CN107735704A - 具有透明粘合剂层及图案化的透明导电层的偏振膜叠层体、液晶面板及有机el面板 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种包含粘合剂层的粘合剂片，其能够容易且廉价地制造，在用于光学构件叠层体的接合时，可有效地抑制内部反射。本发明提供一种偏振膜叠层体，其包括：基材、形成在基材上的偏光膜、形成在基材的与形成有偏光膜的面相反侧的面上且经过了图案化而使其作为触摸传感器发挥功能的透明导电层、以及粘贴在透明导电层及基材上的粘合剂层，其中，该偏振膜叠层体包含从一个主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、以及从该粘合剂层的另一主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区，该折射率调整用分区具有比所述粘合剂基础材料的折射率更高的折射率，粘合剂层的所述粘合剂基础材料分区位于所述基材侧。

Description

具有透明粘合剂层及图案化的透明导电层的偏振膜叠层体、 液晶面板及有机EL面板

技术领域

本发明涉及具有透明粘合剂层的偏振膜叠层体。特别是，本发明涉及能够用于将透明的光学构件接合于其它光学构件的具有透明粘合剂层及图案化的透明导电层的偏振膜叠层体。

背景技术

例如，对于液晶显示装置或有机EL显示装置(OLED)这样的显示装置而言，在使用相位差膜、盖玻璃等透明覆盖构件、其它各种透明光学构件的同时，还使用偏振膜，为了将偏振膜接合到其它光学构件上，需要使用粘合剂。即，在偏振膜与其它光学构件之间配置粘合剂层，它们隔着粘合剂层通过互相按压而被接合在一起，从而形成偏振膜叠层体。这样的偏振膜叠层体与液晶显示面板、有机EL显示装置这样的显示装置一起使用，并被配置在这些显示装置的可视侧。对于该构成而言，存在以下问题：当外部光从可视侧的透明光学构件入射时，入射光在粘合剂层与非可视侧的光学构件的界面处反射而返回可视侧。这个问题在外部光的入射角小时变得尤其明显。

另外，对于近年来有增加倾向的具备触摸面板的显示装置而言，在待接合透明光学构件的被接合侧光学构件的表面形成经过了图案化的ITO(氧化铟锡)这样的透明的导电层。对于这样的显示装置而言，指出了存在所谓的“图案可见”的问题，所谓“图案可见”是指，由于粘合剂层与透明导电层之间的界面处的入射光的内部反射的影响，从可视侧能够看到透明导电层的图案。

在任何情况下，内部反射都是由粘合剂与被接合侧光学构件及透明导电层的折射率差所引起的。日本专利第4640740号公报(专利文献1)对于应对该问题的方法给出了启示。即，该专利文献1公开了一种粘合剂组合物，其能够降低在透明光学构件与粘合剂层之间的界面、以及在粘合剂层与被接合侧光学构件之间的界面的光的全反射。在专利文献1中对公开的组合物进行了说明，其在干燥后和/或固化后的折射率高，接近于透明光学构件及被接合侧光学构件的折射率。该专利文献1的启示在于，使接合2个光学构件的粘合剂层整体具有的折射率接近于该2个光学构件的折射率。

根据该专利文献1所教导的方法，虽然可能在抑制界面反射方面有效果，但由于使用特定的单体成分，因此存在组合物自身的价格变高的问题。

日本专利第5564748号公报(专利文献2)公开了一种折射率经过调整的粘合剂，该粘合剂的构成为：使分散平均粒径为1nm以上且20nm以下的氧化锆或氧化钛粒子分散于由丙烯酸类树脂形成的透明粘合剂的整个厚度上。对于该粘合剂而言，可认为由于将作为高折射率材料的氧化锆或氧化钛粒子混合于透明粘合剂中，因此粘合剂层整体的折射率增高，从而能够抑制上述的界面反射。但是，对于专利文献2的方法而言，需要大量使用高折射率材料，存在作为粘合剂的特性降低的隐患，并且价格高。另外，使用的高折射率材料为无机物质的粒子，因此难以分散，存在因散射而产生白浊的问题。因此，也考虑使用有机材料的粒子，但在该情况下，难以解决着色的问题。

为了改善专利文献2中记载的方法，日本专利第5520752号公报(专利文献3)提出了将分散于粘合剂中的金属氧化物粒子用高分子包覆的方案。专利文献3的启示在于，由于专利文献2的粘合剂层中金属氧化物露出到粘合剂层的表面，存在粘合性降低的问题，因此用高分子包覆该金属氧化物粒子解决该问题。由该专利文献3提出的方法或许能够在某种程度上改善粘合剂层的粘合性，但专利文献2中涉及且被指出的大部分问题未被解决。特别是，专利文献3所记载的构成是由特定的高分子包覆金属氧化物粒子，因此与专利文献2的结构相比，其价格更高。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4640740号公报

专利文献2：日本专利第5564748号公报

专利文献3：日本专利第5520752号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明的主要目的在于提供一种能够容易且廉价地制造、且包含粘合剂层及不易看到图案的图案化的导电层的偏振膜叠层体，所述粘合剂层在用于偏振膜叠层体的接合时能够有效地抑制内部反射。

解决课题的方法

简而言之，本发明为了实现上述目的，在从粘合剂层的表面起沿厚度方向的某个范围内形成具有比粘合剂层的基础材料折射率更高的折射率调整分区，由此，在将该粘合剂层用于光学构件的接合时，可抑制由这些光学构件形成的叠层体中的内部反射。

作为一个实施方式，本发明提供一种偏振膜叠层体，其包括：基材、形成在基材上的偏光膜、形成在基材的与形成有偏光膜的面相反侧的面上且经过了图案化而使其单独或与其它构成一起作为触摸传感器发挥功能的透明导电层、以及粘贴在透明导电层及基材上的粘合剂层。在该偏振膜叠层体中，粘合剂层包含从一个主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、以及从该粘合剂层的另一主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区，该折射率调整用分区具有比粘合剂基础材料的折射率更高的折射率，粘合剂层的粘合剂基础材料分区位于基材侧。

折射率调整用分区优选厚度为20nm～600nm。在本发明的一个实施方式中，折射率调整用分区可以形成为以下构成：在与粘合剂基础材料相同的粘合性材料中分散具有比该粘合性材料更高折射率的高折射率材料的粒子，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率。该高折射率材料的粒子的折射率优选为1.60～2.74。高折射率材料的粒子优选通过TEM观察得到的平均初级粒径为3nm～100nm。另外，高折射率材料可以为选自TiO₂、ZrO₂、CeO₂、Al₂O₃、BaTiO₃、Nb₂O₅及SnO₂中的1种或多种化合物。

作为本发明的一个实施方式，可以在折射率调整用分区的该另一主面上形成有高折射率材料的粒子露出于该另一主面上的区域、以及该折射率调整用分区的粘合性材料露出于该另一主面上的基质区域。该情况下，优选以面积比30～99％的范围形成高折射率材料的粒子露出于该主面的所述区域。此外，该高折射率材料的粒子与该粘合剂基础材料的折射率之差优选为0.15～1.34。

粘合剂层的总光线透射率优选为80％以上。高折射率材料的粒子可以包含以多个粒子凝聚而成的凝聚体的形态存在的部分。

折射率调整用分区优选使其厚度为20nm～600nm。折射率调整用分区可以形成为在与粘合剂基础材料相同的粘合性材料中分散具有比该粘合性材料更高折射率的高折射率材料的粒子的构成，从而通过该高折射率材料粒子来提高该折射率调整用分区的平均折射率。该情况下，优选将粘合剂基础材料的折射率设为1.40～1.55、将高折射率材料的粒子的折射率设为1.60～2.74。在折射率调整用分区与光学构件接合的接合面上，形成高折射率材料的粒子与该光学构件接触的区域、以及该折射率调整用分区的粘合性材料与该光学构件接触的基质区域。在该情况下，优选以面积比30～99％的范围形成高折射率材料的粒子与光学构件接触的区域。另外，优选高折射率材料的粒子与粘合剂基础材料的折射率之差为0.15～1.34。

折射率调整用分区可以形成为以下构成：通过在与粘合剂基础材料相同的粘合性材料中含有具有比该粘合性材料更高折射率的粒子、聚合物或低聚物形态的有机材料，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率。另外，该构成的粘合剂层被应用于在光学构件上形成有透明导电层的构成的情况下，优选使透明导电层的折射率为1.75～2.14、粘合剂基础材料的折射率为1.40～1.55、有机材料的折射率为1.59～2.04。作为其中所使用的具有高折射率的有机材料，没有特别限定，除了苯乙烯类这样的具有芳香环的树脂以外，还可以举出包含硫、氮等杂原子的树脂(例如包含硫醇、三嗪环的聚合物)。另外，作为粒子，包含纳米尺寸的有机纳米粒子、球状高分子，粒径优选通过TEM观察得到的平均初级粒径为3nm～100nm。

优选粘合剂层的总光线透射率为80％以上。高折射率材料的粒子可以包含以多个粒子凝聚而成的凝聚体的形态存在的部分。折射率调整用分区中所含的高折射率材料的粒子通常以不规则的深度在粘合剂层的厚度方向存在。

另外，优选折射率调整分区的折射率低于透明导电层的折射率。折射率调整分区的折射率可以高于基材的折射率。

优选透明导电层为氧化铟锡，粘合剂基础材料的折射率为1.40～1.55、折射率调整分区的折射率为1.50～1.80。另外，更优选基材为零相位差膜。

作为一个实施方式，本发明提供一种液晶面板，其具备：上述的偏振膜叠层体、位于偏振膜叠层体的偏光膜侧的保护膜、以及位于偏振膜叠层体的粘合剂层侧的液晶单元。

另外，基材可以为相位差膜，优选该相位差膜的玻璃化转变温度为120度以上。作为一个实施方式，本发明提供一种液晶面板，其具备：该偏振膜叠层体、位于偏振膜叠层体的偏光膜侧的保护膜、以及位于偏振膜叠层体的粘合剂层侧的液晶单元。

另外，作为一个实施方式，本发明提供一种偏振膜叠层体，其具备：基材；透明导电层，该透明导电层形成在基材上，且单独或者与其它构成一起作为触摸传感器发挥功能；粘贴于基材及透明导电层上的第1粘合剂层；位于粘合剂层的与基材侧的面相反侧的面上的偏光膜；以及粘贴于基材的与所述透明导电层侧相反侧的面上的第2粘合剂层。在该偏振膜叠层体中，第1粘合剂层包含从一个主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、以及从该粘合剂层的另一主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区，该折射率调整用分区具有比粘合剂基础材料的折射率更高的折射率，第1粘合剂层的粘合剂基础材料分区位于偏光膜侧。另外，在本实施方式中，可以将具有上述特征的粘合剂层用作第1粘合剂层。基材优选为4分之1波长相位差膜。

另外，作为一个实施方式，本发明提供一种有机EL面板，其具备：上述的偏振膜叠层体、位于偏振膜叠层体的偏光膜侧的保护膜、以及位于偏振膜叠层体的第2粘合剂层侧的有机EL单元。该有机EL面板可以进一步具有：粘贴于偏光膜的与第1粘合剂层相反侧的面上的4分之1波长相位差膜；粘贴在4分之1波长相位差膜的与具有偏光膜的面相反侧的面上的低折射率层，所述4分之1波长相位差膜粘贴于偏光膜上；粘贴于低折射率层的与具有4分之1波长相位差膜的面相反侧的面上的第3粘合剂层，所述4分之1波长相位差膜粘贴于偏光膜上；以及粘贴于第3粘合剂层的与粘贴有低折射率层的面相反侧的面上的表面保护膜。

为了将偏振膜接合于例如用于构成触摸传感器的具有经过了图案化的透明导电层的光学构件而使用本发明的粘合剂片的情况下，将粘合剂层从支撑体上剥离，在透明的粘合性折射率调整用分区面向透明导电层及光学构件、并且粘合剂层的相反侧的面面向偏振膜的状态下，在该透明导电层及光学构件上接合该透明的粘合性折射率调整用分区，并将粘合剂层的该相反侧的面接合于偏振膜，使折射率调整用分区处于与该透明导电层和该光学构件这两者相接的状态，从而填埋该透明导电层与光学构件之间的高低差，透过偏振膜入射的外部光在粘合剂基材层和折射率调整用分区的界面处的反射光与其在折射率调整用分区和透明导电层的界面处的反射光通过光学干涉而至少部分相互抵消。

使用本发明的粘合剂片来抑制内部反射的情况下，入射的外部光在粘合剂层中实质上由粘合剂基础材料形成的分区和折射率调整用分区的界面处的反射光、与其在折射率调整用分区和光学构件的界面处的反射光可以通过光学干涉而至少部分相互抵消。

发明的效果

根据本发明，在光学构件侧形成有图案化的透明导电层的构成中，通过调整粘合剂层的折射率调整分区的折射率相对于该透明导电层和光学构件的折射率，能够抑制界面反射。此外，通过该透明导电层的反射光与光学构件表面的反射光之间的相位差、以及在粘合剂层内部产生的反射光之间的反射光彼此的相位差而产生的抵消效果，能够大幅地降低返回到偏振膜侧的反射光。

附图说明

图1(a)是示出本发明的粘合剂片的一个实施方式的剖面图。

图1(b)是示出使用本发明的粘合剂片的最简单的实施方式的一例的光学构件叠层体的剖面图。

图2是示出在本发明的粘合剂片中使用的粘合剂层的一个实施方式的剖面图。

图3是示出在形成有图案化的透明导电层的构成中使用了图2所示的粘合剂层13的实施方式的剖面图。

图4是示出与第2光学构件接触的粘合剂层的主面状态的平面图。

图5(a)是示出用于制作图2所示的粘合剂层的工序的图，是示出分散液的涂布工序的示意图。

图5(b)是示出用于制作图2所示的粘合剂层的工序的图，是示出高折射率材料粒子的浸渗工序的示意图。

图5(c)是示出用于制作图2所示的粘合剂层的工序的图，是示出干燥工序的示意图。

图6(a)示出的是本发明实施例的偏振膜叠层体的构成，示出的是偏振膜叠层体40。

图6(b)示出的是本发明实施例的偏振膜叠层体的构成，示出的是偏振膜叠层体50。

图6(c)示出的是本发明实施例的偏振膜叠层体的构成，示出的是偏振膜叠层体60。

图7(a)示出的是本发明实施例的液晶面板的构成，示出的是液晶面板45。

图7(b)示出的是本发明实施例的液晶面板的构成，示出的是液晶面板55。

图7(c)示出的是本发明实施例的液晶面板的构成，示出的是液晶面板65。

图8示出的是本发明的一个实施方式的有机EL面板的构成。

图9(a)示意性地示出了本发明的实施方式的偏振膜叠层体的实施例1的叠层结构。

图9(b)示意性地示出了比较例1的叠层结构。

图10(a)示意性地示出了本发明的实施方式的偏振膜叠层体的实施例2的叠层结构。

图10(b)示意性地示出了比较例2的叠层结构。

图11(a)示意性地示出了本发明的实施方式的偏振膜叠层体的实施例3的叠层结构。

图11(b)示意性地示出了比较例3的叠层结构。

图12(a)示意性地示出了本发明的实施方式的偏振膜叠层体的实施例4的叠层结构。

图12(b)示意性地示出了比较例4的叠层结构。

图13是示出由本发明的实施例制作的粘合剂层的折射率调整用分区的表面状态的20000倍SEM照片。

图14(a)是示出由本发明的实施例得到的粘合剂层中的折射率调整用分区的高折射率材料粒子分布的30000倍TEM截面照片。

图14(b)是示出由本发明的另外的实施例得到的粘合剂层中的折射率调整用分区的高折射率材料粒子分布的30000倍TEM截面照片。

符号说明

S…粘合剂片

S1、S2…支撑体

1…光学构件叠层体

2…第1光学构件

3、13…透明的粘合剂层

3a、13a…基础粘合剂分区

3b、13b…折射率调整用分区

4…第2光学构件

7…透明导电层

17…高折射率材料粒子

19…分散液

20…粘合剂基础材料

21、31…叠层体

22…COP基材

23…折射率调整层

24…ITO层

25…粘合剂层

26…玻璃窗

40…偏振膜叠层体

41…偏光膜

42…基材层

43…透明导电层

45…液晶面板

46…液晶单元

47…表面保护膜

50…偏振膜叠层体

51…偏光膜

52…基材层

53…透明导电层

55…液晶面板

56…液晶单元

57…表面保护膜

60…偏振膜叠层体

61…偏光膜

62…基材层

63…透明导电层

64…粘合剂层

65…有机EL面板

66…有机EL单元

67…表面保护膜

70…有机EL面板

71…有机EL单元

72…粘合剂层

73…基材层

74…透明导电层

75…偏光膜

76…4分之1波长相位差膜

77…低折射率层

78…粘合剂层

79…表面保护膜

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明，但本发明只要不超出其主旨，并不限定于以下的实施方式。另外，各例中，份、％均为重量基准，以下，没有特别限定的室温放置条件均为23℃、65％R.H.。

图1(a)是示出本发明的一个实施方式中使用的粘合剂片的剖面图、图1(b)是示出使用本发明中采用的粘合剂片的最简单的实施方式的一例的光学构件叠层体1的剖面图。参照图1(a)可知，本发明的一个实施方式的粘合剂片S由光学透明的粘合剂层3、第1支撑体S1和第2支撑体S2构成，所述第1支撑体S1贴合于该粘合剂层3的一个主面且由剥离纸构成，所述第2支撑体S2贴合于该粘合剂层3的另一主面且由剥离纸构成。参照图1(b)可知，光学构件叠层体1由偏振膜2和光学构件4构成，该光学构件4隔着光学透明的粘合剂层3接合于该偏振膜2上。从图1(a)所示的粘合剂片S上将支撑体S1、S2剥离后，粘合剂层3的贴合了支撑体S1的一侧与偏振膜贴合，贴合了支撑体S2的一侧与所期望的光学构件贴合。光学构件4可以由相位差膜、其它的光学显示装置所使用的光学膜、或者光学显示装置的可视侧盖玻璃这样的透明盖构件构成。偏振膜2与粘合剂层3的第1主面5接合，光学构件4与粘合剂层3的第2主面6接合。

透明的粘合剂层3具有实质上由粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区3a、以及具有比该基础粘合剂分区3a更高折射率的折射率调整用分区3b。对于形成基础粘合剂分区3a的粘合剂基础材料的折射率而言，优选具有与偏振膜2的折射率相近的折射率。例如，优选偏振膜2的折射率与粘合剂基础材料的折射率之差为0.3以内，更优选为0.1以内。

粘合剂基础材料只要是能够用于光学用途的具有粘合性的透明材料即可，没有特别限制。例如，可以从丙烯酸类粘合剂、橡胶类粘合剂、有机硅类粘合剂、聚酯类粘合剂、氨基甲酸酯类粘合剂、环氧类粘合剂及聚醚类粘合剂中适宜选择使用。从透明性、加工性及耐久性等观点考虑，优选使用丙烯酸类粘合剂。粘合剂基础材料可以单独使用上述粘合剂中的任一种，或者组合使用2种以上。作为丙烯酸类粘合剂的基础聚合物使用的丙烯酸类聚合物没有特别限定，优选以(甲基)丙烯酸烷基酯为主成分的单体的均聚物或共聚物。这里，“(甲基)丙烯酸”这样的用语表示的是“丙烯酸”及“甲基丙烯酸”中的任一者或两者，其它情况也同样。在本发明中，丙烯酸类聚合物这样的用语是指除了上述(甲基)丙烯酸烷基酯以外还包含能够与其共聚的其它单体的意思。粘合剂基础材料的折射率通常为1.40～1.55。

粘合剂层3的厚度没有特别限定，通常为5μm～500μm、优选为5μm～400μm、更优选为5μm～300μm。其中，折射率调整用分区3b的厚度优选为20nm～600nm、更优选为20nm～300nm、进一步优选为20nm～200nm。折射率调整分区3b与基础粘合剂分区3a的边界为不规则的凹凸形状，在本发明中，折射率调整分区3b的厚度通过将凹凸形状深度的测定值进行平均来确定。基础粘合剂分区的厚度是由粘合剂层3的厚度减去折射率调整分区3b的厚度而得到的值。粘合剂层3整体的总光线透射率以按照JISK7361测定的值计为80％以上、优选为90％以上。粘合剂层3的总光线透射率越高越理想。此外，雾度值优选为1.5％以下、更优选为1％以下。

本发明使用的粘合剂层中可以添加各种添加剂。例如，为了提高在高温多湿条件下的密合性，优选投入各种硅烷偶联剂。该硅烷偶联剂还具有赋予使粘合剂的耐久性提高的凝聚力的效果。此外，通过在本发明使用的粘合剂层中添加交联剂，可以赋予与粘合剂的耐久性相关的凝聚力，因此优选。另外，还可以根据需要适宜使用粘度调节剂、剥离调节剂、增粘剂、增塑剂、软化剂、包含无机粉末等的填充剂、颜料、着色剂(颜料、染料等)、pH调节剂(酸或碱)、防锈剂、抗氧剂、紫外线吸收剂等。

粘合剂层的形成方法没有特别限定，可以是将粘合剂基础材料涂布在各种基材(脱模膜、透明树脂膜)上，通过热烘箱等干燥器进行干燥，使溶剂等挥发而形成粘合剂层，然后将该粘合剂层转印到后面叙述的偏振膜、液晶单元的基板上的方法，也可以在上述偏振膜、液晶单元上直接涂布上述粘合剂组合物来形成粘合剂层。

折射率调整用分区3b可以通过以下方式形成：例如，在形成于基材上的粘合剂层的一面涂布给定量的具有比粘合剂基础材料更高折射率的树脂材料的溶液，并使其干燥。作为能够用于该目的的树脂材料，包括例如专利文献1中记载的粘合剂组合物。或者可以使用以下方法：将具有比粘合剂基础材料更高折射率的有机物、例如苯乙烯低聚物以固态物质的形式分散而成的分散液涂布于粘合剂基础材料层的表面，并使其干燥。但是，在本发明中，优选如以下图2所说明的那样，从由粘合剂基础材料形成的粘合剂层的一面起浸渗高折射率材料的粒子，使该高折射率材料的粒子分散于与粘合剂层的该面相邻的区域。

以下，参照图2对本发明的一个实施方式中使用的粘合剂层13的构成进行详细说明。

图2所示的本发明实施方式中使用的粘合剂层13与图1所示的实施方式的粘合剂层3同样地为下述构成：具有第1主面15及第2主面16，且具有实质上由粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区13a、和具有比该基础粘合剂分区13a更高折射率的折射率调整用分区13b，但在本实施方式中，折射率调整用分区13b从第2主面16起沿厚度方向的深度浸渗于粘合剂基础材料内，且包含分散于粘合剂基础材料内的高折射率材料的粒子17，由此，构成为具有比基础粘合剂分区13a更高的折射率。

优选折射率调整用分区13b中高折射率材料粒子17的折射率为1.6～2.7的范围。另外，优选例如高折射率材料的粒子与粘合剂基础材料的折射率之差为0.2～1.3。通过含浸具有比粘合剂基础材料更高折射率的有机物而形成折射率调整用分区的情况下，同样地，优选将该有机物与粘合剂基础材料的折射率之差设为0.1～0.6。从与粘合剂基础材料的相容性(在低温下的渗出、在高温下的偏析的风险)的观点、在高温或高温高湿下的可靠性的观点考虑，优选使用与有机物相比通常耐热性更高的无机物的高折射率材料。例如，作为能够在折射率调整用分区中使用高折射率材料粒子的本发明的实施方式中使用的高折射率材料，有TiO₂、ZrO₂、CeO₂、Al₂O₃、BaTiO₂、Nb₂O₅及SnO₂，可以使用选自其中的1种或多种化合物形成高折射率材料粒子17。高折射率材料粒子17的平均初级粒径为3nm～100nm即可，粒子以各自分散的状态、或者以部分凝聚的状态分布于折射率调整用分区13b内。折射率调整用分区13b与基础粘合剂分区13a的边界如图1中所说明的那样，为不规则的凹凸形状，在折射率调整用分区13b的厚度测定时，将各测定位置存在90％高折射率材料粒子17的深度的范围作为该测定位置的分区13b的厚度测定值，将多个测定位置的测定值进行平均而作为折射率调整用分区13b的厚度。

图3是示出在光学构件4的粘合剂层侧表面形成了例如图案化了的ITO膜这样的透明导电层7以构成触摸面板传感器的构成中使用了图2所示的粘合剂层13的实施方式的剖面图。作为该情况下的光学构件4的例子，可以列举例如液晶显示装置或有机EL显示装置中的显示面板的玻璃基板。

作为透明导电层7的构成材料，没有特别限定，可以使用选自下组中的至少一种金属的金属氧化物：铟、锡、锌、镓、锑、钛、硅、锆、镁、铝、金、银、铜、钯、钨。该金属氧化物中根据需要也可以进一步含有上述组中的金属原子。例如，优选使用含有氧化锡的氧化铟(ITO)、含有锑的氧化锡等，特别优选使用ITO。作为ITO，优选含有氧化铟80～99重量％及氧化锡1～20重量％。另外，ITO可以为结晶性ITO、非晶性(无定形)ITO中的任一种。例如，结晶性ITO可以通过在高温状态下溅射ITO而形成非晶性ITO层，再进行加热使其结晶化而得到。透明导电层可以根据用途而采用梳形、条纹形状、菱形形状等任意的形状。透明导电层7的厚度没有特别限制，优选为7nm以上、更优选为12～200nm、进一步优选为12～100nm、特别优选为18～70nm。透明导电层7的厚度低于7nm时，存在以下倾向：透明导电层7在面内不均匀，在面板面内的电阻值不稳定、或无法得到给定的电阻值。另一方面，透明导电层7的厚度超过200nm的情况下，存在以下倾向：透明导电层7的生产性下降、成本也上升，此外，光学特性也下降。作为透明导电层7的形成方法，并不限定于上述的溅射法，可以采用各种方法。具体来说，可以举出例如真空蒸镀法、离子镀法。另外，也可以根据所需要的膜厚来选择适宜的方法。

另外，透明导电层7可以采用金属纳米线或金属网。金属纳米线是指，材质为金属、形状为针状或丝状、且直径为纳米尺寸的导电性物质。由于金属为纳米尺寸，无法通过视觉辨认，但另一方面，通过配置多个金属纳米线来减小电阻值，能够形成透明的导电层。金属纳米线可以为直线状，也可以为曲线状。如果使用由金属纳米线构成的透明导电层，则通过使金属纳米线形成网眼状，即使是少量的金属纳米线也能够形成良好的导电路径，从而能够得到电阻小的透明导电膜。此外，通过使金属纳米线形成为网眼状，在网眼的间隙形成开口部，可以得到透光率高的透明导电膜。作为构成上述金属纳米线的金属，只要是导电性高的金属即可，可以使用任意的适宜的金属。作为构成上述金属纳米线的金属，可以举出例如银、金、铜、镍等。另外，也可以使用对这些金属进行了镀敷处理(例如镀金处理)而得到的材料。其中，从导电性的观点考虑，优选为银、铜或金，更优选为银。

包含金属网的透明导电层是在上述基材叠层体上由金属细线形成为格子状的图案而成的。可以使用与构成上述金属纳米线的金属同样的金属。包含金属网的透明导电层可以通过任意的适宜的方法来形成。透明导电层可以通过以下方法得到：例如，将包含银盐的感光性组合物(透明导电层形成用组合物)涂布在基材叠层体上，然后进行曝光处理及显影处理，使金属细线形成为给定的图案。

对于配置于偏光膜的可视侧的基材层而言，只要在可见光区域为透明即可，没有特别限制，可使用玻璃、具有透明性的各种塑料膜。在用于透明导电层的形成、柔性显示器等的基材的情况下，优选使用塑料膜等柔性膜。

作为塑料膜的材料，可以举出聚酯类树脂、乙酸酯类树脂、聚醚砜类树脂、聚碳酸酯类树脂、聚酰胺类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚(环)烯烃类树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、聚氯乙烯类树脂、聚苯乙烯类树脂、聚乙烯醇类树脂、聚芳酯类树脂、聚苯硫醚类树脂等。这些当中，特别优选的可以举出聚酯类树脂(PET)、乙酸酯类树脂(TAC)、(甲基)丙烯酸类树脂(丙烯酸类)、聚碳酸酯类树脂(PC)、聚(环)烯烃类树脂(COP)等。

从图像显示装置观察叠层于偏光膜外侧的透明保护膜中也可以具有功能层。作为功能层，可以举出硬涂(HC)层/防反射层/防污层/防静电层/以扩散或防眩为目的的处理等，也可以将它们任意组合、复合化而形成。另外，还可以对保护膜基材赋予紫外线吸收功能。

对于本发明使用的偏振膜而言，在偏光膜的内侧(显示面板侧)配置基材层。内侧基材层可使用零相位差膜、或者λ/2相位差膜及λ/4相位差膜这样的相位差膜。使用零相位差板作为基材层的情况下，优选双折射量(相位差)少、且光学各向同性高的基材层。双折射大时，存在产生显示黑色时从斜向漏光的着色现象、色转移等弊端的情况。因此，优选不产生光学双折射的材料，优选由具有光学各向同性的聚碳酸酯类树脂、环烯烃类树脂材料形成。

另外，根据设计，基材层还可以使用相位差膜。相位差膜可以为单层结构或多层结构中的任意结构。可以根据目的适宜使用使高分子膜拉伸、收缩而得到的相位差膜、或者使液晶材料取向、固定化而得到的相位差膜。相位差膜是指，在面内和/或厚度方向具有双折射，并由此而实现给定的功能的膜。作为相位差膜，可以举出防反射用相位差膜、视场角补偿用相差膜、用于视场角补偿的倾斜取向相位差膜等。作为相位差膜，只要实质上具有上述功能即可，例如可以使用相位差值、配置角度、3维双折射率、单层或多层等没有特别限制的公知的相位差膜。

透明基材的厚度优选为10～200μm的范围内，更优选为10～100μm的范围内。基材的厚度低于10μm时，存在透明基材的机械强度不足而难以进行连续地形成透明导电性薄膜的操作的情况。另外，基材的厚度超过200μm时，存在不仅器件的厚度增大，而且运送、卷取变得困难的倾向。

可以在透明基材的单面或两面具有单一或多层的功能层。例如为易粘接层/折射率调整层/硬涂(HC)层/低聚物防止层/抗粘连(AB)层。可以将它们任意组合、复合化而形成。对于透明基材而言，可以预先对其表面实施溅射、电晕放电、紫外线照射、电子束照射、化学法表面处理、氧化等蚀刻处理、底涂处理而提高其与形成在基材上的功能层之间的密合性。另外，在形成功能层之前，还可以根据需要通过溶剂清洗、超音波清洗等来对透明基材表面进行除尘、清洁化。

如图3所示，粘合剂层13的折射率调整用分区13b的主面16与光学构件4的粘合剂层侧表面和透明导电层7这两者接合，以填埋光学构件4和透明导电层7之间的高度差。图4是示出与光学构件4接触的粘合剂层13的主面16的状态的平面图。如图4所示，高折射率材料粒子17在粘合剂基础材料的基质18中分散成岛状，形成了海岛结构，在粘合剂层13与光学构件4接触的面上，存在粘合剂基础材料与光学构件4接触的部分、以及高折射率材料粒子17与光学构件4接触的部分。该位置中的高折射率材料粒子17相对于高折射率材料粒子17与粘合剂基础材料的总面积的面积比优选设为30～99％的范围。

对于面积比而言，设为在边长为10μm～200μm的方形区域内高折射率材料粒子17在该方形区域总面积中所占的面积比例，对多个方形区域进行测定，并将其测定值进行平均，由此求出面积比。

图5(a)、图5(b)、图5(c)是示意性地示出制造图2所示的粘合剂层13的工序的图。首先，准备将上述高折射率材料粒子17分散于溶剂中的分散液19和粘合剂基础材料的层20。接着，如图5(a)所示，将该分散液19涂布于粘合剂基础材料层20的表面。通过分散液19的溶剂使粘合剂基础材料层20的表面溶胀，在该过程中，分散液19内的高折射率材料粒子17沿厚度方向浸渗于粘合剂基础材料层20内，将该状态示于图5(b)。然后，通过干燥工序使粘合剂基础材料层20干燥，由此，可以使分散液19的溶剂蒸发而得到图2所示的粘合剂层13，图5(c)示出了该状态。

高折射率材料粒子17相对于粘合剂基础材料层20的浸渗深度由粘合剂基础材料与分散液19的溶剂关系来确定。可以适当选择溶剂使得浸渗深度达到上述值。

图6(a)示出的是作为本发明的实施方式的、具有经过了图案化的透明导电层而作为触摸传感器发挥功能的偏振膜叠层体40。偏振膜叠层体40主要用于液晶面板，但也可以用于其它显示面板。偏振膜叠层体40由作为零相位差膜的基材层42、粘贴于基材层42上的偏光膜41、形成在基材层42的相反侧的经过了图案化的透明导电层43、以及粘合剂层13构成。偏振膜叠层体40可通过以下方式获得：在基材层42上形成透明导电层43，并贴合偏光膜41，再使粘合剂层13的折射率调整用分区13b侧与透明导电层43及基材层42贴合，并使得与基材层42一起夹持经过了图案化的透明导电层43。透明导电层43可以具有触摸传感器功能，例如，可以作为投影型静电容量方式的触摸面板发挥功能。另外，还可以在液晶面板内或液晶面板上构成电极，并与透明导电层43一起构成静电容量方式的触摸面板。通过使用零相位差膜作为基材层42，可防止产生显示黑色时从斜向漏光的着色现象、所谓的色转移，从而使液晶面板的显示均匀性提高。另外，通过调整折射率调整用分区13b的折射率而使其为基材层42的折射率与透明导电层的折射率之间的值，可以减小在折射率调整用分区13b与透明导电层43的界面及折射率调整用分区13b与基材42的界面产生的反射光。即，优选折射率调整用分区13b的折射率小于透明导电层43的折射率。另外，基材42的折射率高于基础材料分区13a的情况下，优先减小在基础材料分区13a与折射率调整分区13b的界面的反射，可以使折射率调整分区的折射率低于基材42的折射率。

图7(a)示出的是作为本发明的实施方式的带有触摸传感器的液晶面板45。液晶面板45可以通过以下方式获得：在偏振膜叠层体40的偏光膜41的可视侧贴合保护膜47，并使偏振膜叠层体40的粘合剂层13的基础材料分区13a侧与液晶单元46贴合。示出了在偏振膜叠层体40上贴合保护膜47、再使粘合剂层13的基础材料分区13a与液晶单元46贴合的液晶面板45。液晶单元46可以为任意方式的液晶单元，但优选IPS液晶单元。偏振膜叠层体40由于内置有触摸传感器，因此具有能够减小膜整体的厚度的优点。

图6(b)示出的是作为本发明的另一实施方式的具有经过了图案化的透明导电层的偏振膜叠层体50。偏振膜叠层体50主要用于液晶面板，但也可以用于其它显示面板。偏振膜叠层体50与偏振膜叠层体40在基材层52为半波长相位差膜或4分之1波长相位差膜等相位差膜这点上不同，但其它构成相同。通过使用相位差膜作为基材层52，可以生成圆偏振光、或者对视场角进行补偿，以用来防止从可视侧入射到内部的光进行内部反射而射出到可视侧。使用了ITO等作为透明导电层53时，需要加热而使其结晶化，但由于基材层52具有高玻璃化转变温度(Tg)，可以防止因加热工序而产生的基材层52的变形。基材层52的玻璃化转变温度例如为160度以上。关于将透明导电层53图案化而作为触摸传感器发挥功能这点，与偏振膜叠层体40及液晶面板45的构成相同。

图7(b)示出的是作为本发明的实施方式的带有触摸传感器的液晶面板55。液晶面板55可以通过以下方式获得：在偏光膜51的可视侧贴合保护膜57，并使偏振膜叠层体50的粘合剂层13的基础材料分区13a侧与液晶单元56贴合。

图6(c)示出的是作为本发明的另外的实施方式的具有经过了图案化的透明导电层的偏振膜叠层体60。偏振膜叠层体60主要用于有机EL面板，但也可以用于其它显示面板。偏振膜叠层体60可以通过以下方式获得：使粘合剂层13的基础材料分区13a侧贴合于偏光膜61，再使粘合剂层13的折射率调整用分区13b贴合于形成有透明导电层63的基材层62的透明导电层63侧。另外，偏振膜叠层体60具有用于使偏振膜叠层体60贴合于显示面板、其它光学构件的粘合剂层64。关于将透明导电层63图案化而使其作为触摸传感器发挥功能这点，与偏振膜叠层体40及液晶面板45的构成相同。

基材层62为λ/4波长相位差膜。λ/4波长相位差膜用于防止在有机EL面板的表面使用的金属的反射。从外部入射来的光中与偏光膜的透射轴方向正交的直线偏光成分被偏光膜所吸收。另一方面，与偏光膜的透射轴方向平行的直线偏光成分透过偏光膜。通过使偏光膜的透射轴方向与1/4波长相位差膜的慢轴之间的角度为45度，1/4波长相位差膜使透过偏光膜的光成为圆偏振光。成为圆偏振光的光在金属电极上发生反射，经由1/4波长相位差膜而再次入射至偏光膜。通过调整金属电极与1/4波长相位差膜的距离、1/4波长相位差膜的厚度等而使得再次入射至偏光膜的光与偏光膜的透射轴方向垂直，入射时与偏光膜的透射轴方向平行的直线偏光成分也被偏光膜所吸收，因此，可以基本上完全消除有机EL显示装置的表面反射。

图7(c)示出的是作为本发明的实施方式的带有触摸传感器的有机EL面板65。有机EL面板65可以通过以下方式获得：使保护膜67贴合于偏光膜61的可视侧，并使偏振膜叠层体60的粘合剂层64与有机EL单元66贴合。

图8示出的是作为本发明的一个实施方式的使用了带有触摸传感器的偏振膜叠层体60的有机EL面板70的实施例。有机EL面板70从显示面板侧其依次由有机EL单元71、粘合剂72、λ/4波长相位差板73、透明电极层74、折射率调整分区13b位于显示面板侧的粘合剂层13、偏光膜75、λ/4波长相位差板76、低折射率层77、粘合剂78及表面保护膜79构成。本发明的实施方式中的偏振膜叠层体80由粘合剂72、λ/4波长相位差板73、透明电极层74、基础材料分区13a位于可视侧的粘合剂层13、偏光膜75构成。

如上所述，λ/4波长相位差板73与偏光膜75协同作用而具有防止产生反射光的功能。透明电极层75经过了图案化而作为触摸传感器发挥功能。透明电极层75可以由经过了结晶化的ITO等透明导电性金属构成，也可以是银纳米线。另外，粘合剂层13的折射率调整分区13b被贴合于经过了图案化的透明电极层75及λ/4波长相位差板73上，它们的界面的折射率之差小，可以使反射率降低，因此，可以不易从外部观察到图案。

偏光膜75优选使用10μm以下的薄型偏光膜。偏光膜通常容易在热的作用下发生收缩，因此，偏光膜越厚，由热收缩产生的应力越是变大，越容易使显示面板破损。因此，通过采用10μm以下这样的薄型偏光膜，可以减小起因于偏光膜的应力，从而可以减小显示面板破损的危险性。

λ/4相位差板76是为了使有机EL显示装置70的使用者即使在戴着太阳镜的情况下也能够观看到画面而使用的。即，在太阳镜中使用了偏振片的情况下，显示装置发出的图像的光如果具有直线偏光，则图像的光被太阳镜遮挡而使图像变暗。通过使透过偏光膜75而成为直线偏光的图像的光在λ/4相位差板76的作用下转换为旋转偏光，即使在戴着太阳镜的情况下，使用者也可以以足够的明亮度观察到图像。

实施例

以下，对本发明的实施例进行说明。

[粘合剂基础材料的制作]

(丙烯酸类低聚物的制作)

将丙烯酸双环戊烯酯(DCPMA、甲基丙烯酸双环戊烯酯)60重量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA、甲基丙烯酸甲酯)40重量份、作为链转移剂的α-硫代甘油3.5重量份、及作为聚合溶剂的甲苯100重量份投入到四颈烧瓶中，并将它们在氮气氛围下于70℃搅拌了1小时。接着，将作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈0.2重量份投入到四颈烧瓶中，在70℃下反应2小时，接下来在80℃反应了2小时。然后，将反应液投入130℃温度氛围下，干燥并除去甲苯、链转移剂及未反应单体，得到了固体形态的丙烯酸类聚合物。将这样得到的丙烯酸类聚合物称为“丙烯酸类聚合物(A-1)”。该丙烯酸类聚合物(A-1)的重均分子量(Mw)为5.1×10³。

(粘合剂层A的制作)

向由丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)68重量份、N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP)14.5重量份、以及丙烯酸羟基乙酯(HEA)17.5重量份构成的单体混合物中配合光聚合引发剂(商品名“IRGACURE 184”，BASF公司制)0.035重量份、以及光聚合引发剂(商品名“IRGACURE 651”，BASF公司制)0.035重量份，然后使该单体混合物在氮气氛围下暴露于紫外线而使其部分地发生光聚合，得到了聚合率约10重量％的部分聚合物(丙烯酸类聚合物粘液)。

向得到的该丙烯酸类聚合物粘液中添加上述丙烯酸类聚合物(A-1)5重量份、己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.15重量份、硅烷偶联剂(商品名“KBM-403”，信越化学工业株式会社制)0.3重量份并均匀地混合，得到了丙烯酸类粘合剂组合物。将上述丙烯酸类粘合剂组合物涂布在剥离膜(商品名“Diafoil MRF#38”，三菱树脂株式会社制)的经过了剥离处理的面上，使得形成粘合剂层后的厚度达到23μm，从而形成粘合剂组合物层，接下来，在该粘合剂组合物层的表面覆盖剥离膜(商品名“Diafoil MRN#38”，三菱树脂株式会社制)，并使得该膜的剥离处理面成为涂布层侧。由此，使单体成分的涂布层与氧隔绝。然后，以照度：5mW/cm²、光量：1500mJ/cm²的条件进行紫外线照射，使粘合剂组合物层发生光固化，从而形成了粘合剂层。

〈粘合剂层B的制作〉

将丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)28.5重量份、丙烯酸异硬脂酯(ISTA)28.5重量份、丙烯酸降冰片酯22重量份、丙烯酸4-羟基丁酯(4HBA)20重量份、2种光聚合引发剂(商品名：IRGACURE 184，BASF公司制)0.05重量份及光聚合引发剂(商品名：IRGACURE 651，BASF公司制)0.05重量份配合后，将该单体混合物在氮气氛围下暴露于紫外线而使其部分地发生光聚合，由此得到了聚合率约10重量％的部分聚合物(丙烯酸类聚合物粘液)。

在如上所述地得到的丙烯酸类聚合物粘液的100重量份中添加己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.3重量份、硅烷偶联剂(商品名“KBM-403”，信越化学工业株式会社制)0.3重量份并均匀地混合，得到了丙烯酸类粘合剂组合物。将上述丙烯酸类粘合剂组合物涂布于剥离膜(商品名“Diafoil MRF#38”，三菱树脂株式会社制)的经过了剥离处理的面上，使得形成粘合剂层后的厚度达到23μm，从而形成粘合剂组合物层，接下来，在该粘合剂组合物层的表面覆盖剥离膜(商品名“Diafoil MRN#38”，三菱树脂株式会社制)，并使得该膜的剥离处理面成为涂布层侧。由此，单体成分的涂布层与氧隔离。然后，以照度：5mW/cm²、光量：1500mJ/cm²的条件进行紫外线照射，使粘合剂组合物层发生光固化，从而形成了粘合剂层B。

〈粘合剂层C1的制作〉

将丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)32重量份、丙烯酸异硬脂酯(ISTA)48重量份、丙烯酸2-羟基丙酯(2HPA)20重量份、2种光聚合引发剂(商品名：IRGACURE 184，BASF公司制)0.05重量份及光聚合引发剂(商品名：IRGACURE 651，BASF公司制)0.05重量份投入到四颈烧瓶中，制备了单体混合物。接着，将该单体混合物在氮气氛围下暴露于紫外线而使其部分地发生光聚合，由此得到了聚合率约10重量％的部分聚合物(丙烯酸类聚合物粘液)。在这样得到的丙烯酸类聚合物粘液的100重量份中添加三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)0.02重量份、硅烷偶联剂(商品名：KBM-403、信越化学工业株式会社制)0.3份，然后将它们均匀地混合，得到了丙烯酸类粘合剂组合物。将上述丙烯酸类粘合剂组合物涂布于剥离膜(商品名“Diafoil MRF#38”，三菱树脂株式会社制)的经过了剥离处理的面上，使得形成粘合剂层后的厚度达到23μm，从而形成粘合剂组合物层，接下来，在该粘合剂组合物层的表面覆盖剥离膜(商品名“Diafoil MRN#38”，三菱树脂株式会社制)，并使得该膜的剥离处理面成为涂布层侧。由此，单体成分的涂布层与氧隔离。然后，以照度：5mW/cm²、光量：1500mJ/cm²的条件进行紫外线照射，使粘合剂组合物层发生光固化，从而形成了粘合剂层C1。

(粘合剂层C2的制作)

除了按照粘合剂层形成后的厚度为100μm进行涂布而形成了粘合剂组合物层以外，按照与上述粘合剂层C1同样的方法制作了粘合剂层C2。

＜带有折射率调整分区的粘合剂的制作＞

〈使用粘合剂层A/高折射率材料的纳米粒子分散液的实例〉

(使用了粘合剂层A/纳米粒子分散液的实例)

粘合剂层的厚度为23μm，将在该粘合剂层的两面被PET剥离片保护的状态的粘合剂层A(粘合剂层的折射率：1.49)的一个轻剥离PET剥离片剥离。用棒涂机RDS No.5在露出的粘合剂层的表面涂布作为含有高折射率粒子的分散液的含有氧化锆粒子(ZrO₂、折射率：2.17、平均初级粒径：20nm)的涂布用处理液(分散介质：乙醇、粒子浓度：1.2重量％、分散液的透射率：82％、CIK Nanotech公司制造)，并使得折射率调整分区的厚度为20nm～200nm，用110℃的干燥烘箱干燥了180秒钟。接着，在分散有氧化锆(ZrO₂)粒子的粘合剂层表面贴合作为支撑体的PET剥离片(75μm)，得到了带有折射率调整分区的粘合剂(1)。需要说明的是，氧化锆粒子的平均初级粒径通过TEM观察来测量。

〈其它实例〉

与上述实例同样地，使用下述粘合剂及高折射率材料的纳米粒子分散液同样地制作了带有折射率调整分区的粘合剂(2)、(3)。使用材料为粘合剂层B(折射率1.48)、粘合剂层C1(折射率1.48)、ZrO₂纳米粒子分散液(分散介质：乙醇、粒径20nm)。

表1归纳了粘合剂层的特性。

[表1]

[带有导电层的基材层的制作]

〈使用零相位差基材层的透明导电层的制作〉

使用棒涂机在厚度100μm的环烯烃聚合物膜(日本瑞翁株式会社制、商品名：“ZEONOR ZF16”、面内双折射率：0.0001)的两面涂布涂敷液，所述涂敷液是在粘合剂树脂(商品名：“UNIDIC RS 29-120”、DIC公司制)100份中添加了直径3μm的多个粒子(商品名：“SSX105”、积水树脂株式会社制)0.07份而得到的，在80℃的烘箱中干燥1分钟后，照射累积光量各300mJ的紫外线(高压水银灯)，由此形成了在两面具有防粘连层的膜(以下记为COP基材)。接着，用棒涂机在COP基材的一面涂布折射率调整剂(商品名：“Opstar KZ6661”，JSR株式会社制)，在80℃的烘箱中干燥1分钟后，照射累积光量各300mJ的紫外线(高压水银灯)，由此形成了厚度100nm、折射率1.65的折射率调整层。用卷取式溅射装置在得到的COP基材的折射率调整层的表面叠层了作为透明导电层的厚度23nm的氧化铟锡层(ITO)。在上述透明导电层的一部分形成光致抗蚀剂膜后，将其在25℃、5重量％的盐酸(氯化氢水溶液)中浸渍1分钟，进行了透明导电层的蚀刻。由此，制作了相当于电极布线图案的存在透明导电层的部分(图案部)、和除去了透明导电层的部分(开口部)。(具有图案的带有透明导电层的基材层(1))

〈使用λ/4相位差膜作为基材的透明导电层的制作〉

除了将所使用的基材膜变更为膜厚100μm且赋予了相位差的环烯烃聚合物膜(日本瑞翁株式会社制、面内相位差Re：140nm)以外，与上述的带有导电层的基材层(1)同样的方法进行了制作。(具有图案的带有透明导电层的基材层(2))

[偏振膜的制作]

〈带有导电层的偏振膜(1)的制作〉

将厚度30μm的聚乙烯醇膜在速度比不同的辊间一边于30℃、0.3％浓度的碘溶液中染色1分钟一边拉伸至3倍。然后，在包含4％浓度的硼酸、10％浓度的碘化钾的60℃水溶液中一边浸渍0.5分钟一边拉伸至总拉伸倍率为6倍。接着，在包含1.5％浓度的碘化钾的30℃水溶液中浸渍10秒钟来进行清洗，然后在50℃下干燥4分钟，得到了厚度12μm的偏光膜(A-1)。在该偏光膜(A-1)的两面涂布PVA类树脂水溶液，在其一面贴合厚度100μm且具有图案的带有导电层的基材层(1)，并使得具有图案的透明导电层成为外侧，进而在另一面贴合总厚度43μm且具有硬涂层的三乙酸纤维素膜(以下记为TAC膜)并使其干燥，，由此制作了带有导电层的偏振膜(1)。所得到的带有导电层的偏振膜(1)的透射率为43％、偏光度为99.9％。

〈带有导电层的偏振膜(2)的制作〉

将制造例1的聚乙烯醇膜的厚度设为60μm，并调整各种溶液的浓度、浸渍时间等而使得偏振膜的透射率为45％，除此之外，与制造例1同样操作，得到了厚度23μm的偏光膜(A-2)。在该偏光膜(A-2)的两面涂布PVA类树脂水溶液，在其一面贴合厚度100μm的具有图案的带有导电层的基材(2)，并配置成基材(λ/4相位差板)慢轴相对于该偏光膜(A-2)的吸收轴成45°的角度、且具有图案的透明导电层成为外侧，进而在另一面贴合总厚度43μm且具有防反射(AR)层的TAC膜并使其干燥，由此制作了带有导电层的偏振膜(2)。所得到的带有导电层的偏振膜(2)的透射率为45％、偏光度为99.8％。

〈偏振膜(3)的制作〉

对热塑性树脂基材(长条状的非晶质聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、厚度：100μm、吸水率：0.60重量％、Tg：80℃)的一面实施电晕处理，在该电晕处理面上于60℃涂布聚合度4200、皂化度99.2摩尔％的聚乙烯醇的水溶液并使其干燥，形成厚度10μm的PVA类树脂层，制作了叠层体。

将所得到的叠层体在120℃的烘箱内于圆周速度不同的辊间沿纵向(长度方向)进行自由端单向拉伸至2.0倍(气体氛围中辅助拉伸)，接着，将叠层体在液温30℃的不溶化浴(相对于水100重量份配合了4重量份硼酸而得到的硼酸水溶液)中浸渍了30秒钟(不溶化处理)。

使不溶化处理后的叠层体在液温30℃的染色浴(相对于水100重量份配合0.2重量份碘、并配合1.0重量份碘化钾而得到的碘水溶液)中浸渍60秒钟(染色处理)，接着，在液温30℃的交联浴(相对于水100重量份配合3重量份碘化钾、并配合3重量份硼酸而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒钟(交联处理)。

然后，使叠层体浸渍于液温70℃的硼酸水溶液(相对于水100重量份配合4重量份硼酸、并配合5重量份碘化钾而得到的水溶液)，并在圆周速度不同的辊间沿纵向(长度方向)进行单向拉伸并使得总拉伸倍率达到5.5倍(水溶液中拉伸)，接着，使叠层体浸渍于液温30℃的清洗浴(相对于水100重量份配合4重量份碘化钾而得到的水溶液)(清洗处理)。

通过上述一系列的处理，得到了在树脂基材上包含厚度5μm的偏光膜(B-1)的光学膜叠层体。

接着，在所得到的光学膜叠层体的偏光膜(B-1)的一面涂布PVA类树脂水溶液，叠层厚度20μm的丙烯酸类膜，利用保持在60℃的烘箱加热5分钟，将热塑性树脂基材剥离，制作了偏振膜(3)。

所得到的偏振膜(3)的透射率为44％、偏光度为99.8％。

表2归纳了偏振膜(1)至(3)的特性。

[表2]

以下，示出偏振膜叠层体的具体的实施例及比较例。需要说明的是，本发明并不限定于以下的实施例。

[带有粘合剂和导电层的偏振膜叠层体的制作]

＜实施例1＞

将带有折射率调整分区的粘合剂层(1)的折射率调整分区侧的PET剥离片剥离，并将其贴合于带有导电层的偏振膜(1)的具有图案的带有透明导电层的基材层(1)一侧，按照折射率调整分区与形成有图案的导电层相接的方式进行了叠层，制作了偏振膜叠层体(a)。图9(a)示意性地示出了实施例1的叠层结构。

＜实施例2＞

将待叠层的粘合剂层变更为带有折射率调整分区的粘合剂层(2)，将带有导电层的偏振膜变更为(2)，将折射率调整分区侧的PET剥离片剥离并将其贴合于具有图案的带有透明导电层的基材层(2)一侧，按照折射率调整分区与形成有图案的导电层相接的方式进行叠层，制作了偏振膜叠层体(b)，除此以外，与实施例1同样地进行了制作。图10(a)示意性地示出了实施例2的叠层结构。

＜实施例3＞

将带有折射率调整分区的粘合剂层(2)的基础粘合剂侧的PET剥离片剥离，并将其贴合于偏振膜(3)的偏光膜(B-1)一侧。接着，将折射率调整分区侧的PET剥离片剥离，并贴合于具有图案的带有透明导电层的基材层(2)的导电层侧，按照折射率调整分区与形成有图案的导电层相接的方式进行了叠层。此外，在上述叠层体的带有透明导电层的基材层(2)一侧贴合厚度23μm的粘合剂层A，制作了带有粘合剂的偏振膜(C)。图11(a)示意性地示出了实施例3的叠层结构。

＜实施例4＞

除了将待叠层的带有折射率调整分区的粘合剂层(2)变更为带有折射率调整分区的粘合剂层(3)以外，与实施例3同样操作，制作了叠层体。然后，在上述叠层体的丙烯酸类膜一侧贴合厚度100μm的粘合剂层C2，制作了两面具有粘合剂的偏振膜叠层体(D)。图12(a)示意性地示出了实施例4的叠层结构。

＜比较例1＞

将实施例1的带有折射率调整分区的粘合剂层(1)变更为不具有折射率调整分区的粘合剂层A而制作了偏振膜叠层体(E)，除此以外，与实施例1同样地进行了制作。图9(b)示意性地示出了比较例1的叠层结构。

＜比较例2＞

将实施例2的带有折射率调整分区的粘合剂层(2)变更为不具有折射率调整分区的粘合剂层B而制作了偏振膜叠层体(F)，除此以外，与实施例2同样地进行了制作。图10(b)示意性地示出了比较例2的叠层结构。

＜比较例3＞

将实施例3的带有折射率调整分区的粘合剂层(2)变更为不具有折射率调整分区的粘合剂层B而制作了偏振膜叠层体(G)，除此以外，与实施例3同样地进行了制作。图11(b)示意性地示出了比较例3的叠层结构。

＜比较例4＞

将实施例4的带有折射率调整分区的粘合剂层(3)变更为不具有折射率调整分区的粘合剂层C1，制作了偏振膜叠层体(F)，除此以外，与实施例2同样地进行了制作。

图12(b)示意性地示出了比较例4的叠层结构

[评价方法]

＜偏光板的单体透射率、偏光度的测定＞

使用紫外可见光分光光度计(日本分光株式会社制、产品名“V7100”)测定偏光膜的单体透射率(Ts)、平行透射率(Tp)及正交透射率(Tc)，按照下式求出了偏光度(P)。

偏光度(P)(％)＝{(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100

需要说明的是，上述Ts、Tp及Tc是通过JISZ8701的2度视野(C光源)测定，并进行了视觉灵敏度补正(視感度補正)而得到的Y值。

＜丙烯酸类聚合物的重均分子量(Mw)的测定＞

所制作的丙烯酸类聚合物的重均分子量(Mw)通过GPC(凝胶渗透色谱法)进行了测定。

装置：东曹株式会社制、HLC-8220GPC

柱：

样品柱：东曹株式会社制、TSK guard column Super HZ-H(1根)+TSK gel SuperHZM-H(2根)

参照柱：东曹株式会社制、TSK gel Super H-RC(1根)

流量：0.6mL/min

注入量：10μL

柱温：40℃

洗脱液：THF

注入试料浓度：0.2重量％

检测器：差示折射仪

需要说明的是，重均分子量通过聚苯乙烯换算而算出。

〈粘合剂层的表面状态的观察〉

使用FE-SEM、在加速电压2kV下以观察倍率500倍、2,000倍、5,000倍及20,000倍对各实施例中的粘合剂层的具有高折射率材料粒子一侧的表面进行了观察。图13示出了其20,000倍的照片。可知高折射率材料粒子均匀地分散。

〈分层结构的观察〉

使用透射电子显微镜(TEM)以倍率30,000倍对实施例的粘合剂层中具有高折射率材料粒子一侧的表面附近的截面进行了观察。将其结果示于图14(a)、(b)。可知，对于图14(a)而言，高折射率材料粒子基本均匀地分布于折射率调整用分区的几乎整个厚度上，而对于图14(b)的实例而言，粘合剂层中的高折射率材料粒子在粘合剂层的表面处分布最多，且具有沿着粘合剂层的厚度方向逐渐减少的分布。

〈平均表面折射率〉

实施例及比较例中得到的粘合层的平均表面折射率是使用分光椭圆偏振仪(EC-400，JA.Woolam公司制)测定的钠D线(589nm)的折射率。对于实施例及比较例的粘合层而言，以剥离两面剥离片且将黑板贴合于未涂布粒子的面上的状态测定了涂布有粒子的面的平均折射率。比较例的粘合片以剥离两个剥离片且将黑板贴合于一面的状态测定了粘合剂层表面的平均折射率。

〈折射率调整分区的厚度的测定〉

调整粘合剂层深度方向的截面并进行了TEM观察。根据得到的TEM图像(直接倍率3000～30000倍)进行了折射率调整分区的厚度的测定。折射率调整分区的厚度为基础粘合剂层与调整分区的界面的凹凸的平均值，在难以辨别与基础粘合剂层的界面的情况下，用图像处理软件(ImageJ)对表面TEM图像进行二值化图像处理，以存在90％的纳米粒子的区域的深度作为调整分区的厚度。

<高折射率粒子的面积比率>

使用FE-SEM、在加速电压2kV下以观察倍率500倍、2,000倍、5,000倍对粘合剂层的粒子涂布侧的表面进行了观察。通过用图像处理软件(ImageJ)对得到的表面SEM图像进行二值化图像处理，求出了高折射率粒子占长边23μm、短边18μm的长方形区域的总面积的面积比率(％)。

<总光线透射率、雾度值>

对于实施例及比较例中得到的粘合片，将涂布了高折射率材料的一侧的剥离片剥离，贴合于载玻片(商品名：白研磨No.1、厚度：0.8～1.0mm、总光线透射率：92％、雾度：0.2％、松浪硝子工业株式会社制)上。再剥离另一个剥离片，制作了具有基础粘合剂层/粘合性折射率调整用层/载玻片的层结构的试验片。另外，对于比较例的粘合片而言，将一个剥离片剥离并贴合于载玻片(商品名：白研磨No.1、厚度：0.8～1.0mm、总光线透射率：92％、雾度：0.2％、松浪硝子工业株式会社制)上，再剥离另一个剥离片，制作了具有基础粘合剂层/载玻片的层结构的试验片。使用雾度仪(装置名：HM-150、株式会社村上色彩研究所制)测定了上述试验片在可见光区域的总光线透射率、雾度值。

<180度剥离粘接力(对玻璃板的180度剥离粘接力)>

由实施例及比较例中得到的粘合片切出长100mm、宽25mm的片。接着，将实施例及比较例的片上未涂布粒子的一侧的剥离片剥离并粘贴(衬底)了PET膜(商品名：LumirrorS-10、厚度：25μm、东丽株式会社制)。另外，对于比较例1、2的片而言，剥离一个剥离片并粘贴(衬底)了PET膜(商品名：Lumirror S-10、厚度：25μm、东丽株式会社制)。接下来，剥离另一个剥离片，用2kg辊在往复1次的压接条件下对作为试验板的玻璃板(商品名：钠钙玻璃#0050，松浪硝子工业株式会社制)进行压接，制作了由试验板/粘合剂层/PET膜构成的样品。

对得到的样品进行高压釜处理(50℃、0.5MPa、15分钟)，然后在23℃、50％R.H.的气氛下自然冷却了30分钟。自然冷却后，使用拉伸试验机(装置名：Autograph AG-IS，株式会社岛津制作所制)并基于JIS Z0237标准在23℃、50％R.H.的气氛中于拉伸速度300mm/分、剥离角度180°的条件下从试验板上剥离粘合片(粘合剂层/PET膜)，测定了180°剥离粘接力(N/25mm)。另外，制作各实施例、比较例中未涂布高折射率粒子的粘合片，也与上述同样地对该未涂布高折射率材料的粒子的粘合片测定了180度剥离粘接力。

<含有高折射率粒子的分散液的透射率>

用光电比色计(AC-114，OPTIMA公司制)并使用530nm的滤光片测定了含有高折射率粒子的分散液的透射率。将单独的分散溶剂的透射率设为100％，测定了各实施例、比较例中使用的分散液的透射率(％)。

＜反射抑制率、反射色相改善率的测定＞

将实施例及比较例的偏振膜叠层体的一面作为反射率测定面，在其相反侧的面上粘贴黑色丙烯酸树脂板(商品名“CLAREX”、日东树脂工业制)，制作了反射率测定用试料。关于实施例4、比较例4的试样，将粘合剂的PET剥离片剥离，用反射式分光光度计(U4100，Hitachi High-Tech公司制造)测定了光学构件叠层体的反射率测定面侧的反射率(Y值)及反射率测定面侧的反射色相(L*、a*、b*值：CIE1976)。在对透明导电层进行了蚀刻的部分和未蚀刻的部分两者的位置均进行了测定。即，对透明导电层进行了蚀刻的部分(开口部)的测定表示的是粘合剂层的折射率调整分区与偏振膜叠层体的基材的界面的反射率，未蚀刻部分(图案部)的测定表示的是粘合剂层的折射率调整分区与透明导电层界面的反射率。关于反射色相也同样。

对于未蚀刻部分基于下式计算出反射抑制率。需要说明的是，下式中的“无粒子时的反射率(％)”是指比较例(未使用粒子时)的光学构件叠层体的反射率。即，反射抑制率是表示通过具有折射率调整分区能够在多大程度上降低反射率的指标。

反射抑制率(％)＝反射率(％)－无粒子时的反射率(％)

对于反射色相改善率而言，分别对于蚀刻部分和未蚀刻部分求出色值的差分(ΔL*、Δa*、Δb*)，然后基于下式计算出色差值(ΔE*ab)。

色差值ΔE*ab＝[(ΔL*)＾2+(Δa*)＾2+(Δb*)＾2]＾(1/2)

即，光学构件叠层体的反射色差(ΔE*ab)是表示蚀刻部分与未蚀刻部分的颜色差异的指标。

<图案外观的判定>

作为图案外观的评价，根据导电层部分与没有导电层的部分的反射率的色差进行了判定。反射色相的色差小于1.0时判定为◎，1.0以上且小于2.0时判定为○，为2.0以上时判定为×。

表3示出的是实施例1至8及比较例1至8的构成，另外，表4示出的是实施例1至8及比较例1至8的评价结果。

[表3]

[表4]

将实施例1至4的评价结果与比较例1至4的评价结果进行对比可知，通过使用具有折射率调整分区的粘合剂层，反射率降低了0.3％至0.4％。另外，通过使用具有折射率调整分区的粘合剂层，与导电层部的色差值由2.0～3.6改善至0.4～0.9。另外，通过使用具有折射率调整分区的粘合剂层，可以改善图案可见的问题。

工业实用性

如以上所述，在本发明中，在将第1光学构件与第2光学构件接合的粘合剂层中，从第2光学构件侧的一面起沿厚度方向设置具有比粘合剂基础材料的折射率更高折射率的折射率调整分区，因此，能够抑制外部光的内部反射光透过第1光学构件而返回。本发明能够应用于液晶显示装置及有机EL显示装置这样的光学显示装置。本发明可以特别有利地应用于具有触摸传感器的触摸面板方式的显示装置。

Claims (39)

1.一种偏振膜叠层体，其包括：

基材；

形成在所述基材上的偏光膜；

透明导电层，该透明导电层形成在所述基材的与形成有偏光膜的面相反侧的面上、且经过了图案化从而单独或者与其它构成一起作为触摸传感器发挥功能；以及

粘贴在所述透明导电层及所述基材上的粘合剂层，

其中，

包含从一个主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、以及从该粘合剂层的另一主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区，该折射率调整用分区具有比所述粘合剂基础材料的折射率更高的折射率，

所述粘合剂层的所述粘合剂基础材料分区位于所述基材侧。

2.根据权利要求1所述的偏振膜叠层体，其中，所述折射率调整用分区的厚度为20nm～600nm。

3.根据权利要求1或2所述的偏振膜叠层体，其中，所述折射率调整用分区如下构成：在与所述粘合剂基础材料相同的粘合性材料中分散具有比该粘合性材料更高折射率的高折射率材料的粒子，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率。

4.根据权利要求3所述的偏振膜叠层体，其中，所述高折射率材料的粒子的折射率为1.60～2.74。

5.根据权利要求3或4所述的偏振膜叠层体，其中，所述折射率调整用分区的所述另一主面上形成有所述高折射率材料的粒子露出于该另一主面的区域、以及该折射率调整用分区的粘合性材料露出于该另一主面的基质区域。

6.根据权利要求3～5中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，通过TEM观察得到的所述高折射率材料的平均初级粒径为3nm～100nm。

7.根据权利要求3～6中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，所述高折射率材料的粒子与所述粘合剂基础材料的折射率之差为0.15～1.34。

8.根据权利要求3～7中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，所述高折射率材料是选自TiO₂、ZrO₂、CeO₂、Al₂O₃、BaTiO₃、Nb₂O₅及SnO₂中的1种或多种化合物。

9.根据权利要求1或2所述的偏振膜叠层体，其中，所述折射率调整用分区如下构成：通过在与所述粘合剂基础材料相同的粘合性材料中含有具有比该粘合性材料更高折射率的粒子、聚合物或低聚物形态的有机材料，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率。

10.根据权利要求9所述的偏振膜叠层体，其中，所述粘合剂基础材料的折射率为1.40～1.55，所述有机材料的折射率为1.59～2.04。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，所述粘合剂层的总光线透射率为80％以上。

12.根据权利要求3～8中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，所述高折射率材料的粒子包含以多个粒子凝聚而成的凝聚体的形态存在的部分。

13.根据权利要求3～12中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，在所述粘合剂层的厚度方向上以不规则的深度存在所述折射率调整用分区。

14.根据权利要求1～13中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，

所述折射率调整分区的折射率小于所述透明导电层的折射率。

15.根据权利要求1～14中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，

所述折射率调整分区的折射率高于所述基材的折射率。

16.根据权利要求1～15中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，

所述透明导电层为氧化铟锡，

所述粘合剂基础材料的折射率为1.40～1.55、所述折射率调整分区的折射率为1.50～1.80。

17.根据权利要求1～16中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，所述基材为零相位差膜。

18.一种液晶面板，其具备：权利要求17所述的偏振膜叠层体、位于所述偏振膜叠层体的所述偏光膜侧的保护膜、以及位于所述偏振膜叠层体的粘合剂层侧的液晶单元。

19.根据权利要求1～16中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，所述基材为相位差膜。

20.根据权利要求19所述的偏振膜叠层体，其中，

所述相位差膜的玻璃化转变温度为160度以上。

21.一种液晶面板，其具备：权利要求19或20所述的偏振膜叠层体、位于所述偏振膜叠层体的所述偏光膜侧的保护膜、以及位于所述偏振膜叠层体的粘合剂层侧的液晶单元。

22.一种偏振膜叠层体，其具备：

基材；

透明导电层，该透明导电层形成在所述基材上、且经过了图案化从而单独或者与其它构成一起作为触摸传感器发挥功能；

粘贴于所述基材及所述透明导电层上的第1粘合剂层；

位于所述粘合剂层的与基材侧的面相反侧的面上的偏光膜；以及

粘贴于所述基材的与所述透明导电层侧相反侧的面上的第2粘合剂层，

其中，

所述第1粘合剂层包含从一个主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、以及从该粘合剂层的另一主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区，该折射率调整用分区具有比所述粘合剂基础材料的折射率更高的折射率，

所述第1粘合剂层的所述粘合剂基础材料分区位于所述偏光膜侧。

23.根据权利要求22所述的偏振膜叠层体，其中，所述折射率调整用分区的厚度为20nm～600nm。

24.根据权利要求22或23所述的偏振膜叠层体，其中，所述折射率调整用分区如下构成：在与所述粘合剂基础材料相同的粘合性材料中分散具有比该粘合性材料更高折射率的高折射率材料的粒子，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率。

25.根据权利要求24所述的偏振膜叠层体，其中，所述高折射率材料的粒子的折射率为1.60～2.74。

26.根据权利要求24或25所述的偏振膜叠层体，其中，所述折射率调整用分区的所述另一主面上形成有所述高折射率材料的粒子露出于该另一主面的区域、以及该折射率调整用分区的粘合性材料露出于该另一主面的基质区域。

27.根据权利要求24～26中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，通过TEM观察得到的所述高折射率材料的平均初级粒径为3nm～100nm。

28.根据权利要求24～27中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，所述高折射率材料的粒子与所述粘合剂基础材料的折射率之差为0.15～1.34。

29.根据权利要求24～28中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，所述高折射率材料是选自TiO₂、ZrO₂、CeO₂、Al₂O₃、BaTiO₃、Nb₂O₅及SnO₂中的1种或多种化合物。

30.根据权利要求22或23所述的偏振膜叠层体，其中，所述折射率调整用分区如下构成：通过在与所述粘合剂基础材料相同的粘合性材料中含有具有比该粘合性材料更高折射率的粒子、聚合物或低聚物形态的有机材料，从而提高该折射率调整用分区的平均折射率。

31.根据权利要求30所述的偏振膜叠层体，其中，所述粘合剂基础材料的折射率为1.40～1.55，所述有机材料的折射率为1.59～2.04。

32.根据权利要求22～31中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，所述粘合剂层的总光线透射率为80％以上。

33.根据权利要求24～29中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，所述高折射率材料的粒子包含以多个粒子凝聚而成的凝聚体的形态存在的部分。

34.根据权利要求24～33中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，在所述粘合剂层的厚度方向上以不规则的深度存在所述折射率调整用分区。

35.根据权利要求22～34中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，

所述折射率调整分区的折射率小于所述透明导电层的折射率。

36.根据权利要求22～35中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，

所述折射率调整分区的折射率高于所述基材的折射率。

37.根据权利要求22～36中任一项所述的偏振膜叠层体，其中，所述基材为4分之1波长相位差膜。

38.一种有机EL面板，其具备：权利要求37所述的偏振膜叠层体、位于所述偏振膜叠层体的所述偏光膜侧的保护膜、以及位于所述偏振膜叠层体的第2粘合剂层侧的有机EL单元。

39.根据权利要求38所述的有机EL面板，其具备：

粘贴于所述偏光膜的与所述第1粘合剂层相反侧的面上的4分之1波长相位差膜；

粘贴在所述4分之1波长相位差膜的与具有所述偏光膜的面相反侧的面上的低折射率层，所述4分之1波长相位差膜粘贴于所述偏光膜上；

粘贴于所述低折射率层的与具有所述4分之1波长相位差膜的面相反侧的面上的第3粘合剂层，所述4分之1波长相位差膜粘贴于所述偏光膜上；以及

粘贴于所述第3粘合剂层的与粘贴有所述低折射率层的面相反侧的面上的表面保护膜。