KR101939528B1

KR101939528B1 - 투명한 점착제층을 갖는 커버 부재

Info

Publication number: KR101939528B1
Application number: KR1020177027332A
Authority: KR
Inventors: 히로후미 가타미; 아츠시 야스이
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2015-07-22
Filing date: 2016-07-11
Publication date: 2019-01-16
Also published as: US20180051191A1; JP2017024944A; TWI746452B; CN107428603B; CN107428603A; JP6060223B1; WO2017014090A1; CN109970364A; TW201716238A; KR20170117201A; US10369768B2; SG11201707077WA

Abstract

굴절률 조정용 구분을 갖는 점착제 시트는, 양면에 PET 세퍼레이터를 첩합한 구성으로 제공하는 경우, 점착제 시트 자체의 표리를 구별하는 것이 어렵다. 본 발명은 이와 같은 과제를 해결하기 위해서, 점착제층의 표면으로부터 두께 방향의 어느 범위에 걸쳐서, 점착제층의 베이스 재료보다 높은 굴절률을 갖는 굴절률 조정용 구분을 형성한 점착제 시트를 미리 첩합한 커버 부재를 제공함으로써, 공급처의 고객의 적층 공정에 있어서, 점착제 시트 자체의 표리를 구별하지 않아도 되게 구성하고, 그 커버 부재가 광학 부재의 접합에 사용되었을 때, 이들 광학 부재에 의해 형성되는 적층체에 있어서의 내부 반사를 억제할 수 있다.

Description

투명한 점착제층을 갖는 커버 부재{COVER ELEMENT PROVIDED WITH TRANSPARENT PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE LAYER}

본 발명은 투명한 점착제층을 갖는 커버 부재에 관한 것이다. 특히 본 발명은, 투명한 광학 부재를 다른 광학 부재에 접합하기 위해서 사용할 수 있는 투명한 점착제층을 갖는 커버 부재에 관한 것이다.

예를 들어 액정 표시 장치 또는 유기 EL 표시 장치와 같은 표시 장치는, 편광 필름, 위상차 필름, 커버 유리 등의 투명 커버 부재, 그 밖에 여러 가지 투명 광학 부재를 다른 광학 부재에 접합하기 위해서 점착제를 사용한다. 즉, 접합되는 2 개의 광학 부재 사이에 점착제층이 배치되고, 그 2 개의 광학 부재는, 이들을 서로 가압함으로써 접합되어, 광학 부재 적층체가 형성된다. 이와 같은 구성의 광학 부재 적층체는, 표시 장치에 있어서, 투명 광학 부재의 측이 시인측이 되도록 배치된다. 이 구성에 있어서, 시인측의 투명 광학 부재로부터 외광이 입사했을 때, 입사광이 점착제층과 비시인측의 광학 부재의 계면에서 반사되어 시인측으로 되돌아간다는 문제가 있다. 이 문제는, 외광의 입사각이 얕을 때, 특히 현저해진다.

또, 최근 증가 경향이 있는 터치 패널을 구비한 표시 장치에 있어서는, 투명 광학 부재가 접합되는 피접합측 광학 부재의 표면에는, 패턴화된 ITO (인듐·주석 산화물) 와 같은 투명하고 도전성의 층이 형성된다. 이와 같은 표시 장치에 있어서는, 점착제층과 투명 도전성층 사이의 계면에 있어서의 입사광의 내부 반사의 영향으로, 시인측으로부터 투명 도전성층의 패턴이 보이게 된다는 「패턴 보임」 의 문제가 지적되고 있다.

어느 경우에도, 내부 반사는, 점착제와 피접합측 광학 부재 및 투명 도전성층의 굴절률차에서 기인한다. 일본 특허 제4640740호 (특허문헌 1) 는, 이 문제에 대처하기 위한 수법을 교시한다. 즉, 그 특허문헌 1 은, 투명 광학 부재와 점착제층 사이의 계면, 및 점착제층과 피접합측 광학 부재 사이의 계면에 있어서의 광의 전반사를 저감시킬 수 있는 점착제 조성물을 개시한다. 여기에 개시된 조성물은, 건조 후 및/또는 경화 후의 굴절률이 높고, 투명 광학 부재 및 피접합측 광학 부재의 굴절률에 가까운 것으로 설명되어 있다. 이 특허문헌 1 의 교시는, 2 개의 광학 부재를 접합하는 점착제층 전체를, 그 2 개의 광학 부재의 굴절률에 가까운 굴절률을 갖는 것으로 하는 것이다.

이 특허문헌 1 에 의해 교시된 수법은, 계면 반사를 억제하는 점에서는 효과가 있겠지만, 특정한 모노머 성분을 사용하는 것이기 때문에, 조성물 자체가 고가로 된다는 문제가 있다.

일본 특허 제5564748호 (특허문헌 2) 는, 분산 평균 입자경이 1 ㎚ 이상, 또한 20 ㎚ 이하인 산화지르코늄 또는 산화티탄 입자를, 아크릴계 수지로 이루어지는 투명 점착제의 두께 전체에 걸쳐서 분산시킨 구성의 굴절률이 조정된 점착제를 개시한다. 이 점착제는, 고굴절률 재료인 산화지르코늄 또는 산화티탄 입자를 투명 점착제에 혼합하고 있으므로, 점착제층 전체의 굴절률이 높아져, 상기 서술한 계면 반사를 억제할 수 있을 것으로 생각된다. 그러나, 특허문헌 2 의 수법에서는, 고굴절률 재료를 다량으로 사용할 필요가 있어, 점착제로서의 특성의 저하가 염려되고, 또한 고가로 된다. 또, 사용되는 고굴절률 재료는 무기 물질의 입자이기 때문에, 분산이 곤란하고, 산란에 의한 백탁을 일으킨다는 문제가 있다. 이 때문에, 유기 재료의 입자를 사용하는 것도 생각할 수 있지만, 그 경우에는, 착색의 문제를 해결하는 것이 용이하지 않게 된다.

일본 특허 제5520752호 (특허문헌 3) 는, 특허문헌 2 에 기재된 수법을 개량하기 위해, 점착제에 분산되는 금속 산화물 입자를 고분자로 피복하는 것을 제안한다. 특허문헌 3 이 교시하는 것은, 특허문헌 2 의 점착제층에서는, 점착제층의 표면에 금속 산화물이 노출되기 때문에, 점착성이 저하된다는 문제가 있으므로, 그 금속 산화물 입자를 고분자에 의해 피복하여, 이 문제를 해결한다는 것이다. 이 특허문헌 3 에 의해 제안되는 수법은, 점착제층의 점착성에 대해서는 어느 정도의 개선은 가능할지도 모르지만, 특허문헌 2 에 관련하여 지적한 문제의 상당수는 해결되지 않는다. 특히, 특허문헌 3 에 기재된 구성은, 금속 산화물 입자를 특정한 고분자로 피복하는 것이기 때문에, 특허문헌 2 의 구성보다 더욱 고가로 된다.

일본 특허 제4640740호 일본 특허 제5564748호 일본 특허 제5520752호

본 발명은 용이하고 또한 저렴하게 제조할 수 있고, 광학 부재 적층체의 접합에 사용되었을 때, 내부 반사를 효과적으로 억제할 수 있는 점착제층을 포함하는 점착제 시트를 첩합 (貼合) 한 커버 부재를 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.

굴절률 조정용 구분을 갖는 점착제 시트는, 양면에 PET 세퍼레이터를 첩합한 구성에서의 제공이 되어, 점착제 시트 자체의 표리를 구별하는 것이 어렵다. 구별하는 방법으로는, PET 세퍼레이터를 벗길 때의 박리력의 차로 표리를 구별하는 것을 들 수 있다. 예를 들어, 굴절률 조정용 구분을 갖는 점착제 시트에 있어서, 굴절률 조정용 구분을 갖는 면에 첩합된 PET 세퍼레이터를 가벼운 힘으로 박리 (경박리) 할 수 있도록 하고, 반대측의 점착제의 면에 첩합된 PET 세퍼레이터를 무거운 힘으로 박리 (중박리) 할 수 있도록 구성함으로써, 표리를 구별하는 것이 가능하다. 그러나, 박리력의 차를 1.5 내지 3 배 정도 부여할 필요가 있어, 굴절률 조정용 구분을 갖는 점착제 시트를 공급한 곳의 고객의 적층 공정에 있어서, 캐리어재와의 박리력의 밸런스를 조정하는 것이 어려워진다는 문제가 생길 수 있다.

간결하게 말하면, 본 발명은 상기 서술한 문제를 해결하여 목적을 달성하기 위해, 점착제층의 표면으로부터 두께 방향의 어느 범위에 걸쳐서, 점착제층의 베이스 재료보다 높은 굴절률을 갖는 굴절률 조정용 구분을 형성한 점착제 시트를 미리 첩합한 커버 부재를 제공함으로써, 공급처의 고객의 적층 공정에 있어서, 점착제 시트 자체의 표리를 구별하지 않아도 되게 구성하여, 그 커버 부재가 광학 부재의 접합에 사용되었을 때, 이들 광학 부재에 의해 형성되는 적층체에 있어서의 내부 반사를 억제할 수 있다.

본 발명의 일 실시형태에 관련된 투명한 점착제층을 갖는 커버 부재의 상기 점착제층은, 일방의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 투명한 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분과, 그 점착제층의 타방의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 형성된 투명한 점착성의 굴절률 조정용 구분을 포함하고, 상기 베이스 점착제 구분은 상기 커버 부재와 접하고, 상기 굴절률 조정용 구분은 상기 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 갖는 것을 특징으로 한다.

굴절률 조정용 구분은, 두께가 20 ㎚ ∼ 600 ㎚ 인 것이 바람직하다. 본 발명의 일 형태에 있어서는, 굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료와 동일한 점착성 재료에, 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 갖는 고굴절률 재료의 입자가 분산되어 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것으로 할 수 있다. 그 고굴절률 재료의 입자의 굴절률은 1.60 ∼ 2.74 인 것이 바람직하다. 고굴절률 재료의 입자는, TEM 관찰에 의한 평균 일차 입자경이 3 ㎚ ∼ 100 ㎚ 인 것이 바람직하다. 또, 고굴절률 재료는, TiO₂, ZrO₂, CeO₂, Al₂O₃, BaTiO₃, Nb₂O₅ 및 SnO₂ 로 이루어지는 군에서 선택된 하나 또는 복수의 화합물로 할 수 있다.

본 발명의 일 형태에 있어서는, 굴절률 조정용 구분의 그 타방의 주면에는, 고굴절 재료의 입자가 그 타방의 주면에 노출되는 영역과, 그 굴절률 조정용 구분의 점착성 재료가 그 타방의 주면에 노출되는 매트릭스 영역이 형성되도록 할 수 있다. 이 경우, 고굴절 재료의 입자가 그 주면에 노출되는 그 영역은, 면적비 30 ∼ 99 ％ 의 범위에서 형성되는 것이 바람직하다. 또한 그 고굴절률 재료의 입자와 그 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차는 0.15 ∼ 1.34 인 것이 바람직하다.

점착제층의 전광선 투과율은 80 ％ 이상인 것이 바람직하다. 고굴절률 재료의 입자는, 복수의 입자가 응집된 응집체의 형태로 존재하는 부분을 포함할 수 있다.

굴절률 조정용 구분은, 두께를 20 ㎚ ∼ 600 ㎚ 로 하는 것이 바람직하다. 굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료와 동일한 점착성 재료에 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 갖는 고굴절률 재료의 입자가 분산된 구성으로 하고, 이 고굴절률 재료 입자에 의해 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 할 수 있다. 이 경우에는, 점착제 베이스 재료의 굴절률을 1.40 ∼ 1.55 로 하고, 고굴절률 재료의 입자의 굴절률을 1.60 ∼ 2.74 로 하는 것이 바람직하다. 굴절률 조정용 구분이 광학 부재에 접합되는 접합면에는, 고굴절 재료의 입자가 그 광학 부재에 접촉하는 영역과, 그 굴절률 조정용 구분의 점착성 재료가 그 광학 부재에 접촉하는 매트릭스 영역이 형성된다. 이 경우에 있어서, 고굴절 재료의 입자가 광학 부재에 접촉하는 영역은, 면적비 30 ∼ 99 ％ 의 범위에서 형성되는 것이 바람직하다. 또, 고굴절률 재료의 입자와 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차가 0.15 ∼ 1.34 인 것이 바람직하다.

굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료와 동일한 점착성 재료에, 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 갖는 입자, 폴리머 또는 올리고머 형태의 유기 재료가 함유됨으로써 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것으로 할 수 있다. 또, 이 구성의 점착제층이, 광학 부재에 투명 도전성층이 형성된 구성에 적용되는 경우에는, 투명 도전성층의 굴절률은 1.75 ∼ 2.14 로 하고, 점착제 베이스 재료의 굴절률은 1.40 ∼ 1.55 로 하고, 유기 재료의 굴절률은 1.59 ∼ 2.04 로 하는 것이 바람직하다. 여기서 사용되는 고굴절률을 갖는 유기 재료로는, 특별히 한정되지 않지만, 스티렌계와 같은 방향 고리를 갖는 수지 외에, 황이나 질소 등의 헤테로 원자를 함유하는 수지 (예를 들어 티올이나 트리아진 고리를 함유하는 폴리머) 를 들 수 있다. 또, 입자로는 나노미터 사이즈의 유기 나노 입자, 구상 고분자를 함유하고, 입경은 TEM 관찰에 의한 평균 일차 입자경이 3 ㎚ ∼ 100 ㎚ 인 것이 바람직하다.

점착제층은, 전광선 투과율이 80 ％ 이상인 것이 바람직하다. 고굴절률 재료의 입자는, 복수의 입자가 응집된 응집체의 형태로 존재하는 부분을 포함할 수 있다. 통상은, 굴절률 조정용 구분에 함유되는 고굴절 재료의 입자는, 점착제층의 두께 방향으로, 불규칙한 깊이로 존재한다.

투명한 제 1 광학 부재를, 예를 들어 터치 센서를 구성하는 투명 도전성층을 갖는 제 2 광학 부재에 접합하기 위해, 본 발명에 의한 점착제 시트가 사용되는 경우에는, 점착제층을 지지체로부터 벗기고, 투명한 점착성의 굴절률 조정용 구분이 투명 도전성층 및 제 2 광학 부재에 면하고, 점착제층의 반대측의 면이 제 1 광학 부재에 면하는 상태에서, 그 투명 도전성층 및 그 제 2 광학 부재 상에 그 투명한 점착성 굴절률 조정용 구분을 접합하고, 점착제층의 그 반대측의 면을 제 1 광학 부재에 접합하고, 굴절률 조정용 구분이, 그 투명 도전성층과 상기 제 2 광학 부재 사이의 단차를 메우도록 그 투명 도전성층과 그 제 2 광학 부재의 양방에 접하는 상태로 하고, 제 1 광학 부재를 지나 입사하는 외광의, 점착제 베이스층과 굴절률 조정용 구분의 계면에 있어서의 반사광과, 굴절률 조정용 구분과 투명 도전성층의 계면에 있어서의 반사광이, 광학적 간섭에 의해 적어도 부분적으로 상쇄되도록 한다.

본 발명의 점착제 시트를 사용하여 내부 반사를 억제하는 경우에 있어서는, 제 1 광학 부재를 지나 입사하는 외광의, 점착제층에 있어서의 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 구분과 굴절률 조정용 구분의 계면에 있어서의 반사광과, 굴절률 조정용 구분과 제 2 광학 부재의 계면에 있어서의 반사광이, 광학적 간섭에 의해 적어도 부분적으로 상쇄되도록 할 수 있다.

본 발명에 의하면, 점착제층의 하나의 면으로부터 두께 방향으로, 점착제층의 베이스 재료보다 높은 굴절률을 갖는 굴절률 조정용 구분을 형성하므로, 헤이즈값을 높이지 않고 고굴절률의 영역을 형성하는 것이 가능해진다. 따라서, 본 발명의 점착제 시트를 사용한 커버 부재와 제 2 광학 부재 (예를 들어, 패턴이 형성된 투명 도전성 필름) 를 접합하는 경우에, 고굴절률의 영역인 굴절률 조정용 구분은, 제 2 광학 부재와의 사이의 굴절률차를 조정할 수 있고, 이로써 점착제층과 제 2 광학 부재 사이의 계면에 있어서의 반사를 억제할 수 있다.

또, 제 2 광학 부재측에 패턴화된 투명 도전성층이 형성된 구성에 있어서는, 그 투명 도전성층과 제 2 광학 부재의 굴절률에 대한 점착제층의 굴절률 조정용 구분의 굴절률을 조정함으로써, 계면 반사를 억제하는 것이 가능해진다. 또한 그 투명 도전성층에 있어서의 반사광과 제 2 광학 부재 표면에 있어서의 반사광, 및 점착제층 내부에 생기는 반사광 사이에 있어서의, 반사광끼리의 위상차에 의한 상쇄 효과로 제 1 광학 부재측으로 되돌아가는 반사광을 대폭 저감시키는 것이 가능해진다.

도 1(a) 는, 본 발명에 의한 점착제 시트의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 1(b) 는, 본 발명에 의한 점착제 시트를 사용하는 가장 단순한 실시형태의 일례를 나타내는 광학 부재 적층체의 단면도이다.
도 2 는, 본 발명의 점착제 시트에 사용되는 점착제층의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 3 은, 패턴화된 투명 도전성층이 형성된 구성에 도 2 에 나타내는 점착제층 (13) 이 적용된 실시형태를 나타내는 단면도이다.
도 4 는, 제 2 광학 부재에 접촉하는 점착제층의 주면의 상태를 나타내는 평면도이다.
도 5(a) 는, 도 2 에 나타내는 점착제층을 제조하기 위한 공정을 나타내는 것으로, 분산액의 도포 공정을 나타내는 개략도이다.
도 5(b) 는, 도 2 에 나타내는 점착제층을 제조하기 위한 공정을 나타내는 것으로, 고굴절률 재료 입자의 침투 공정을 나타내는 개략도이다.
도 5(c) 는, 도 2 에 나타내는 점착제층을 제조하기 위한 공정을 나타내는 것으로, 건조 공정을 각각 나타내는 개략도이다.
도 6 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 굴절률 조정용 구분을 갖는 점착제를 적층한 커버 부재를 사용한 적층체의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 7(a) 는, 본 발명의 실시예 및 비교예에 사용하는 커버 부재의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 7(b) 는, 본 발명의 실시예 및 비교예에 사용하는 커버 부재의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 8(a) 는, 본 발명의 실시예 및 비교예에 사용하는 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제 (A1) 의 구성을 나타낸다.
도 8(b) 는, 본 발명의 실시예 및 비교예에 사용하는 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제 (B1) 의 구성을 나타낸다.
도 9(a) 는, 본 발명의 실시예 및 비교예에 사용하는 패턴이 형성된 투명 도전성 필름의 구성을 나타낸다.
도 9(b) 는, 본 발명의 실시예 및 비교예에 사용하는 패턴이 형성된 투명 도전성 필름의 구성을 나타낸다.
도 10(a) 는, 본 발명의 실시예에 의한 광학 부재 적층체의 구성을 나타낸다.
도 10(b) 는, 본 발명의 실시예에 의한 광학 부재 적층체의 구성을 나타낸다.
도 11(a) 는, 본 발명의 비교예에 의한 광학 부재 적층체의 구성을 나타낸다.
도 11(b) 는, 본 발명의 비교예에 의한 광학 부재 적층체의 구성을 나타낸다.
도 12 는, 본 발명의 실시예에 의해 제조된 점착제층의 굴절률 조정용 구분의 표면 상태를 나타내는 20000 배 SEM 사진이다.
도 13(a) 는, 본 발명의 상이한 실시예에 의해 얻어진 점착제층에 있어서의 굴절률 조정용 구분의 고굴절률 재료 입자 분포를 나타내는 30000 배 TEM 단면 사진이다.
도 13(b) 는, 본 발명의 상이한 실시예에 의해 얻어진 점착제층에 있어서의 굴절률 조정용 구분의 고굴절률 재료 입자 분포를 나타내는 30000 배 TEM 단면 사진이다.

이하, 본 발명의 실시형태를 도면에 관련하여 설명한다. 도 1(a) 은 본 발명에 의한 점착제 시트의 일 실시형태를 나타내는 단면도, (b) 는 본 발명에 의한 점착제 시트를 사용하는 가장 단순한 실시형태의 일례를 나타내는 광학 부재 적층체 (1) 의 단면도이다. 도 1(a) 을 참조하면, 본 발명의 일 실시형태에 의한 점착제 시트 (S) 는, 광학적으로 투명한 점착제층 (3) 과, 그 점착제층 (3) 의 일방의 주면에 첩합된 박리지로 이루어지는 제 1 지지체 (S1) 와, 그 점착제층 (3) 의 타방의 주면에 첩합된 박리지로 이루어지는 제 2 지지체 (S2) 로 구성된다. 도 1(b) 를 참조하면, 광학 부재 적층체 (1) 는, 광학적으로 투명한 제 1 광학 부재 (2) 와, 그 제 1 광학 부재 (2) 에 광학적으로 투명한 점착제층 (3) 을 개재하여 접합된 제 2 광학 부재 (4) 로 구성되어 있다. 점착제층 (3) 은, 도 1(a) 에 나타내는 점착제 시트 (S) 로부터, 지지체 (S1, S2) 를 벗기고, 제 1 및 제 2 광학 부재에 첩합한 것이다. 그 투명한 제 1 광학 부재 (2) 는, 편광 필름, 위상차 필름, 그 밖의 광학적 표시 장치에 사용되는 광학 필름, 혹은 광학적 표시 장치의 시인측 커버 유리와 같은 투명 커버 부재에 의해 구성할 수 있다. 제 1 광학 부재 (2) 는 점착제층 (3) 의 제 1 주면 (5) 에, 제 2 광학 부재 (4) 는 점착제층 (3) 의 제 2 주면 (6) 에, 각각 접합된다.

투명한 점착제층 (3) 은, 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분 (3a) 과, 그 베이스 점착제 구분 (3a) 보다 높은 굴절률을 갖는 굴절률 조정용 구분 (3b) 을 갖는다. 베이스 점착제 구분 (3a) 을 형성하는 점착제 베이스 재료의 굴절률은, 제 1 광학 부재 (2) 의 굴절률에 가까운 굴절률을 갖는 것이 바람직하다.

점착제 베이스 재료는, 광학 용도에 사용 가능한 점착성을 갖는 투명한 재료이면 특별히 제한은 없다. 예를 들어, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 우레탄계 점착제, 에폭시계 점착제, 및 폴리에테르계 점착제에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 투명성, 가공성 및 내구성 등의 관점에서, 아크릴계 점착제를 사용하는 것이 바람직하다. 점착제 베이스 재료는, 상기의 점착제 중 어느 것을 단독으로, 혹은 2 종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 아크릴계 점착제의 베이스 폴리머로서 사용하는 아크릴계 폴리머는, 특별히 한정되는 의미는 아니지만, (메트)아크릴산알킬에스테르를 주성분으로 하는 모노머의 호모폴리머 또는 코폴리머인 것이 바람직하다. 여기서, 「(메트)아크릴」 이라는 표현은, 「아크릴」 및 「메타크릴」 중 어느 일방 또는 양방을 의미하는 것으로서 사용되는 것으로, 다른 경우도 동일하다. 본 발명에 있어서, 아크릴계 폴리머라는 용어는, 상기 서술한 (메트)아크릴산알킬에스테르 외에, 이것과 공중합 가능한 다른 모노머도 포함되는 의미로 사용된다. 점착제 베이스 재료의 굴절률은, 일반적으로, 1.40 ∼ 1.55 이다.

점착제층 (3) 의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상은 5 ㎛ ∼ 500 ㎛, 바람직하게는, 5 ㎛ ∼ 400 ㎛, 더욱 바람직하게는, 5 ㎛ ∼ 250 ㎛ 이다. 이 중, 굴절률 조정용 구분 (3b) 의 두께는, 바람직하게는 20 ㎚ ∼ 600 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 20 ㎚ ∼ 300 ㎚, 더욱 바람직하게는 20 ㎚ ∼ 200 ㎚ 이다. 굴절률 조정용 구분 (3b) 과 베이스 점착제 구분 (3a) 의 경계는, 불규칙한 요철 형상이 되지만, 본 발명에 있어서는, 굴절률 조정용 구분 (3b) 의 두께는, 요철 형상의 깊이의 측정값을 평균을 냄으로써 결정된다. 베이스 점착제 구분의 두께는, 점착제층 (3) 의 두께로부터 굴절률 조정용 구분 (3b) 의 두께를 뺀 값이 된다. 점착제층 (3) 전체의 전광선 투과율은, JIS K7361 에 준거하여 측정한 값으로 80 ％ 이상, 바람직하게는 90 ％ 이상이다. 점착제층 (3) 의 전광선 투과율은 높을수록 바람직하다. 게다가 또한, 헤이즈값은 1.5 ％ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 ％ 이하이다.

굴절률 조정용 구분 (3b) 은, 예를 들어 점착제 베이스 재료보다 높은 굴절률을 갖는 수지 재료의 용액을, 점착제 베이스 재료에 의해 형성된 점착제층의 일방의 면에 소정량 도포하고, 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 이 목적에 사용할 수 있는 수지 재료로는, 예를 들어, 특허문헌 1 에 기재된 점착제 조성물이 있다. 혹은 점착제 베이스 재료보다 높은 굴절률을 갖는 유기물, 예를 들어 스티렌 올리고머를 고형물로서 분산시킨 분산액을 점착제 베이스 재료의 층의 표면에 도포하여 건조시키는 방법에 의한 것이어도 된다. 그러나, 본 발명에 있어서는, 이하에 도 2 에 대해 설명하는 바와 같이, 점착제 베이스 재료에 의해 형성된 점착제층의 일방의 면으로부터 고굴절률 재료의 입자를 침투시켜, 점착제층의 그 일방의 면에 인접하는 영역에, 그 고굴절률 재료의 입자가 분산되도록 하는 것이 바람직하다.

이하에, 도 2 를 참조하여, 본 발명의 일 실시형태에 의한 점착제층 (13) 의 구성을 상세하게 설명한다.

도 2 에 나타내는 본 발명의 실시형태에 의한 점착제층 (13) 은, 도 1 에 나타내는 실시형태의 점착제층 (3) 과 동일하게, 제 1 주면 (15) 및 제 2 주면 (16) 을 갖고, 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분 (13a) 과, 그 베이스 점착제 구분 (13a) 보다 높은 굴절률을 갖는 굴절률 조정용 구분 (13b) 을 갖는 구성이지만, 본 실시형태에 있어서는, 굴절률 조정용 구분 (13b) 은, 제 2 주면 (16) 으로부터 두께 방향의 깊이에 걸쳐서 점착제 베이스 재료 내에 침투하여, 점착제 베이스 재료 내에 분산된 고굴절률 재료의 입자 (17) 를 함유함으로써, 베이스 점착제 구분 (13a) 보다 높은 굴절률을 갖도록 구성되어 있다.

굴절률 조정용 구분 (13b) 에 있어서의 고굴절률 재료 입자 (17) 의 굴절률은, 1.6 ∼ 2.7 의 범위인 것이 바람직하다. 고굴절률 재료의 입자와 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차는 0.2 ∼ 1.3 인 것이 바람직하다. 굴절률 조정용 구분이 점착제 베이스 재료보다 높은 굴절률을 갖는 유기물을 함침시킴으로써 형성되는 경우에는, 동일하게, 그 유기물과 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차를 0.1 ∼ 0.6 으로 하는 것이 바람직하다. 굴절률 조정용 구분에 고굴절률 재료 입자를 사용하는 본 발명의 이 실시형태에 있어서 사용할 수 있는 고굴절률 재료로는, TiO₂, ZrO₂, CeO₂, Al₂O₃, BaTiO₂, Nb₂O₅ 및 SnO₂ 가 있고, 이들 군에서 선택된 하나 또는 복수의 화합물을 사용하여 고굴절률 재료 입자 (17) 를 형성할 수 있다. 고굴절률 재료 입자 (17) 의 평균 일차 입경은, 3 ㎚ ∼ 100 ㎚ 로 하면 되고, 입자는, 개개로 분산 상태로, 혹은 일부가 응집된 상태로, 굴절률 조정용 구분 (13b) 내에 분포된다. 굴절률 조정용 구분 (13b) 과 베이스 점착제 구분 (13a) 의 경계는, 도 1 에 관련하여 설명한 바와 같이, 불규칙한 요철 형상으로 되어 있지만, 굴절률 조정용 구분 (13b) 의 두께 측정에 있어서는, 각 측정 위치에 있어서, 고굴절률 재료 입자 (17) 의 90 ％ 가 존재하는 깊이의 범위를, 그 측정 위치에 있어서의 구분 (13b) 의 두께 측정값으로 하고, 복수의 측정 위치에 있어서의 측정값을 평균을 내어 굴절률 조정용 구분 (13b) 의 두께로 한다.

도 3 은, 터치 패널 센서를 구성하기 위해, 제 2 광학 부재 (4) 의 점착제층측 표면에, 예를 들어 패턴화된 ITO 막과 같은 투명 도전성층 (7) 이 형성된 구성에, 도 2 에 나타내는 점착제층 (13) 이 적용된 실시형태를 나타내는 단면도이다. 이 경우에 있어서의 제 2 광학 부재 (4) 의 예로는, 예를 들어 액정 표시 장치 또는 유기 EL 표시 장치에 있어서의 표시 패널의 유리 기판을 들 수 있다.

도 3 에 나타내는 바와 같이, 점착제층 (13) 의 굴절률 조정용 구분 (13b) 의 주면 (16) 은, 제 2 광학 부재 (4) 와 투명 도전성층 (7) 사이의 단차를 메우도록, 제 2 광학 부재 (4) 의 점착제층측 표면과 투명 도전성층 (7) 의 양방에 접합된다. 도 4 는, 제 2 광학 부재 (4) 에 접촉하는 점착제층 (13) 의 주면 (16) 상태를 나타내는 평면도이다. 도 4 에 나타내는 바와 같이, 점착제 베이스 재료의 매트릭스 (18) 에 고굴절률 재료 입자 (17) 가 도상 (島狀) 으로 분산된 해도 (海島) 구성으로 되어 있으며, 제 2 광학 부재 (4) 에 점착제층 (13) 이 접촉하는 면에서는, 제 2 광학 부재 (4) 에 대해 점착제 베이스 재료가 접촉하는 부분과, 고굴절률 재료 입자 (17) 가 접촉하는 부분이 존재한다. 이 위치에 있어서의 고굴절률 재료 입자 (17) 와 점착제 베이스 재료의 합계 면적에 대한 고굴절률 재료 입자 (17) 의 면적비는, 30 ∼ 99 ％ 의 범위로 하는 것이 바람직하다.

면적비는, 한 변이 10 ㎛ ∼ 200 ㎛ 인 방형 영역에 있어서, 그 방형 영역의 전체 면적에 대한 고굴절률 재료 입자 (17) 가 차지하는 면적의 비율로 하고, 복수의 방형 영역에 대해 측정을 실시하고, 그 측정값을 평균을 냄으로써 면적비가 구해진다.

도 5(a)(b)(c) 는, 도 2 에 나타내는 점착제층 (13) 을 제조하는 공정을 개략적으로 나타내는 도면이다. 먼저, 상기 서술한 고굴절률 재료 입자 (17) 를 용매에 분산시킨 분산액 (19) 과, 점착제 베이스 재료의 층 (20) 을 준비한다. 이어서, 도 5(a) 에 나타내는 바와 같이, 이 분산액 (19) 을 점착제 베이스 재료층 (20) 의 표면에 도포한다. 점착제 베이스 재료층 (20) 의 표면은, 분산액 (19) 의 용매에 의해 팽윤되고, 그 과정에서 분산액 (19) 내의 고굴절률 재료 입자 (17) 가, 점착제 베이스 재료층 (20) 내로, 두께 방향으로 침투한다. 이 상태를 도 5(b) 에 나타낸다. 그 후, 건조 공정에 의해 점착제 베이스 재료층 (20) 을 건조시킴으로써, 분산액 (19) 의 용매를 증발시켜, 도 2 에 나타내는 점착제층 (13) 을 얻을 수 있다. 이 상태를 도 5(c) 에 나타낸다.

점착제 베이스 재료층 (20) 에 대한 고굴절률 재료 입자 (17) 의 침투 깊이는, 점착제 베이스 재료와 분산액 (19) 의 용매의 관계로 정해진다. 용매는, 침투 깊이가 상기 서술한 값이 되도록 적당히 선정할 수 있다.

실시예

이하, 본 발명에 관해 실시예를 사용하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 벗어나지 않는 한, 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또, 각 예 중, 부, ％ 는 모두 중량 기준이고, 이하에 특별히 규정이 없는 실온 방치 조건은 모두 23 ℃, 65 ％R.H. 이다.

도 6 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 굴절률 조정용 구분을 갖는 점착제를 적층한 커버 부재를 사용한 적층체 (21) 의 구성을 나타낸다. 본 발명의 일 실시형태는, 커버 부재 (유리/수지) (22) 에 굴절률 조정용 구분을 갖는 점착제 (IM 층이 형성된 점착제 (23)) 의 굴절률 조정용 구분측의 면을 첩합한 구성이다. IM 층이 형성된 점착제 (23) 의 굴절률 조정용 구분측과는 반대측의 면은, 패턴이 형성된 투명 도전성 필름 (24) 의 도전층 (ITO) 측의 면과 첩합된다. 패턴이 형성된 투명 도전성 필름 (24) 의 도전층 (ITO) 측과는 반대측의 면은, LCD 패널, OLED 등의 화상 표시 장치 (LCD, OLED) (25) 에 첩합할 수 있다.

본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 액정 패널을 포함하는 것이다. 이하, 일례로서, 액정 표시 장치에 대해 설명하지만, 본 발명은, 액정 패널을 필요로 하는 모든 표시 장치에 적용될 수 있는 것이다. 본 발명의 액정 패널이 적용 가능한 화상 표시 장치의 구체예로는, 액정 표시 장치, 일렉트로 루미네선스 (EL) 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 (PD), 전계 방출 디스플레이 (FED : Field Emission Display) 등을 들 수 있다. 본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 액정 패널을 포함하는 것이면 되고, 그 밖의 구성은, 종래의 화상 표시 장치와 동일하다.

액정 셀의 구동 모드는 특별히 한정되는 것은 아니며, 공지된 어떠한 것도 사용할 수 있지만, 예를 들어, 트위스티드 네마틱 (TN) 모드, 슈퍼 트위스티드 네마틱 (STN) 모드, 수평 배향 (ECB) 모드, 수직 배향 (VA) 모드, 인플레인 스위칭 (IPS) 모드, 프린지 필드 스위칭 (FFS) 모드, 벤드 네마틱 (OCB) 모드, 하이브리드 배향 (HAN) 모드, 강유전성 액정 (SSFLC) 모드, 반강유전 액정 (AFLC) 모드의 액정 셀을 들 수 있지만, 시야각에 의한 휘도 변화/색 변화가 적은 점에서, 인플레인 스위칭 (IPS) 모드가 바람직하게 사용된다. 또, 액정 셀에는, 필요에 따라 어느 기판에 컬러 필터, 블랙 매트릭스 등을 형성해도 된다.

[커버 렌즈 부재]

유리제 커버 렌즈로서, 두께 0.65 ㎜ 의 무알칼리 유리 (굴절률 1.53) 를 사용하였다. 도 7(a) 는, 당해 커버 부재의 구성을 커버 부재 (26) 로서 나타낸다. 플라스틱제 커버 렌즈로는, 두께 0.7 ㎜ 의 표면이 경화 처리된 아크릴판 (상품명 「아크릴라이트 (R) MR200」, 미츠비시 레이욘사 제조, 표면 (경화층) 굴절률 1.53) 을 사용하였다. 도 7(b) 는, 당해 커버 부재의 구성을 커버 부재 (27) 로서 나타낸다. 도 중의 각 층에 기재한 수치는 굴절률을 나타낸다. 이하, 동일하게 그 밖의 도 (도 7 내지 도 11) 에 있어서 각 층에 기재된 수치는, 단위의 표기가 없으면 굴절률을 나타낸다.

커버 부재의 재질로는, 유리, 투명 수지 기판을 들 수 있고, 단층·몇 가지 부재의 복합계로 형성되어 있어도 된다. 커버 부재의 두께는, 0.05 ∼ 2.00 ㎜, 바람직하게는, 0.1 ∼ 1.3 ㎜, 특히 바람직하게는, 0.2 ∼ 1.1 ㎜ 이다. 두께가 0.2 ㎜ 이하인 유리를 사용하는 경우, 굴곡성이 우수한 기판이 얻어지지만, 크랙의 진전 및 파단의 리스크를 방지하기 위해, 그 유리의 편측 또는 양측에 수지층을 구비하는 것이 바람직하다. 또 기재는 일부 또는 전체가 커브, 곡면 형상으로 성형되어 있어도 된다.

커버 부재의 재질이 유리인 경우에는, 소다 유리, 무알칼리 유리, 붕규산 유리, 알루미노규산 유리 등의 강도 및 투과율이 우수한 유리판을 선택한다. 강도가 우수한 유리판을 선택하면, 박형화가 가능해지고, 특히, 화학 강화 유리 (알루미노실리케이트, 소다라임) 가 내압 강도가 우수하여 바람직하게 사용된다.

투명 수지 기판의 원료로는, 예를 들어, PET, PEN 등의 폴리에스테르계 수지, COP, COC 등의 시클로올레핀계 수지, PE, PP, 폴리스티렌, EVA 등의 폴리올레핀계 수지, 비닐계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 우레탄계 수지, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리술폰계 수지, 실세스퀴옥산계 수지, 트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 등을 사용할 수 있다. 위상차에 의한 착색 간섭 불균일의 발생을 피하기 위해, 광학 등방적인 기재가 바람직하다. 추장 (推奬) 되는 광 등방성의 수지 재료로서, 시클로올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아릴레이트계 수지를 들 수 있다.

투명 수지 기판에는, 상기 수지 중에 유기 또는 무기계 재료가 충전·분산되어 복합화되어 있어도 된다. 재료의 형상은 특별히 한정되지 않지만, 층상, 입상, 섬유상이어도 된다. 예를 들어, 층상, 입상 재료로는, 층상 점토 광물 (클레이), 실리카나 산화티탄 등의 금속 산화물 등의 무기 입자를 사용할 수 있다. 층상, 입상 재료는 투명성의 관점에서 100 ㎚ 이하의 입자경이 바람직하다. 또, 섬유상 재료로는, 나일론계, 셀룰로오스아세테이트계 수지 등의 유기계 재료나, 유리계 재료를 들 수 있다. 섬유상 재료는 투명성의 관점에서, 직경이 100 ㎚ 이하인 나노파이버가 바람직하다. 또, 각 재료는, 수지 중에 대한 분산성·상용성의 개선 목적 외에, 굴절률을 조정할 목적으로 표면 수식되어 있어도 된다. 이와 같은 유기·무기계 재료가 수지 중에 충전·분산되어 복합화되어 있음으로써, 투명성을 유지하면서, 인장 강도, 탄성률, 열변형 온도 등의 여러 가지 물성이 향상된 고기능의 수지 기판을 얻을 수 있다.

화상 표시 장치에서 보았을 때 커버 부재의 외측 (시인측) 에는, 기능층을 가지고 있어도 된다. 기능층으로는, 하드 코트 (HC) 층/반사 방지층/방오층/대전 방지층/확산 내지 안티글레어를 목적으로 한 처리 등을 들 수 있고, 이들을 임의로 조합·복합화하여 형성되어 있어도 된다. 또, 커버 부재나 상기 기능층에는 자외선 흡수 기능이 부여되어 있어도 된다.

커버 부재의 외측, 내측 중 어느 쪽에 비산 방지를 위한 보호 필름이 적층되어 있어도 된다. 비산 방지 필름은 전술한 기능층을 가지고 있어도 된다. 위상차에 의한 착색 간섭 불균일의 발생을 피하기 위해, 광학 등방적인 기재 (무연신의 시클로올레핀 폴리머 필름, 캐스트법에 의한 폴리카보네이트 필름) 를 사용하는 것이 바람직하다. 또한 커버 부재와 화상 표시 장치 사이의 임의의 위치에, 선글라스 대응을 위한 위상차판 (λ/4 파장판) 을 배치하는 구성으로 해도 된다. 위상차판 (λ/4 파장판) 은 화상 표시 장치의 시인측 편광판의 흡수축에 대해, 지상축이 45 도가 되도록 배치되어 있는 것이 바람직하다.

커버 부재에 가식층을 형성할 수 있다. 가식층은 수지 바인더와, 안료 또는 염료를 착색제로서 함유하는 착색 잉크에 의해 형성된다. 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄, 그라비아 인쇄 등의 방법으로, 단층·다층으로 형성되고, 그 인쇄층의 두께는 0.5 ∼ 50 ㎛ 정도로 하는 것이 일반적이다. 또, 금속 광택색을 표현하기 위해, 증착법, 스퍼터링법에 의해 형성되는 금속 박막층으로 이루어지는 층이 형성되어 있어도 된다. 가식층은 커버 부재의 어느 면에 형성해도 되고, 전술한 비산 방지 필름 등의 필름에 형성하여 적층되어 있어도 된다.

[점착제 베이스의 제조]

(아크릴 올리고머의 제조)

디시클로펜타닐아크릴레이트 (DCPMA, 메타크릴산디시클로펜타닐) 60 중량부, 메틸메타크릴레이트 (MMA, 메타크릴산메틸) 40 중량부, 연쇄 이동제로서의 α-티오글리세롤 3.5 중량부, 및 중합 용매로서의 톨루엔 100 중량부를, 4 구 플라스크에 투입하고, 이들을 질소 분위기하에 있어서 70 ℃ 에서 1 시간 교반하였다. 다음으로, 중합 개시제로서의 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.2 중량부를 4 구 플라스크에 투입하고, 70 ℃ 에서 2 시간 반응시키고, 계속해서, 80 ℃ 에서 2 시간 반응시켰다. 그 후, 반응액을 130 ℃ 온도 분위기하에 투입하고, 톨루엔, 연쇄 이동제 및 미반응 모노머를 건조 제거시켜, 고형상의 아크릴계 폴리머를 얻었다. 이와 같이 하여 얻어진 아크릴계 폴리머를 「아크릴계 폴리머 (A-1)」 로 하였다. 이 아크릴계 폴리머 (A-1) 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 5.1 × 10³ 이었다.

(점착제 A 의 제조)

2-에틸헥실아크릴레이트 (2EHA) 68 중량부, N-비닐-2-피롤리돈 (NVP) 14.5 중량부, 및 하이드록시에틸아크릴레이트 (HEA) 17.5 중량부로 구성되는 모노머 혼합물에, 광 중합 개시제 (상품명 「이르가큐어 184」, BASF 사 제조) 0.035 중량부, 및 광 중합 개시제 (상품명 「이르가큐어 651」, BASF 사 제조) 0.035 중량부를 배합한 후, 이 모노머 혼합물을 질소 분위기하에서 자외선에 노출시켜 부분적으로 광 중합시킴으로써, 중합률 약 10 중량％ 의 부분 중합물 (아크릴계 폴리머 시럽) 을 얻었다.

얻어진 그 아크릴계 폴리머 시럽에, 상기 아크릴계 폴리머 (A-1) 5 중량부, 헥산디올디아크릴레이트 (HDDA) 0.15 중량부, 실란 커플링제 (상품명 「KBM-403」, 신에츠 화학 공업 주식회사 제조) 0.3 중량부를 첨가하고 균일하게 혼합하여, 아크릴계 점착제 조성물을 얻었다. 상기 아크릴계 점착제 조성물을, 박리 필름 (상품명 「다이아포일 MRF#38」, 미츠비시 수지 주식회사 제조) 의 박리 처리된 면 상에, 점착제층 형성 후의 두께가 250 ㎛ 가 되도록 도포하여, 점착제 조성물층을 형성하고, 이어서, 그 점착제 조성물층의 표면에, 박리 필름 (상품명 「다이아포일 MRN#38」, 미츠비시 수지 주식회사 제조) 을 당해 필름의 박리 처리면이 도포층측이 되도록 하여 피복하였다. 이로써, 모노머 성분의 도포층을 산소로부터 차단하였다. 그 후, 조도 : 5 ㎽/㎠, 광량 : 1500 mJ/㎠ 의 조건으로 자외선 조사를 실시하고, 점착제 조성물층을 광 경화시켜, 점착제층을 형성하였다.

<점착제 B 의 제조>

2-에틸헥실아크릴레이트 (2EHA) 28.5 중량부, 이소스테아릴아크릴레이트 (ISTA) 28.5 중량부, 이소보르닐아크릴레이트 22 중량부, 4-하이드록시부틸아크릴레이트 (4HBA) 20 중량부, 2 종의 광 중합 개시제 (상품명 : 이르가큐어 184, BASF 제조) 0.05 중량부, 및 광 중합 개시제 (상품명 : 이르가큐어 651, BASF 제조) 0.05 중량부를 배합한 후, 이 모노머 혼합물을 질소 분위기하에서 자외선에 노출시켜 부분적으로 광 중합시킴으로써, 중합률 약 10 중량％ 의 부분 중합물 (아크릴계 폴리머 시럽) 을 얻었다.

이와 같이 하여 얻어진 아크릴계 폴리머 시럽의 100 중량부에, 헥산디올디아크릴레이트 (HDDA) 0.3 중량부, 실란 커플링제 (상품명 「KBM-403」, 신에츠 화학 공업 주식회사 제조) 0.3 중량부를 첨가하고 균일하게 혼합하여, 아크릴계 점착제 조성물을 얻었다. 상기 아크릴계 점착제 조성물을, 박리 필름 (상품명 「다이아포일 MRF#38」, 미츠비시 수지 주식회사 제조) 의 박리 처리된 면 상에, 점착제층 형성 후의 두께가 125 ㎛ 가 되도록 도포하여, 점착제 조성물층을 형성하고, 이어서, 그 점착제 조성물층의 표면에, 박리 필름 (상품명 「다이아포일 MRN#38」, 미츠비시 수지 주식회사 제조) 을, 당해 필름의 박리 처리면이 도포층측이 되도록 하여 피복하였다. 이로써, 모노머 성분의 도포층을 산소로부터 차단하였다. 그 후, 조도 : 5 ㎽/㎠, 광량 : 1500 mJ/㎠ 의 조건으로 자외선 조사를 실시하고, 점착제 조성물층을 광 경화시켜, 점착제층을 형성하였다.

점착제는, 광학적 투명성, 접착성, 응집성 (가공성) 이 우수하다. 점착제의 재료는, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 우레탄계 점착제, 에폭시계 점착제, 및 폴리에테르계 점착제에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 점착제층의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상은 5 ㎛ ∼ 500 ㎛, 바람직하게는, 10 ㎛ ∼ 350 ㎛, 더욱 바람직하게는, 25 ㎛ ∼ 250 ㎛ 이다.

본 발명에서 사용하는 점착제 조성물에는, 각종 첨가제를 첨가할 수 있다. 고온 다습 조건하에서의 밀착성을 향상시키기 위해, 각종 실란 커플링제를 첨가하는 것이 바람직하다. 나아가서는, 가교제를 첨가함으로써, 점착제의 내구성에 관계되는 응집력을 부여할 수 있기 때문에 바람직하다. 또, 필요에 따라, 점도 조정제, 박리 조정제, 점착 부여제, 가소제, 연화제, 무기 분말 등으로 이루어지는 충전제, 안료, 착색제 (안료, 염료 등), pH 조정제 (산 또는 염기), 산화 방지제, 방청제, 자외선 흡수제 등을 적절히 사용할 수도 있다.

점착제 시트 (점착제층) 의 형성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 각종 기재 (이형 필름, 투명 수지 필름) 상에 상기 점착제 조성물을 도포하고, 열오븐 등의 건조기에 의해 건조시키고, 용제 등을 휘산시켜 점착제층을 형성해도 되고, 각종 기재 상에서 활성 에너지선 경화성 조성물을 자외선 조사 등의 경화 처리하여 형성하는 방법이나, 열경화성 수지 조성물을 가열 경화시켜 형성하는 수법이어도 된다.

또한 커버 부재에 있어서 소정의 패턴으로 형성된 투명 도전층 (센서) 상에, 직접 활성 에너지선 경화 조성물을 도포하고, 자외선 조사 등의 경화 처리하여 형성하는 방법이나, 열경화성 수지 조성물을 가열 경화시켜 형성하는 수법이어도 된다.

[굴절률 조정층이 형성된 점착제의 제조]

<점착제 A/고굴절률 재료의 나노 입자 분산액을 사용하는 사례>

(점착제 A/나노 입자 분산액을 사용한 사례)

점착제층의 두께가 250 ㎛ 로서, 그 점착제층의 양면이 PET 박리 시트로 보호되어 있는 상태의 점착제 A (점착제층의 굴절률 : 1.49) 의 일방의 경박리 PET 시트를 박리하였다. 노출된 점착제층의 표면에, 고굴절률 입자를 함유하는 분산액으로서의 지르코니아 입자 (ZrO₂, 굴절률 : 2.17, 평균 일차 입자경 : 20 ㎚) 를 함유하는 도포용 처리액 (분산매 : 에탄올, 입자 농도 : 1.2 중량％, 분산액의 투과율 : 82 ％, CIK 나노텍 (주) 제조) 을, 굴절률 조정용 구분의 두께가 20 ㎚ ∼ 200 ㎚ 가 되도록 바 코터 RDS No.5 로 도포하고, 110 ℃ 의 건조 오븐으로 180 초간 건조시켰다. 이어서, 지르코니아 (ZrO₂) 입자가 분산된 점착제층 표면에, 지지체로서 PET 박리 시트 (75 ㎛) 를 첩합하여, 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제 (A1) 를 얻었다. 또한, 지르코니아 입자의 평균 일차 입자경은, TEM 관찰에 의해 계측하였다. 도 8(a) 는, 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제 (A1) 의 구성을 나타낸다.

<다른 사례>

상기의 사례와 동일하게 하여, 하기의 점착제 및 고굴절률 재료의 나노 입자 분산액을 사용하여 동일하게 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제 (B1) 를 제조하였다. 사용 재료는, 점착제 B (굴절률 1.48), ZrO₂ 나노 입자 분산액 (분산매 : 에탄올, 입경 20 ㎚) 이었다.

또한, 검토에 사용한 점착제의 특성 일람을 하기 표에 나타낸다. 도 8(b) 는, 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제 (B1) 의 구성을 나타낸다.

점착성의 굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 굴절률이 높은 재료에서 바람직한 것을 선택하여 사용된다. 점착제 베이스 재료와의 상용성 (저온하에서의 블리드 아웃, 고온하에서의 편석의 리스크) 의 관점이나, 고온하에서의 신뢰성 확보의 관점에서, 무기계의 고굴절률 재료가 바람직하다. TiO₂, ZrO₂, CeO₂, Al₂O₃, BaTiO₂, Nb₂O₅ 및 SnO₂ 이들 군에서 선택된 하나 또는 복수의 화합물을 사용할 수 있다. 고굴절률 재료 입자의 평균 일차 입경은, 3 ㎚ ∼ 100 ㎚ 가 바람직하다. 굴절률 조정용 구분의 두께는, 바람직하게는 20 ㎚ ∼ 600 ㎚ 이고, 보다 바람직하게는 20 ㎚ ∼ 300 ㎚, 더욱 바람직하게는 20 ㎚ ∼ 200 ㎚ 이다.

<기재로서 COP 를 사용하는 투명 도전성층의 제조>

두께 100 ㎛ 의 시클로올레핀 폴리머 필름 (상품명 : 「제오노아 ZF16」, 면내 복굴절률 : 0.0001, 닛폰 제온 (주) 제조) 의 양면에, 직경 3 ㎛ 의 복수의 입자 (상품명 : 「SSX105」, 세키스이 수지 (주) 제조) 를, 바인더 수지 (상품명 : 「유니딕 RS29-120」, DIC 사 제조) 100 부에 대해 0.07 부 첨가한 도공액을 바 코터를 사용하여 도포하고, 80 ℃ 의 오븐하에서 1 분간 건조 후, 적산 광량 각 300 mJ 의 자외선 (고압 수은등) 을 조사함으로써 양면에 안티 블로킹층을 갖는 필름을 형성하였다 (이하, COP 기재). 다음으로, COP 기재의 편면에, 굴절률 조정제 (상품명 : 「옵스타 KZ6661」, JSR (주) 제조) 를 바 코터에 의해 도포하고, 80 ℃ 의 오븐하에서 1 분간 건조 후, 적산 광량 각 300 mJ 의 자외선 (고압 수은등) 을 조사함으로써, 두께 100 ㎚, 굴절률 1.65 의 굴절률 조정층을 형성하였다. 얻어진 COP 기재의 굴절률 조정층의 표면에, 권취식 스퍼터 장치에 있어서, 투명 도전층으로서 두께 23 ㎚ 의 인듐주석 산화물층 (ITO) 을 적층하였다. 상기 투명 도전층 상의 일부에 포토레지스트막을 형성한 후, 이것을 25 ℃, 5 중량％ 의 염산 (염화수소 수용액) 에 1 분간 침지시켜, 투명 도전층의 에칭을 실시하였다. 이로써 전극 배선 패턴에 상당하는 투명 도전층이 존재하는 부분 (패턴부) (도 9(a) 중의 ITO (32)) 과, 제거된 부분 (개구부) 이 형성된, 패턴이 형성된 투명 도전성 필름 (1) 을 얻었다. 도 9(a) 에 나타내는 적층체 (31) 는, 패턴이 형성된 투명 도전성 필름 (1) 을 나타낸다.

<기재로서 PET 를 사용하는 투명 도전성층의 제조>

두께 50 ㎛ 의 PET 필름 (상품명 : 「루미러 : U40」 토레사 제조) 의 편면에 직경 3 ㎛ 의 복수의 입자 (상품명 : 「SSX105」, 세키스이 수지 (주) 제조) 를, 바인더 수지 (상품명 : 「유니딕 RS29-120」, DIC 사 제조) 100 부에 대해 0.1 부 첨가한 도공액을 바 코터를 사용하여 도포하고, 80 ℃ 의 오븐하 1 분간 건조 후, 적산 광량 각 300 mJ 의 자외선 (고압 수은등) 을 조사함으로써 편면에 막두께 1.5 ㎛ 의 안티 블로킹층을 형성하였다 (이하, PET 기재). 다음으로, 방금 전 도공한 면과는 반대면에, 멜라민 수지 : 알키드 수지 : 유기 실란 축합물 (중량비 2 : 2 : 1) 의 열경화형 수지를 도공하고, 이것을 경화시켜, 막두께 30 ㎚, 굴절률 1.54 의 굴절률 조정층을 형성하였다. 그 후, 굴절률 조정층을 갖는 PET 기재를, 권취식 스퍼터 장치에 투입하고, 굴절률 조정층 (1) 의 표면에, 투명 도전층으로서 두께 23 ㎚ 의 인듐주석 산화물층 (ITO) 을 적층하였다. 상기 투명 도전층 상의 일부에 포토레지스트막을 형성한 후, 이것을 25 ℃, 5 중량％ 의 염산 (염화수소 수용액) 에 1 분간 침지시켜, 투명 도전층의 에칭을 실시하였다. 이로써 전극 배선 패턴에 상당하는 투명 도전층이 존재하는 부분 (패턴부) (도 9(b) 중 ITO (36)) 과, 제거된 부분 (개구부) 이 형성된 패턴이 형성된 투명 도전성 필름 (2) 을 얻었다. 도 9(b) 에 나타내는 적층체 (35) 는 패턴이 형성된 투명 도전성 필름 (2) 을 나타낸다.

투명 도전층은, 도전성을 갖는 투명성, 시인성을 갖고, 패터닝이 가능한 것이 바람직하다. 투명 도전층의 구성 재료로는 특별히 한정되지 않고, 인듐, 주석, 아연, 갈륨, 안티몬, 티탄, 규소, 지르코늄, 마그네슘, 알루미늄, 금, 은, 구리, 팔라듐, 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속의 금속 산화물이 사용된다. 당해 금속 산화물에는, 필요에 따라, 추가로 상기 군에 나타낸 금속 원자를 함유하고 있어도 된다. 투명 도전층은, 빗살 형상, 스트라이프 형상, 마름모꼴 형상 등, 용도에 따라 임의의 형상을 채용할 수 있다. 예를 들어, 산화주석을 함유하는 산화인듐 (ITO), 안티몬을 함유하는 산화주석 등이 바람직하게 사용되고, ITO 가 특히 바람직하게 사용된다. 또, 상기 ITO 로는, 결정성의 ITO, 비결정성 (아모르퍼스) 의 ITO 중 어느 것이어도 된다. 결정성 ITO 는, 스퍼터시에 고온을 가하거나, 비결정성 ITO 를 추가로 가열하는 것 등에 의해 얻을 수 있다. ITO 로는, 산화인듐 80 ∼ 99 중량％ 및 산화주석 1 ∼ 20 중량％ 를 함유하는 것이 바람직하다.

투명 도전층의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 7 ㎚ 이상으로 하는 것이 바람직하고, 12 ∼ 200 ㎚ 인 것이 보다 바람직하고, 12 ∼ 100 ㎚ 인 것이 더욱 바람직하고, 18 ∼ 70 ㎚ 인 것이 특히 바람직하다. 투명 도전층의 두께가 7 ㎚ 미만에서는 투명 도전층이 면내에서 균일하게 붙지 않아, 패널 면내에서의 저항값이 안정되지 않거나, 소정의 저항값이 얻어지지 않는 경향이 있다. 한편, 200 ㎚ 를 초과하는 경우에는, 투명 도전층의 생산성이 저하되고, 비용도 상승하고, 또한 광학 특성도 저하되는 경향이 있다.

투명 도전층의 형성 방법으로는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 예시할 수 있다. 또, 필요로 하는 층두께에 따라 적절한 방법을 채용할 수도 있다.

도전층과 커버 부재간, 도전층과 점착제 사이에는 언더코트층, 오버코트층을 가지고 있어도 된다. 상기 코트층은 1 층 또는 2 층 이상의 다층으로 형성되어 있어도 된다. 상기 코트층은 굴절률 조정 기능을 가지고 있어도 된다. 상기 코트층의 굴절률은, 도전층의 굴절률 이하인 것이 바람직하다. 상기 코트층에는, 배리어 기능, 방청 기능을 가지고 있어도 된다.

투명 도전층은, 금속 나노와이어 또는 금속 메시를 포함할 수 있다. 금속 나노와이어란, 재질이 금속이고, 형상이 침형 또는 사상 (絲狀) 이고, 직경이 나노미터 사이즈의 도전성 물질을 말한다. 금속 나노와이어는 직선상이어도 되고, 곡선상이어도 된다. 금속 나노와이어로 구성된 투명 도전층을 사용하면, 금속 나노와이어가 망목상으로 됨으로써, 소량의 금속 나노와이어이어도 양호한 전기 전도 경로를 형성할 수 있어, 전기 저항이 작은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다. 또한 금속 나노와이어가 망목상으로 됨으로써, 망목의 간극에 개구부를 형성하여, 광 투과율이 높은 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다.

금속 나노와이어를 구성하는 금속으로는, 도전성이 높은 금속인 한, 임의의 적절한 금속이 사용될 수 있다. 상기 금속 나노와이어를 구성하는 금속으로는, 예를 들어, 은, 금, 구리, 니켈 등을 들 수 있다. 또, 이들 금속에 도금 처리 (예를 들어, 금 도금 처리) 를 실시한 재료를 사용해도 된다. 그 중에서도 바람직하게는, 도전성의 관점에서, 은, 구리 또는 금이고, 보다 바람직하게는 은이다.

금속 메시를 포함하는 투명 도전층은, 상기 기재 적층체 상에, 금속 세선이 격자상의 패턴으로 형성되어 이루어진다. 상기 금속 나노와이어를 구성하는 금속과 동일한 금속을 사용하는 것이 가능하다. 금속 메시를 포함하는 투명 도전층은, 임의의 적절한 방법에 의해 형성시킬 수 있다. 투명 도전층은, 예를 들어, 은염을 함유하는 감광성 조성물 (투명 도전층 형성용 조성물) 을 기재 적층체 상에 도포하고, 그 후, 노광 처리 및 현상 처리를 실시하여, 금속 세선을 소정의 패턴으로 형성함으로써 얻을 수 있다.

<커버 렌즈 부재와 점착제의 적층체의 제조 (실시예와 비교예)>

(실시예 1)

도 10(a) 에 나타내는 광학 부재 적층체를 제조하였다. 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제 (A1) 의 베이스 점착제 A 측의 PET 박리 시트를 박리하여, 유리제 커버 렌즈 (커버 부재 (26)) 의 일방의 면에 첩합하고, 굴절률 조정용 구분이 커버 렌즈의 외측이 되도록 적층된 점착제가 형성된 커버 렌즈 (A) 를 제조하였다. 제조한 점착제가 형성된 커버 렌즈 (A) 의 굴절률 조정용 구분측의 PET 박리 시트를 박리하고, 패턴을 갖는 투명 도전 필름 (1) (적층체 (31)) 의 투명 도전층 상에, 그 점착제가 형성된 커버 렌즈의 굴절률 조정용 구분 (고굴절률 입자를 갖는 측) 과 그 투명 도전층과 그 기재 상의 투명 도전층의 부분과 도전층이 없는 부와 접촉하도록 적층하여 제조하였다. 또, 굴절률 조정용 구분 (고굴절률 입자를 갖는 측) 과 접촉하는 면과는 반대측의 면에, 반사율 측정을 위해서, 평가용 흑색 PET 필름 (39) 을 붙였다.

(실시예 2)

도 10(b) 에 나타내는 광학 부재 적층체를 제조하였다. 적층하는 점착제를 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제 (B1) 로 변경하고, 베이스 점착제측의 PET 박리 시트를 박리하고, 플라스틱제 커버 렌즈 (커버 부재 (27)) 의 일방의 면에 첩합하고, 굴절률 조정용 구분이 그 커버 렌즈의 외측이 되도록 적층된 점착제가 형성된 커버 렌즈 (B) 를 제조하였다. 제조한 점착제가 형성된 커버 렌즈 (B) 의 굴절률 조정용 구분측의 PET 박리 시트를 박리하고, 패턴을 갖는 투명 도전 필름 (2) 의 투명 도전층 상에, 그 점착제가 형성된 커버 렌즈의 굴절률 조정용 구분 (고굴절률 입자를 갖는 측) 과 그 투명 도전층과 그 기재 상의 투명 도전층의 부분과 도전층이 없는 부와 접촉하도록 적층하여 제조하였다. 또, 굴절률 조정용 구분 (고굴절률 입자를 갖는 측) 과 접촉하는 면과는 반대측의 면에, 반사율 측정을 위해서, 평가용 흑색 PET 필름 (39) 을 붙였다.

(비교예 1)

도 11(a) 에 나타내는 광학 부재 적층체를 제조하였다. 적층하는 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제 (A1) 를, 굴절률 조정층을 갖지 않는 점착제 A 로 변경하고, 점착제가 형성된 커버 렌즈 (C) 를 제조한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 제조하였다.

(비교예 2)

도 11(b) 에 나타내는 광학 부재 적층체를 제조하였다. 적층하는 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제 (B1) 를, 굴절률 조정층을 갖지 않는 점착제 B 로 변경하고, 점착제가 형성된 커버 렌즈 (D) 를 제조한 것 이외에는, 실시예 2 와 동일하게 제조하였다.

실시예·비교예의 일람, 및 반사율의 측정 결과를 하기 표에 나타낸다.

[평가 방법]

<아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량 (Mw) 의 측정>

제조한 아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, GPC (겔·퍼미에이션·크로마토그래피) 에 의해 측정하였다.

장치 : 토소사 제조, HLC-8220GPC

칼럼 :

샘플 칼럼 ; 토소사 제조, TSKguardcolumn Super HZ-H (1 개) + TSKgel Super HZM-H (2 개)

레퍼런스 칼럼 ; 토소사 제조, TSKgel Super H-RC (1 개)

유량 : 0.6 ㎖/min

주입량 : 10 ㎕

칼럼 온도 : 40 ℃

용리액 : THF

주입 시료 농도 : 0.2 중량％

검출기 : 시차 굴절계

또한, 중량 평균 분자량은 폴리스티렌 환산에 의해 산출하였다.

<점착제층의 표면 상태의 관찰>

실시예의 각각에 있어서의 점착제층의 고굴절률 재료 입자를 갖는 측의 표면을, FE-SEM 을 사용하여, 가속 전압 2 ㎸, 관찰 배율 500 배, 2,000 배, 5,000 배, 및 20,000 배로 관찰하였다. 도 8 에 그 20,000 배 사진을 나타낸다. 고굴절률 재료 입자가 균일하게 분산되어 있는 것을 알 수 있다.

<그라데이션 구조의 관찰>

실시예의 점착제층의 고굴절률 재료 입자를 갖는 측의 표면 근방의 단면을, 투과형 전자 현미경 (TEM) 을 사용하여, 배율 30,000 배로 관찰하였다. 그 결과를 도 13(a)(b) 에 나타낸다. 도 13(a) 에서는, 굴절률 조정용 구분의 두께의 거의 전체에 걸쳐서 고굴절률 재료 입자가 거의 균일하게 분포하고 있지만, 도 13(b) 의 예에서는, 점착제층에 있어서의 고굴절률 재료 입자의 분포가, 점착제층의 표면에서 가장 높고, 점착제층의 두께 방향을 따라 감소해가는 분포를 갖는 것을 알 수 있다.

<평균 표면 굴절률>

실시예 및 비교예에서 얻어진 점착층의 평균 표면 굴절률을, 분광 엘립소미터 (EC-400, JA. Woolam 제조) 를 사용하여 나트륨 D 선 (589 ㎚) 에 있어서의 굴절률을 측정하였다. 실시예 및 비교예의 점착층에서는, 양면의 박리 시트를 박리하고, 입자를 도포하고 있지 않은 면에 흑판 (黑板) 을 첩합한 상태에서, 입자가 도포되어 있는 면의 평균 굴절률을 측정하였다. 비교예의 점착 시트에서는, 양방의 박리 시트를 박리하고, 일방의 면에 흑판을 첩합한 상태에서, 점착제층 표면의 평균 굴절률을 측정하였다.

<굴절률 조정용 구분층의 두께의 측정>

점착제층의 깊이 방향의 단면을 조정하여 TEM 관찰을 실시하였다. 얻어진 TEM 이미지 (직접 배율 3000 ∼ 30000 배) 로부터 굴절률 조정용 구분의 두께의 측정을 계측하였다. 굴절률 조정용 구분층의 두께는, 점착제 베이스층과의 조정 구분의 계면의 요철의 평균값으로 하고, 점착제 베이스층과의 계면의 판별이 곤란한 경우에는, 표면 TEM 이미지를 화상 처리 소프트웨어 (ImageJ) 로 2 치화 화상 처리하여, 나노 입자의 90 ％ 가 존재하는 영역의 깊이를 조정 구분의 두께로 하였다.

<고굴절률 입자의 면적 비율>

점착제층의 입자 도포측의 표면을, FE-SEM 을 사용하여, 가속 전압 2 ㎸, 관찰 배율 500 배, 2,000 배, 5,000 배로 관찰하였다. 얻어진 표면 SEM 이미지를 화상 처리 소프트웨어 (ImageJ) 로 2 치화 화상 처리함으로써, 장변 23 ㎛, 단변 18 ㎛ 의 장방형 영역에 있어서의 전체 면적에 대한 면적으로서 고굴절률 입자가 차지하는 면적 비율 (％) 을 구하였다.

<전광선 투과율, 헤이즈값>

실시예 및 비교예에서 얻어진 점착 시트에서는, 고굴절률 재료를 도포한 측의 박리 시트를 박리하고, 슬라이드 유리 (상품명 : 시로켄마 No.1, 두께 : 0.8 ∼ 1.0 ㎜, 전광선 투과율 : 92 ％, 헤이즈 : 0.2 ％, 마츠나미 유리 공업 (주) 제조) 에 첩합하였다. 또한 타방의 박리 시트를 박리하고, 베이스 점착제층/점착성의 굴절률 조정용층/슬라이드 유리의 층 구성을 갖는 시험편을 제조하였다. 또, 비교예의 점착 시트에서는, 일방의 박리 시트를 박리하고, 슬라이드 유리 (상품명 : 시로켄마 No.1, 두께 : 0.8 ∼ 1.0 ㎜, 전광선 투과율 : 92 ％, 헤이즈 : 0.2 ％, 마츠나미 유리 공업 (주) 제조) 에 첩합하고, 또한 타방의 박리 시트를 박리하고, 베이스 점착제층/슬라이드 유리의 층 구성을 갖는 시험편을 제조하였다. 상기 시험편의 가시광 영역에 있어서의 전광선 투과율, 헤이즈값을, 헤이즈미터 (장치명 : HM-150, (주) 무라카미 색채 연구소 제조) 를 사용하여 측정하였다.

<180 도 필 접착력 (유리판에 대한 180 도 박리 접착력)>

실시예 및 비교예에서 얻어진 점착 시트로부터, 길이 100 ㎜, 폭 25 ㎜ 의 시트편을 잘라내었다. 이어서, 실시예 및 비교예의 시트편에서는, 입자가 도포되어 있지 않은 측의 박리 시트를 박리하고, PET 필름 (상품명 : 루미러 S-10, 두께 : 25 ㎛, 토레 (주) 제조) 을 첩부 (貼付) (배접) 하였다. 또, 비교예 1, 2 의 시트편에서는, 일방의 박리 시트를 박리하고, PET 필름 (상품명 : 루미러 S-10, 두께 : 25 ㎛, 토레 (주) 제조) 을 첩부 (배접) 하였다. 다음으로, 타방의 박리 시트를 박리하고, 시험판으로서의 유리판 (상품명 : 소다라임 유리 #0050, 마츠나미 유리 공업 (주) 제조) 에, 2 ㎏ 롤러, 1 왕복의 압착 조건으로 압착하여, 시험판/점착제층/PET 필름으로 구성되는 샘플을 제조하였다. 얻어진 샘플에 대해, 오토클레이브 처리 (50 ℃, 0.5 ㎫, 15 분) 하고, 그 후, 23 ℃, 50 ％R.H. 의 분위기하에서 30 분간 방랭하였다. 방랭 후, 인장 시험기 (장치명 : 오토그래프 AG-IS, (주) 시마즈 제작소 제조) 를 사용하여, JIS Z0237 에 준거하여, 23 ℃, 50 ％R.H. 의 분위기하, 인장 속도 300 ㎜/분, 박리 각도 180°의 조건으로, 시험판으로부터 점착 시트 (점착제층/PET 필름) 를 박리하여, 180°박리 접착력 (N/25 ㎜) 을 측정하였다. 또, 각 실시예, 비교예에 있어서, 고굴절률 재료의 입자 미도포의 점착 시트를 제조하고, 당해 고굴절률 재료의 입자 미도포의 점착 시트에 있어서도, 상기와 동일하게, 180 도 필 접착력을 측정하였다.

<고굴절률 입자를 함유하는 분산액의 투과율>

고굴절률 입자를 함유하는 분산액의 투과율은, 광전 비색계 (AC-114, OPTIMA 사 제조) 로 530 ㎚ 의 필터를 사용하여 측정하였다. 분산 용매 단독의 투과율을 100 ％ 로 하여, 각 실시예, 비교예에서 사용한 분산액의 투과율 (％) 을 측정하였다.

<반사 억제율, 반사 색상 개선율 (색차값) 의 측정>

실시예 및 비교예의 광학 부재 적층체의 일방의 면을 반사율 측정면으로 하고, 반대측의 면에 편면 점착이 형성된 흑색 PET (PET75NBPET38, 린텍 (주) 제조) 를 붙여 반사율 측정용의 시료로 하였다. 광학 부재 적층체의 반사율 측정면측의 반사율 (Y 값), 및 반사율 측정면측의 반사 색상 (L^*, a^*, b^* 값 : CIE1976) 을 반사형 분광 광도계 (U4100, (주) 히타치 하이테크놀로지즈 제조) 에 의해 측정하였다. 측정은, 투명 도전층을 에칭한 부분과, 에칭하지 않은 부분의 쌍방의 위치에서 실시하였다. 즉, 투명 도전층을 에칭한 부분 (개구부) 의 측정은, 점착제층의 굴절률 조정용 구분과 광학 부재 적층체의 기재의 계면의 반사율이고, 에칭하지 않은 부분 (패턴부) 의 측정은, 점착제층의 굴절률 조정용 구분과 투명 도전층 계면의 반사율을 나타낸다. 반사 색상에 대해서도 동일하다.

반사 억제율은, 에칭한 부분과 에칭하지 않은 부분의 각각에 대해, 하기 식에 기초하여 산출하였다. 또한, 하기 식 중의 「입자가 없는 경우의 반사율 (％)」 이란, 비교예 (입자를 사용하지 않는 경우) 의 광학 부재 적층체의 반사율이다. 즉, 반사 억제율은, 굴절률 조정용 구분을 가짐으로써 어느 정도 반사율이 저감되었는가를 나타내는 지표이다.

반사 억제율 (％) = 반사율 (％) - 입자가 없는 경우의 반사율 (％)

반사 색상 개선율은, 에칭한 부분과 에칭하지 않은 부분의 각각에 대해, 색의 값의 차분 (ΔL^*, Δa^*, Δb^*) 을 구한 후, 색차값 (ΔE^*ab) 을 하기 식에 기초하여 산출하였다.

색차값 ΔE^*ab = [(ΔL^*)＾2 + (Δa^*)＾2 + (Δb^*)＾2]＾(1/2)

즉, 광학 부재 적층체의 반사 색차값 (ΔE^*ab) 은, 에칭한 부분과 에칭하지 않은 부분의 색미 (色味) 의 차를 나타내는 지표이다.

<패턴 보임의 판정>

패턴 보임의 평가로는, 도전층부와 도전층이 없는 부분의 반사율차 (％) 와 반사 색차값으로부터 판정을 실시하였다. 반사율차 (％) 가 1.0 ％ 이상이면 × 로 하였다. 반사율차 1.0 ％ 미만으로서, 색차값이 1.0 미만이면 ◎, 1.0 ∼ 3.0 미만이면 ○, 3.0 이상이면 △ 로 하였다.

표 2 에 나타내는 측정 결과로부터, 점착제가 형성된 커버 렌즈 (A) 내지 (B) 를 사용한 실시예 1 내지 2 의 반사 억제율은 마이너스 0.5 ％ 내지 마이너스 0.2 ％ 가 되고, 점착제가 형성된 커버 렌즈 (A) 내지 (B) 에 포함되는 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제에 의해, 반사가 억제되어 개선 효과가 얻어졌다. 개선 효과에 대해 상세하게 검토하기 위해, 상기 서술한 패턴 보임의 판정을 실시하고, 색차값이 0.7 내지 1.8 이 되어 양호한 결과를 얻을 수 있었다. 한편, 비교예 1 내지 2 에서는, 점착제가 형성된 커버 렌즈 (C) 내지 (D) 에는 굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제를 포함하고 있지 않기 때문에, 특히, 반사가 억제되는 일도 없어 개선 효과는 볼 수 없었다. 또, 색차값이 3.1 내지 3.6 이 되어 양호한 결과를 얻을 수 없었다. 이런 점에서, 본 발명의 실시형태에 관련된 점착제가 형성된 커버 렌즈 (A) 내지 (B) 는 반사를 효과적으로 억제할 수 있다.

산업상 이용가능성

이상 서술한 바와 같이, 본 발명에 있어서는, 제 1 광학 부재와 제 2 광학 부재를 접합하는 점착제층에 있어서, 제 2 광학 부재측의 면으로부터 두께 방향으로, 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 갖는 굴절률 조정용 구분을 형성했으므로, 외광의 내부 반사광이 제 1 광학 부재를 지나 되돌아가는 것을 억제할 수 있다. 본 발명은, 액정 표시 장치 및 유기 EL 표시 장치와 같은 광학적 표시 장치에 적용할 수 있다. 본 발명은, 특히, 터치 센서를 갖는 터치 패널 방식의 표시 장치에 유리하게 적용할 수 있다.

S…점착제 시트
S1, S2…지지체
1…광학 부재 적층체
2…제 1 광학 부재
3, 13…투명한 점착제층
3a, 13a…베이스 점착제 구분
3b, 13b…굴절률 조정용 구분
4…제 2 광학 부재
7…투명 도전성층
17…고굴절률 재료 입자
19…분산액
20…점착제 베이스 재료
21…적층체
22, 26, 27…커버 부재
23…굴절률 조정용 구분이 형성된 점착제
24…투명 도전성 필름
25…화상 표시 장치
31, 35…적층체
32, 36…ITO 층
33, 37…굴절률 조정층
34…COP 기재
38…PET 기재
39…평가용 흑 PET

Claims

투명한 점착제층을 갖는 커버 부재로서,
상기 점착제층은, 투명한 점착제 베이스 재료로 이루어지고 서로 대향하는 2 개의 주면을 갖는 단일층이고, 일방의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 투명한 점착제 베이스 재료에 의해 형성되는 베이스 점착제 구분과, 그 단일층의 점착제층의 타방의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 형성된 투명한 점착성의 굴절률 조정용 구분을 포함하고, 상기 베이스 점착제 구분은 상기 커버 부재와 접하고, 상기 굴절률 조정용 구분은 상기 단일층의 점착제 베이스 재료에, 그 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 갖는 재료를 함유시킨 구성인 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 1 항에 있어서,
상기 커버 부재는 유리 또는 투명 수지 부재인 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 1 항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 두께가 20 ㎚ ∼ 600 ㎚ 인 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 1 항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료와 동일한 점착성 재료에, 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 갖는 고굴절률 재료의 입자가 분산되어 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 4 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료의 입자의 굴절률은 1.60 ∼ 2.74 인 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 4 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료는, 투과형 전자 현미경 (TEM) 관찰에 의한 평균 일차 입자경이 3 ㎚ ∼ 100 ㎚ 인 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 4 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료의 입자와 상기 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차가 0.15 ∼ 1.34 인 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 4 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료는, TiO₂, ZrO₂, CeO₂, Al₂O₃, BaTiO₃, Nb₂O₅ 및 SnO₂ 로 이루어지는 군에서 선택된 하나 또는 복수의 화합물인 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 1 항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료와 동일한 점착성 재료에 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 갖는 입자, 폴리머 또는 올리고머 형태의 유기 재료가 함유됨으로써 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 9 항에 있어서,
상기 점착제 베이스 재료의 굴절률은 1.40 ∼ 1.55 이고, 상기 유기 재료의 굴절률은 1.59 ∼ 2.04 인 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 1 항에 있어서,
상기 점착제층의 전광선 투과율이 80 ％ 이상인 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 4 항에 있어서,
상기 고굴절률 재료의 입자는, 복수의 입자가 응집된 응집체의 형태로 존재하는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 커버 부재.
제 4 항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제층의 두께 방향으로, 불규칙한 깊이로 존재하는 것을 특징으로 하는 커버 부재.