CN107085480A - 一种触控基板及其制备方法、触控显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种触控基板及其制备方法、触控显示装置，涉及显示技术领域。触控基板包括依次形成在衬底基板上的遮光图案、触控电极层、第一绝缘图案和触控信号走线；遮光图案围成可视区域；触控电极层包括交叉且绝缘的多个第一触控电极和多个第二触控电极；多个第一触控电极和多个第二触控电极均包括可视类触控电极，可视类触控电极的中间部分位于可视区域、两个端部延伸至遮光图案上方；多个第一触控电极和/或多个第二触控电极还包括位于遮光图案上方的非可视类触控电极；沿垂直于衬底基板的方向，第一绝缘图案在遮光图案上的投影在遮光图案的边界内；触控信号走线与所有可视类及部分非可视类触控电极相连，或仅与所有可视类触控电极相连。

Description

一种触控基板及其制备方法、触控显示装置
技术领域
本发明涉及触控技术领域，尤其涉及一种触控基板及其制备方法、触控显示装置。
背景技术
目前触摸屏市场上已出现多种类型的触摸屏，例如GG(Glass-Glass，双片玻璃)、GF(Glass-Film，玻璃-薄膜)、GFF(Glass-Film-Film，玻璃-双薄膜)、OGS(One glasssolution，一体化触控)、on-cell(外置式)、in-cell(嵌入式)等。然而，无论是何种类型的触摸屏，在生产过程中都面临着开发成本高、Mask(掩膜板)类型多等问题，即使尺寸相同的产品，若产品触控功能区的大小发生变化，则用于制作触控电极层的Mask就需要相应发生变化，从而导致同一尺寸的产品，在同一工序中无法实现Mask的共用。例如，有些相同型号产品只因产品通道数略有差异，则需要重新设计Mask(如Tx35与Rx64的产品和Tx34与Rx60的产品就需要在设计过程中重新进行Mask的设计与采购)，这就导致在生产过程面临着Mask类型多、生产成本高等问题。
发明内容
本发明的实施例提供一种触控基板及其制备方法、触控显示装置，可使同一型号的掩膜板能应用于尺寸相同，触控功能区大小不同的触控基板的同一生产工序中。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
第一方面，提供一种触控基板，包括衬底基板以及依次形成在所述衬底基板上的遮光图案、触控电极层、第一绝缘图案和触控信号走线；所述遮光图案位于所述衬底基板的边缘，且围成可视区域；所述触控电极层包括沿第一方向依次排布的多个第一触控电极和沿第二方向依次排布的多个第二触控电极，所述第一触控电极和所述第二触控电极相互绝缘，其中，所述第一方向和所述第二方向相互交叉；所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极均包括可视类触控电极，所述可视类触控电极的中间部分位于所述可视区域、且两个端部延伸至所述遮光图案上方；所述多个第一触控电极，和/或所述多个第二触控电极还包括非可视类触控电极，所述非可视类触控电极位于所述遮光图案上方；所述第一绝缘图案位于所述触控电极层和所述触控信号走线之间，且沿垂直于所述衬底基板的板面方向，所述第一绝缘图案在所述遮光图案所在层的投影在所述遮光图案的边界以内；所述触控信号走线用于与所有可视类触控电极及部分非可视类触控电极相连，或者，仅与所有可视类触控电极相连。
优选的，所述触控基板还包括设置在所述触控信号走线上的保护层；其中，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述保护层与所述第一绝缘图案完全重叠。
优选的，所述第一绝缘图案的材料为遮光材料。
优选的，所述第一绝缘图案覆盖未与所述触控信号走线相连的触控电极。
优选的，所述触控基板还包括形成在所述触控电极层背离所述遮光图案一侧的隔离层，所述隔离层在所述触控电极层上的投影覆盖所述触控电极层。
优选的，所述第一触控电极包括直接连接的多个第一子触控电极；所述第二触控电极包括间隔排布的多个第二子触控电极，所述第二子触控电极之间通过架桥连接；其中，所述架桥与所述第一触控电极之间设置有第二绝缘图案。
第二方面，提供一种触控显示装置，包括上述的触控基板。
第三方面，提供一种触控基板的制备方法，包括：在衬底基板的边缘区域形成遮光图案，且所述遮光图案围成可视区域；采用镀膜、涂布光刻胶、通过掩膜板曝光、显影及刻蚀工艺形成触控电极层；所述触控电极层包括沿第一方向依次排布的多个第一触控电极和沿第二方向依次排布的多个第二触控电极，所述第一触控电极和所述第二触控电极相互绝缘，其中，所述第一方向和所述第二方向相互交叉；所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极均包括可视类触控电极，所述可视类触控电极的中间部分位于所述可视区域、且两个端部延伸至所述遮光图案上方，所述多个第一触控电极，和/或所述多个第二触控电极还包括非可视类触控电极，所述非可视类触控电极位于所述遮光图案上方；形成第一绝缘图案；其中，沿垂直于所述衬底基板的板面方向，所述第一绝缘图案的投影在所述遮光图案的边界以内；在所述第一绝缘图案上形成触控信号走线，所述触控信号走线与所有可视类触控电极及部分非可视类触控电极相连，或者，仅与所有可视类触控电极相连。
优选的，所述方法还包括：在所述触控信号走线上形成保护层；其中，所述第一绝缘图案和所述保护层的曝光工序使用同一型号掩膜板。
优选的，在形成触控电极层之后，所述方法还包括：在所述衬底基板上形成隔离层。
优选的，形成触控电极层，具体包括：形成第一导电薄膜，通过构图工艺形成架桥；形成绝缘薄膜，通过构图工艺在所述架桥上形成第二绝缘图案；形成第二导电薄膜，通过构图工艺形成沿第一方向依次排布的多个第一触控电极和沿第二方向依次排布的多个第二触控电极；其中，所述第一触控电极包括多个直接相连的第一子触控电极，第二触控电极包括多个间隔排布的第二子触控电极，第二子触控电极之间通过所述架桥连接。
或者，形成第二导电薄膜，通过构图工艺形成沿第一方向依次排布的多个第一触控电极和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极；其中，所述第一触控电极包括多个直接相连的第一子触控电极，所述第二触控电极包括多个间隔排布的第二子触控电极；形成绝缘薄膜，通过构图工艺在沿与第一触控电极交叉的方向，相邻第二子触控电极之间形成第二绝缘图案；形成第一导电薄膜，通过构图工艺在第二绝缘图案上形成架桥，所述架桥用于将相邻所述第二子触控电极之间连接。
本发明实施例提供一种触控基板及其制备方法、触控显示装置，由于触控基板上多个第一触控电极，和/或多个第二触控电极还包括非可视类触控电极，因而通过控制触控信号走线与多个第一触控电极，和/或多个第二触控电极中非可视类触控电极相连的个数，便可以控制触控功能区的大小。基于上述，对于同一尺寸或尺寸相近的触控产品，触控基板的触控电极层中的每一个膜层在制作过程中可以使用同一型号的掩膜板，以形成最大化的触控功能区，再根据触控基板上真实触控功能区的大小，使触控信号走线与真实触控区内的非可视类触控电极相连，因此对于同一尺寸或尺寸相近，真实触控功能区大小不同的产品，在触控电极层的制作工序中，对于同一膜层可以共用同一型号的掩膜板。相对于现有技术，对于同一尺寸或尺寸相近，触控功能区大小不同的产品，需采用不同型号的掩膜板生产触控电极层，因而本发明实施例减少了触控基板制作过程中使用的掩膜板的类型。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种触控基板的结构示意图一；
图2(a)为本发明实施例提供的一种触控基板的结构示意图二；
图2(b)为本发明实施例提供的一种触控基板的结构示意图三；
图3为本发明实施例提供的一种触控基板的结构示意图四；
图4为本发明实施例提供的一种触控基板的结构示意图五；
图5为本发明实施例提供的一种触控基板的结构示意图六；
图6为本发明实施例提供的一种触控基板的制备方法的流程示意图；
图7为本发明实施例提供的一种在衬底基板上形成遮光图案的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的一种在遮光图案上形成触控电极层的结构示意图；
图9为本发明实施例提供的一种在触控电极层和触控信号走线之间形成第一绝缘图案的结构示意图。
附图标记：
10-衬底基板；20-遮光图案；30-触控电极层；301-第一触控电极；3011-第一子触控电极；302-第二触控电极；3021-第二子触控电极；303-可视类触控电极；304-非可视类触控电极；40-第一绝缘图案；50-触控信号走线；60-保护层；70-隔离层；80-架桥；90-第二绝缘图案。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种触控基板，如图1-图5所示，包括衬底基板10以及依次形成在衬底基板10上的遮光图案20、触控电极层30、第一绝缘图案40和触控信号走线50。
其中，遮光图案20位于衬底基板10的边缘，且围成可视区域。
触控电极层30包括沿第一方向依次排布的多个第一触控电极301和沿第二方向依次排布的多个第二触控电极302，第一触控电极301和第二触控电极302相互绝缘，第一触控电极301和第二触控电极302为条状，其中，第一方向和第二方向相互交叉。多个第一触控电极301和多个第二触控电极302均包括可视类触控电极303，可视类触控电极303的中间部分位于可视区域、且两个端部延伸至遮光图案20上方；多个第一触控电极301，和/或多个第二触控电极302还包括非可视类触控电极304，非可视类触控电极304位于遮光图案20上方。
第一绝缘图案40位于触控电极层30和触控信号走线50之间，且沿垂直于衬底基板10的板面方向，即厚度方向，第一绝缘图案40在遮光图案20所在层的投影在遮光图案20的边界以内。
触控信号走线50用于与可视类触控电极303及部分非可视类触控电极304相连，或者，仅与所有可视类触控电极303相连。
需要说明的是，第一，可视区域即为显示区域，遮光图案20围成的区域为显示区域，遮光图案20所在的区域为非显示区域。
在触控基板大小不变的情况下，可以改变遮光图案20的面积，来调整显示区域的大小。
第二，对于第一触控电极301和第二触控电极302的类型不进行限定，可以是第一触控电极301为驱动电极，第二触控电极302为感应电极，也可以是第一触控电极301为感应电极，第二触控电极302为驱动电极。
在此基础上，可以在第一触控电极301和第二触控电极302交叉的位置形成第二绝缘图案，以使第一触控电极301和第二触控电极302相互绝缘。
此处，如图2所示，第一触控电极301由多个第一子触控电极3011相连构成，图2中虚线所包围的是一个第一触控电极301，点划线所包围的是一个第一子触控电极3011；同理，第二子触控电极302由多个第二子触控电极3021相连构成，图2中虚线所包围的是一个第二触控电极302，点划线所包围的是一个第二子触控电极3021。此处所指的相连，可以是直接相连，也可以是通过其它连接部间接相连。
基于上述，对于第一触控电极301和第二触控电极302的材料和形状不进行限定，可以和现有技术相同。第一触控电极301和第二触控电极302的材料为透明导电材料，例如可以为ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)或IZO(Indium Zinc Oxide，氧化铟锌)。
其中，第一触控电极301和第二触控电极302在衬底基板10上所占的面积越大，触控基板的触控功能区的面积越大。在触控基板的实际制作过程中，优选触控电极层30的面积尽可能大，以确保能够制作出最大化的触控功能区(Active Area，简称AA区)。
第三，可视类触控电极303是指中间部分位于可视区域、且两个端部延伸至遮光图案20上方的触控电极，非可视类触控电极304是指全部设置于遮光图案20上方，位于非显示区的触控电极。此处，中间部分和两个端部均指的是第一触控电极301或第二触控电极302沿长度方向的中间部分和两个端部。在此基础上，无论第一触控电极301或第二触控电极302的中间部分是全部位于可视区域，还是部分位于可视区域，只要中间部分有一部分位于可视区域，均视为可视类触控电极303。
第四，为了确保可视区域可以进行触控，因而触控信号走线50必须与可视类触控电极303全部相连。在实际触控基板的生产过程中，可以根据产品真实触控功能区的大小，确定需要形成的触控信号走线50的个数，并使触控信号走线50与可视类触控电极303以及真实触控功能区内的非可视类触控电极304相连。
示例的，若触控产品在设计时，要求只有可视区域具有触控功能，则如图2(a)所示，在制作完触控电极层30后，根据可视区域内第一触控电极301和第二触控电极302的个数制作触控信号走线50，并使触控信号走线50与可视区域内的触控电极相连；若触控产品在设计时，要求可视区域和非可视区域均有触控功能，则如图2(b)所示，在制作完触控电极层30后，根据可视区域及具有触控功能的非可视区域内的第一触控电极301和第二触控电极302的个数制作触控信号走线50，并使触控信号走线50与可视区域及具有触控功能的非可视区域内的触控电极相连。附图2(b)中以非可视区域全部具有触控功能为例进行示意，但是在实际触控产品的生产过程中，并不限于非可视区域全部具有触控功能，也可以是非可视区域中的部分具有触控功能。
如图2所示，当触控信号走线50仅与所有可视类触控电极303相连时，此时只有可视区域具有触控功能。
此处，触控信号走线50也可以与所有非可视类触控电极304相连，此时，设置有触控电极的区域均具有触控功能。
在此基础上，以图2中第一触控电极301和第二触控电极302的设置方向为例，可以仅是第一触控电极301还包括非可视类触控电极304，此时通过调整与触控信号走线50相连的第一触控电极301中非可视类触控电极304的个数，便可以调整触控基板左右两端触控功能区的大小，同时触控基板上下两端触控功能区的大小不能改变；也可以仅是第二触控电极302还包括非可视类触控电极304，此时通过调整与触控信号走线50相连的第二触控电极302中非可视类触控电极304的个数，便可以调整触控基板上下两端触控功能区的大小，此时，触控基板左右两端触控功能区的大小不能改变；当然也可以是，如图2所示，第一触控电极301和第二触控电极302均包括非可视类触控电极304，此时通过调整与触控信号走线50相连的第一触控电极301和第二触控电极302中非可视类触控电极304的个数，便可以控制触控基板上下两端和左右两端触控功能区的大小。
第五，可以利用第一绝缘图案40将触控基板上最大化的触控功能区与当前产品的真实触控功能区相比多余的区域全部覆盖，也可以仅在需要设置触控信号走线50的区域设置第一绝缘图案40。
本发明实施例提供一种触控基板，由于触控基板上多个第一触控电极301，和/或多个第二触控电极302还包括非可视类触控电极304，因而通过控制触控信号走线50与多个第一触控电极301，和/或多个第二触控电极302中非可视类触控电极304相连的个数，便可以控制触控功能区的大小。
基于上述，对于同一尺寸或尺寸相近的触控产品，触控基板的触控电极层30中的每一个膜层在制作过程中可以使用同一型号的掩膜板，以形成最大化的触控功能区，再根据触控基板上真实触控功能区的大小，使触控信号走线50与真实触控区内的非可视类触控电极304相连，因此对于同一尺寸或尺寸相近，真实触控功能区大小不同的产品，在触控电极层30的制作工序中，对于同一膜层可以共用同一型号的掩膜板。相对于现有技术，对于同一尺寸或尺寸相近，触控功能区大小不同的产品，需采用不同型号的掩膜板生产触控电极层30，因而本发明实施例减少了触控基板制作过程中使用的掩膜板的类型。
优选的，如图3所示，触控基板还包括设置在触控信号走线50上的保护层60；其中，沿垂直于衬底基板10的方向，保护层60与第一绝缘图案40完全重叠。
其中，对于保护层60的材料不进行限定，示例的，保护层60的材料可以为氮化硅(SiN)、氧化硅(SiO2)或氮氧化硅(SiNxOy)等。
本发明实施例，在触控信号走线50的上方设置保护层60，保护层60可以对触控信号走线50进行保护，防止触控信号走线50划伤断裂。在此基础上，由于沿垂直于衬底基板10的方向，保护层60与第一绝缘图案40完全重叠，因此可以利用同一型号的掩膜板形成第一绝缘图案40和保护层60，因而可以在触控基板制作过程中减少需要使用的掩膜板的类型，降低生产成本。
需要说明的是，第一绝缘图案40的材料一般为氮化硅、氧化硅或氮氧化硅等，由于这些材料的硬度比较小，因而在制作过程中容易被划伤，从而可能会导致触控信号走线50与其下方的触控电极接触，而遮光材料相对氮化硅、氧化硅或氮氧化硅等硬度较大，因而优选的，第一绝缘图案40的材料为遮光材料。
其中，遮光材料例如可以是黑色树脂。
优选的，如图4所示，第一绝缘图案40覆盖未与触控信号走线50相连的触控电极。
其中，触控基板上的触控电极层30在制作过程中形成的是最大化的触控功能区，每一个触控基板都有其真实触控功能区，触控信号走线50与真实触控功能区内的触控电极相连，其他未与触控信号走线50相连的触控电极不用于实现触控功能，因此第一绝缘图案40覆盖最大化的触控功能区与真实触控功能区相比多余的区域。
本发明实施例，第一绝缘图案40覆盖在未与触控信号走线50相连的第一触控电极301和第二触控电极302上，可以进一步防止非真实触控功能区的触控电极与触控信号走线50连接，而导致触控信号在传递过程中损失。
优选的，如图5所示，触控基板还包括形成在触控电极层30背离遮光图案20一侧的隔离层70，隔离层70在触控电极层30上的投影覆盖触控电极层30。
其中，对于隔离层70的材料不进行限定，例如可以为SiNxOy或SiO2等。
此处，可以在制作完触控电极层30后或制作完第一绝缘图案40后，再形成隔离层70，此时触控信号走线50通过隔离层70上的过孔与第一触控电极301或第二触控电极302相连；也可以在制作完触控信号走线50后，再形成隔离层70。为了简化触控基板的制作工艺，优选的，在制作完触控信号走线50后，再制作隔离层70。
在此基础上，对于隔离层70的形成方法不进行限定，示例的，可以通过溅射法或蒸镀法形成。
本发明实施例，在制作完触控电极层30后，再制作隔离层70，通过隔离层70可以改善触控电极之间的消影问题。
优选的，如图2或图4所示，第一触控电极301包括直接连接的多个第一子触控电极3011；第二触控电极302包括间隔排布的多个第二子触控电极3021，第二子触控电极3021之间通过架桥80连接；其中，架桥80与第一触控电极301之间设置有第二绝缘图案90。
其中，对于架桥80的材料不进行限定，只要能将第二触控电极302中的多个第二子触控电极3021连接在一起即可。架桥80的材料优选为金属材料。
此外，对于第二绝缘图案90的材料不进行限定，例如可以为氮化硅、氧化硅、氮氧化硅等。
本发明实施例，触控电极层30共包括三层，分别为：架桥80、第二绝缘图案90和触控电极(第一子触控电极3011和第二子触控电极3021)。对于同一尺寸或尺寸相近的触控产品，可以利用同一型号的掩膜板制作架桥80，利用同一型号的掩膜板制作第二绝缘图案90，利用同一型号的掩膜板制作第一触控电极301和第二触控电极302，从而可以减小同一尺寸或尺寸相近的触控产品的触控电极层30制作过程中使用的掩膜板的数量。
本发明实施例提供一种触控显示装置，包括上述的触控基板。
本发明实施例提供的触控显示装置可以具有触控功能的任何显示装置。更明确地说，预期所述实施例可实施在多种电子装置中或与多种电子装置关联，所述多种电子装置例如(但不限于)移动电话、无线装置、个人数据助理(PDA)、手持式或便携式计算机、GPS接收器/导航器、相机、MP3播放器、摄像机、游戏控制台、手表、时钟、计算器、电视监视器、平板显示器、计算机监视器、汽车显示器(例如，里程表显示器等)、导航仪、座舱控制器和/或显示器、相机视图的显示器(例如，车辆中后视相机的显示器)、电子相片、电子广告牌或指示牌、投影仪、建筑结构、包装和美学结构(例如，对于一件珠宝的图像的显示器)等，还可以是显示面板等显示部件。
此外，触控显示装置可以是液晶显示装置(Liquid Crystal Display，简称LCD)，也可以是有机电致发光二极管显示装置(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)。当触控显示装置为液晶显示装置时，液晶显示装置包括液晶显示面板和背光模组，液晶显示面板包括阵列基板、对盒基板以及设置在阵列基板和对盒基板之间的液晶层，背光模组包括背光源、扩散板及导光板等；当触控显示装置为有机电致发光二极管显示装置时，触控显示装置包括有机电致发光二极管显示面板，有机电致发光二极管显示面板包括阴极、阳极以及发光层。
本发明实施例提供一种触控显示装置，由于触控基板上多个第一触控电极301，和/或多个第二触控电极302还包括非可视类触控电极304，因而通过控制触控信号走线50与多个第一触控电极301，和/或多个第二触控电极302中非可视类触控电极304相连的个数，便可以控制触控功能区的大小。
基于上述，对于同一尺寸或尺寸相近的触控产品，触控基板的触控电极层30中的每一个膜层在制作过程中可以使用同一型号的掩膜板，以形成最大化的触控功能区，再根据触控基板上真实触控功能区的大小，使触控信号走线50与真实触控区内的非可视类触控电极304相连，因此对于同一尺寸或尺寸相近，真实触控功能区大小不同的产品，在触控电极层30的制作工序中，对于同一膜层可以共用同一型号的掩膜板。相对于现有技术，对于同一尺寸或尺寸相近，触控功能区大小不同的产品，需采用不同型号的掩膜板生产触控电极层30，因而本发明实施例减少了触控基板制作过程中使用的掩膜板的类型。
本发明实施例还提供一种触控基板的制备方法，如图6所示，包括：
S100、如图7所示，在衬底基板10的边缘区域形成遮光图案20，且遮光图案20围成可视区域。
其中，在触控基板的面积大小不变的情况下，可以通过改变遮光图案20的面积大小来调整可视区域的大小。
需要说明的是，触控基板母板是由多个触控基板组成的，本领域技术人员应该明白触控基板在实际制作过程中是先形成触控基板母板，再通过切割形成触控基板。基于此，此处的衬底基板10指的是一个触控基板所对应的部分。
S101、如图8所示，采用镀膜、涂布光刻胶、通过掩膜板曝光、显影及刻蚀工艺形成触控电极层30。触控电极层30包括沿第一方向依次排布的多个第一触控电极301和沿第二方向依次排布的多个第二触控电极302，第一触控电极301和第二触控电极302相互绝缘，其中，第一方向和第二方向相互交叉；多个第一触控电极301和多个第二触控电极302均包括可视类触控电极303，可视类触控电极303的中间部分位于可视区域、且两个端部延伸至遮光图案20上方，多个第一触控电极301，和/或多个第二触控电极302还包括非可视类触控电极，非可视类触控电极位于遮光图案20上方。
此处，形成的触控电极层30的面积应可能的大，以确保形成的触控功能区是最大化的。
需要说明的是，触控电极层30具体包括三层，分别为：架桥80、第二绝缘图案90以及触控电极(第一子触控电极3011和第二子触控电极3021)。此处可以先形成架桥80，再形成第二绝缘图案90，最后形成触控电极；也可以先形成触控电极、再形成第二绝缘图案90，最后形成架桥80。
以下详细介绍触控电极层30的具体形成过程：
首先，形成第一导电薄膜、涂布光刻胶、通过第一掩膜板曝光、显影、刻蚀形成架桥80。其中，对于第一导电薄膜的材料不进行限定，例如，可以是金属材料，也可以是ITO材料。在此基础上，可以通过磁控溅射法或真空蒸镀法形成第一导电薄膜。
其次，形成绝缘薄膜、涂布光刻胶、通过第二掩膜板曝光、显影在所述架桥上形成第二绝缘图案90。其中，可以利用喷涂工艺形成绝缘薄膜。绝缘薄膜的材料例如可以为氮化硅、氧化硅或氮氧化硅等。
最后，形成第二导电薄膜、涂布光刻胶、通过第三掩膜板曝光、显影、刻蚀形成沿第一方向依次排布的多个第一触控电极301和沿第二方向依次排布的多个第二触控电极302。其中，第一触控电极301包括多个直接相连的第一子触控电极3011，第二触控电极302包括多个间隔排布的第二子触控电极3021，第二子触控电极3021之间通过架桥80连接。此处，第二导电薄膜的材料为透明导电材料，例如ITO或IZO等。
或者，先形成第二导电薄膜、涂布光刻胶、通过第三掩膜板曝光、显影、刻蚀形成沿第一方向依次排布的多个第一触控电极301和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极302；其中，第一触控电极301包括多个直接相连的第一子触控电极3011，第二触控电极302包括多个间隔排布的第二子触控电极3021。
其次，形成绝缘薄膜、涂布光刻胶、通过第二掩膜板曝光、显影在架桥90上在沿与第一触控电极301交叉的方向，相邻第二子触控电极3021之间形成第二绝缘图案90。
最后，形成第一导电薄膜、涂布光刻胶、通过第一掩膜板曝光、显影、刻蚀在第二绝缘图案90上形成架桥80，架桥80用于将相邻第二子触控电极3021之间连接。
基于上述，对于同一尺寸或尺寸相近的触控基板，无论触控功能区的尺寸大小如何变化，都是利用同一型号的第一掩膜板形成架桥80，利用同一型号的第二掩膜板形成第二绝缘图案90，利用同一型号的第三掩膜板形成第一触控电极301和第二触控电极302。
此外，以图2中第一触控电极301和第二触控电极302的设置方向为例，可以仅是第一触控电极301还包括非可视类触控电极，此时通过调整与触控信号走线50相连的第一触控电极301中非可视类触控电极的个数，便可以调整触控基板左右两端触控功能区的大小，此时触控基板上下两端触控功能区的大小不能改变；也可以仅是第二触控电极302还包括非可视类触控电极，此时通过调整与触控信号走线50相连的第二触控电极302中非可视类触控电极的个数，便可以调整触控基板上下两端触控功能区的大小，此时，触控基板左右两端触控功能区的大小不能改变；当然也可以是，第一触控电极301和第二触控电极302均包括非可视类触控电极，此时通过调整与触控信号走线50相连的第一触控电极301和第二触控电极302中非可视类触控电极的个数，便可以控制触控基板上下两端或左右两端触控功能区的大小。
S102、如图9所示，形成第一绝缘图案40；其中，沿垂直于衬底基板10的板面方向(即厚度方向)，第一绝缘图案40的投影在遮光图案20的边界以内。
此处，可以如图4所示，在最大化的触控功能区和真实触控功能区相比多余的区域上全部均形成第一绝缘图案40，也可以如图2和图9所示，仅在需要形成触控信号走线50的位置形成第一绝缘图案40，以便后续在第一绝缘图案40上形成触控信号走线50。
S103、如图2和图4所示，在第一绝缘图案40上形成触控信号走线50，触控信号走线50与所有可视类触控电极303及部分非可视类触控电极304相连，或者，仅与所有可视类触控电极303相连。
其中，在步骤S100中，虽然形成的触控电极层30在触控基板上的面积较大，但是只有与触控信号走线50相连的触控电极所在的区域才具有触控功能，因此在实际制作触控基板的过程中，可以根据实际真实触控功能区的大小，控制需要形成的触控信号走线50的个数，并使触控信号走线50与实际触控功能区内的触控电极相连。
需要说明的是，由于触控基板的可视区域必须有触控功能，因此触控信号走线50与所有可视类触控电极303相连。当触控信号走线50仅与所有可视类触控电极303相连时，此时只有可视区域具有触控功能；当触控信号走线50除与所有可视类触控电极303相连外，还与部分非可视类触控电极304相连时，此时与触控信号走线50相连的非可视类触控电极304所在的区域具有触控功能。当然，触控信号走线50还可以与所有的可视类触控电极303和所有的非可视类触控电极304相连，此时，设置有触控电极的区域均具有触控功能。
本发明实施例提供一种触控基板的制备方法，由于触控基板上多个第一触控电极301，和/或多个第二触控电极302还包括非可视类触控电极304，因而通过控制触控信号走线50与多个第一触控电极301，和/或多个第二触控电极302中非可视类触控电极304相连的个数，便可以控制触控功能区的大小。
基于上述，对于同一尺寸或尺寸相近的触控产品，触控基板的触控电极层30中的每一个膜层在制作过程中可以使用同一型号的掩膜板，以形成最大化的触控功能区，再根据触控基板上真实触控功能区的大小，使触控信号走线50与真实触控区内的非可视类触控电极304相连，因此对于同一尺寸或尺寸相近，真实触控功能区大小不同的产品，在触控电极层30的制作工序中，对于同一膜层可以共用同一型号的掩膜板。相对于现有技术，对于同一尺寸或尺寸相近，触控功能区大小不同的产品，需采用不同型号的掩膜板生产触控电极层30，因而本发明实施例减少了触控基板制作过程中使用的掩膜板的类型。
优选的，如图3所示，上述方法还包括：在触控信号走线50上形成保护层60；其中，第一绝缘图案40和保护层60的曝光工序使用同一型号掩膜板。
其中，对于保护层60的材料不进行限定，示例的，保护层40的材料可以为氮化硅、氧化硅或氮氧化硅等。
本发明实施例，在触控信号走线50的上方设置保护层60，保护层60可以对触控信号走线50进行保护，防止触控信号走线50划伤断裂。在此基础上，由于第一绝缘图案40和保护层60的曝光工序使用同一型号掩膜板，因而可以在触控基板制作过程中减少需要使用的掩膜板的类型，降低生产成本。
优选的，如图5所示，在形成触控电极层30之后，上述方法还包括：在衬底基板10上形成隔离层70。
其中，对于隔离层70的材料不进行限定，例如可以为SiNxOy或SiO2等。此外，对于隔离层70的制作方法不进行限定，例如可以利用溅射法或蒸镀法形成隔离层70。
此处，可以在制作完触控电极层30后或制作完第一绝缘图案40后，再形成隔离层70，此时触控信号走线50通过隔离层70上的过孔与第一触控电极301或第二触控电极302相连；也可以在制作完触控信号走线50后，再形成隔离层70。为了简化触控基板的制作工艺，优选的，在制作完触控信号走线50后，再制作隔离层70。
本发明实施例，在制作完触控电极层30后，再制作隔离层70，通过隔离层70可以改善触控电极之间的消影问题。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (11)

1.一种触控基板，其特征在于，包括衬底基板以及依次形成在所述衬底基板上的遮光图案、触控电极层、第一绝缘图案和触控信号走线；
所述遮光图案位于所述衬底基板的边缘，且围成可视区域；
所述触控电极层包括沿第一方向依次排布的多个第一触控电极和沿第二方向依次排布的多个第二触控电极，所述第一触控电极和所述第二触控电极相互绝缘，其中，所述第一方向和所述第二方向相互交叉；所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极均包括可视类触控电极，所述可视类触控电极的中间部分位于所述可视区域、且两个端部延伸至所述遮光图案上方；所述多个第一触控电极，和/或所述多个第二触控电极还包括非可视类触控电极，所述非可视类触控电极位于所述遮光图案上方；
所述第一绝缘图案位于所述触控电极层和所述触控信号走线之间，且沿垂直于所述衬底基板的板面方向，所述第一绝缘图案在所述遮光图案所在层的投影在所述遮光图案的边界以内；
所述触控信号走线用于与所有可视类触控电极及部分非可视类触控电极相连，或者，仅与所有可视类触控电极相连。
2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控基板还包括设置在所述触控信号走线上的保护层；
其中，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述保护层与所述第一绝缘图案完全重叠。
3.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第一绝缘图案的材料为遮光材料。
4.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第一绝缘图案覆盖未与所述触控信号走线相连的触控电极。
5.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控基板还包括形成在所述触控电极层背离所述遮光图案一侧的隔离层，所述隔离层在所述触控电极层上的投影覆盖所述触控电极层。
6.根据权利要求1-5任一项所述的触控基板，其特征在于，所述第一触控电极包括直接连接的多个第一子触控电极；所述第二触控电极包括间隔排布的多个第二子触控电极，所述第二子触控电极之间通过架桥连接；
其中，所述架桥与所述第一触控电极之间设置有第二绝缘图案。
7.一种触控显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的触控基板。
8.一种触控基板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底基板的边缘区域形成遮光图案，且所述遮光图案围成可视区域；
采用镀膜、涂布光刻胶、通过掩膜板曝光、显影及刻蚀工艺形成触控电极层；所述触控电极层包括沿第一方向依次排布的多个第一触控电极和沿第二方向依次排布的多个第二触控电极，所述第一触控电极和所述第二触控电极相互绝缘，其中，所述第一方向和所述第二方向相互交叉；所述多个第一触控电极和所述多个第二触控电极均包括可视类触控电极，所述可视类触控电极的中间部分位于所述可视区域、且两个端部延伸至所述遮光图案上方，所述多个第一触控电极，和/或所述多个第二触控电极还包括非可视类触控电极，所述非可视类触控电极位于所述遮光图案上方；
形成第一绝缘图案；其中，沿垂直于所述衬底基板的板面方向，所述第一绝缘图案的投影在所述遮光图案的边界以内；
在所述第一绝缘图案上形成触控信号走线，所述触控信号走线与所有可视类触控电极及部分非可视类触控电极相连，或者，仅与所有可视类触控电极相连。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：在所述触控信号走线上形成保护层；
其中，所述第一绝缘图案和所述保护层的曝光工序使用同一型号掩膜板。
10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，在形成所述触控电极层之后，所述方法还包括：
在所述衬底基板上形成隔离层。
11.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，形成触控电极层，具体包括：
形成第一导电薄膜，通过构图工艺形成架桥；
形成绝缘薄膜，通过构图工艺在所述架桥上形成第二绝缘图案；
形成第二导电薄膜，通过构图工艺形成沿第一方向依次排布的多个第一触控电极和沿第二方向依次排布的多个第二触控电极；其中，所述第一触控电极包括多个直接相连的第一子触控电极，第二触控电极包括多个间隔排布的第二子触控电极，第二子触控电极之间通过所述架桥连接；
或者，形成第二导电薄膜，通过构图工艺形成沿第一方向依次排布的多个第一触控电极和沿第二方向依次排列的多个第二触控电极；其中，所述第一触控电极包括多个直接相连的第一子触控电极，所述第二触控电极包括多个间隔排布的第二子触控电极；
形成绝缘薄膜，通过构图工艺在沿与第一触控电极交叉的方向，相邻第二子触控电极之间形成第二绝缘图案；
形成第一导电薄膜，通过构图工艺在第二绝缘图案上形成架桥，所述架桥用于将相邻所述第二子触控电极之间连接。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018149125A1 (zh) * 2017-02-16 2018-08-23 京东方科技集团股份有限公司 触控基板及其制备方法、触控显示装置
CN108845725A (zh) * 2018-08-21 2018-11-20 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控基板、触控屏以及电子装置
CN108920008A (zh) * 2018-07-23 2018-11-30 意力(广州)电子科技有限公司 显示设备、触控面板、触控传感器及其制造方法
CN109343735A (zh) * 2018-09-18 2019-02-15 京东方科技集团股份有限公司 一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置
CN111475061A (zh) * 2020-04-10 2020-07-31 意力(广州)电子科技有限公司 触控屏的制备方法和触控屏
CN111625143A (zh) * 2020-05-26 2020-09-04 京东方科技集团股份有限公司 触控基板及其制作方法
CN113867043A (zh) * 2020-06-30 2021-12-31 京东方科技集团股份有限公司 发光基板及其制备方法、显示装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021119952A1 (zh) * 2019-12-16 2021-06-24 京东方科技集团股份有限公司 触控基板及显示装置
CN111007961B (zh) * 2019-12-19 2024-03-29 京东方科技集团股份有限公司 触控基板及其制作方法、显示装置

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010020749A (ja) * 2008-07-11 2010-01-28 Samsung Mobile Display Co Ltd タッチスクリーンパネル及びその製造方法
JP2011090443A (ja) * 2009-10-21 2011-05-06 Optrex Corp 投影型静電容量タッチパネル、その製造方法および電子機器
TWM457919U (zh) * 2013-02-08 2013-07-21 Liyitec Inc 觸控面板
CN103455203A (zh) * 2013-08-30 2013-12-18 京东方科技集团股份有限公司 触摸屏、其制作方法及显示装置
CN104123048A (zh) * 2013-04-25 2014-10-29 北京京东方光电科技有限公司 一种电容式触摸板、显示装置以及触摸板制造方法
US20150062455A1 (en) * 2013-08-30 2015-03-05 Boe Technology Group Co., Ltd Touch screen panel and method for manufacturing the same, and display device
CN104407749A (zh) * 2014-05-31 2015-03-11 福州大学 一种3d制造ogs电容触摸屏的方法
CN204423349U (zh) * 2015-02-04 2015-06-24 奕力科技股份有限公司 单层感应的电容式触控面板
CN104793833A (zh) * 2015-05-18 2015-07-22 合肥鑫晟光电科技有限公司 触控基板及其制作方法和显示装置
CN104951151A (zh) * 2014-03-27 2015-09-30 林志忠 触控模块制造方法
US20150309605A1 (en) * 2014-04-25 2015-10-29 Innolux Corporation Touch panel and touch display device
CN105022516A (zh) * 2014-04-25 2015-11-04 群创光电股份有限公司 触控面板与触控显示装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201207706A (en) * 2010-08-05 2012-02-16 Arima Display Corp Projected capacitive touch panel and fabrication method thereof
TW201430635A (zh) * 2013-01-18 2014-08-01 Wintek Corp 觸控面板
CN203178958U (zh) * 2013-02-27 2013-09-04 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板
CN104007864B (zh) * 2013-02-27 2017-09-12 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板及其制作方法
TWI485598B (zh) * 2013-07-02 2015-05-21 Au Optronics Corp 觸控面板及其製造方法
KR102260875B1 (ko) * 2013-10-11 2021-06-04 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN107085480B (zh) * 2017-02-16 2022-09-27 京东方科技集团股份有限公司 一种触控基板及其制备方法、触控显示装置

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010020749A (ja) * 2008-07-11 2010-01-28 Samsung Mobile Display Co Ltd タッチスクリーンパネル及びその製造方法
JP2011090443A (ja) * 2009-10-21 2011-05-06 Optrex Corp 投影型静電容量タッチパネル、その製造方法および電子機器
TWM457919U (zh) * 2013-02-08 2013-07-21 Liyitec Inc 觸控面板
CN104123048A (zh) * 2013-04-25 2014-10-29 北京京东方光电科技有限公司 一种电容式触摸板、显示装置以及触摸板制造方法
CN103455203A (zh) * 2013-08-30 2013-12-18 京东方科技集团股份有限公司 触摸屏、其制作方法及显示装置
US20150062455A1 (en) * 2013-08-30 2015-03-05 Boe Technology Group Co., Ltd Touch screen panel and method for manufacturing the same, and display device
CN104951151A (zh) * 2014-03-27 2015-09-30 林志忠 触控模块制造方法
US20150309605A1 (en) * 2014-04-25 2015-10-29 Innolux Corporation Touch panel and touch display device
CN105022516A (zh) * 2014-04-25 2015-11-04 群创光电股份有限公司 触控面板与触控显示装置
CN104407749A (zh) * 2014-05-31 2015-03-11 福州大学 一种3d制造ogs电容触摸屏的方法
CN204423349U (zh) * 2015-02-04 2015-06-24 奕力科技股份有限公司 单层感应的电容式触控面板
CN104793833A (zh) * 2015-05-18 2015-07-22 合肥鑫晟光电科技有限公司 触控基板及其制作方法和显示装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018149125A1 (zh) * 2017-02-16 2018-08-23 京东方科技集团股份有限公司 触控基板及其制备方法、触控显示装置
CN108920008A (zh) * 2018-07-23 2018-11-30 意力(广州)电子科技有限公司 显示设备、触控面板、触控传感器及其制造方法
CN108845725A (zh) * 2018-08-21 2018-11-20 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控基板、触控屏以及电子装置
WO2020037793A1 (zh) * 2018-08-21 2020-02-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控基板、触控屏及电子装置
CN108845725B (zh) * 2018-08-21 2020-04-10 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控基板、触控屏以及电子装置
CN109343735A (zh) * 2018-09-18 2019-02-15 京东方科技集团股份有限公司 一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置
CN109343735B (zh) * 2018-09-18 2022-08-09 京东方科技集团股份有限公司 一种触控显示基板及其制备方法、触控显示装置
CN111475061A (zh) * 2020-04-10 2020-07-31 意力(广州)电子科技有限公司 触控屏的制备方法和触控屏
CN111625143A (zh) * 2020-05-26 2020-09-04 京东方科技集团股份有限公司 触控基板及其制作方法
CN111625143B (zh) * 2020-05-26 2024-04-12 京东方科技集团股份有限公司 触控基板及其制作方法
CN113867043A (zh) * 2020-06-30 2021-12-31 京东方科技集团股份有限公司 发光基板及其制备方法、显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN107085480B (zh) 2022-09-27
US20190056818A1 (en) 2019-02-21
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