CN110676293A - 一种彩膜基板、显示面板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种彩膜基板、显示面板及其制备方法，包括依次设置的辅助阴极层、光阻层、RGB色阻层、黑色矩阵和玻璃基板，其中所述黑色矩阵正下方区域的所述光阻层的厚度大于非黑色矩阵下的所述光阻层的厚度，所述辅助阴极层设置于所述黑色矩阵区域下方的所述光阻层的下方。利用半透光罩技术或两道光罩的方法制备黑色矩阵正上方的光阻层较厚，然后在黑色矩阵区域上方的光阻层上方制备辅助阴极层，由于下方的光阻层较高，从而上方的辅助阴极层也较高，便于彩膜基板与薄膜晶体管背板贴合时辅助阴极层与阴极层搭接；由于辅助阴极层阻抗较小，其与阴极层接触后，阴极层的电阻会同步降低，从而减少压降，改善显示面板压降的问题，提高显示面板的品质。

Description

一种彩膜基板、显示面板及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示面板技术领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
有机发光二极管(organic light-emitting diode，OLED)具有超越LCD的显示特性与品质,例如轻薄化、短的反应时间，低的驱动电压、更好的显示色彩以及显示视角等优点，其受到大家广泛的关注，近些年其发展日新月异，不仅可以制作曲面显示，同时也逐渐向大尺寸发展。但是大尺寸的OLED又存在又压降问题，尤其是对于顶发射的面板，目视可见的mura(亮度不均匀)，阴极较薄导致的压降问题更加亟待解决。
现有技术中，制作辅助电极以及阴极隔离柱，将阴极由原来的整面成膜改为隔离开搭接到下面的辅助电极上从而达到单独控制阴极，从而减少压降问题的发生；或者用激光将有机发光层烧断，从而达到阴极和辅助电极连接的作用。
因此，确有必要来开发一种新型的显示面板的制备方法，以克服现有技术的缺陷。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种彩膜基板，其能够解决现有技术中显示面板阴极较薄导致的压降问题。
为实现上述目的，本发明提供一种彩膜基板，包括依次设置的辅助阴极层、光阻层、RGB色阻层、黑色矩阵和玻璃基板，其中所述黑色矩阵正下方区域的所述光阻层的厚度大于非黑色矩阵下的所述光阻层的厚度，所述辅助阴极层设置于所述黑色矩阵区域下方的所述光阻层的下方。
本发明还提供一种显示面板，包括依次设置的薄膜晶体管基板、阳极层、平坦层、有机发光层、阴极层和本发明涉及的所述彩膜基板；其中所述辅助阴极层与所述阴极层相接。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述平坦层采用的材料为聚酰亚胺薄膜。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述阳极层采用的材料包括铟锡金属氧化物或银金属中的一种。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述薄膜晶体管基板包括依次设置的基板层、遮光层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间介质层、源漏极层和有机层。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述源漏极层采用的材料包括钼、铝、钛、铜或铟锡金属氧化物中的一种。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述栅极绝缘层采用的材料包括氧化硅或氮化硅中的一种。
为实现上述目的，本发明还提供一种制备本发明涉及的所述显示面板的方法，包括以下步骤：
步骤S1：提供一薄膜晶体管基板，在所述薄膜晶体管基板上制备阳极层；
步骤S2：在所述阳极层上制备平坦层；
步骤S3：在所述平坦层上制备有机发光层；
步骤S4：在所述有机发光层上制备阴极层，形成薄膜晶体管背板；
步骤S5：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上制备黑色矩阵；
步骤S6：在所述黑色矩阵上制备RGB色阻层；
步骤S7：在所述RGB色阻层上制备光阻层，其中所述黑色矩阵区域上方的所述光阻层的厚度大于非黑色矩阵区域上的所述光阻层的厚度；
步骤S8：在所述黑色矩阵区域上方的所述光阻层的上方制备辅助电极层，形成彩膜基板；
步骤S9：将所述薄膜晶体管背板和所述彩膜基板贴合。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述平坦层是采用化学气相沉积方式制备的。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述光阻层是采用半透光罩技术或两道光罩的方法制备的。
进一步的，在其他实施方式中，其中所述是步骤S9通过封装的方式将所述薄膜晶体管背板和所述彩膜基板贴合。
相对于现有技术，本发明的有益效果在于：本发明提供一种彩膜基板、显示面板及其制备方法，在制作彩膜基板时，利用半透光罩技术或两道光罩的方法制备黑色矩阵正上方的光阻层较厚，然后在黑色矩阵区域上方的光阻层上方制备辅助阴极层，由于下方的光阻层较高，从而上方的辅助阴极层也较高，便于彩膜基板与薄膜晶体管背板贴合时辅助阴极层与阴极层搭接；由于辅助阴极层阻抗较小，其与阴极层接触后，阴极层的电阻会同步降低，从而减少压降，改善显示面板压降的问题，提高显示面板的品质。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例1提供的显示面板的结构示意图；
图2为本发明实施例1提供的显示面板的制备方法的流程图；
图3为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S1时显示面板的结构示意图；
图4为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S2时显示面板的结构示意图；
图5为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S3时显示面板的结构示意图；
图6为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S4时显示面板的结构示意图；
图7为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S5时显示面板的结构示意图；
图8为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S6时显示面板的结构示意图；
图9为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S7时显示面板的结构示意图；
图10为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S8时显示面板的结构示意图；
图11为本发明实施例1提供的制备方法中步骤S9时显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的，并且是用于描述本发明的示例性实施例的目的。但是本发明可以通过许多替换形式来具体实现，并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。
实施例1
本实施例提供一种显示面板，请参阅图1，图1所示为本实施例提供的显示面板的结构示意图，显示面板包括薄膜晶体管背板1和设置于薄膜晶体管背板1上的彩膜基板2。
薄膜晶体管背板1包括薄膜晶体管基板10、设置于薄膜晶体管基板10上的阳极层11、设置于阳极层11上的平坦层12、设置于平坦层12上的有机发光层13、设置于有机发光层13上的阴极层14。
其中平坦层12采用的材料为聚酰亚胺薄膜，阳极层11采用的材料可以为铟锡金属氧化物，也可以为银金属，在此不做限定。
薄膜晶体管基板10包括依次设置的基板层101、遮光层102、缓冲层103、有源层104、栅极绝缘层105、栅极层106、层间介质层107、源漏极层108和有机层109。
其中源漏极层108采用的材料包括钼、铝、钛、铜或铟锡金属氧化物中的一种，栅极绝缘层105采用的材料包括氧化硅或氮化硅中的一种。
彩膜基板2包括依次设置的辅助阴极层25、光阻层24、RGB色阻层23、黑色矩阵22和玻璃基板21。
其中黑色矩阵22正下方区域的RGB光阻层24的厚度大于非黑色矩阵下的光阻层的厚度，辅助阴极层25设置于黑色矩阵22区域下方的所述光阻层24的下方，辅助阴极25层与阴极层14相接。由于辅助阴极层阻抗较小，其与阴极层接触后，阴极层的电阻会同步降低，从而减少压降，改善显示面板压降的问题，提高显示面板的品质。
本实施例还提供一种本实施例涉及的所述显示面板的制备方法，请参阅图2，图2所示为本实施例提供的显示面板的制备方法的流程图，包括以下步骤：
步骤S1：提供一薄膜晶体管基板10，在薄膜晶体管基板10上制备阳极层11；
请参阅图3，图3所示为本实施例提供的制备方法中步骤S1时显示面板的结构示意图。
步骤S2：在阳极层11上制备平坦层12；
请参阅图4，图4所示为本实施例提供的制备方法中步骤S2时显示面板的结构示意图。
其中平坦层12是采用化学气相沉积方式制备的。
步骤S3：在平坦12层上制备有机发光层13；
请参阅图5，图5所示为本实施例提供的制备方法中步骤S3时显示面板的结构示意图。
步骤S4：在有机发光层13上制备阴极层14，形成薄膜晶体管背板1；
请参阅图6，图6所示为本实施例提供的制备方法中步骤S4时显示面板的结构示意图。
步骤S5：提供一玻璃基板21，在玻璃基板21上制备黑色矩阵22；
请参阅图7，图7所示为本实施例提供的制备方法中步骤S5时显示面板的结构示意图。
步骤S6：在黑色矩阵22上制备RGB色阻层23；
请参阅图8，图8所示为本实施例提供的制备方法中步骤S6时显示面板的结构示意图。
步骤S7：在RGB色阻层23上制备光阻层24，其中黑色矩阵区域22上方的光阻层24的厚度大于非黑色矩阵区域上的光阻层24的厚度；
请参阅图9，图9所示为本实施例提供的制备方法中步骤S7时显示面板的结构示意图。
其中光阻层24是采用半透光罩技术或两道光罩的方法制备的。
步骤S8：在黑色矩阵22区域上方的光阻层24的上方制备辅助电极层25，形成彩膜基板2；
请参阅图10，图10所示为本实施例提供的制备方法中步骤S8时显示面板的结构示意图。
步骤S9：通过封装的方式将薄膜晶体管背板1和彩膜基板2贴合；
请参阅图11，图11所示为本实施例提供的制备方法中步骤S9时显示面板的结构示意图。
采用半透光罩技术或两道光罩的方法制备黑色矩阵正上方的光阻层较厚，然后在黑色矩阵区域上方的光阻层上方制备辅助阴极层，由于下方的光阻层较高，从而上方的辅助阴极层也较高，便于彩膜基板与薄膜晶体管背板贴合时辅助阴极层与阴极层搭接；由于辅助阴极层阻抗较小，其与阴极层接触后，阴极层的电阻会同步降低，从而减少压降，改善显示面板压降的问题，提高显示面板的品质。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括依次设置的辅助阴极层、光阻层、RGB色阻层、黑色矩阵和玻璃基板，其中所述黑色矩阵正下方区域的所述光阻层的厚度大于非黑色矩阵下的所述光阻层的厚度，所述辅助阴极层设置于所述黑色矩阵区域下方的所述光阻层的下方。
2.一种显示面板，其特征在于，包括依次设置的薄膜晶体管基板、阳极层、平坦层、有机发光层、阴极层和根据权利要求1所述的彩膜基板；其中所述辅助阴极层与所述阴极层相接。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阳极层采用的材料包括铟锡金属氧化物或银金属中的一种。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述平坦层采用的材料为聚酰亚胺薄膜。
5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管基板包括依次设置的基板层、遮光层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间介质层、源漏极层和有机层。
6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述源漏极层采用的材料包括钼、铝、钛、铜或铟锡金属氧化物中的一种。
7.一种制备根据权利要求2-6任一项所述的显示面板的方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤S1：提供一薄膜晶体管基板，在所述薄膜晶体管基板上制备阳极层；
步骤S2：在所述阳极层上制备平坦层；
步骤S3：在所述平坦层上制备有机发光层；
步骤S4：在所述有机发光层上制备阴极层，形成薄膜晶体管背板；
步骤S5：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上制备黑色矩阵；
步骤S6：在所述黑色矩阵上制备RGB色阻层；
步骤S7：在所述RGB色阻层上制备光阻层，其中所述黑色矩阵区域上方的所述光阻层的厚度大于非黑色矩阵区域上的所述光阻层的厚度；
步骤S8：在所述黑色矩阵区域上方的所述光阻层的上方制备辅助电极层，形成彩膜基板；
步骤S9：将所述薄膜晶体管背板和所述彩膜基板贴合。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述平坦层是采用化学气相沉积方式制备的。
9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述光阻层是采用半透光罩技术或两道光罩的方法制备的。
10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S9是通过封装的方式将所述薄膜晶体管背板和所述彩膜基板贴合。
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