，进而提高了触控显示基板的制作效率，提升了产能。
在此基础上，当触控显示基板应用于柔性触控显示装置中时，由于触控显示基板的厚度减小，因而减小了柔性触控显示装置的弯折半径，避免了弯折处膜层易于破碎的问题，提升了柔性触控显示装置的弯折或折叠程度。进一步地，当触控显示基板应用于触控显示装置中时，由于触控显示基板的厚度减小，因而触控显示装置的厚度减小，这样一来，使得触控显示装置的出光面积增加，从而增加了触控显示装置的视角。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术提供的一种触控显示装置的结构示意图；
图2(a)为本发明实施例提供的一种触控显示基板的结构示意图一；
图2(b)为本发明实施例提供的一种触控显示基板的结构示意图二；
图2(c)为本发明实施例提供的一种触控显示基板的结构示意图三；
图3为本发明实施例提供的一种触控显示基板的结构示意图四；
图4为本发明实施例提供的一种触控显示基板的结构示意图五；
图5为本发明实施例提供的一种触控显示基板的结构示意图六；
图6为本发明实施例提供的一种触控显示基板的结构示意图七；
图7为本发明实施例提供的一种OLED触控显示装置或QLED触控显示装置的结构示意图一；
图8为本发明实施例提供的一种OLED触控显示装置或QLED触控显示装置的结构示意图二；
图9为本发明实施例提供的一种液晶触控显示装置的结构示意图；
图10为本发明实施例提供的一种触控显示基板的结构示意图八；
图11为本发明实施例提供的一种第一触控电极和第二触控电极的结构示意图；
图12为本发明实施例提供的一种在第一触控电极和第二触控电极上形成黑矩阵图案的结构示意图；
图13为本发明实施例提供的一种触控显示基板的制备方法的流程示意图一；
图14为本发明实施例提供的一种触控显示基板的制备方法的流程示意图二；
图15为本发明实施例提供的一种触控显示基板的制备方法的流程示意图三。
附图标记：
10-显示层；20-触控层；201-第一触控电极；2011-第一子触控电极；202-第二触控电极；2021-第二子触控电极；203-架桥；30-彩色滤光片；301-黑矩阵图案；302-彩色光阻图案；303-搭桥孔；40-第一绝缘层；50-第二绝缘层；60-衬底基板；70-平坦层；80-显示层；801-第一电极；802-发光功能层；803-第二电极；804-像素界定层；90-封装层；100-缓冲层；110-阵列基板；120-液晶层；130-刚性基板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种触控显示基板，如图2(a)、图2(b)和图3所示，包括：衬底基板60和设置在衬底基板60上的彩色光阻图案302以及用于间隔彩色光阻图案302的黑矩阵图案(Black Matrix，简称BM)301；还包括：触控层20，触控层20包括沿第一方向依次排列的多个第一触控电极201和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极202；其中，第一触控电极201和第二触控电极202交叉设置，且交叉位置处通过黑矩阵图案301相互绝缘。
需要说明的是，第一，对于黑矩阵图案301的材料不进行限定，只要是遮光且绝缘的材料即可。示例的，黑矩阵图案301的材料可以是黑色树脂或黑色油墨等。
第二，本发明实施例中的彩色光阻图案302例如可以是红色光阻图案(R)、绿色光阻图案(G)以及蓝色光阻图案(B)，或者也可以是黄色光阻图案、品红色光阻图案以及青色光阻图案。
第三，对于第一触控电极201和第二触控电极202的类型不进行限定，可以是第一触控电极201为驱动电极(Tx)，第二触控电极202为感应电极(Rx)；也可以是第一触控电极201为感应电极，第二触控电极202为驱动电极。
在此基础上，对于第一触控电极201和第二触控电极202的材料不进行限定，只要是透明的导电材料即可。示例的，第一触控电极201和第二触控电极202的材料为ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)、IZO(Indium Zinc Oxide，氧化铟锌)或Ti/Al/Ti叠层材料等。
此外，第一触控电极201和第二触控电极202交叉设置，可以是第一触控电极201和第二触控电极202相互垂直，也可以是第一触控电极201和第二触控电极202相交的夹角为锐角。本发明实施例的附图中均以第一触控电极201和第二触控电极202相互垂直为例进行示意。
第四，对于触控层20的结构不进行限定，以下提供两种具体的结构详细对触控层20的结构进行说明。
第一种：如图4所示，第一触控电极201和第二触控电极202同层设置，每个第一触控电极201包括直接连接的多个第一子触控电极2011，每个第二触控电极202包括间隔排布的多个第二子触控电极2021；触控层20还包括位于第一触控电极201和第二触控电极202交叉位置处的架桥(Bridge)203，架桥203用于将相邻第二子触控电极2021连通。
此处，对于架桥203的材料不进行限定，只要是导电材料，能将相邻第二子触控电极2021连通即可。由于第一触控电极201和第二触控电极202的交叉位置处通过黑矩阵图案301相互绝缘，而架桥203用于将相邻第二子触控电极2021连通，因而黑矩阵图案301必然设置在架桥203和第一触控电极201之间，且架桥203和黑矩阵图案301在衬底基板60上的正投影具有重叠区域。基于此，由于黑矩阵图案301的材料为遮光材料，因此，架桥203的材料可以是透明导电材料，也可以是非透明导电材料。当架桥203的材料是透明导电材料时，架桥203的材料可以和第一触控电极201、第二触控电极202的材料相同，也可以不相同，对此不进行限定。如图2(a)、图2(b)以及图2(c)所示，在架桥203穿过黑矩阵图案301上的搭桥孔与第二子触控电极2021连接时，若架桥203为透明导电材料，则触控显示装置发出的光可能会透过搭桥孔位置处的架桥203，从而造成漏光，影响显示效果，因此本发明实施例优选的，架桥203的材料为非透明导电材料。示例的，架桥203的材料可以但不限于是Mo(钼)、Cu(铜)、Cr(铬)等其它光学OD值较大的导电材料。
在此基础上，对于相邻架桥203之间的间距不进行限定，具体根据第一触控电极201、第二触控电极202的大小和位置(即触控层20的设计)来设置架桥203的位置。其中，由于一个彩色光阻图案302对应一个像素，则间隔一个彩色光阻图案302的间距即间隔一个像素间距。示例的，可以是如图2(a)和图2(b)所示，相邻架桥203之间间隔一个像素间距，或者也可以是如图2(c)所示，相邻架桥203之间间隔两个或两个以上像素间距(附图2(c)中以相邻架桥203之间间隔两个像素间距为例进行示意)。相邻架桥203之间的间距可以但不限于是像素间距的倍数。由于当相邻架桥203之间的间距不是像素间距的倍数时，可能会造成局部光学亮度不一致的问题，因而本发明实施例优选的，相邻架桥203之间的间距为像素间距的倍数，这样便不会造成局部光学亮度不一致的问题。
需要说明的，在制作触控层20时，可以如图2(a)所示，先制作第一触控电极201、第二触控电极202，再制作黑矩阵图案301，最后制作架桥203；也可以如图2(b)所示，先制作架桥203，再制作黑矩阵图案301，最后制作第一触控电极201、第二触控电极202。
本发明实施例，由于第一触控电极201和第二触控电极202同层设置，因此可以通过一次构图工艺同时制作第一触控电极201和第二触控电极202，简化了触控显示基板的制作过程。
第二种：如图3和图5所示，第一触控电极201和第二触控电极202设置在不同层。
其中，对于第一触控电极201之间的间距、第一触控电极201的大小以及第二触控电极202之间的间距、第二触控电极202的大小不进行限定，可以根据触控的需要进行相应设置，只要确保黑矩阵图案301在衬底基板60上的正投影覆盖第一触控电极201和第二触控电极202在衬底基板60上投影重叠的区域即可，这样黑矩阵图案301就可以使第一触控电极201和第二触控电极202相互绝缘。
此处，可以先制作第一触控电极201，再制作黑矩阵图案301，最后制作第二触控电极202；也可以先制作第二触控电极202，再制作黑矩阵图案301，最后制作第一触控电极201。
本发明实施例，由于每个第一触控电极201和每个第二触控电极202都是完整连续的一条电极，没有间断开，因此每个第一触控电极201和每个第二触控电极202都无需架桥203连接，因而降低了第一触控电极201和第二触控电极202的制作难度。
第五，衬底基板60上除了设置有彩色光阻图案302、黑矩阵图案301和触控层20外，还可以根据需要设置有其它膜层，对此不进行限定。
本发明实施例提供一种触控显示基板，由于触控层20中第一触控电极201和第二触控电极202的交叉位置处通过黑矩阵图案301相互绝缘，因而无需在第一触控电极201和第二触控电极202的交叉位置处单独再设置绝缘层。此外，由于触控层20中第一触控电极201和第二触控电极202的交叉位置处通过黑矩阵图案301相互绝缘，则黑矩阵图案301必然是在制作触控层20的过程中制作的，而不是先制作触控层20，再制作黑矩阵图案301，或者先制作黑矩阵图案301，再制作触控层20，因此也无需在触控层20和彩色滤光片30(彩色滤光片30包括彩色光阻图案302和黑矩阵图案301)之间设置绝缘层。这样一来，相对于现有技术既要在第一触控电极201和第二触控电极202的交叉位置处设置第二绝缘层50，又要在触控层20和彩色滤光片30之间设置第一绝缘层40，本发明实施例由于减少了两层绝缘层，因而减小了触控显示基板的厚度。此外，由于本发明实施例减少了第一绝缘层40和第二绝缘层50的制作工序如CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积)工序以及第二绝缘层50的刻蚀工序，进而提高了触控显示基板的制作效率，提升了产能。
在此基础上，当触控显示基板应用于柔性触控显示装置中时，由于触控显示基板的厚度减小，因而减小了柔性触控显示装置的弯折半径，避免了弯折处膜层易于破碎的问题，提升了柔性触控显示装置的弯折或折叠程度。进一步地，当触控显示基板应用于触控显示装置中时，由于触控显示基板的厚度减小，因而触控显示装置的厚度减小，这样一来，使得触控显示装置的出光面积增加，从而增加了触控显示装置的视角。
基于上述，本发明实施例提供的衬底基板60可以是刚性衬底基板，也可以是柔性衬底基板。当衬底基板60为柔性衬底基板时，触控显示基板为柔性触控显示基板，可实现弯折功能。其中，柔性衬底基板的材料可以为有机材料。
优选的，如图6所示，触控显示基板还包括设置在触控层20、彩色光阻图案302以及黑矩阵图案301远离衬底基板60一侧的平坦层70(Over Coat，简称OC)。
其中，对于平坦层70的材料不进行限定，以能实现平坦化功能为准。平坦层70的材料可以是有机材料，也可以是无机材料。
本发明实施例，在触控层20、彩色光阻图案302以及黑矩阵图案301上设置平坦层70，可以使触控显示基板表面平坦。
本发明实施例提供一种触控显示装置，包括上述的触控显示基板。
其中，触控显示装置可以是液晶显示装置(Liquid Crystal Display，简称LCD)；也可以是有机电致发光二极管显示装置(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)；当然还可以是量子点电致发光显示装置(Quantum Dot Light-Emitting Display，简称QLED)或其它类型的触控显示装置。
此处，触控显示装置可以是显示不论运动(例如，视频)还是固定(例如，静止图像)的且不论文字还是图画的图像的任何装置。更明确地说，预期所述实施例可实施在多种电子装置中或与多种电子装置关联，所述多种电子装置例如(但不限于)移动电话、无线装置、个人数据助理(PDA)、手持式或便携式计算机、GPS接收器/导航器、相机、MP4视频播放器、摄像机、游戏控制台、手表、时钟、计算器、电视监视器、平板显示器、计算机监视器、汽车显示器(例如，里程表显示器等)、导航仪、座舱控制器和/或显示器、相机视图的显示器(例如，车辆中后视相机的显示器)、电子相片、电子广告牌或指示牌、投影仪、建筑结构、包装和美学结构(例如，对于一件珠宝的图像的显示器)等。此外，本发明实施例提供的触控显示装置还可以是触控显示面板。
本发明实施例提供一种触控显示装置，触控显示装置包括上述的触控显示基板，触控显示装置中的触控显示基板具有与上述实施例提供的触控显示基板相同的结构和有益效果，由于上述实施例已经对触控显示基板的结构和有益效果进行了详细的描述，因而此处不再赘述。
当触控显示装置为OLED触控显示装置或QLED触控显示装置时，如图7和图8所示，触控显示基板还包括设置在触控层20、彩色光阻图案302以及黑矩阵图案301靠近衬底基板60一侧的显示层80和封装层90；显示层80设置在衬底基板60和封装层90之间；其中，显示层80包括多个亚像素，每个亚像素包括第一电极801、发光功能层802和第二电极803。
需要说明的是，封装层90可以是通过薄膜进行封装的薄膜封装层(Thin FilmEncapsulation，简称TFE)；也可以是通过基板进行封装的基板封装层。当封装层90为薄膜封装层时，还可以如图8所示，在薄膜封装层远离衬底基板60的一侧设置缓冲层(Buffer)100。缓冲层100的材料可以选自SiNx(氮化硅)、SiOx(氧化硅)和SiOxNy(氮氧化硅)中的至少一种。
此处，可以是第一电极801为阳极，第二电极803为阴极；也可以是第一电极801为阴极，第二电极803为阳极。第一电极801和第二电极803用于驱动发光功能层发光。
此外，发光功能层802可以包括发光层，还可以包括电子注入层、电子传输层、空穴注入层以及空穴传输层中的至少一层。其中，发光层可以发白色光，还可以发三原色光。
在此基础上，显示层80还可以包括用于将相邻亚像素间隔开的像素界定层(PixelDefinition Layer，简称PDL)804。此外，显示层80还可以包括薄膜晶体管。薄膜晶体管可以为非晶硅薄膜晶体管(a-Si)、低温多晶硅(Low Temperature Poly-silicon，简称LTPS)薄膜晶体管、有机薄膜晶体管或金属氧化物薄膜晶体管如IGZO(Indium Gallium ZincOxide，铟镓锌氧化物)薄膜晶体管等。
当触控显示装置为液晶触控显示装置时，如图9所示，触控显示装置还包括阵列基板110以及设置在阵列基板110和触控显示基板之间的液晶层120。
其中，阵列基板110包括薄膜晶体管。薄膜晶体管可以为非晶硅薄膜晶体管、低温多晶硅薄膜晶体管、有机薄膜晶体管或金属氧化物薄膜晶体管等。
本发明实施例还提供一种触控显示基板的制备方法，包括：
S100、在衬底基板60上形成彩色光阻图案302和用于间隔彩色光阻图案302的黑矩阵图案301。
其中，对于黑矩阵图案301的材料不进行限定，只要是遮光且绝缘的材料即可。此外，彩色光阻图案302例如可以是红色光阻图案、绿色光阻图案以及蓝色光阻图案，或者也可以是黄色光阻图案、品红色光阻图案以及青色光阻图案。
S101、形成触控层20，触控层20包括沿第一方向依次排列的多个第一触控电极201和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极202；其中，第一触控电极201和第二触控电极202交叉设置，且交叉位置处通过黑矩阵图案301相互绝缘。
此处，当衬底基板60为柔性衬底基板时，如图10所示，可以先将柔性衬底基板贴合在刚性基板130如玻璃基板(Glass)上，再在柔性衬底基板上形成膜层如触控层20、黑矩阵图案301、彩色光阻图案302等，当触控显示基板制备完成后，再将柔性衬底基板与刚性基板130剥离。
需要说明的是，步骤S100和步骤S101不表示制作的先后顺序，仅表示在衬底基板60上制作有彩色光阻图案302、黑矩阵图案301、第一触控电极201和第二触控电极202。下述步骤S200-步骤S202、步骤S300-步骤S302以及步骤S400-步骤S402详细说明触控显示基板上膜层的制作顺序。
本发明实施例提供一种触控显示基板的制备方法，触控显示基板的制备方法具有与上述实施例提供的触控显示基板相同的结构和有益效果，由于上述实施例已经对触控显示基板的结构和有益效果进行了详细的描述，因而此处不再赘述。
以下提供三种具体的触控显示基板的制备方法：
第一种，如图2(a)和图2(c)以及图13所示，触控显示基板的制备方法具体包括：
S200、如图11所示，在衬底基板60上形成沿第一方向依次排列的多个第一触控电极201和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极202；第一触控电极201和第二触控电极202交叉设置，每个第一触控电极201包括直接连接的多个第一子触控电极2011，每个第二触控电极202包括间隔排布的多个第二子触控电极2021。
此处，可以先在衬底基板60上形成透明导电薄膜，再对透明导电薄膜进行构图工艺以同时形成第一子触控电极2011和第二子触控电极2021。其中，可以利用化学气相沉积工艺或溅射工艺形成透明导电薄膜。构图工艺具体可以包括涂布光刻胶、掩膜、曝光、显影及刻蚀工艺。
S201、如图12所示(附图12中未示意出彩色光阻图案302)，形成彩色光阻图案302和用于间隔彩色光阻图案302的黑矩阵图案301；黑矩阵图案301至少覆盖第一触控电极201和第二触控电极202交叉位置处的第一触控电极201。
此处，可以先形成彩色光阻图案302，再形成黑矩阵图案301；也可以先形成黑矩阵图案301，再形成彩色光阻图案302。
需要说明的是，在制作黑矩阵图案301时，黑矩阵图案301不应遮挡住步骤S202中架桥203与第二子触控电极2021连通的位置。若黑矩阵图案301遮挡住了架桥203与第二子触控电极2021连通的位置，则可以如图12所示，在形成黑矩阵图案301时，预留出架桥203的搭桥孔303。
其中，彩色光阻图案302和黑矩阵图案301可以通过曝光、显影工艺形成。
S202、如图4所示，在第一触控电极201和第二触控电极202交叉位置处形成架桥203，架桥203用于将相邻第二子触控电极2021连通。
此处，由于架桥203形成在黑矩阵图案301上，而黑矩阵图案301的材料为遮光且绝缘的材料，因而架桥203的材料可以是透明导电材料，也可以是非透明导电材料。在架桥203穿过黑矩阵图案301上的搭桥孔303与第二子触控电极2021连接时，若架桥203为透明导电材料，则触控显示装置发出的光可能会透过搭桥孔303位置处的架桥203，从而造成漏光，影响显示效果，因此本发明实施例优选的，架桥203的材料为非透明导电材料。示例的，架桥203的材料可以但不限于是Mo、Cu、Cr等其它光学OD值较大的导电材料。
在此基础上，对于相邻架桥203之间的间距不进行限定，具体根据第一触控电极201、第二触控电极202的大小和位置来设置架桥203的位置。示例的，相邻架桥203之间可以间隔一个像素间距，也可以间隔两个或两个以上像素间距。相邻架桥203之间的间距可以但不限于是像素间距的倍数。
其中，形成架桥203的过程具体可以是先形成导电薄膜，再对导电薄膜进行构图以形成架桥203。
第二种，如图2(b)以及图14所示，触控显示基板的制备方法具体包括：
S300、在衬底基板60上形成架桥203。
此处，设置架桥203时，对于相邻架桥203之间的间距不进行限定，具体根据第一触控电极201、第二触控电极202的大小和位置来设置架桥203的位置。示例的，相邻架桥203之间的间距可以但不限于是像素间距的倍数。
S301、形成彩色光阻图案302和用于间隔彩色光阻图案302的黑矩阵图案301；黑矩阵图案301至少位于架桥203上。
其中，可以先形成彩色光阻图案302，再形成黑矩阵图案301；也可以先形成黑矩阵图案301，再形成彩色光阻图案302。
需要说明的是，在制作黑矩阵图案301时，黑矩阵图案301不应遮挡住架桥203与步骤S302中第二子触控电极2021连通的位置，即黑矩阵图案301不能完全覆盖架桥203，在形成黑矩阵图案301时，应预留出架桥203的搭桥孔303。
S302、形成沿第一方向依次排列的多个第一触控电极201和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极202；第一触控电极201和第二触控电极202交叉设置，每个第一触控电极201包括直接连接的多个第一子触控电极2011，每个第二触控电极202包括间隔排布的多个第二子触控电极2021，相邻第二子触控电极2021通过架桥203连通，架桥203和第一触控电极201通过黑矩阵图案301相互绝缘。
此处，由于架桥203上设置有黑矩阵图案301，因而架桥203和第一触控电极201相互绝缘，进而可以使第一触控电极201和第二触控电极202相互绝缘。
由于上述步骤S200-步骤S202以及步骤S300-步骤S302中，第一触控电极201和第二触控电极202同时制作，因而简化了触控显示基板的制作工艺。
第三种，如图3以及图15所示，触控显示基板的制备方法具体包括：
S400、在衬底基板60上形成沿第一方向依次排列的多个第一触控电极201。
S401、形成彩色光阻图案302和用于间隔彩色光阻图案302的黑矩阵图案301。
其中，可以先形成彩色光阻图案302，再形成黑矩阵图案301；也可以先形成黑矩阵图案301，再形成彩色光阻图案302。
S402、形成沿第二方向依次排列的多个第二触控电极202；其中，第一触控电极201和第二触控电极202交叉设置，且交叉位置处通过黑矩阵图案301相互绝缘。
需要说明的是，对于第一触控电极201之间的间距、第一触控电极201的大小以及第二触控电极202之间的间距、第二触控电极202的大小不进行限定，可以根据触控的需要进行相应设置。对于黑矩阵图案301的形状、大小可以根据像素需要进行相应设置。基于此，在制作黑矩阵图案301和第一触控电极201、第二触控电极202时，还应确保黑矩阵图案301在衬底基板60上的投影覆盖第一触控电极201和第二触控电极202在衬底基板60上投影重叠的区域，这样黑矩阵图案301就可以使第一触控电极201和第二触控电极202相互绝缘。
基于上述，在制备触控显示装置时，若触控显示装置为OLED触控显示装置或QLED触控显示装置，在衬底基板60上制作触控层20、彩色光阻图案302以及黑矩阵图案301之前，如图7所示，还可以在衬底基板60上依次形成显示层80和封装层90。封装层90可以是薄膜封装层，也可以是基板封装层。当封装层90为薄膜封装层时，如图8所示，还可以在封装层90上形成缓冲层100。其中，显示层80的制作工艺与现有技术相同，此处不再赘述。在衬底基板60上制作完触控层20、彩色光阻图案302以及黑矩阵图案301之后，如图7所示，还可以形成平坦层70。
若触控显示装置为液晶显示装置时，在衬底基板60上制作完触控层20、彩色光阻图案302以及黑矩阵图案301之后，如图9所示，还可以形成平坦层70。触控显示基板制备完成后，将制备好的触控显示基板与阵列基板110按照成盒工艺完成制盒。此处，成盒工艺与现有技术相同，如包括在平坦层70、阵列基板110上设置取向层、涂封边胶、滴液晶等过程，此处不再赘述。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (13)

1.一种触控显示基板，其特征在于，包括：衬底基板和设置在所述衬底基板上的彩色光阻图案以及用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；
还包括：触控层，所述触控层包括沿第一方向依次排列的多个第一触控电极和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极；其中，所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉设置，且交叉位置处通过所述黑矩阵图案相互绝缘。
2.根据权利要求1所述的触控显示基板，其特征在于，所述第一触控电极和所述第二触控电极同层设置，每个所述第一触控电极包括直接连接的多个第一子触控电极，每个所述第二触控电极包括间隔排布的多个第二子触控电极；
所述触控层还包括位于所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉位置处的架桥，所述架桥用于将相邻所述第二子触控电极连通。
3.根据权利要求2所述的触控显示基板，其特征在于，所述架桥的材料为非透明导电材料。
4.根据权利要求1所述的触控显示基板，其特征在于，所述第一触控电极和所述第二触控电极设置在不同层。
5.根据权利要求1-4任一项所述的触控显示基板，其特征在于，所述衬底基板为柔性衬底基板。
6.根据权利要求1所述的触控显示基板，其特征在于，所述触控显示基板还包括设置在所述触控层、所述彩色光阻图案以及所述黑矩阵图案远离所述衬底基板一侧的平坦层。
7.一种触控显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的触控显示基板。
8.根据权利要求7所述的触控显示装置，其特征在于，所述触控显示基板还包括设置在所述触控层、所述彩色光阻图案以及所述黑矩阵图案靠近所述衬底基板一侧的显示层和封装层；所述显示层设置在所述衬底基板和所述封装层之间；
其中，所述显示层包括多个亚像素，每个所述亚像素包括第一电极、发光功能层和第二电极。
9.根据权利要求7所述的触控显示装置，其特征在于，所述触控显示装置还包括阵列基板以及设置在所述阵列基板和所述触控显示基板之间的液晶层。
10.一种触控显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成彩色光阻图案和用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；
形成触控层，所述触控层包括沿第一方向依次排列的多个第一触控电极和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极；其中，所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉设置，且交叉位置处通过所述黑矩阵图案相互绝缘。
11.根据权利要求10所述的触控显示基板的制备方法，其特征在于，所述触控显示基板的制备方法具体包括：
在所述衬底基板上形成沿第一方向依次排列的多个所述第一触控电极和沿第二方向依次排列的多个所述第二触控电极；所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉设置，每个所述第一触控电极包括直接连接的多个第一子触控电极，每个所述第二触控电极包括间隔排布的多个第二子触控电极；
形成所述彩色光阻图案和用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；所述黑矩阵图案至少覆盖所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉位置处的所述第一触控电极；
在所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉位置处形成架桥，所述架桥用于将相邻所述第二子触控电极连通。
12.根据权利要求10所述的触控显示基板的制备方法，其特征在于，所述触控显示基板的制备方法具体包括：
在所述衬底基板上形成架桥；
形成所述彩色光阻图案和用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；所述黑矩阵图案至少位于所述架桥上；
形成沿第一方向依次排列的多个所述第一触控电极和沿第二方向依次排列的多个所述第二触控电极；所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉设置，每个所述第一触控电极包括直接连接的多个第一子触控电极，每个所述第二触控电极包括间隔排布的多个第二子触控电极，相邻所述第二子触控电极通过所述架桥连通，所述架桥和所述第一触控电极通过所述黑矩阵图案相互绝缘。
13.根据权利要求10所述的触控显示基板的制备方法，其特征在于，所述触控显示基板的制备方法具体包括：
在所述衬底基板上形成沿第一方向依次排列的多个所述第一触控电极；
形成彩色光阻图案和用于间隔所述彩色光阻图案的黑矩阵图案；
形成沿第二方向依次排列的多个所述第二触控电极；其中，所述第一触控电极和所述第二触控电极交叉设置，且交叉位置处通过所述黑矩阵图案相互绝缘。
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