KR20170125102A

KR20170125102A - 투명한 점착제층 및 패턴화된 투명 도전층을 가지는 편광 필름 적층체 및 액정 패널 및 유기 el 패널

Info

Publication number: KR20170125102A
Application number: KR1020177029620A
Authority: KR
Inventors: 히로후미 가타미; 아츠시 야스이
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2015-07-22
Filing date: 2016-07-20
Publication date: 2017-11-13
Also published as: US10626304B2; JP6140775B2; US20180134922A1; CN107735704B; SG11201708484VA; TW201710073A; CN107735704A; TWI660855B; WO2017014243A1; KR101899507B1; JP2017026826A

Abstract

용이하고 염가로 제조할 수 있고, 광학 부재 적층체의 접합에 사용되었을 때, 내부 반사를 효과적으로 억제할 수 있는 점착제층을 포함한 점착제 시트를 제공한다. 기재(基材)와, 기재상에 형성된 편광막과 기재의 편광막이 형성된 면과 역측(逆側)의 면에 형성되어, 터치 센서로서 기능하도록 패턴화된 투명 도전성층과 투명 도전성층 및 기재상에 붙여진 점착제층으로 이루어지는 편광 필름 적층체에 있어서, 한편의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 투명한 점착제 베이스 재료에 의해 형성되는 베이스 점착제 구분과, 그 점착제층의 다른 한편의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 형성된 투명한 점착성의 굴절률 조정용 구분을 포함하고, 그 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 가지며, 점착제층의 상기 점착제 베이스 재료 구분이, 상기 기재 측에 위치하는 편광 필름 적층체를 제공한다.

Description

투명한 점착제층 및 패턴화된 투명 도전층을 가지는 편광 필름 적층체 및 액정 패널 및 유기 EL 패널

본 발명은, 투명한 점착제층을 가지는 편광 필름 적층체에 관한 것이다. 특히 본 발명은, 투명한 광학 부재를 다른 광학 부재에 접합하기 위해서 사용할 수 있는 투명한 점착제층 및 패턴화된 투명 도전층을 가지는 편광 필름 적층체에 관한 것이다.

예를 들면 액정 표시 장치 또는 유기 EL 표시 장치(OLED)와 같은 표시 장치는, 위상차 필름, 커버 유리 등의 투명 커버 부재, 그 외 여러 가지의 투명 광학 부재와 함께 편광 필름을 사용해, 편광 필름을 다른 광학 부재에 접합하기 위해서 점착제가 필요하다. 즉, 편광 필름과 다른 광학 부재의 사이에 점착제층이 배치되고, 이것들은 점착제층을 개재시켜 서로 압부(押付)되는 것에 의해 접합되어, 편광 필름 적층체가 형성된다. 이러한 편광 필름 적층체는, 액정 디스플레이 패널이나, 유기 EL 표시 장치라는 표시 장치와 함께 이용되고, 이러한 표시 장치의 시인 측에 배치된다. 이 구성에 있어서, 시인 측의 투명 광학 부재로부터 외광이 입사했을 때, 입사광이 점착제층과 비시인 측의 광학 부재와의 계면에서 반사해 시인 측에 돌아온다, 라고 하는 문제가 있다. 이 문제는, 외광의 입사각이 덜할 때, 특히 현저하게 된다.

또, 근년 증가 경향에 있는 터치 패널을 갖춘 표시 장치에 있어서는, 투명 광학 부재가 접합되는 피접합 측 광학 부재의 표면에는, 패턴화된 ITO(인듐·주석 산화물)와 같이 투명하고 도전성의 층이 형성된다. 이러한 표시 장치에 있어서는, 점착제층과 투명 도전성층과의 사이의 계면에 있어서의 입사광의 내부 반사의 영향으로, 시인 측으로부터 투명 도전성층의 패턴이 보이게 된다, 라고 하는「패턴 보임」의 문제가 지적되고 있다.

어느 경우에도, 내부 반사는, 점착제와 피접합 측 광학 부재 및 투명 도전성층의 굴절률차이에 기인한다. 특허 제4640740호 공보(특허 문헌 1)는, 이 문제에 대처하기 위한 수법을 교시한다. 즉, 그 특허 문헌 1은, 투명 광학 부재와 점착제층과의 사이의 계면, 및, 점착제층과 피접합 측 광학 부재와의 사이의 계면에 있어서의 빛의 전반사를 저감할 수 있는 점착제 조성물을 개시한다. 여기에 개시된 조성물은, 건조 후 및／또는 경화 후의 굴절률이 높고, 투명 광학 부재 및 피접합 측 광학 부재의 굴절률에 가까운 것이다, 라고 설명되고 있다. 이 특허 문헌 1의 교시는, 2개의 광학 부재를 접합하는 점착제층 전체를, 그 2개의 광학 부재의 굴절률에 가까운 굴절률을 가지는 것으로 하는 것이다.

이 특허 문헌 1에 의해 교시된 수법은, 계면 반사를 억제하는 점에서는 효과가 있을 것이나, 특정의 모노머 성분을 사용하는 것이기 때문에, 조성물 자체가 고가로 된다, 라고 하는 문제가 있다.

특허 제5564748호 공보(특허 문헌 2)는, 분산 평균 입자 지름이 1nm 이상, 한편 20nm 이하의 산화지르코늄 또는 산화티탄 입자를, 아크릴계 수지로 이루어지는 투명 점착제의 두께 전체에 걸쳐 분산시킨 구성의 굴절률이 조정된 점착제를 개시한다. 이 점착제는, 고굴절률 재료인 산화지르코늄 또는 산화티탄 입자를 투명 점착제에 혼합하고 있으므로, 점착제층 전체의 굴절률이 높아져, 상술한 계면 반사를 억제할 수 있다고 생각된다. 그러나 특허 문헌 2의 수법에서는, 고굴절률 재료를 다량으로 사용할 필요가 있어, 점착제로서의 특성의 저하가 염려되고, 한편 고가가 된다. 또, 사용되는 고굴절률 재료는 무기물질의 입자이기 때문에, 분산이 곤란하고, 산란에 의한 백탁을 일으킨다, 라고 하는 문제가 있다. 이 때문에, 유기 재료의 입자를 사용하는 것도 생각할 수 있지만, 그 경우에는, 착색의 문제를 해결하는 것이 용이하지 않게 된다.

특허 제5520752호 공보(특허 문헌 3)는, 특허 문헌 2에 기재의 수법을 개량하기 위해서, 점착제에 분산되는 금속 산화물 입자를 고분자로 피복하는 것을 제안한다. 특허 문헌 3이 교시하는 것은, 특허 문헌 2의 점착제층에서는, 점착제층의 표면에 금속 산화물이 노출하기 때문에, 점착성이 저하한다, 라고 하는 문제가 있으므로, 그 금속 산화물 입자를 고분자에 의해 피복하여, 이 문제를 해결한다, 라는 것이다. 이 특허 문헌 3에 의해 제안되는 수법은, 점착제층의 점착성에 있어서는 어느 정도의 개선은 가능한지는 모르지만, 특허 문헌 2에 관련해 지적한 문제의 상당수는 해결되지 않는다. 특히, 특허 문헌 3에 기재된 구성은, 금속 산화물 입자를 특정의 고분자로 피복하는 것이기 때문에, 특허 문헌 2의 구성보다도, 한층 더 고가가 된다.

[특허 문헌 1] 일본 특허 제4640740호 공보 [특허 문헌 2] 일본 특허 제5564748호 공보 [특허 문헌 3] 일본 특허 제5520752호 공보

본 발명은, 용이하고 염가로 제조할 수 있고, 편광 필름 적층체의 접합에 사용되었을 때, 내부 반사를 효과적으로 억제할 수 있는 점착제층 및 패턴이 시인하기 어려운 패턴화된 도전층을 포함한 편광 필름 적층체를 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.

간결하게 말하면, 본 발명은, 상술의 목적을 달성하기 위해, 점착제층의 표면으로부터 두께 방향의 어느 범위에 걸쳐서, 점착제층의 베이스 재료보다도 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정 구분을 형성하는 것에 의해서, 그 점착제층이 광학 부재의 접합에 사용되었을 때, 이것들 광학 부재에 의해서 형성되는 적층체에 있어서의 내부 반사를 억제하는 것이다.

하나의 양태에 있어서, 본 발명은 기재(基材)와, 기재상에 형성된 편광막과 기재의 편광막이 형성된 면과 역측(逆側)의 면에 형성되어, 단독으로 또는 다른 구성과 함께 터치 센서로서 기능하도록 패턴화된 투명 도전성층과, 투명 도전성층 및 기재상에 붙여진 점착제층으로 이루어지는 편광 필름 적층체를 제공한다. 이 편광 필름 적층체에 있어서, 점착제층은, 한편의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 투명한 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분과, 그 점착제층의 다른 한편의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 형성된 투명한 점착성의 굴절률 조정용 구분을 포함하고, 그 굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 가지며, 점착제층의 점착제 베이스 재료 구분이, 기재 측에 위치한다.

굴절률 조정용 구분은, 두께가 20nm~600nm인 것이 바람직하다. 본 발명의 한 형태에 있어서는, 굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에, 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 고굴절률 재료의 입자가 분산되어 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것으로 할 수 있다. 그 고굴절률 재료의 입자의 굴절률은 1.60~2.74인 것이 바람직하다. 고굴절률 재료의 입자는, TEM 관찰에 의한 평균 일차 입자 지름이 3nm~100nm인 것이 바람직하다. 또, 고굴절률 재료는, TiO₂, ZrO₂, CeO₂, Al₂O₃, BaTiO₃, Nb₂O₅, 및 SnO₂로 이루어지는 군으로부터 선택된 1 또는 복수의 화합물로 할 수 있다.

본 발명의 한 형태에 있어서는, 굴절률 조정용 구분의 그 다른 한편의 주면에는, 고굴절 재료의 입자가 그 다른 한편의 주면에 노출하는 영역과, 그 굴절률 조정용 구분의 점착성 재료가 그 다른 한편의 주면에 노출하는 매트릭스 영역이 형성되도록 할 수 있다. 이 경우, 고굴절 재료의 입자가 그 주면에 노출하는 그 영역은, 면적비 30~99％의 범위에서 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 그 고굴절률 재료의 입자와 그 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차이는 0.15~1.34인 것이 바람직하다.

점착제층의 전광선 투과율은, 80％ 이상인 것이 바람직하다. 고굴절률 재료의 입자는, 복수의 입자가 응집한 응집체의 형태로 존재하는 부분을 포함할 수 있다.

굴절률 조정용 구분은, 두께를 20nm~600nm로 하는 것이 바람직하다. 굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 고굴절률 재료의 입자가 분산된 구성으로 하고, 이 고굴절률 재료 입자에 의해 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 할 수 있다. 이 경우에는, 점착제 베이스 재료의 굴절률을 1.40~1.55로 하고, 고굴절률 재료의 입자의 굴절률을 1.60~2.74로 하는 것이 바람직하다. 굴절률 조정용 구분이 광학 부재에 접합되는 접합면에는, 고굴절 재료의 입자가 그 광학 부재에 접촉하는 영역과, 그 굴절률 조정용 구분의 점착성 재료가 그 광학 부재에 접촉하는 매트릭스 영역이 형성된다. 이 경우에 있어서, 고굴절 재료의 입자가 광학 부재에 접촉하는 영역은, 면적비 30~99％의 범위에서 형성되는 것이 바람직하다. 또, 고굴절률 재료의 입자와 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차이가 0.15~1.34인 것이 바람직하다.

굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에, 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 입자, 폴리머 또는 올리고머의 형태의 유기 재료가 포함되는 것에 의해서 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것으로 할 수 있다. 또, 이 구성의 점착제층이, 광학 부재에 투명 도전성층이 형성된 구성에 적용되는 경우에는, 투명 도전성층의 굴절률은 1.75~2.14로 하고, 점착제 베이스 재료의 굴절률은 1.40~1.55로 하고, 유기 재료의 굴절률은 1.59~2.04로 하는 것이 바람직하다. 여기서 이용되는 고굴절률을 가지는 유기 재료로서는, 특히 한정되지 않지만, 스티렌계와 같은 방향환을 가지는 수지외, 유황이나 질소 등의 이질 원자를 포함한 수지(예를 들면 티올이나 트리아진환을 포함하는 폴리머)를 들 수 있다. 또, 입자로서는 나노미터 사이즈의 유기 나노 입자, 구상 고분자를 포함하며, 입경은 TEM 관찰에 의한 평균 일차 입자 지름이 3nm~100nm인 것이 바람직하다.

점착제층은, 전광선 투과율이 80％ 이상인 것이 바람직하다. 고굴절률 재료의 입자는, 복수의 입자가 응집한 응집체의 형태로 존재하는 부분을 포함할 수 있다. 통상은, 굴절률 조정용 구분에 포함되는 고굴절 재료의 입자는, 점착제층의 두께 방향으로, 불규칙한 깊이로 존재한다.

또, 굴절률 조정 구분의 굴절률이, 투명 도전성층의 굴절률보다도 낮은 것이 바람직하다. 굴절률 조정 구분의 굴절률이, 기재의 굴절률보다도 높아도 좋다. 투명 도전성층은, 산화 인듐주석이며, 점착제 베이스 재료의 굴절률은 1.40~1.55이며, 굴절률 조정 구분의 굴절률은 1.50~1.80인 것이 바람직하다. 또, 기재는, 제로 위상차 필름인 것이 보다 바람직하다.

본 발명은, 일실시 형태로서, 상술한 편광 필름 적층체와, 편광 필름 적층체의 편광막 측에 있는 보호 필름과, 편광 필름 적층체의 점착제층 측에 있는 액정 셀을 갖추는 액정 패널을 제공한다.

또, 기재는, 위상차 필름이어도 좋고, 이 위상차 필름의 유리 전이 온도는, 120도 이상인 것이 바람직하다. 본 발명은, 일실시 형태로서, 그 편광 필름 적층체와, 편광 필름 적층체의 편광막 측에 있는 보호 필름과, 편광 필름 적층체의 점착제층 측에 있는 액정 셀을 갖추는 액정 패널을 제공한다.

본 발명은 또, 일실시 형태로서, 기재와, 기재상에 형성된, 단독 또는 다른 구성과 함께 터치 센서로서 기능하도록 패턴화된 투명 도전층과, 기재 및 투명 도전층에 붙여진 제1의 점착제층과, 점착제층의 기재 측의 면과는 역측의 면에 있는 편광막과, 기재의 투명 도전층 측과는 역측의 면에 붙여진 제2의 점착제층을 갖춘 편광 필름 적층체를 제공한다. 이 편광 필름 적층체는, 제1의 점착제층은, 한편의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 투명한 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분과, 그 점착제층의 다른 한편의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 형성된 투명한 점착성의 굴절률 조정용 구분을 포함하고, 그 굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 가지며, 제1의 점착제층의 점착제 베이스 재료 구분이, 편광막 측에 위치한다. 또, 본 실시 형태에 있어서는, 상술한 특징을 가지는 점착제층을 제1의 점착제층으로서 사용할 수 있다. 기재는, 4분의 1 파장 위상차 필름인 것이 바람직하다.

본 발명은 또, 일실시 형태로서, 상기의 편광 필름 적층체와, 편광 필름 적층체의 편광막 측에 있는 보호 필름과, 편광 필름 적층체의 제2의 점착제층 측에 있는 유기 EL 셀을 갖추는 유기 EL 패널을 제공한다. 이 유기 EL 패널은, 또한, 편광막의 제1의 점착제층과는 역측의 면에 붙여진 4분의 1 파장 위상차 필름과, 편광막에 붙여진 4분의 1 파장 위상차 필름의 편광막이 있는 면과는 역측의 면에 붙여진 저굴절률층과, 저굴절률층의, 편광막에 붙여진 4분의 1 파장 위상차 필름이 있는 면과는 역측의 면에 붙여진 제3의 점착제층과, 제3의 점착제층의 저굴절률층이 붙여진 면과는 역측의 면에 붙여진 표면 보호 필름을 갖추도록 해도 좋다.

편광 필름을, 예를 들면 터치 센서를 구성하기 위해서 패턴화된 투명 도전성층을 가지는 광학 부재에 접합하기 위해서, 본 발명에 의한 점착제 시트가 사용되는 경우에는, 점착제층을 지지체로부터 벗기고, 투명한 점착성의 굴절률 조정용 구분이 투명 도전성층 및 광학 부재에 면하고, 점착제층의 반대 측의 면이 편광 필름에 면하는 상태로, 그 투명 도전성층 및 광학 부재상에 그 투명한 점착성 굴절률 조정용 구분을 접합하고, 점착제층의 그 반대 측의 면을 편광 필름에 접합하고, 굴절률 조정용 구분이, 그 투명 도전성층과 광학 부재와의 사이의 단차를 메우도록 그 투명 도전성층과 그 광학 부재의 양쪽 모두에 접하는 상태로 해, 편광 필름을 통해 입사하는 외광의, 점착제 베이스층과 굴절률 조정용 구분과의 계면에 있어서의 반사광과, 굴절률 조정용 구분과 투명 도전성층과의 계면에 있어서의 반사광이, 광학적 간섭에 의해 적어도 부분적으로 상쇄되도록 한다.

본 발명의 점착제 시트를 사용해 내부 반사를 억제하는 경우에 있어서는, 입사하는 외광의, 점착제층에 있어서의 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 구분과 굴절률 조정용 구분과의 계면에 있어서의 반사광과, 굴절률 조정용 구분과 광학 부재와의 계면에 있어서의 반사광이, 광학적 간섭에 의해 적어도 부분적으로 상쇄되도록 할 수 있다.

본 발명에 의하면, 광학 부재 측에 패턴화된 투명 도전성층이 형성된 구성에 있어서, 그 투명 도전성층과 광학 부재의 굴절률에 대한 점착제층의 굴절률 조정 구분의 굴절률을 조정함으로써, 계면 반사를 억제하는 것이 가능하게 된다. 또한, 그 투명 도전성층에 있어서의 반사광과 광학 부재 표면에 있어서의 반사광, 및 점착제층 내부에 생기는 반사광과의 사이에 있어서의, 반사광끼리의 위상차에 의한 상쇄 효과로 광학 부재 측에 돌아오는 반사광을 큰 폭으로 저감 시키는 것이 가능하게 된다.

도 1(a)는, 본 발명에 의한 점착제 시트의 일실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 1(b)는, 본 발명에 의한 점착제 시트를 사용하는 가장 단순한 실시 형태의 일례를 나타내는 광학 부재 적층체의 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 점착제 시트에 사용되는 점착제층의 일실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 3은, 패턴화된 투명 도전성층이 형성된 구성에 도 2에 나타내는 점착제층(13)이 적용된 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 4는, 제2 광학 부재에 접촉하는 점착제층의 주면의 상태를 나타내는 평면도이다.
도 5(a)는, 도 2에 나타내는 점착제층을 제작하기 위한 공정을 나타내는 것으로, 분산액의 도포 공정을 나타내는 개략도이다.
도 5(b)는, 도 2에 나타내는 점착제층을 제작하기 위한 공정을 나타내는 것으로, 고굴절률 재료 입자의 침투 공정을 나타내는 개략도이다.
도 5(c)는, 도 2에 나타내는 점착제층을 제작하기 위한 공정을 나타내는 것으로, 건조 공정을, 나타내는 개략도이다.
도 6(a)는, 본 발명의 실시예에 의한 편광 필름 적층체의 구성을 나타내는 것으로, 편광 필름 적층체(40)를 나타낸다.
도 6(b)는, 본 발명의 실시예에 의한 편광 필름 적층체의 구성을 나타내는 것으로, 편광 필름 적층체(50)를 나타낸다.
도 6(c)는, 본 발명의 실시예에 의한 편광 필름 적층체의 구성을 나타내는 것으로, 편광 필름 적층체(60)를 각각 가리킨다.
도 7(a)는, 본 발명의 실시예에 의한 액정 패널의 구성을 나타내는 것으로, 액정 패널(45)을 나타낸다.
도 7(b)는, 본 발명의 실시예에 의한 액정 패널의 구성을 나타내는 것으로, 액정 패널(55)을 나타낸다.
도 7(c)는, 본 발명의 실시예에 의한 유기 EL 패널의 구성을 나타내는 것으로, 유기 EL 패널(65)을 각각 나타낸다.
도 8은, 본 발명의 일실시 형태인 유기 EL 패널의 구성을 나타내는 것이다.
도 9(a)는, 본 발명의 실시 형태에 의한 편광 필름 적층체의 실시예 1의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.
도 9(b)는, 비교예 1의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.
도 10(a)는, 본 발명의 실시 형태에 의한 편광 필름 적층체의 실시예 2의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.
도 10(b)는, 비교예 2의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.
도 11(a)는, 본 발명의 실시 형태에 의한 편광 필름 적층체의 실시예 3의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.
도 11(b)는, 비교예 3의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.
도 12(a)는, 본 발명의 실시 형태에 의한 편광 필름 적층체의 실시예 4의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.
도 12(b)는, 비교예 4의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.
도 13은, 본 발명의 실시예에 의해 제작된 점착제층의 굴절률 조정용 구분의 표면 상태를 나타내는 20000배 SEM 사진이다.
도 14(a)는, 본 발명의 실시예에 의해 얻어진 점착제층에 있어서의 굴절률 조정용 구분의 고굴절률 재료 입자 분포를 나타내는 30000배 TEM 단면 사진이다.
도 14(b)는, 본 발명의 다른 실시예에 의해 얻어진 점착제층에 있어서의 굴절률 조정용 구분의 고굴절률 재료 입자 분포를 나타내는 30000배 TEM 단면 사진이다.

이하, 본 발명의 실시 형태를 도면에 관련해 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 이상, 이하의 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 또, 각 예 중, 부, ％는 모두 중량 기준이며, 이하에 특히 규정이 없는 실온 방치 조건은 모두 23℃, 65％ R.H.이다.

도 1(a)는 본 발명에 이용되는 점착제 시트의 일실시 형태를 나타내는 단면도, (b)는 본 발명에 이용되는 점착제 시트를 사용하는 가장 단순한 실시 형태의 일례를 나타내는 광학 부재 적층체(1)의 단면도이다. 도 1(a)를 참조하면, 본 발명의 일실시 형태에 의한 점착제 시트(S)는, 광학적으로 투명한 점착제층(3)과, 그 점착제층(3)의 한편의 주면에 첩합된 박리지로 이루어지는 제1의 지지체(S1)와, 그 점착제층(3)의 다른 한편의 주면에 첩합된 박리지로 이루어지는 제2의 지지체(S2)로 구성된다. 도 1(b)를 참조하면, 광학 부재 적층체(1)는, 편광 필름(2)과, 그 편광 필름(2)에 광학적으로 투명한 점착제층(3)을 개재시켜 접합된 광학 부재(4)로 구성되어 있다. 점착제층(3)은, 도 1(a)에 나타내는 점착제 시트(S)로부터, 지지체(S1, S2)를 벗기고, 지지체(S1)가 붙여져 있던 측을 편광 필름에 지지체(S2)가 붙여져 있던 측을 소망한 광학 부재에 첩합한 것이다. 광학 부재(4)는, 위상차 필름, 그 외의 광학적 표시 장치에 사용되는 광학 필름, 혹은 광학적 표시 장치의 시인 측 커버 유리와 같은 투명 커버 부재에 의해 구성할 수 있다. 편광 필름(2)은, 점착제층(3)의 제1의 주면(5)에, 광학 부재(4)는, 점착제층(3)의 제2의 주면(6)에, 각각 접합된다.

투명한 점착제층(3)은, 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분(3a)과, 그 베이스 점착제 구분(3a)보다 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정용 구분(3b)를 가진다. 베이스 점착제 구분(3a)을 형성하는 점착제 베이스 재료의 굴절률은, 편광 필름(2)의 굴절률에 가까운 굴절률을 가지는 것이 바람직하다. 예를 들면, 편광 필름(2)의 굴절률과 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차이가 0.3 이내인 것이 바람직하고, 0.1 이내라면 보다 바람직하다.

점착제 베이스 재료는, 광학 용도에 사용 가능한 점착성을 가지는 투명한 재료이면 특히 제한은 없다. 예를 들면, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스텔계 점착제, 우레탄계 점착제, 엑폭시계 점착제, 및 폴리 에테르계 점착제로부터 적당히 선택해 사용할 수 있다. 투명성, 가공성 및 내구성 등의 관점으로부터, 아크릴계 점착제를 이용하는 것이 바람직하다. 점착제 베이스 재료는, 상기의 점착제의 어느 것이든가를 단독으로, 혹은, 2종류 이상을 조합해 사용할 수 있다. 아크릴계 점착제의 베이스 폴리머로서 이용하는 아크릴계 폴리머는, 특히 한정하는 의미는 아니지만, (메타)아크릴산 알킬 에스테르를 주성분으로 하는 모노머의 호모폴리머 또는 코폴리머인 것이 바람직하다. 여기서,「(메타)아크릴」이라고 하는 표현은,「아크릴」및「메타크릴」중 어느 것이든가 한편 또는 양쪽 모두를 의미하는 것으로서 사용되는 것으로, 다른 경우도 마찬가지이다. 본 발명에 있어서, 아크릴계 폴리머라고 하는 용어는, 상술의 (메타)아크릴산 알킬 에스테르 외에, 이것과 공중합 가능한 다른 모노머도 포함되는 의미로 사용된다. 점착제 베이스 재료의 굴절률은, 일반적으로, 1.40~1.55이다.

점착제층(3)의 두께는 특히 한정되는 것은 아니지만, 통상은 5μm~500μm, 바람직하게는, 5μm~400μm, 한층 더 바람직하게는, 5μm~300μm이다. 이 중, 굴절률 조정용 구분(3b)의 두께는, 바람직하게는 20nm~600nm이며, 보다 바람직하게는 20nm~300nm, 한층 더 바람직하게는 20nm~200nm이다. 굴절률 조정 구분(3b)과 베이스 점착제 구분(3a)과의 경계는, 불규칙한 요철(凹凸)형상이 되지만, 본 발명에 있어서는, 굴절률 조정 구분(3b)의 두께는, 요철 형상의 깊이의 측정치를 평균함으로써 결정된다. 베이스 점착제 구분의 두께는, 점착제층(3)의 두께로부터 굴절률 조정 구분(3b)의 두께를 뺀 값이 된다. 점착제층(3) 전체의 전광선 투과율은, JIS K7361에 준거해 측정한 값으로 80％ 이상, 바람직하게는 90％ 이상이다. 점착제층(3)의 전광선 투과율은, 높을수록 바람직하다. 게다가 또, 헤이즈(haze) 값은, 1.5％ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1％ 이하이다.

본 발명에서 사용하는 점착제층에는, 각종 첨가제를 첨가할 수 있다. 예를 들면, 고온 다습 조건하에서의 밀착성을 향상시키기 위해서, 각종의 실란 커플링제를 투입하는 것이 바람직하다. 이 실란 커플링제는, 점착제의 내구성을 향상시키는 응집력을 부여하는 효과도 가진다. 게다가, 본 발명에서 사용하는 점착제층에는, 가교제를 첨가하는 것으로, 점착제의 내구성에 관계하는 응집력을 부여할 수 있기 위해 바람직하다. 또, 필요에 따라서, 점도 조정제, 박리 조정제, 점착 부여제, 가소제, 연화제, 무기 분말 등으로 이루어지는 충전제, 안료, 착색제(안료, 염료 등), pH조정제(산 또는 염기), 방수제, 산화 방지제, 자외선 흡수제 등을 적당히 사용할 수도 있다.

점착제층의 형성 방법은 특히 한정되지 않지만, 각종 기재(이형(離型) 필름, 투명 수지 필름)상에 점착제 베이스 재료를 도포하고, 열오븐 등의 건조기에 의해 건조해, 용제 등을 휘산시켜 점착제층을 형성하고, 후술하는 편광 필름이나 액정 셀의 기판상에, 해당 점착제층을 전사하는 방법이어도 좋고, 상기 편광 필름이나 액정 셀상에 직접 상기 점착제 조성물을 도포해, 점착제층을 형성해도 좋다.

굴절률 조정용 구분(3b)은, 예를 들면 점착제 베이스 재료보다 높은 굴절률을 가지는 수지 재료의 용액을, 기재상에 형성된 점착제층의 한편의 면에 소정량 도포하고, 건조시키는 것에 의해서 형성할 수 있다. 이 목적으로 사용할 수 있는 수지 재료로서는, 예를 들면, 특허 문헌 1에 기재된 점착제 조성물이 있다. 혹은, 점착제 베이스 재료보다 높은 굴절률을 가지는 유기물, 예를 들면 스티렌 올리고머를 고형물로서 분산시킨 분산액을 점착제 베이스 재료의 층의 표면에 도포해 건조시키는 방법에 따라도 괜찮다. 그러나 본 발명에 있어서는, 이하에 도 2에 대해 설명하듯이, 점착제 베이스 재료에 의해 형성된 점착제층의 한편의 면으로부터 고굴절률 재료의 입자를 침투시켜, 점착제층의 그 한편의 면에 인접하는 영역에, 그 고굴절률 재료의 입자가 분산되도록 하는 것이 바람직하다.

이하에, 도 2를 참조해, 본 발명의 일실시 형태에 있어서 이용되는 점착제층(13)의 구성을 상세하게 설명한다.

도 2에 나타내는 본 발명의 실시 형태에 있어서 이용되는 점착제층(13)은, 도 1에 나타내는 실시 형태의 점착제층(3)과 같이, 제1의 주면(15) 및 제2의 주면(16)을 갖고, 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분(13a)과, 그 베이스 점착제 구분(13a)보다 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정용 구분(13b)을 가지는 구성이지만, 본 실시 형태에 있어서는, 굴절률 조정용 구분(13b)은, 제2의 주면(16)으로부터 두께 방향의 깊이에 걸쳐서 점착제 베이스 재료 내로 침투해, 점착제 베이스 재료 내에 분산된 고굴절률 재료의 입자(17)를 포함하는 것에 의해, 베이스 점착제 구분(13a)보다 높은 굴절률을 가지도록 구성되어 있다.

굴절률 조정용 구분(13b)에 있어서의 고굴절률 재료 입자(17)의 굴절률은, 1.6~2.7의 범위인 것이 바람직하다. 또, 예를 들면, 고굴절률 재료의 입자와 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차이는 0.2~1.3인 것이 바람직하다. 굴절률 조정용 구분이 점착제 베이스 재료보다 높은 굴절률을 가지는 유기물을 함침시키는 것에 의해서 형성되는 경우에는, 마찬가지로, 그 유기물과 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차이를 0.1~0.6으로 하는 것이 바람직하다. 점착제 베이스 재료와의 상용성(저온하에서의 흡출(bleed out), 고온하에서의 편석의 리스크)의 관점이나, 고온이나 고온 고습하에 있어서의 신뢰성의 관점으로부터, 유기물보다 일반적으로 내열성의 높은 무기물의 고굴절률 재료를 이용하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 굴절률 조정용 구분에 고굴절률 재료 입자를 사용하는 본 발명의 실시 형태에 있어서 사용할 수 있는 고굴절률 재료로서는, TiO₂, ZrO₂, CeO₂, Al₂O₃, BaTiO₂, Nb₂O₅ 및 SnO₂가 있고, 이러한 군으로부터 선택된 1 또는 복수의 화합물을 사용해 고굴절률 재료 입자(17)를 형성할 수 있다. 고굴절률 재료 입자(17)의 평균 일차 입경은, 3nm~100nm이라면 좋고, 입자는, 개개에 분산 상태로, 혹은 일부가 응집한 상태로, 굴절률 조정용 구분(13b) 내에 분포된다. 굴절률 조정용 구분(13b)과 베이스 점착제 구분(13a)과의 경계는, 도 1에 관련해 설명한 것처럼, 불규칙한 요철 형상이 되고 있지만, 굴절률 조정용 구분(13b)의 두께 측정할 때에는, 각 측정 위치에 있어서, 고굴절률 재료 입자(17)의 90％가 존재하는 깊이의 범위를, 그 측정 위치에 있어서의 구분(13b)의 두께 측정치로 해, 복수의 측정 위치에 있어서의 측정치를 평균해 굴절률 조정용 구분(13b)의 두께로 한다.

도 3은, 터치 패널 센서를 구성하기 위해서, 광학 부재(4)의 점착제층 측 표면에, 예를 들면 패턴화된 ITO막과 같은 투명 도전성층(7)이 형성된 구성에, 도 2에 나타내는 점착제층(13)이 적용된 실시 형태를 나타내는 단면도이다. 이 경우에 있어서의 광학 부재(4)의 예로서는, 예를 들면 액정 표시 장치 또는 유기 EL 표시 장치에 있어서의 표시 패널의 유리 기판을 들 수 있다.

투명 도전성층(7)의 구성 재료로서는 특히 한정되지 않고, 인듐, 주석, 아연, 갈륨, 안티몬, 티탄, 규소, 지르코늄, 마그네슘, 알루미늄, 금, 은, 동, 팔라듐, 텅스텐으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속의 금속 산화물이 이용된다. 해당 금속 산화물에는, 필요에 따라서, 한층 더 상기 군에 나타난 금속 원자를 포함하고 있어도 좋다. 예를 들면, 산화 주석을 함유하는 산화 인듐(ITO), 안티몬을 함유하는 산화 주석 등이 바람직하게 이용되며, ITO가 특히 바람직하게 이용된다. ITO로서는, 산화 인듐 80~99중량％ 및 산화 주석 1~20중량％를 함유하는 것이 바람직하다. 또, ITO는, 결정성의 ITO, 비결정성(아몰퍼스(amorphous))의 ITO 중 어느 것이어도 좋다. 예를 들면, 결정성 ITO는, 고온 상태하에서 ITO를 스터퍼링 하고, 비결정성 ITO층을 형성하고, 한층 더 가열해, 결정화시키는 것에 의해서 얻을 수 있다. 투명 도전층에는, 빗모양(櫛) 형상, 스트라이프 형상, 마른모형 형상 등, 용도에 따라 임의의 형상을 채용할 수 있다. 투명 도전성층(7)의 두께는 특히 제한되지 않지만, 7nm 이상으로 하는 것이 바람직하고, 12~200nm인 것이 보다 바람직하고, 12~100nm인 것이 더 바람직하고, 18~70nm인 것이 특히 바람직하다. 투명 도전성층(7)의 두께가, 7nm 미만에서는 투명 도전성층(7)이 면내에서 균일하게 붙지 않고, 패널 면내에서의 저항값이 안정되지 않거나, 소정의 저항값을 얻을 수 없거나 하는 경향이 있다. 한편, 200nm를 넘는 경우는, 투명 도전성층(7)의 생산성이 저하해, 코스트도 상승하고, 또한, 광학 특성도 저하하는 경향이 있다. 투명 도전성층(7)의 형성 방법으로서는, 상술한 스터퍼링법으로 한정되지 않고, 여러 가지의 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, 진공 증착법, 이온 도금법을 예시할 수 있다. 또, 필요로 하는 막 두께에 따라 적당한 방법을 선택할 수도 있다.

또, 투명 도전성층(7)에는, 금속 나노 와이어 또는 금속 메쉬를 채용할 수도 있다. 금속 나노 와이어란, 재질이 금속이며, 형상이 침상(針狀) 또는 사상(絲狀)이며, 지름이 나노미터 사이즈의 도전성 물질을 말한다. 금속이 나노미터 사이즈이기 때문에, 시인할 수 없는 한편, 복수의 금속 나노 와이어를 배치하는 것으로, 전기 저항값을 작게 하는 것에 의해서, 투명한 도전층을 형성할 수 있다. 금속 나노 와이어는 직선 형상이어도 좋고, 곡선 형상이어도 좋다. 금속 나노 와이어로 구성된 투명 도전층을 이용하면, 금속 나노 와이어가 그물코 형상이 되는 것에 의해, 소량의 금속 나노 와이어여도 양호한 전기 전도 경로를 형성할 수 있어, 전기 저항이 작은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다. 또한, 금속 나노 와이어가 그물코 형상이 되는 것에 의해, 그물코의 틈새에 개구부를 형성해, 광투과율이 높은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다. 상기 금속 나노 와이어를 구성하는 금속으로서는, 도전성이 높은 금속인 한, 임의의 적절한 금속이 이용될 수 있다. 상기 금속 나노 와이어를 구성하는 금속으로서는, 예를 들면, 은, 금, 동, 니켈 등을 들 수 있다. 또, 이들 금속에 도금 처리(예를 들면, 금도금 처리)를 행한 재료를 이용해도 좋다. 그 중에서도 바람직하게는, 도전성의 관점으로부터, 은, 동 또는 금이며, 보다 바람직하게는 은이다.

금속 메쉬를 포함한 투명 도전층은, 상기 기재 적층체상에, 금속 세선이 격자 형상의 패턴으로 형성되어서 된다. 상기 금속 나노 와이어를 구성하는 금속과 같은 금속을 사용하는 것이 가능하다. 금속 메쉬를 포함한 투명 도전층은, 임의의 적절한 방법에 의해 형성시킬 수 있다. 투명 도전층은, 예를 들면, 은염을 포함한 감광성 조성물(투명 도전층 형성용 조성물)을 기재 적층체상에 도포하고, 그 후, 노광 처리 및 현상 처리를 행해, 금속 세선을 소정의 패턴으로 형성함으로써 얻을 수 있다.

편광막보다도 시인 측에 배치되는 기재층은, 가시광 영역에 있어서 투명한 것이면 특히 제한되지 않고, 유리나, 투명성을 가지는 각종의 플라스틱 필름이 이용된다. 투명 도전층의 형성이나 플렉서블 디스플레이 등의 기재에 이용하는 경우는, 플라스틱 필름 등의 가요성 필름이 이용되는 것이 바람직하다.

플라스틱 필름의 재료로서는, 폴리에스텔계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에텔술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리(시클로) 올레핀계 수지, (메타)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐 알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌 설파이드계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은, 폴리에스텔계 수지(PET), 아세테이트계 수지(TAC), (메타)아크릴계 수지(아크릴), 폴리카보네이트계 수지(PC), 폴리(시클로) 올레핀계 수지(COP) 등을 들 수 있다.

화상 표시 장치로부터 봐 편광막의 외측에 적층되는 투명 보호 필름에는, 기능층을 가지고 있어도 좋다. 기능층으로서는, 하드 코트(HC)층 / 반사 방지층 / 방오층 / 대전 방지층 /확산 내지 안티글레어를 목적으로 한 처리 등을 들 수 있고, 이것들을 임의로 조합·복합화해 형성되고 있어도 괜찮다. 또, 보호 필름기재에는 자외선 흡수 기능이 부여되고 있어도 좋다.

본 발명에 이용하는 편광 필름에서는, 편광막의 내측(표시 패널 측)에 기재층이 배치된다. 내측 기재층에는, 제로 위상차 필름 또는, λ／2 위상차 필름 및 λ／4 위상차 필름이라는 위상차 필름이 이용된다. 기재층으로서 제로 위상차판을 이용하는 경우에는, 기재층은, 복굴절량(위상차)이 적은, 광학 등방성이 높은 것이 바람직하다. 복굴절이 크면, 흑표시 시에 있어서의 경사 방향으로부터의 누설광의 착색 현상, 칼라 시프트 등의 폐해가 생기는 경우가 있다. 그 때문에, 광학적인 복굴절을 일으키지 않는 재료가 바람직하고, 광등방성을 가지는 폴리카보네이트계 수지, 시클로 올레핀계 수지 재료에 의해 형성하는 것이 바람직하다.

또, 설계에 따라서, 기재층에는 위상차 필름을 이용할 수도 있다. 위상차 필름은 단층의 구성 또는 다층의 구성의 어느 것이어도 좋다. 위상차 필름은, 고분자 필름을 연신·수축시켜 얻을 수 있는 것이나 액정 재료를 배향, 고정화시킨 것을 목적에 따라 적당히 이용할 수 있다. 위상차 필름은, 면 내 및／또는 두께 방향에 복굴절을 가져, 거기에 따라 소정의 기능을 실현하는 것을 말한다. 위상차 필름으로서는, 반사 방지용 위상차 필름, 시야각 보상용상차 필름, 시야각 보상용의 경사 배향 위상차 필름 등을 들 수 있다. 위상차 필름으로서는, 실질적으로 상기의 기능을 가지는 것이면, 예를 들면, 위상차 값, 배치 각도, 3차원 복굴절률, 단층이든가 다층이든가 등은 특히 한정되지 않고 공지의 위상차막을 사용할 수 있다.

투명기재의 두께는 10~200μm의 범위 내인 것이 바람직하고, 10~100μm의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 기재의 두께가 10μm 미만이라면, 투명기재의 기계적 강도가 부족해 투명 도전성 박막을 연속적으로 형성하는 조작이 곤란하게 되는 경우가 있다. 한편, 기재의 두께가 200μm를 넘으면, 디바이스의 두께가 커지는 것에 더해, 반송·권취가 곤란하게 되는 경향이 있다.

투명기재의 한 면 또는 양면에, 단일 또는 복수 층의 기능층을 가지고 있어도 좋다. 예를 들면, 역접착층 / 굴절률 조정층 / 하드 코트(HC)층 / 올리고머 방지층 / 블로킹 방지(AB)층이다. 이것들을 임의로 조합·복합화해 형성된다. 투명기재에는, 표면에 미리 스터퍼링, 코로나 방전, 자외선 조사, 전자선 조사, 화성, 산화 등의 에칭 처리나 하도 처리를 행해, 기재상에 형성되는 기능층과의 밀착성을 향상시키도록 해도 좋다. 또, 기능층을 형성하기 전에, 필요에 따라서 용제 세정이나 초음파 세정 등에 의해, 투명 기재 표면을 제진, 청정화해도 좋다.

도 3에 나타나는 바와 같이, 점착제층(13)의 굴절률 조정용 구분(13b)의 주면(16)은, 광학 부재(4)와 투명 도전성층(7)과의 사이의 단차를 메우도록, 광학 부재(4)의 점착제층 측 표면과 투명 도전성층(7)의 양쪽 모두에 접합된다. 도 4는, 광학 부재(4)에 접촉하는 점착제층(13)의 주면(16)의 상태를 나타내는 평면도이다. 도 4에 나타나는 바와 같이, 점착제 베이스 재료의 매트릭스(18)에 고굴절률 재료 입자(17)가 섬(島) 형상으로 분산된, 해도(海島) 구성이 되어 있고, 광학 부재(4)에 점착제층(13)이 접촉하는 면에서는, 광학 부재(4)에 대해서 점착제 베이스 재료가 접촉하는 부분과, 고굴절률 재료 입자(17)가 접촉하는 부분이 존재한다. 이 위치에 있어서의 고굴절률 재료 입자(17)와 점착제 베이스 재료의 합계 면적에 대한 고굴절률 재료 입자(17)의 면적비는, 30~99％의 범위로 하는 것이 바람직하다. 면적비는, 한 변이 10μm~200μm의 방형 영역에 있어서, 그 방형 영역의 전체 면적에 대한 고굴절률 재료 입자(17)가 차지하는 면적의 비율로 하고, 복수의 방형 영역에 대해서 측정을 행해, 그 측정치를 평균함으로써 면적비를 구할 수 있다.

도 5(a)(b)(c)는, 도 2에 나타내는 점착제층(13)을 제조하는 공정을 개략적으로 나타내는 도이다. 먼저, 상술한 고굴절률 재료 입자(17)를 용매에 분산시킨 분산액(19)과, 점착제 베이스 재료의 층(20)을 준비한다. 그 다음에, 도 5(a)에 나타내는 바와 같이, 이 분산액(19)을 점착제 베이스 재료층(20)의 표면에 도포한다. 점착제 베이스 재료층(20)의 표면은, 분산액(19)의 용매에 의해 팽윤되고, 그 과정에서 분산액(19) 내의 고굴절률 재료 입자(17)가, 점착제 베이스 재료층(20) 내에, 두께 방향으로 침투한다. 이 상태를 도 5(b)에 나타낸다. 그 후, 건조 공정에 의해 점착제 베이스 재료층(20)을 건조시키는 것에 의해, 분산액(19)의 용매를 증발시켜, 도 2에 나타내는 점착제층(13)을 얻을 수 있다. 이 상태를 도 5(c)에 나타낸다.

점착제 베이스 재료층(20)에 대한 고굴절률 재료 입자(17)의 침투 깊이는, 점착제 베이스 재료와 분산액(19)의 용매와의 관계로 정해진다. 용매는, 침투 깊이가 상술한 값이 되도록, 적당하게 선정할 수 있다.

도 6(a)은, 본 발명의 실시 형태인, 터치 센서로서 기능하도록 패턴화된 투명 도전층을 가지는 편광 필름 적층체(40)를 나타낸다. 편광 필름 적층체(40)는, 주로, 액정 패널에 이용되지만, 다른 표시 패널에 이용할 수도 있다. 편광 필름 적층체(40)는, 제로 위상차 필름인 기재층(42)과, 기재층(42)상에 붙여진 편광막(41)과, 기재층(42)의 역측에 형성된 패턴화된 투명 도전층(43)과, 점착제층(13)에 의해서 구성된다. 편광 필름 적층체(40)는, 기재층(42)에 투명 도전층(43)을 형성하고, 편광막(41)을 첩합하고, 또한, 점착제층(13)의 굴절률 조정용 구분(13b) 측을, 기재층(42)과 함께 패턴화된 투명 도전층(43)을 사이에 두도록 해, 투명 도전층(43) 및 기재층(42)에 첩합하는 것으로 얻을 수 있다. 투명 도전층(43)은, 터치 센서 기능을 갖게 할 수 있어, 예를 들면, 투영형 정전 용량 방식의 터치 패널로서 기능시키는 것이 가능하다. 또, 액정 패널 내 또는 액정 패널상에 전극을 구성해, 투명 도전극층(43)과 아울러, 정전 용량 방식의 터치 패널을 구성하는 것도 가능하다. 기재층(42)으로서 제로 위상차 필름을 이용하는 것에 의해서, 흑표시 시에 있어서의 경사 방향으로부터의 누설광의 착색 현상, 소위 칼라 시프트가 생기는 일을 막아, 액정 패널의 표시 균일성을 향상할 수 있다. 또, 굴절률 조정용 구분(13b)의 굴절률을 조정해, 기재층(42)의 굴절률과 투명 도전층의 굴절률의 사이의 값으로 하는 것에 의해서, 굴절률 조정용 구분(13b)과 투명 도전층(43)과의 계면 및 굴절률 조정용 구분(13b)과 기재(42)과의 계면에서 발생하는 반사광을 작게 할 수 있다. 즉, 굴절률 조정용 구분(13b)의 굴절률은, 투명 도전성층(43)의 굴절률보다 작은 것이 바람직하다. 또, 기재(42)의 굴절률이, 베이스 재료 구분(13a)보다 높은 경우에는, 베이스 재료 구분(13a)과 굴절률 조정 구분(13b)과의 계면으로의 반사를 작게 하는 것을 우선해, 굴절률 조정 구분의 굴절률을 기재(42)의 굴절률보다 낮게 해도 좋다.

도 7(a)에, 본 발명의 실시 형태인 터치 센서 부착의 액정 패널(45)을 나타낸다. 액정 패널(45)은, 편광 필름 적층체(40)의 편광막(41)의 시인 측에 보호 필름(47)을 첩합하고, 편광 필름 적층체(40)의 점착제층(13)의 베이스 재료 구분(13a) 측을 액정 셀(46)에 첩합하는 것에 의해서, 얻을 수 있다. 편광 필름 적층체(40)에 보호 필름(47)을 첩합하고, 또한, 점착제층(13)의 베이스 재료 구분(13a)을 액정 셀(46)에 첩합한 액정 패널(45)을 나타낸다. 액정 셀(46)은, 어떠한 방식의 액정 셀이어도 좋지만, IPS 액정 셀이 바람직하다. 편광 필름 적층체(40)는, 터치 센서를 내장하고 있으므로, 필름 전체의 두께를 작게 할 수 있다고 하는 이점이 있다.

도 6(b)는, 본 발명의 다른 실시 형태인 패턴화된 투명 도전층을 가지는 편광 필름 적층체(50)를 나타낸다. 편광 필름 적층체(50)는, 주로, 액정 패널에 이용되지만, 다른 표시 패널에 이용할 수도 있다. 편광 필름 적층체(50)는, 편광 필름 적층체(40)와, 기재층(52)이, 반파장 위상차 필름 또는 4분의 1 파장 위상차 필름 등의 위상차 필름인 점에서 다르지만, 그 외의 구성은, 동일하다. 기재층(52)으로서 위상차 필름을 이용하는 것에 의해서, 시인 측으로부터 내부로 입사한 빛이 내부 반사해 시인 측에 사출되는 것을 방지하기 위해서 원편광을 생성하거나, 시야각을 보상하거나 할 수 있다. 투명 도전층(53)으로서, ITO 등을 이용했을 때에, 가열해 결정화시킬 필요가 있지만, 기재층(52)은, 높은 유리 전이 온도(Tg)를 가지기 때문에, 가열 공정에 의한 기재층(52)의 변형을 막을 수 있다. 기재층(52)의 유리 전이 온도는, 예를 들면, 160도 이상이다. 투명 도전층(53)을 패턴화해, 터치 센서로서 기능시키는 점에 대해서는, 편광 필름 적층체(40) 내지 액정 패널(45)의 구성과 같다.

도 7(b)에, 본 발명의 실시 형태인 터치 센서 부착의 액정 패널(55)을 나타낸다. 액정 패널(55)은, 편광막(51)의 시인 측에 보호 필름(57)을 첩합하고, 편광 필름 적층체(50)의 점착제층(13)의 베이스 재료 구분(13a) 측을 액정 셀(56)에 첩합하는 것에 의해서, 얻을 수 있다.

도 6(c)에, 발명의 다른 실시 형태인 패턴화된 투명 도전층을 가지는 편광 필름 적층체(60)를 나타낸다. 편광 필름 적층체(60)는, 주로, 유기 EL 패널에 이용되지만, 다른 표시 패널에 이용할 수도 있다. 편광 필름 적층체(60)는, 편광막(61)에 점착제층(13)의 베이스 재료 구분(13a) 측을 첩합하고, 또한, 투명 도전층(63)을 형성한 기재층(62)의 투명 도전층(63) 측에, 점착제층(13)의 굴절률 조정용 구분(13b)을 첩합하는 것에 의해서 얻을 수 있다. 또, 편광 필름 적층체(60)는, 표시 패널이나 다른 광학 부재에 편광 필름 적층체(60)를 첩합하기 위한 점착제층(64)을 가진다. 투명 도전층(63)을 패턴화해, 터치 센서로서 기능시키는 점에 대해서는, 편광 필름 적층체(40) 내지 액정 패널(45)의 구성과 같다.

기재층(62)은, λ／4 파장 위상차 필름이다. λ／4 파장 위상차 필름은, 유기 EL 패널의 표면에 이용되는 금속의 반사를 막기 위해서 이용된다. 외부로부터 입사하는 빛인, 편광막의 투과축 방향과 직교의 직선 편광 성분은, 편광막에 의해서 흡수된다. 한편, 편광막의 투과축 방향과 평행한 직선 편광 성분은, 편광막을 투과한다. 편광막의 투과축 방향과 1／4 파장 위상차 필름의 지상축과의 사이의 각도가 45도로 함으로써, 1／4 파장 위상차 필름은, 편광막을 투과한 빛을 원편광하게 된다. 원편광이 된 빛은, 금속 전극으로 반사하고, 1／4 파장 위상차 필름을 통해, 다시 편광막에 입사한다. 금속 전극과 1／4 파장 위상차 필름과의 거리나 1／4 파장 위상차 필름의 두께 등을 조정해, 편광막에 다시 입사하는 빛이 편광막의 투과축 방향과 수직이 되도록 함으로써, 입사 시에 편광막의 투과축 방향과 평행한 직선 편광 성분도, 편광막에 의해 흡수되기 때문에, 유기 EL 표시 장치의 표면 반사를 거의 완전하게 없게 하는 것이 가능하다.

도 7(c)에, 본 발명의 실시 형태인 터치 센서 부착의 유기 EL 패널(65)을 나타낸다. 유기 EL 패널(65)은, 편광막(61)의 시인 측에 보호 필름(67)을 첩합하고, 편광 필름 적층체(60)의 점착제층(64)을 유기 EL 셀(66)에 첩합하는 것에 의해서, 얻을 수 있다.

도 8에, 본 발명의 일실시 형태인 터치 센서 첨부의 편광 필름 적층체(60)를 사용한 유기 EL 패널(70)의 실시예를 나타낸다. 유기 EL 패널(70)은, 표시 패널 측으로부터 기재하면, 유기 EL 셀(71), 점착제(72), λ／4 파장 위상차판(73), 투명 전극층(74), 굴절률 조정 구분(13b)이 표시 패널 측에 있는 점착제층(13), 편광막(75), λ／4 파장 위상차판(76), 저굴절률층(77), 점착제(78) 및 표면 보호 필름(79)으로부터 구성되어 있다. 본 발명의 실시 형태에 해당하는 편광 필름 적층체(80)는, 점착제(72), λ／4 파장 위상차판(73), 투명 전극층(74), 베이스 재료 구분(13a)이 시인 측에 있는 점착제층(13), 편광막(75)으로부터 구성된다.

λ／4 파장 위상차판(73)은, 상술한대로, 편광막(75)과 협동해, 반사광의 발생을 방지하는 기능을 가진다. 투명 전극층(75)은, 패턴화되어 있어, 터치 센서로서 기능 한다. 투명 전극층(75)은, 결정화된 ITO 등의 투명 도전성 금속으로 구성되어도 좋고, 은 나노 와이어여도 좋다. 또, 점착제층(13)은, 굴절률 조정 구분(13b)가, 패턴화된 투명 전극층(75) 및 λ／4 파장 위상차판(73)에 첩합되어 있어, 이러한 계면의 굴절률의 차이가 작은 반사율을 저하시킬 수 있기 때문에, 외부로부터 패턴을 보이기 어렵게 할 수 있다.

편광막(75)은, 10μm 이하의 박형의 편광막이 이용되는 것이 바람직하다. 편광막은, 일반적으로, 열에 의해 수축하기 쉽기 때문에, 편광막이 두꺼울수록, 열수축에 의한 응력이 커져, 표시 패널을 파손시키기 쉬워진다. 따라서, 10μm 이하라고 하는 박형의 편광막을 채용하는 것으로, 편광막을 원인으로 하는 응력을 작게 할 수 있어, 표시 패널의 파손의 위험성을 작게 할 수 있다.

λ／4 위상차판(76)은, 유기 EL 표시 장치(70)의 사용자가, 선글라스를 쓰고 있었을 경우여도 화면을 시인할 수 있도록 하기 위해서 이용된다. 즉, 선글라스에 편광판이 이용되고 있는 경우에는, 표시 장치가 발하는 화상의 빛이 직선 편광을 가지면, 선글라스에 의해서, 화상의 빛이 차광되어, 화상이 어두워진다. 편광막(75)을 통해 직선 편광이 된 화상의 빛을, λ／4 위상차판(76)에 의해서 회전 편광으로 변환하는 것으로, 선글라스를 쓰고 있었을 경우여도, 사용자는, 화상을 충분한 밝기로 시인하는 것이 가능해진다.

실시예

이하, 본 발명의 실시예를 설명한다.

[점착제 베이스의 제작]

(아크릴 올리고머의 작성)

디시클로 펜타닐 아크릴레이트(DCPMA, 메타크릴산 디시클로펜타닐) 60중량부, 메틸 메타크릴레이트(MMA, 메타크릴산 메틸) 40중량부, 연쇄 이동제로서의 α－티오글리세롤 3.5중량부, 및 중합 용매로서의 톨루엔 100중량부를, 4개구 플라스크에 투입해, 이것들을 질소 분위기하에서 70℃로 1시간 교반했다. 다음에, 중합 개시제로서의 2, 2′－아조비스 이소부틸로니트릴 0.2중량부를 4개구 플라스크에 투입해, 70℃로 2시간 반응시키고, 계속해서, 80℃로 2시간 반응시켰다. 그 후, 반응액을 130℃ 온도 분위기하에 투입해, 톨루엔, 연쇄 이동제 및 미반응 모노머를 건조 제거시켜, 고형(固形) 형상의 아크릴계 폴리머를 얻었다. 이와 같이 해 얻어진 아크릴계 폴리머를「아크릴계 폴리머(A－1)」라고 했다. 이 아크릴계 폴리머(A－1)의 중량 평균 분자량(Mw)은 5.1×10³이었다.

(점착제층 A의 작성)

2－에틸 헥실 아크릴레이트(2EHA) 68중량부, N－비닐-2－피롤리돈(NVP) 14.5중량부, 및 히드록시 에틸 아크릴레이트(HEA) 17.5중량부로부터 구성되는 모노머 혼합물에, 광중합 개시제(상품명「이르가큐아(IRGACURE) 184」, BASF사제) 0.035중량부, 및 광중합 개시제(상품명「이르가큐아 651」, BASF사제) 0.035중량부를 배합한 후, 이 모노머 혼합물을 질소 분위기하에서 자외선에 폭로해 부분적으로 광중합 시키는 것에 의해, 중합률 약 10중량％의 부분 중합물(아크릴계 폴리머 시럽)을 얻었다.

얻어진 그 아크릴계 폴리머 시럽에, 상기 아크릴계 폴리머(A－1) 5중량부, 헥산디올 디아크릴레이트(HDDA) 0.15중량부, 실란 커플링제(상품명「KBM－403」, 신에츠 화학공업 주식회사제) 0.3중량부를 첨가해 균일하게 혼합해, 아크릴계 점착제 조성물을 얻었다. 상기 아크릴계 점착제 조성물을, 박리 필름(상품명「다이아 호일(DIAFOIL) MRF＃38」, 미츠비시수지 주식회사제)의 박리 처리된 면에, 점착제층 형성 후의 두께가 23μm가 되도록 도포해, 점착제 조성물층을 형성하고, 그 다음에, 그 점착제 조성물층의 표면에, 박리 필름(상품명「다이아 호일 MRN＃38」, 미츠비시수지 주식회사제)을 해당 필름의 박리 처리면이 도포층 측이 되도록 해 피복했다. 이것에 의해, 모노머 성분의 도포층을 산소로부터 차단했다. 그 후, 조도：5mW／cm², 광량：1500mJ／cm²의 조건으로 자외선 조사를 행해, 점착제 조성물층을 광경화시켜, 점착제층 A를 형성했다.

〈점착제층 B의 작성〉

2－에틸 헥실 아크릴레이트(2EHA) 28.5중량부, 이소스테아릴 아크릴레이트(ISTA) 28.5중량부, 이소보닐 아크릴레이트 22중량부, 4－히드록시 부틸 아크릴레이트(4HBA) 20중량부, 2종의 광중합 개시제(상품명：이르가큐아 184, BASF제) 0.05중량부, 및 광중합 개시제(상품명：이르가큐아 651, BASF제) 0.05중량부를 배합한 후, 이 모노머 혼합물을 질소 분위기하에서 자외선에 폭로해 부분적으로 광중합 시키는 것에 의해, 중합률 약 10중량％의 부분 중합물(아크릴계 폴리머 시럽)을 얻었다.

이와 같이 해 얻어진 아크릴계 폴리머 시럽의 100중량부에, 헥산디올 디아크릴레이트(HDDA) 0.3중량부, 실란 커플링제(상품명「KBM－403」, 신에츠 화학공업 주식회사제) 0.3중량부를 첨가해 균일하게 혼합해, 아크릴계 점착제 조성물을 얻었다. 상기 아크릴계 점착제 조성물을, 박리 필름(상품명「다이아 호일 MRF＃38」, 미츠비시수지 주식회사제)의 박리 처리된 면에, 점착제층 형성 후의 두께가 23μm가 되도록 도포해, 점착제 조성물층을 형성하고, 그 다음에, 그 점착제 조성물층의 표면에, 박리 필름(상품명「다이아 호일 MRN＃38」, 미츠비시수지 주식회사제)을, 해당 필름의 박리 처리면이 도포층 측이 되도록 해 피복했다. 이것에 의해, 모노머 성분의 도포층을 산소로부터 차단했다. 그 후, 조도：5mW／cm², 광량：1500mJ／cm²의 조건으로 자외선 조사를 행해, 점착제 조성물층을 광경화시켜, 점착제층 B를 형성했다.

〈점착제층 C1의 작성〉

2－에틸 헥실 아크릴레이트(2EHA) 32중량부, 이소스테아릴 아크릴레이트(ISTA) 48중량부, 2－히드록시 프로필 아크릴레이트(2HPA) 20중량부, 2종의 광중합 개시제(상품명：이르가큐아 184, BASF제) 0.05중량부, 및 광중합 개시제(상품명：이르가큐아 651, BASF제) 0.05중량부를, 4개구 플라스크에 투입해 모노머 혼합물을 조제했다. 그 다음에, 이 모노머 혼합물을 질소 분위기하에서 자외선에 폭로해 부분적으로 광중합 시키는 것에 의해, 중합률 약 10중량％의 부분 중합물(아크릴계 폴리머 시럽)을 얻었다. 이와 같이 해 얻어진 아크릴계 폴리머 시럽의 100중량부에, 트리메틸롤프로판 트리아크릴레이트(TMPTA) 0.02중량부, 실란 커플링제(상품명：KBM－403, 신에츠 화학공업(주)제)를 0.3부 첨가한 후, 이것들을 균일하게 혼합해, 아크릴계 점착제 조성물을 얻었다. 상기 아크릴계 점착제 조성물을, 박리 필름(상품명「다이아 호일 MRF＃38」, 미츠비시수지 주식회사제)의 박리 처리된 면상에, 점착제층 형성 후의 두께가 23μm가 되도록 도포해, 점착제 조성물층을 형성하고, 그 다음에, 그 점착제 조성물층의 표면에, 박리 필름(상품명「다이아 호일 MRN＃38」, 미츠비시수지 주식회사제)을, 해당 필름의 박리 처리면이 도포층 측이 되도록 해 피복했다. 이것에 의해, 모노머 성분의 도포층을 산소로부터 차단했다. 그 후, 조도：5mW／cm², 광량：1500mJ／cm²의 조건으로 자외선 조사를 행해, 점착제 조성물층을 광경화시켜, 점착제층 C1을 형성했다.

(점착제층 C2의 작성)

점착제층 형성 후의 두께가 100μm가 되도록 도포, 점착제 조성물층을 형성한 이외는, 전술의 점착제층 C1과 같은 수법으로 점착제층 C2를 작성했다.

＜굴절률 조정 구분 첨부 점착제의 제작＞

〈점착제층 A／고굴절률 재료의 나노 입자 분산액을 사용하는 사례〉

(점착제층 A／나노 입자 분산액을 사용한 사례)

점착제층의 두께가 23μm이며, 그 점착제층의 양면이 PET 박리 시트로 보호되고 있는 상태의 점착제층 A(점착제층의 굴절률：1.49)의 한편의 경박리 PET 시트를 박리했다. 노출한 점착제층의 표면에, 고굴절률 입자를 함유하는 분산액으로서의 산화지르코늄 입자(ZrO₂, 굴절률：2.17, 평균 일차 입자 지름：20nm)를 함유하는 도포용 처리액(분산매：에탄올, 입자 농도：1.2중량％, 분산액의 투과율：82％, CIK 나노텍(주)제)을, 굴절률 조정 구분의 두께가 20nm~200nm가 되도록 바 코터 RDS No.5로 도포해, 110℃의 건조 오븐에서 180초간 건조시켰다. 그 다음에, 산화지르코늄(ZrO₂) 입자가 분산된 점착제층 표면에, 지지체로서 PET 박리 시트(75μm)를 첩합해, 굴절률 조정 구분 첨부 점착제(1)를 얻었다. 또한, 산화지르코늄 입자의 평균 일차 입자 지름은, TEM 관찰에 의해 계측했다.

〈다른 사례〉

상기의 사례와 같이 해, 아래와 같은 점착제 및 고굴절률 재료의 나노 입자 분산액을 사용해 똑같이 굴절률 조정 구분 첨부 점착제(2), (3)을 제작했다. 사용 재료는, 점착제층 B(굴절률 1.48), 점착제층 C1(굴절률 1.48), ZrO₂ 나노 입자 분산액(분산매：에탄올, 입경 20nm)이였다.

표 1에 점착제층의 특성을 정리한다.

[표 1]

[도전층 첨부 기재층의 작성]

〈제로 위상차 기재층을 사용하는 투명 도전층의 작성〉

두께 100μm의 시클로 올레핀 폴리머 필름(일본 제온(주)제, 상품명：「제오노아(ZEONOA) ZF16」, 면내 복굴절률：0.0001)의 양면에, 직경 3μm의 복수의 입자(상품명：「SSX105」, 세키스이(Sekisuki) 수지(주)제)를, 바인더 수지(상품명：「유니디크(UNIDIC) RS29－120」, DIC사제) 100부에 대해서 0.07부 첨가한 도공액을 바 코터를 이용해 도포해, 80℃의 오븐하에서 1분간 건조 후, 적산 광량 각 300mJ의 자외선(고압 수은등)을 조사하는 것으로 양면에 안티 블로킹층을 가지는 필름을 형성했다(이하, COP기재). 다음에, COP기재의 한 면에, 굴절률 조정제(상품명：「오프스타(OPSTAR) KZ6661」, JSR(주)제)를 바 코터에 의해 도포해, 80℃의 오븐하에서 1분간 건조 후, 적산 광량 각 300mJ의 자외선(고압 수은등)을 조사하는 것으로, 두께 100nm, 굴절률 1.65의 굴절률 조정층을 형성했다. 얻어진 COP기재의 굴절률 조정층의 표면에, 권취식 스퍼터 장치에서, 투명 도전층으로서 두께 23nm의 인듐주석 산화물층(ITO)을 적층했다. 상기 투명 도전층의 일부에 포토레지스트(photoresist)막을 형성한 후, 이것을 25℃, 5중량％의 염산(염화수소 수용액)에 1분간 침지하고, 투명 도전층의 에칭을 행했다. 이것에 의해 전극 배선 패턴에 상당하는 투명 도전층이 존재하는 부분(패턴부)과, 제거된 부분(개구부)을 제작했다.

(패턴을 가지는 투명 도전층 첨부 기재층(1))

〈λ／4 위상차 필름을 기재로서 사용하는 투명 도전층의 작성〉

사용하는 기재 필름을, 필름 두께 100μm의 위상차가 부여된 시클로 올레핀 폴리머 필름(일본 제온사제, 면내 위상차 Re：140nm)으로 변경한 이외는 전술의 도전층 첨부 기재층(1)과 같은 수법으로 작성했다. (패턴을 가지는 투명 도전층 첨부 기재층(2))

[편광 필름의 작성]

〈도전층 첨부 편광 필름(1)의 작성〉

두께 30μm의 폴리비닐 알코올 필름을, 속도비가 다른 롤 사이에 있어서, 30℃, 0.3％ 농도의 요오드 용액 중에서 1분간 염색하면서, 3배까지 연신했다. 그 후, 60℃, 4％ 농도의 붕산, 10％ 농도의 요오드화칼륨을 포함한 수용액 중에 0.5분간 침지하면서 종합 연신 배율이 6배까지 연신했다. 그 다음에, 30℃, 1.5％ 농도의 요오드화칼륨을 포함한 수용액 중에 10초간 침지하는 것으로 세정한 후, 50℃로 4분간 건조해, 두께 12μm의 편광막(A－1)을 얻었다. 해당 편광막(A－1)의 양면에 PVA계 수지 수용액을 도포하고, 한 면에 두께 100μm의 패턴을 가지는 도전층 첨부 기재층(1)을, 패턴을 가지는 투명 도전층이 외측이 되도록 첩합하고, 또한, 다른 한 면에, 총 두께 43μm의 하드 코트층을 가지는 트리아세틸 셀룰로오스 필름(이하, TAC 필름)을 첩합해 건조시키는 것으로 도전층 첨부 편광 필름(1)을 제작했다. 얻어진 도전층 첨부 편광 필름(1)의 투과율은, 43％, 편광도는 99.9％였다.

〈도전층 첨부 편광 필름(2)의 작성〉

제조예 1의 폴리비닐 알코올 필름의 두께를 60μm로 하고, 여러 가지의 용액의 농도, 침지 시간 등을, 편광 필름의 투과율이 45％가 되도록 조정한 이외는 제조예 1과 같게 해, 두께 23μm의 편광막(A－2)을 얻었다. 해당 편광막(A－2)의 양면에, PVA계 수지 수용액을 도포하고, 한 면에 두께 100μm의 패턴을 가지는 도전층 첨부 기재(2)를 기재(λ／4 위상차판) 지상축이 그 편광막(A－2)의 흡수 축에 대해 45^о의 각도를 이루도록 배치하고, 패턴을 가지는 투명 도전층이 외측이 되도록 첩합하고, 또한, 다른 한 면에, 총 두께 43μm의 반사 방지(AR)층을 가지는 TAC 필름을 첩합해 건조시키는 것으로 도전층 첨부 편광 필름(2)을 제작했다. 얻어진 도전층 첨부 편광 필름(2)의 투과율은, 45％, 편광도는 99.8％이었다.

〈편광 필름(3)의 작성〉

열가소성 수지기재(장척 형상의 비정질 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 두께：100μm, 흡수율：0.60중량％, Tg：80℃)의 한 면에, 코로나 처리를 행하고, 이 코로나 처리 면에, 중합도 4200, 비누화도(saponification degree) 99.2몰％의 폴리비닐 알코올의 수용액을 60℃로 도포 및 건조해, 두께 10μm의 PVA계 수지층을 형성해, 적층체를 제작했다. 얻어진 적층체를, 120℃의 오븐 내에서 주속이 다른 롤 사이로 세로 방향(긴 방향)으로 2.0배로 자유단1축 연신하고(공중 보조 연신), 그 다음에, 적층체를, 액체의 온도 30℃의 불용화 욕(물 100중량부에 대해서, 붕산을 4중량부 배합해 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).

불용화 처리 후의 적층체를, 액체 온도 30℃의 염색 욕(물 100중량부에 대해서, 요오드를 0.2중량부 배합하고, 요오드화 칼륨을 1.0중량부 배합해 얻어진 요오드 수용액)에 60초간 침지시키고(염색 처리), 그 다음에, 액체 온도 30℃의 가교 욕(물 100중량부에 대해서, 요오드화 칼륨을 3중량부 배합하고, 붕산을 3중량부 배합해 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).

그 후, 적층체를, 액체 온도 70℃의 붕산 수용액(물 100중량부에 대해서, 붕산을 4중량부 배합하고, 요오드화 칼륨을 5중량부 배합해 얻어진 수용액)에 침지시키면서, 주속이 다른 롤 사이로 세로 방향(긴 방향)으로 총 연신 배율이 5.5배가 되도록 1축 연신을 행하고(수중 연신), 그 다음에, 적층체를 액체 온도 30℃의 세정 욕(물 100중량부에 대해서, 요오드화 칼륨을 4중량부 배합해 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정 처리).

상기 일련의 처리에 의해, 수지 기재상에, 두께 5μm의 편광막(B－1)을 포함한 광학 필름 적층체를 얻을 수 있었다.

계속해서, 얻어진 광학 필름 적층체의 편광막(B－1)의 한 면에, PVA계 수지 수용액을 도포하고, 두께 20μm의 아크릴계 필름을 적층하고, 60℃로 유지한 오븐으로 5분간 가열하고, 열가소성 수지 기재를 박리해, 편광 필름(3)을 제작했다. 얻어진 편광 필름(3)의 투과율은 44％, 편광도는 99.8％이었다.

표 2에 편광 필름(1)에서 (3)의 특성을 정리한다.

[표 2]

이하에, 편광 필름 적층체의 구체적인 실시예 및 비교예를 나타낸다. 또한, 본 발명은, 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다.

[점착제와 도전층 첨부 편광 필름 적층체의 작성]

＜실시예 1＞

굴절률 조정 구분 첨부 점착제층(1)의 굴절률 조정 구분 측의 PET 박리 시트를 박리하고, 도전층 첨부 편광 필름(1)의 패턴을 가지는 투명 도전층 첨부 기재층(1)의 측에 첩합해, 굴절률 조정 구분이, 패턴 형성된 도전층에 접하도록 적층된, 편광 필름 적층체(A)를 작성했다. 도 9(a)에 실시예 1의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.

＜실시예 2＞

적층하는 점착제층을 굴절률 조정 구분 첨부 점착제층(2)으로 변경하고, 도전층 첨부 편광 필름을 (2)로 변경하고, 굴절률 조정 구분 측의 PET 박리 시트를 박리해 패턴을 가지는 투명 도전층 첨부 기재층(2)의 측에 첩합해, 굴절률 조정 구분이, 패턴 형성된 도전층에 접하도록 적층해, 편광 필름 적층체(B)를 작성한 이외는, 실시예 1과 같게 작성했다. 도 10(a)에 실시예 2의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.

＜실시예 3＞

굴절률 조정 구분 첨부 점착제층(2)의 베이스 점착제측의 PET 박리 시트를 박리해, 편광 필름(3)의 편광막(B－1)의 측에 첩합했다. 다음에, 굴절률 조정 구분측의 PET 박리 시트를 박리하고, 패턴을 가지는 투명 도전층 첨부 기재층(2)의 도전층 측에 굴절률 조정 구분이, 패턴 형성된 도전층에 접하도록 적층했다. 또한, 상기 적층체의 투명 도전층 첨부 기재층(2)의 측에, 두께 23μm의 점착제층 A를 첩합해, 점착제 첨부 편광 필름(C)을 작성했다. 도 11(a)에 실시예 3의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.

＜실시예 4＞

적층하는 굴절률 조정 구분 첨부 점착제층(2)를 굴절률 조정 구분 첨부 점착제층(3)으로 변경한 이외는 실시예 3과 같게 해 적층체를 작성했다. 그 후, 상기 적층체의 아크릴계 필름의 측에, 두께 100μm의 점착제층 C2를 첩합하고, 양면에 점착제를 가지는 편광 필름 적층체(D)를 작성했다. 도 12(a)에 실시예 4의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.

＜비교예 1＞

실시예 1의 굴절률 조정 구분 첨부 점착제층(1)을, 굴절률 조정 구분을 갖지 않는 점착제층 A로 변경하고, 편광 필름 적층체(E)를 작성한 이외는, 실시예 1과 같게 작성했다. 도 9(b)에 비교예 1의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.

＜비교예 2＞

실시예 2의 굴절률 조정 구분 첨부 점착제층(2)을, 굴절률 조정 구분을 갖지 않는 점착제층 B로 변경하고, 편광 필름 적층체(F)를 작성한 이외는, 실시예 2와 같게 작성했다. 도 10(b)에 비교예 2의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.

＜비교예 3＞

실시예 3의 굴절률 조정 구분 첨부 점착제층(2)을, 굴절률 조정 구분을 갖지 않는 점착제층 B로 변경하고, 편광 필름 적층체(G)를 작성한 이외는, 실시예 3과 같게 작성했다. 도 11(b)에 비교예 3의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.

＜비교예 4＞

실시예 4의 굴절률 조정 구분 첨부 점착제층(3)을, 굴절률 조정 구분을 갖지 않는 점착제층 C1으로 변경하고, 편광 필름 적층체(F)를 작성한 이외는, 실시예 2와 같게 작성했다. 도 12(b)에 비교예 4의 적층 구성을 개략적으로 나타낸다.

［평가방법］

＜편광판의 단체 투과율, 편광도의 측정＞

자외 가시 분광 광도계(일본 분광사제, 제품명「V7100」)를 이용해, 편광막의 단체 투과율(Ts), 평행 투과율(Tp) 및 직교 투과율(Tc)을 측정하고, 편광도(P)를 다음 식에 의해 구했다.

편광도(P)(％)=(Tp－Tc)／(Tp＋Tc)｝1／2×100

또한, 상기 Ts, Tp 및 Tc는, JIS Z8701의 2도 시야(C광원)에 의해 측정하고, 시감도 보정을 행한 Y값 이다.

＜아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량(Mw)의 측정＞

제작한 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, GPC(겔·퍼미에이션·크로마토그래피)에 의해 측정했다.

장치：도소(TOSOH)사제, HLC－8220GPC

컬럼：

샘플 컬럼；도소사제, TSKguardcolumn Super HZ－H(1본)＋TSKgel Super HZM－H(2본)

레퍼런스 컬럼；도소사제, TSKgel SuperH－RC(1본)

유량：0.6mL／min

주입량：10μL

컬럼 온도：40℃

용리액：THF

주입 시료 농도：0.2중량％

검출기：시차굴절계

또한, 중량 평균 분자량은 폴리스티렌 환산에 의해 산출했다.

〈점착제층의 표면 상태의 관찰〉

실시 예의 각각에 있어서의 점착제층의 고굴절률 재료 입자를 가지는 측의 표면을, FE－SEM를 이용해, 가속 전압 2kV, 관찰 배율 500배, 2,000배, 5,000배, 및 20,000배로 관찰했다. 도 13에 그 20,000배 사진을 나타낸다. 고굴절률 재료 입자가 균일하게 분산되고 있는 것을 알 수 있다.

〈그러데이션 구조의 관찰〉

실시예의 점착제층의 고굴절률 재료 입자를 가지는 측의 표면 근방의 단면을, 투과형 전자현미경(TEM)을 이용해, 배율 30,000배로 관찰했다. 그 결과를 도 14(a)(b)에 나타낸다. 도 14(a)에서는, 굴절률 조정용 구분의 두께의 거의 전체에 걸쳐서 고굴절률 재료 입자가 거의 균일하게 분포하고 있지만, 도 14(b)의 예에서는, 점착제층에 있어서의 고굴절률 재료 입자의 분포가, 점착제층의 표면에서 가장 높고, 점착제층의 두께 방향에 따라서 감소해 나가는 분포를 가지는 것을 알 수 있다.

〈평균 표면 굴절률〉

실시예 및 비교예로 얻어진 점착층의 평균 표면 굴절률을, 분광 엘립소미터(EC－400, JA. Woolam제)를 이용해 나트륨 D선(589nm)에 있어서의 굴절률을 측정했다. 실시예 및 비교예의 점착층에서는, 양면의 박리 시트를 박리해, 입자를 도포하고 있지 않은 면에 흑판(黑板)을 첩합한 상태로, 입자가 도포되고 있는 면의 평균 굴절률을 측정했다. 비교예의 점착 시트에서는, 양쪽 모두의 박리 시트를 박리해, 한편의 면에 흑판을 첩합한 상태로, 점착제층 표면의 평균 굴절률을 측정했다.

〈굴절률 조정 구분의 두께의 측정〉

점착제층의 깊이 방향의 단면을 조정해, TEM 관찰을 행했다. 얻어진 TEM상(직접 배율 3000~30000배)으로부터 굴절률 조정 구분의 두께의 측정을 계측했다. 굴절률 조정 구분의 두께는, 점착제 베이스층과의 조정 구분과의 계면의 요철의 평균치로 하고, 점착제 베이스층과의 계면의 판별이 곤란한 경우에는, 표면 TEM상을 화상 처리 소프트(ImageJ)로 2치화 화상 처리하고, 나노 입자의 90％가 존재하는 영역의 깊이를 조정 구분의 두께로 했다.

〈고굴절률 입자의 면적비율〉

점착제층의 입자 도포측의 표면을, FE－SEM를 이용해, 가속 전압 2kV, 관찰 배율 500배, 2,000배, 5,000배로 관찰했다. 얻어진 표면 SEM상을 화상 처리 소프트(ImageJ)로 2치화 화상 처리하는 것으로, 장변 23μm, 단변 18μm의 장방형 영역에 있어서의 전체 면적에 대한 면적으로서 고굴절률 입자가 차지하는 면적비율(％)을 구했다.

〈전광선 투과율, 헤이즈 값〉

실시예 및 비교예로 얻어진 점착 시트에서는, 고굴절률 재료를 도포한 측의 박리 시트를 박리해, 슬라이드 글라스(상품명：흰색 연마 No.1, 두께：0.8~1.0mm, 전광선 투과율：92％, 헤이즈：0.2％, 마츠나미 유리(Matsunami Glass) 공업(주)제)에 첩합했다. 또한, 다른 한편의 박리 시트를 박리하고, 베이스 점착제층／점착성의 굴절률 조정용층／슬라이드 글라스의 층 구성을 가지는 시험편을 제작했다. 또, 비교예의 점착 시트에서는, 한편의 박리 시트를 박리해, 슬라이드 글라스(상품명：흰색 연마 No.1, 두께：0.8~1.0mm, 전광선 투과율：92％, 헤이즈：0.2％, 마츠나미 유리 공업(주)제)에 첩합하고, 또한, 다른 한편의 박리 시트를 박리해, 베이스 점착제층／슬라이드 글라스의 층 구성을 가지는 시험편을 제작했다. 상기 시험편의 가시광 영역에 있어서의 전광선 투과율, 헤이즈 값을, 헤이즈미터(장치명：HM－150, (주) 무라카미(Murakami) 색채 연구소제)를 이용해 측정했다.

〈180도 필 접착력(유리판에 대한 180도 떼어내는(peeling) 접착력)〉

실시예 및 비교예로 얻어진 점착 시트로부터, 길이 100mm, 폭 25mm의 시트편을 잘랐다. 그 다음에, 실시예 및 비교예의 시트편에서는, 입자가 도포되어 있지 않은 측의 박리 시트를 박리해, PET 필름(상품명：르미라(LUMIRROR) S－10, 두께：25μm, 토레이(TORAY)(주)제)을 첨부(배접)했다. 또, 비교예 1, 2의 시트편에서는, 한편의 박리 시트를 박리해, PET 필름(상품명：르미라 S－10, 두께：25μm, 토레이(주)제)을 첨부(배접)했다. 다음에, 다른 한편의 박리 시트를 박리하고, 시험판으로서의 유리판(상품명：소다 라임(Soda-Lime) 유리＃0050, 마츠나미 유리 공업(주)제)에, 2kg롤러, 1왕복의 압착 조건으로 압착해, 시험판／점착제층／PET 필름으로부터 구성되는 샘플을 제작했다.

얻어진 샘플에 대해서, 오토클레이브(autoclave) 처리(50℃, 0.5MPa, 15분)하고, 그 후, 23℃, 50％ R.H.의 분위기하에서 30분간 방랭했다. 방랭 후, 인장 시험기(장치명：오토 그래프(Autograph) AG－IS, (주)시마즈 제작소제(Shimadzu Corp.))를 이용해 JIS Z0237에 준거해, 23℃, 50％ R.H.의 분위기하, 인장 속도 300mm／분 , 박리 각도 180^о의 조건으로, 시험판으로부터 점착 시트(점착제층／PET 필름)를 떼어내는, 180^о떼어내는 접착력(N／25 mm)을 측정했다. 또, 각 실시예, 비교예에 있어서, 고굴절률 재료의 입자 미도포의 점착 시트를 제작해, 해당 고굴절률 재료의 입자 미도포의 점착 시트에 있어서도, 상기와 같이 180도 필 접착력을 측정했다.

〈고굴절률 입자를 함유하는 분산액의 투과율〉

고굴절률 입자를 함유하는 분산액의 투과율은, 광전 비색계(AC－114, OPTIMA 사제)로 530nm의 필터를 이용해 측정했다. 분산 용매 단독의 투과율을 100％로서, 각 실시예, 비교예로 사용한 분산액의 투과율(％)을 측정했다.

＜반사 억제율, 반사 색상 개선율의 측정의 측정＞

실시예 및 비교예의 편광 필름 적층체의 한편의 면을 반사율 측정면으로 하고, 반대 측의 면에 흑색 아크릴판(상품명「CLAREX」, 닛토 수지 공업제)을 붙여 반사율 측정용의 시료로 했다. 실시예 4, 비교예 4의 자료에 관해서는, 점착제의 PET 박리 시트를 박리해 광학 부재 적층체의 반사율 측정면 측의 반사율(Y값), 및 반사율 측정면 측의 반사 색상(L*, a*,b*값：CIE1976)을 반사형 분광 광도계(U4100, (주) 히타치 하이테크놀로지즈제)에 의해 측정했다. 측정은, 투명 도전층을 에칭한 부분과, 에칭하고 있지 않은 부분의 쌍방의 위치에서 행했다. 즉, 투명 도전층을 에칭한 부분(개구부)의 측정은, 점착제층의 굴절률 조정 구분과 편광 필름 적층체의 기재와의 계면의 반사율이며, 에칭하고 있지 않은 부분(패턴부)의 측정은, 점착제층의 굴절률 조정 구분과 투명 도전층계면의 반사율을 나타낸다. 반사 색상에 대해서도 마찬가지다.

반사 억제율은, 에칭하고 있지 않은 부분에 대해서, 아래 식에 근거하여 산출했다. 또한, 아래 식 중의「입자가 없는 경우의 반사율(％)」이란, 비교예(입자를 이용하지 않는 경우)의 광학 부재 적층체의 반사율이다. 즉, 반사 억제율은, 굴절률 조정 구분을 가지는 것으로 어느 정도 반사율을 저감할 수 있었는지를 나타내는 지표이다.

반사 억제율(％)=반사율(％)－입자가 없는 경우의 반사율(％)

반사 색상 개선율은, 에칭한 부분과 에칭하지 않은 부분의 각각에 대해서, 색의 값의 차분(ΔL*, Δa*, Δb*)을 구한 다음에, 색차(色差) 값(ΔE*ab)을 아래 식에 근거하여 산출했다.

색차 값 ΔE*ab=[(ΔL*)＾2＋(Δa*)＾2＋(Δb*)＾2]＾(1／2)

즉, 광학 부재 적층체의 반사 색차(ΔE*ab)는, 에칭한 부분과 에칭하지 않은 부분의 색미의 차를 나타내는 지표이다.

＜패턴 볼품의 판정＞

패턴 볼품의 평가로서는, 도전층 부분과 도전층이 없는 부분과의 반사율의 색차로부터 판정을 행했다. 반사 색상의 색차가, 1.0 미만이면 ◎, 1.0 이상~2.0 미만이면 ○, 2.0 이상이면 ×로 했다.

표 3에, 실시예 1에서 8 및 비교예 1에서 8의 구성을 나타낸다. 또, 표 4에, 실시예 1에서 8 및 비교예 1에서 8의 평가 결과를 나타낸다.

[표 3]

[표 4]

실시예 1에서 4의 평가 결과와 비교예 1에서 4의 평가 결과를 비교하면, 굴절률 조정 구분을 가지는 점착제층을 이용하는 것에 의해서, 반사율이 0.3％에서 0.4％ 저하하는 것을 알 수 있다. 또, 굴절률 조정 구분을 가지는 점착제층을 이용하는 것에 의해서, 그 전극부와의 색차 값이, 2.0에서 3.6인 것이, 0.4에서 0.9로 개선하고 있다. 또, 굴절률 조정 구분을 가지는 점착제층을 이용하는 것에 의해서, 패턴 외관의 문제를 개선할 수 있다.

[산업상의 이용 가능성]

이상 말한 것처럼, 본 발명에 있어서는, 제1 광학 부재와 제2 광학 부재를 접합하는 점착제층에 있어서, 제2 광학 부재 측의 면으로부터 두께 방향으로, 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정 구분을 설치했기 때문에, 외광의 내부 반사광이 제1 광학 부재를 통해 돌아오는 것을 억제할 수 있다. 본 발명은, 액정 표시 장치 및 유기 EL 표시 장치와 같은 광학적 표시 장치에 적용할 수 있다. 본 발명은, 특히, 터치 센서를 가지는 터치 패널 방식의 표시 장치에 유리하게 적용할 수 있다.

S: 점착제 시트
S1, S2: 지지체
1: 광학 부재 적층체
2: 제1 광학 부재
3, 13: 투명한 점착제층
3a, 13a: 베이스 점착제 구분
3b, 13b: 굴절률 조정용 구분
4: 제2 광학 부재
7: 투명 도전성층
17: 고굴절률 재료 입자
19: 분산액
20: 점착제 베이스 재료
21, 31: 적층체
22: COP기재
23: 굴절률 조정층
24: ITO층
25: 점착제층
26: 유리 윈도우
40: 편광 필름 적층체
41: 편광막
42: 기재층
43: 투명 도전층
45: 액정 패널
46: 액정 셀
47: 표면 보호 필름
50: 편광 필름 적층체
51: 편광막
52: 기재층
53: 투명 도전층
55: 액정 패널
56: 액정 셀
57: 표면 보호 필름
60: 편광 필름 적층체
61: 편광막
62: 기재층
63: 투명 도전층
64: 점착제층
65: 유기 EL 패널
66: 유기 EL 셀
67: 표면 보호 필름
70: 유기 EL 패널
71: 유기 EL 셀
72: 점착제층
73: 기재층
74: 투명 도전층
75: 편광막
76: 4분의 1 파장 위상차 필름
77: 저굴절률층
78: 점착제층
79: 표면 보호 필름

Claims

기재(基材)와, 상기 기재상에 형성된 편광막과, 상기 기재의 편광막이 형성된 면과 역측(逆側)의 면에 형성되어, 단독으로 또는 다른 구성과 함께 터치 센서로서 기능하도록 패턴화된 투명 도전성층과, 상기 투명 도전성층 및 상기 기재상에 붙여진 점착제층으로 이루어지는 편광 필름 적층체에 있어서,
한편의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 투명한 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분과, 그 점착제층의 다른 한편의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 형성된 투명한 점착성의 굴절률 조정용 구분을 포함하고, 그 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 가지며,
상기 점착제층의 상기 점착제 베이스 재료 구분이, 상기 기재 측에 위치하는, 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 1항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 두께가 20nm~600nm인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에, 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 고굴절률 재료의 입자가 분산되어 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 3항에 있어서,
상기 고굴절률 재료의 입자의 굴절률은 1.60~2.74인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 3항 또는 제 4항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분의 상기 다른 한편의 주면에는, 상기 고굴절 재료의 입자가 그 다른 한편의 주면에 노출하는 영역과, 그 굴절률 조정용 구분의 점착성 재료가 그 다른 한편의 주면에 노출하는 매트릭스 영역이 형성되고 있는 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 3항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료는, TEM 관찰에 의한 평균 일차 입자 지름이 3nm~100nm인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 3항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료의 입자와 상기 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차이가 0.15~1.34인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 3항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료는, TiO₂, ZrO₂, CeO₂, Al₂O₃, BaTiO₃, Nb₂O₅, 및 SnO₂로 이루어지는 군으로부터 선택된 1 또는 복수의 화합물인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 입자, 폴리머 또는 올리고머의 형태의 유기 재료가 포함되는 것에 의해서 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 9항에 있어서,
상기 점착제 베이스 재료의 굴절률은 1.40~1.55이며, 상기 유기 재료의 굴절률은 1.59~2.04인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 점착제층의 전광선 투과율이 80％ 이상인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 3항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료의 입자는, 복수의 입자가 응집한 응집체의 형태로 존재하는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 3항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제층의 두께 방향으로, 불규칙한 깊이로 존재하는 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 1항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 굴절률 조정 구분의 굴절률이, 상기 투명 도전성층의 굴절률보다 낮은, 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 1항 내지 제 14항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 굴절률 조정 구분의 굴절률이, 상기 기재의 굴절률보다 높은, 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 1항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 도전성층은, 산화 인듐주석이며,
상기 점착제 베이스 재료의 굴절률은 1.40~1.55이며, 상기 굴절률 조정 구분의 굴절률은 1.50~1.80인, 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 1항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재는, 제로 위상차 필름인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
청구항 17에 기재한 편광 필름 적층체와, 상기 편광 필름 적층체의 상기 편광막 측에 있는 보호 필름과, 상기 편광 필름 적층체의 점착제층 측에 있는 액정 셀을 갖추는 액정 패널.
제 1항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재는, 위상차 필름인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 19항에 있어서,
상기 위상차 필름의 유리 전이 온도는, 160도 이상인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
청구항 19 또는 청구항 20에 기재한 편광 필름 적층체와, 상기 편광 필름 적층체의 상기 편광막 측에 있는 보호 필름과, 상기 편광 필름 적층체의 점착제층 측에 있는 액정 셀을 갖추는 액정 패널.
기재(基材)와, 상기 기재상에 형성된, 단독 또는 다른 구성과 함께 터치 센서로서 기능하도록 패턴화된 투명 도전층과, 상기 기재 및 상기 투명 도전층에 붙여진 제1의 점착제층과, 상기 점착제층의 기재 측의 면과는, 역측(逆側)의 면에 있는 편광막과, 상기 기재의 상기 투명 도전층 측과는 역측의 면에 붙여진 제2의 점착제층을 갖춘 편광 필름 적층체에 있어서,
상기 제1의 점착제층은, 한편의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 투명한 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분과, 그 점착제층의 다른 한편의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 형성된 투명한 점착성의 굴절률 조정용 구분을 포함하고, 그 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 가지며,
상기 제1의 점착제층의 상기 점착제 베이스 재료 구분이, 상기 편광막 측에 위치하는, 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 22항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 두께가 20nm~600nm인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 22항 또는 제 23항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에, 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 고굴절률 재료의 입자가 분산되어 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 24항에 있어서,
상기 고굴절률 재료의 입자의 굴절률은 1.60~2.74인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 24항 또는 제 25항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분의 상기 다른 한편의 주면에는, 상기 고굴절 재료의 입자가 그 다른 한편의 주면에 노출하는 영역과, 그 굴절률 조정용 구분의 점착성 재료가 그 다른 한편의 주면에 노출하는 매트릭스 영역이 형성되고 있는 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 24항 내지 제 26항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료는, TEM 관찰에 의한 평균 일차 입자 지름이 3nm~100nm인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 24항 내지 제 27항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료의 입자와 상기 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차이가 0.15~1.34인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 24항 내지 제 28항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료는, TiO₂, ZrO₂, CeO₂, Al₂O₃, BaTiO₃, Nb₂O₅, 및 SnO₂로 이루어지는 군으로부터 선택된 1 또는 복수의 화합물인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 22항 또는 제 23항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 입자, 폴리머 또는 올리고머의 형태의 유기 재료가 포함되는 것에 의해서 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 30항에 있어서,
상기 점착제 베이스 재료의 굴절률은 1.40~1.55이며, 상기 유기 재료의 굴절률은 1.59~2.04인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 22항 내지 제 31항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 점착제층의 전광선 투과율이 80％ 이상인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 24항 내지 제 29항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료의 입자는, 복수의 입자가 응집한 응집체의 형태로 존재하는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 24항 내지 제 33항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제층의 두께 방향으로, 불규칙한 깊이로 존재하는 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 22항 내지 제 34항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 굴절률 조정 구분의 굴절률이, 상기 투명 도전성층의 굴절률보다 낮은, 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 22항 내지 제 35항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 굴절률 조정 구분의 굴절률이, 상기 기재의 굴절률보다 높은, 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
제 22항 내지 제 36항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재는, 4분의 1 파장 위상차 필름인 것을 특징으로 하는 편광 필름 적층체.
청구항 37에 기재한 편광 필름 적층체와, 상기 편광 필름 적층체의 상기 편광막 측에 있는 보호 필름과, 상기 편광 필름 적층체의 제2의 점착제층 측에 있는 유기 EL 셀을 갖추는 유기 EL 패널.
제 38항에 있어서,
상기 편광막의 상기 제1의 점착제층과는 역측의 면에 붙여진 4분의 1 파장 위상차 필름과,
상기 편광막에 붙여진 상기 4분의 1 파장 위상차 필름의 상기 편광막이 있는 면과는 역측의 면에 붙여진 저굴절률층과,
상기 저굴절률층의, 상기 편광막에 붙여진 상기 4분의 1 파장 위상차 필름이 있는 면과는 역측의 면에 붙여진 제3의 점착제층과,
상기 제3의 점착제층의 상기 저굴절률층이 붙여진 면과는 역측의 면에 붙여진 표면 보호 필름을 갖추는 것을 특징으로 하는 유기 EL 패널.