KR101786725B1

KR101786725B1 - 점착제층을 가지는 광학 부재 적층체 및 그 제조 방법

Info

Publication number: KR101786725B1
Application number: KR1020157023295A
Authority: KR
Inventors: 토루 우메모토; 히로후미 가타미; 히로유키 다카오; 타카히로 노나카; 아츠시 야스이; 타카미 히키타
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2014-01-17
Filing date: 2015-01-16
Publication date: 2017-11-15
Also published as: US20160084991A1; JP6266619B2; TWI558569B; CN105190367B; JP2018072837A; TW201542380A; WO2015108159A1; JP6644752B2; JPWO2015108159A1; CN105190367A; KR20150112003A; US10852455B2

Abstract

용이하고 염가로 제조할 수 있는 점착제층을 사용하여, 광학 부재 적층체에 있어서의 내부 반사를 효과적으로 억제할 수 있는 적층체의 구성을 제공한다. 점착제층의 표면으로부터 두께 방향에 있는 범위에 걸쳐서, 점착제층의 베이스 재료보다도 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정 구분을 형성함으로써 광학 부재 적층체의 내부 반사를 억제한다. 투명한 제1 광학 부재를 제2 광학 부재에 접합하기 위한 투명하고, 특정의 구성을 가진 점착제층을 구비하는 광학 부재 적층체를 제공한다. 특정의 구성을 가진 상기 점착제층은, 제1 광학 부재에 면하는 측의 제1의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 투명한 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분과, 그 점착제층의 제2 광학 부재에 면하는 측의 제2의 주면으로부터 두께 방향으로 형성된 투명인 점착성의 굴절률 조정용 구분을 포함한다. 그리고, 그 굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 가진다.

Description

점착제층을 가지는 광학 부재 적층체 및 그 제조 방법{Optical member laminate having adhesive layer and method for producing same}

본 발명은, 점착제층을 가지는 광학 부재 적층체 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 특히 본 발명은, 투명한 광학 부재를 다른 광학 부재에 접합하기 위한 점착제층을 가지는 광학 부재 적층체 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

예를 들면 액정표시장치 또는 유기 EL표시장치와 같은 표시장치는, 편광 필름, 위상차 필름, 커버 유리 등의 투명 커버 부재, 그 외 여러 가지의 투명 광학 부재를, 다른 광학 부재에 접합하기 위해서 점착제를 사용한다. 즉, 접합되는 2개의 광학 부재의 사이에 점착제층이 배치되고, 그 2개의 광학 부재는, 이들을 서로 내리누름으로써 접합되어, 광학 부재 적층체가 형성된다. 이러한 구성의 광학 부재 적층체는, 표시장치에 있어서, 투명 광학 부재의 측이 시인 측이 되도록 배치된다. 이 구성에 있어서, 시인 측의 투명 광학 부재로부터 외광이 입사했을 때, 입사광이 점착제층과 비시인 측의 광학 부재와의 계면에서 반사하여 시인 측으로 돌아온다, 라고 하는 문제가 있다. 이 문제는, 외광의 입사각이 얇을 때, 특히 현저하게 된다.

또, 근년 증가 경향이 있는 터치 패널을 구비한 표시장치에 있어서는, 투명 광학 부재가 접합되는 피접합측 광학 부재의 표면에는, 패턴화된 ITO(인듐·주석 산화물)와 같은 투명인 도전성의 층이 형성된다. 이러한 표시장치에 있어서는, 점착제층과 투명 도전성층과의 사이의 계면에 있어서의 입사광의 내부 반사의 영향으로, 시인 측으로부터 투명 도전성층의 패턴이 보이게 된다, 라고 하는 「패턴 보임」의 문제가 지적되고 있다.

어느 경우에도, 내부 반사는, 점착제와 피접합측 광학 부재 및 투명 도전성층의 굴절률차에 기인한다. 특허 제4640740호 공보(특허 문헌 1)는, 이 문제에 대처하기 위한 수법을 교시한다. 즉, 그 특허 문헌 1은, 투명 광학 부재와 점착제층과의 사이의 계면, 및, 점착제층과 피접합측 광학 부재와의 사이의 계면에 있어서의 빛의 전반사를 저감할 수 있는 점착제 조성물을 개시한다. 여기에 개시된 조성물은, 건조 후 및／또는 경화 후의 굴절률이 높고, 투명 광학 부재 및 피접합측 광학 부재의 굴절률에 가까운 것이다, 라고 설명되어 있다. 이 특허 문헌 1의 교시는, 2개의 광학 부재를 접합하는 점착제층 전체를, 그 2개의 광학 부재의 굴절률에 가까운 굴절률을 가지는 것으로 하는 것이다.

이 특허 문헌 1에 의해 교시된 수법은, 계면반사를 억제하는 점에서는 효과가 있다 하지만, 특정의 모노머 성분을 사용하는 것이기 때문에, 조성물 자체가 고가가 된다, 라고 하는 문제가 있다.

특허 제5564748호 공보(특허 문헌 2)는, 분산 평균 입자 지름이 1nm 이상, 또한 20nm 이하의 산화 지르코늄 또는 산화 티탄 입자를, 아크릴계 수지로 이루어지는 투명 점착제의 두께 전체에 걸쳐 분산시킨 구성의 굴절률이 조정된 점착제를 개시한다. 이 점착제는, 고굴절률 재료인 산화 지르코늄 또는 산화 티탄 입자를 투명 점착제에 혼합하고 있으므로, 점착제층 전체의 굴절률이 높아져, 상술한 계면반사를 억제할 수 있다고 생각된다. 그러나, 특허 문헌 2의 수법에서는, 고굴절률 재료를 다량으로 사용할 필요가 있고, 점착제로서의 특성의 저하가 염려되고, 또한 고가가 된다. 또, 사용되는 고굴절률 재료는 무기물질의 입자이기 때문에, 분산이 곤란하고, 산란에 의한 백탁을 일으킨다고 하는 문제가 있다. 이 때문에, 유기 재료의 입자를 사용하는 것도 생각할 수 있지만, 그 경우에는, 착색의 문제를 해결하는 것이 용이하지 않게 된다.

특허 제5520752호 공보(특허 문헌 3)는, 특허 문헌 2에 기재의 수법을 개량하기 위해서, 점착제에 분산되는 금속 산화물 입자를 고분자로 피복 하는 것을 제안한다. 특허 문헌 3이 교시하는 것은, 특허 문헌 2의 점착제층에서는, 점착제층의 표면에 금속 산화물이 노출하기 때문에, 점착성이 저하한다고 하는 문제가 있으므로, 그 금속 산화물 입자를 고분자에 의해 피복하여, 이 문제를 해결한다는 것이다. 이 특허 문헌 3에 의해 제안되는 수법은, 점착제층의 점착성에 대해서는 어느 정도의 개선은 가능할지도 모르지만, 특허 문헌 2에 관련해 지적한 문제의 상당수는 해결되지 않는다. 특히, 특허 문헌 3에 기재된 구성은, 금속 산화물 입자를 특정의 고분자로 피복하는 것이기 때문에, 특허 문헌 2의 구성보다 더 고가가 된다.

특허문헌 1: 특허 제4640740호 공보 특허문헌 2: 특허 제5564748호 공보 특허문헌 3: 특허 제5520752호 공보

본 발명은, 용이하고 염가로 제조할 수 있는 점착제층을 사용하여, 광학 부재 적층체에 있어서의 내부 반사를 효과적으로 억제할 수 있는 적층체의 구성을 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.

본 발명의 다른 목적은, 굴절률 조정 구분을 가진 점착제층을 가지는 광학 부재 적층체의 구성에 의해, 그 적층체에 있어서의 내부 반사를 효과적으로 억제하는 것이다.

간결하게 말하면, 본 발명은, 상술의 목적을 달성하기 위해, 점착제층의 표면으로부터 두께 방향에 있는 범위에 걸쳐서, 점착제층의 베이스 재료보다 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정 구분을 형성함으로써 광학 부재 적층체의 내부 반사를 억제하는 것이다.

일 태양에 있어서, 본 발명은, 투명한 제1 광학 부재를 제2 광학 부재에 접합하기 위한 투명하고, 특정의 구성을 가진 점착제층을 구비하는 광학 부재 적층체를 제공한다. 특정의 구성을 가진 그 점착제층은, 제1 광학 부재에 면하는 측의 제1의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 투명한 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분과, 그 점착제층의 제2 광학 부재에 면하는 측의 제2의 주면으로부터 두께 방향으로 형성된 투명하고 점착성의 굴절률 조정용 구분을 포함한다. 그리고, 그 굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 가진다. 이 구성에 있어서, 점착제층의 굴절률 조정용 구분은, 제2 광학 부재의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는 것으로 할 수 있다.

본 발명의 다른 태양에 있어서는, 제2 광학 부재에는 점착제층에 면하는 측에 소정 패턴의 투명 도전성층이 형성된다. 그리고, 굴절률 조정용 구분은, 그 투명 도전성층과 제2 광학 부재와의 사이의 단차를 메우도록 그 투명 도전성층과 그 제2 광학 부재의 양쪽 모두에 접하고 있고, 그 굴절률 조정용 구분은, 투명 도전성층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가진다. 이 구성에 있어서, 제2 광학 부재에는, 점착제층에 면하는 측의 표면에, 투명 도전성층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는 굴절률 조정층을 형성하고, 점착제층의 굴절률 조정용 구분은, 상기 제2 광학 부재의 표면에 형성된 상기 굴절률 조정층의 굴절률보다 높은 굴절률을 가지는 것으로 할 수 있다.

굴절률 조정용 구분은, 두께를 20nm~600nm로 하는 것이 바람직하다. 굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 고굴절률 재료의 입자가 분산된 구성으로 하고, 이 고굴절률 재료 입자에 의해 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 할 수 있다.

제2 광학 부재에 소정 패턴의 투명 도전성층이 형성된 구성에서는, 굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 고굴절률 재료의 입자를 분산시켜 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이는 구성으로 하고, 투명 도전성층의 굴절률이 1.75~2.14이며, 점착제 베이스 재료의 굴절률이 1.40~1.55인 경우에, 고굴절률 재료의 입자의 굴절률은 1.60~2.74로 하는 것이 바람직하다. 고굴절률 재료의 입자는, TEM 관찰에 의한 평균 일차 입자 지름이 3nm~100nm인 것이 바람직하다. 또, 고굴절률 재료는, TiO₂, ZrO₂, CeO₂, Al₂O₃, BaTiO₃, Nb₂O₅, 및 SnO₂로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 또는 복수의 화합물로 할 수 있다. 굴절률 조정용 구분과 제2 광학 부재와의 사이의 접합면에는, 고굴절 재료의 입자가 제2 광학 부재에 접촉하는 영역과, 그 굴절률 조정용 구분의 점착성 재료가 그 제2 광학 부재에 접촉하는 매트릭스 영역이 형성된다. 이 경우에 있어서, 고굴절 재료의 입자가 제2 광학 부재에 접촉하는 영역은, 면적비 30~99％의 범위로 형성되는 것이 바람직하다. 또, 고굴절률 재료의 입자와 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차가 0.2~1.3인 것이 바람직하다.

굴절률 조정용 구분은, 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에, 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 입자, 폴리머 또는 올리고머의 형태의 유기 재료가 포함되는 것에 의해서 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것으로 할 수 있다. 또, 이 구성의 점착제층이, 제2 광학 부재에 투명 도전성층이 형성된 구성에 적용되는 경우에는, 투명 도전성층의 굴절률은 1.75~2.14로 하고, 점착제 베이스 재료의 굴절률은 1.40~1.55로 하고, 유기 재료의 굴절률은 1.59~2.04로 하는 것이 바람직하다. 여기서 이용되는 고굴절률을 가지는 유기 재료로서는, 특히 한정되지 않지만, 스틸렌계와 같은 방향환을 가지는 수지외, 유황이나 질소 등의 이질 원자를 포함한 수지(예를 들면 티올이나 트리아진환을 포함 폴리머)를 들 수 있다. 또, 입자로서는 나노미터 사이즈의 유기 나노 입자, 구상 고분자를 포함하고, 입경은 TEM 관찰에 의한 평균 일차 입자 지름이 3nm~100nm인 것이 바람직하다.

점착제층은, 전광선 투과율이 80％ 이상인 것이 바람직하다. 고굴절률 재료의 입자는, 복수의 입자가 응집한 응집체의 형태로 존재하는 부분을 포함할 수 있다. 또, 통상은, 굴절률 조정용 구분에 포함되는 고굴절 재료의 입자는, 점착제층의 두께 방향으로, 불규칙한 깊이로 존재한다.

본 발명은, 다른 태양에 있어서, 광학 부재 적층체 내에 있어서의 내부 반사 억제 방법을 제공한다. 이 방법은, 투명한 제1 광학 부재를 소정 패턴의 투명 도전성층이 형성된 제2 광학 부재에 접합하기 위한 점착제층에, 그 점착제층의 제2 광학 부재 및 투명 도전성층에 면하는 측에 있어서, 점착제층의 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높고, 투명 도전성층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는, 투명한 점착성 굴절률 조정용 구분을 형성하고, 그 투명한 점착성 굴절률 조정용 구분이 투명 도전성층 및 제2 광학 부재에 면하고, 점착제층의 반대 측의 면이 제1 광학 부재에 면하는 상태로, 그 투명 도전성층 및 그 제2 광학 부재상에 그 투명한 점착성 굴절률 조정용 구분을 접합하고, 점착제층의 그 반대 측의 면을 제1 광학 부재에 접합하여, 굴절률 조정용 구분이, 그 투명 도전성층과 그 제2 광학 부재와의 사이의 단차를 메우도록 그 투명 도전성층과 그 제2 광학 부재의 양쪽 모두에 접하는 상태로 하고, 제1 광학 부재를 통하여 입사하는 외광의, 점착제 베이스층과 굴절률 조정용 구분과의 계면에 있어서의 반사광과, 굴절률 조정용 구분과 투명 도전성층과의 계면에 있어서의 반사광이, 광학적 간섭에 의해 적어도 부분적으로 상쇄되도록 하는 것이다.

본 발명의 이 내부 반사 억제 방법에 있어서는, 제1 광학 부재를 통하여 입사하는 외광의, 점착제층에 있어서의 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 구분과 굴절률 조정용 구분과의 계면에 있어서의 반사광과, 굴절률 조정용 구분과 제2 광학 부재와의 계면에 있어서의 반사광이, 광학적 간섭에 의해 적어도 부분적으로 상쇄되도록 할 수 있다.

본 발명은, 또한, 다른 태양에 있어서, 투명한 제1 광학 부재를 제2 광학 부재에 접합하기 위한 투명한 점착제층을 구비하는 광학 부재 적층체의 제조 방법을 제공한다. 이 방법은, 굴절률 조정 구분 부착 점착제층을 형성하는 단계를 포함한다. 이 단계는, 투명한 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 점착제층과, 그 점착제 베이스 재료보다 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정 재료의 입자를 포함한 도공액을, 각각 준비하고, 그 점착제층의 한편의 면에 그 도공액을 도포하여, 그 도공액에 포함되는 굴절률 조정 재료의 입자를, 점착제층의 한편의 면으로부터 두께 방향으로 침투시켜, 그 점착제층을 건조시킴으로써 그 도공액의 액체 부분을 증발시키는 공정에 의해서, 행해진다. 이 방법은, 또한, 그 굴절률 조정 구분 부착 점착제층을, 그 한편의 면과는 반대 측의 면인 다른 한편의 면에 있어서 그 제1 광학 부재에 접합하고, 그 한편의 면에 있어서 그 제2 광학 부재에 접합하는 단계를 포함한다.

이 광학 부재 적층체의 제조 방법에 있어서는, 굴절률 조정 구분은, 제2 광학 부재의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는 것으로 할 수 있다. 혹은, 그 제2 광학 부재로서, 점착제층에 면하는 측에 소정 패턴의 투명 도전성층이 형성된 것을 사용하고, 그 굴절률 조정 구분은, 그 투명 도전성층과 그 제2 광학 부재와의 사이의 단차를 메우도록 그 투명 도전성층과 그 제2 광학 부재의 양쪽 모두에 접합하고, 그 굴절률 조정 구분은, 투명 도전성층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는 것으로 할 수 있다.

본 발명에 의하면, 점착제층의 하나의 면으로부터 두께 방향으로, 점착제층의 베이스 재료보다 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정 구분을 형성하므로, 헤이즈 값을 높이는 일 없이 고굴절률의 영역을 형성하는 것이 가능하게 된다. 고굴절률의 영역은, 제2 광학 부재와의 사이의 굴절률차를 조정할 수 있고, 이것에 의해서 점착제층과 제2 광학 부재와의 사이의 계면에 있어서의 반사를 억제할 수 있다. 또, 제2 광학 부재 측에 패턴화된 투명 도전성층이 형성된 구성에 있어서는, 그 투명 도전성층과 제2 광학 부재의 굴절률에 대한 점착제층의 굴절률 조정 구분의 굴절률을 조정함으로써, 계면반사를 억제하는 것이 가능하게 된다. 또한, 그 투명 도전성층에 있어서의 반사광과 제2 광학 부재 표면에 있어서의 반사광, 및 점착제층 내부에 생기는 반사광과의 사이에 있어서의, 반사광끼리의 위상차에 의한 상쇄 효과로 제1 광학 부재 측으로 돌아오는 반사광을 큰폭으로 저감시키는 것이 가능하게 된다.

도 1은, 본 발명의 가장 단순한 실시 형태의 일례를 나타내는 광학 부재 적층체의 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 광학 부재 적층체에 사용되는 점착제층의 일실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 3은, 패턴화된 투명 도전성층이 형성된 구성에 도 2에 나타내는 점착제층(13)이 적용된 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 4는, 제2 광학 부재에 접촉하는 점착제층의 주면의 상태를 나타내는 평면도이다.
도 5는, 도 2에 나타내는 점착제층을 제작하기 위한 공정을 나타내는 것으로, (a)는 분산액의 도포 공정을, (b)는 고굴절률 재료 입자의 침투 공정을, (c)는 건조 공정을, 각각 나타내는 개략도이다.
도 6은, 본 발명의 실시예에 있어서 제작한 제2 광학 부재의 구성을 나타내는 것으로, (a)(b)(c)는, 각각 ITO 부착 제2 광학 부재(1)(2)(3)를 나타낸다.
도 7은, 본 발명의 실시예에 의한 광학 부재 적층체의 구성을 나타내는 것으로, (a)(b)(c)는, 실시예 1, 2, 3을 각각 나타낸다.
도 8은, 본 발명의 실시예에 의해 제작된 점착제층의 굴절률 조정용 구분의 표면 상태를 나타내는 20000배 SEM 사진이다.
도 9(a)(b)는, 각각 본 발명이 다른 실시예에 의해 얻어진 점착제층에 있어서의 굴절률 조정용 구분의 고굴절률 재료 입자 분포를 나타내는 30000배 TEM 단면 사진이다.

이하, 본 발명의 실시 형태를 도에 관련하여 설명한다. 도 1은, 본 발명의 가장 단순한 실시 형태의 일례를 나타내는 광학 부재 적층체(1)의 단면도이며, 이 광학 부재 적층체(1)는, 광학적으로 투명한 제1 광학 부재(2)와, 그 제1 광학 부재(2)에 광학적으로 투명한 점착제층(3)을 개재시켜 접합된 제2 광학 부재(4)로 부터 구성되어 있다. 그 투명한 제1 광학 부재(2)는, 편광 필름, 위상차 필름, 그 외의 광학적 표시장치에 사용되는 광학 필름, 혹은 광학적 표시장치의 시인 측 커버 유리와 같은 투명 커버 부재에 의해 구성할 수 있다. 제1 광학 부재(2)는, 점착제층(3)의 제1의 주면(5)에, 제2 광학 부재(4)는, 점착제층(3)의 제2의 주면(6)에, 각각 접합된다.

도시의 광학 부재 적층체(1)에 있어서, 투명한 점착제층(3)은, 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분(3a)과, 그 베이스 점착제 구분(3a)보다 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정용 구분(3b)를 가진다. 베이스 점착제 구분(3a)을 형성하는 점착제 베이스 재료의 굴절률은, 제1 광학 부재(2)의 굴절률에 가까운 굴절률을 가지는 것이 바람직하다.

점착제 베이스 재료는, 광학 용도로 사용 가능한 점착성을 가지는 투명한 재료이면 특히 제한은 없다. 예를 들면, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스텔계 점착제, 우레탄계 점착제, 엑폭시계 점착제, 및 폴리 에테르계 점착제로부터 적당히 선택하여 사용할 수 있다. 투명성, 가공성 및 내구성 등의 관점으로부터, 아크릴계 점착제를 이용하는 것이 바람직하다. 점착제 베이스 재료는, 상기의 점착제의 어느 것인가를 단독으로, 혹은, 2 종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 아크릴계 점착제의 베이스 폴리머로서 이용하는 아크릴계 폴리머는, 특히 한정하는 의미는 아니지만, (메타) 아크릴산 알킬 에스테르를 주성분으로 하는 모노머의 호모폴리머 또는 코폴리머인 것이 바람직하다. 여기서, 「(메타) 아크릴」이라고 하는 표현은, 「아크릴」및 「메타크릴」 중 어느 쪽이든 한편 또는 양쪽 모두를 의미하는 것으로서 사용되는 것으로, 다른 경우도 마찬가지이다. 본 발명에 있어서, 아크릴계 폴리머라고 하는 용어는, 상술의 (메타) 아크릴산 알킬 에스테르 외에, 이것과 공중합 가능한 다른 모노머도 포함되는 의미로 사용된다. 점착제 베이스 재료의 굴절률은, 일반적으로, 1.40~1.55이다.

점착제층(3)의 두께는 특히 한정되는 것은 아니지만, 통상은 5μm~500μm, 바람직하게는, 5μm~400μm, 더욱 더 바람직하게는, 5μm~500μm이다. 이 중, 굴절률 조정용 구분(3b)의 두께는, 바람직하게는 20nm~600nm이며, 보다 바람직하게는 20nm~300nm, 더욱 더 바람직하게는 20nm~200nm이다. 굴절률 조정 구분(3b)과 베이스 점착제 구분(3a)과의 경계는, 불규칙한 요철 형상으로 되지만, 본 발명에 있어서는, 굴절률 조정 구분(3b)의 두께는, 요철 형상의 깊이의 측정치를 평균함으로써 결정된다. 베이스 점착제 구분의 두께는, 점착제층(3)의 두께로부터 굴절률 조정 구분(3b)의 두께를 뺀 값이 된다. 점착제층(3) 전체의 전광선 투과율은, JIS K7361에 준거해 측정한 값으로 80％ 이상, 바람직하게는 90％ 이상이다. 점착제층(3)의 전광선 투과율은, 높을수록 바람직하다.

굴절률 조정용 구분(3b)은, 예를 들면 점착제 베이스 재료보다 높은 굴절률을 가지는 수지 재료의 용액을, 점착제 베이스 재료에 의해 형성된 점착제층의 한편의 면에 소정량 도포하고, 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 이 목적으로 사용할 수 있는 수지 재료로서는, 예를 들면, 특허 문헌 1에 기재된 점착제 조성물이 있다. 혹은, 점착제 베이스 재료보다 높은 굴절률을 가지는 유기물, 예를 들면 스틸렌 올리고머를 고형물로서 분산시킨 분산액을 점착제 베이스 재료의 층의 표면에 도포하여 건조시키는 방법에 따라도 좋다. 그러나, 본 발명에 있어서는, 이하에 도 2에 대해 설명하는 바와 같이, 점착제 베이스 재료에 의해 형성된 점착제층의 한편의 면으로부터 고굴절률 재료의 입자를 침투시켜, 점착제층의 그 한편의 면에 인접하는 영역에, 그 고굴절률 재료의 입자가 분산시키게 되도록 하는 것이 바람직하다.

이하에, 도 2를 참조하여, 본 발명의 일실시 형태에 의한 점착제층(13)의 구성을 상세하게 설명한다.

도 2에 나타내는 본 발명의 실시 형태에 의한 점착제층(13)은, 도 1에 나타내는 실시 형태의 점착제층(3)과 마찬가지로, 제1의 주면(15) 및 제2의 주면(16)을 갖고, 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분(13a)과, 그 베이스 점착제 구분(13a)보다 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정용 구분(13b)을 가지는 구성이지만, 본 실시 형태에 있어서는, 굴절률 조정용 구분(13b)은, 제2의 주면(16)으로부터 두께 방향의 깊이에 걸쳐서 점착제 베이스 재료 내로 침투하여, 점착제 베이스 재료 내에 분산된 고굴절률 재료의 입자(17)를 포함하는 것에 의해, 베이스 점착제 구분(13a)보다 높은 굴절률을 가지도록 구성되어 있다.

굴절률 조정용 구분(13b)에 있어서의 고굴절률 재료 입자(17)의 굴절률은, 1.7~2.7의 범위인 것이 바람직하다. 고굴절률 재료의 입자와 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차는 0.2~1.3인 것이 바람직하다. 본 발명의 이 실시 형태에 있어서 사용할 수 있는 고굴절률 재료로서는, TiO₂, ZrO₂, CeO₂, Al₂O₃, BaTiO₂, Nb₂O₅, 및 SnO₂가 있고, 이들의 군으로부터 선택된 하나 또는 복수의 화합물을 사용하여 고굴절률 재료 입자(17)를 형성할 수 있다. 고굴절률 재료 입자(17)의 평균 일차 입경은, 3nm~100nm로 하면 좋고, 입자는, 개개에 분산 상태로, 혹은 일부가 응집한 상태로, 굴절률 조정용 구분(13b) 내에 분포된다. 굴절률 조정용 구분(13b)과 베이스 점착제 구분(13a)과의 경계는, 도 1에 관련하여 설명한 바와 같이, 불규칙한 요철 형상으로 되어 있지만, 굴절률 조정용 구분(13b)의 두께 측정에 즈음하여서는, 각 측정 위치에 있어서, 고굴절률 재료 입자(17)의 90％가 존재하는 깊이의 범위를, 그 측정 위치에 있어서의 구분(13b)의 두께 측정치로 하고, 복수의 측정 위치에 있어서의 측정치를 평균하여 굴절률 조정용 구분(13b)의 두께로 한다.

도 3은, 터치 패널 센서를 구성하기 위해서, 제2 광학 부재(4)의 점착제층 측 표면에, 예를 들면 패턴화된 ITO막과 같은 투명 도전성층(7)이 형성된 구성에, 도 2에 나타내는 점착제층(13)이 적용된 실시 형태를 나타내는 단면도이다. 이 경우에 있어서의 제2 광학 부재(4)의 예로서는, 예를 들면 액정표시장치 또는 유기 EL표시장치에 있어서의 표시 패널의 유리 기판을 들 수 있다.

도 3에 나타내는 바와 같이, 점착제층(13)의 굴절률 조정용 구분(13b)의 주면(16)은, 제2 광학 부재(4)와 투명 도전성층(7)과의 사이의 단차를 메우도록, 제2 광학 부재(4)의 점착제층 측 표면과 투명 도전성층(7)의 양쪽 모두에 접합된다. 도 4는, 제2 광학 부재(4)에 접촉하는 점착제층(13)의 주면(16) 상태를 나타내는 평면도이다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 점착제 베이스 재료의 매트릭스(18)에 고굴절률 재료 입자(17)가 섬 형상으로 분산된, 해도(海島) 구성으로 되어 있으며, 제2 광학 부재(4)에 점착제층(13)이 접촉하는 면에서는, 제2 광학 부재(4)에 대해서 점착제 베이스 재료가 접촉하는 부분과, 고굴절률 재료 입자(17)가 접촉하는 부분이 존재한다. 이 위치에 있어서의 고굴절률 재료 입자(17)와 점착제 베이스 재료와의 면적비는, 30~99％의 범위로 하는 것이 바람직하다. 면적비는, 한 변이 10μm~200μm의 방형 영역에 있어서, 그 방형 영역의 전체 면적에 대한 고굴절률 재료 입자(17)가 차지하는 면적의 비율로 하여, 복수의 방형 영역에 대해서 측정을 행하고, 그 측정치를 평균함으로써 면적비가 구해진다.

도 5(a)(b)(c)는, 도 2에 나타내는 점착제층(13)을 제조하는 공정을 개략적으로 나타내는 도이다. 먼저, 상술한 고굴절률 재료 입자(17)를 용매에 분산시킨 분산액(19)과, 점착제 베이스 재료의 층(20)을 준비한다. 그 다음에, 도 5(a)에 나타내는 바와 같이, 이 분산액(19)을 점착제 베이스 재료층(20)의 표면에 도포한다. 점착제 베이스 재료층(20)의 표면은, 분산액(19)의 용매에 의해 팽윤되고, 그 과정에서 분산액(19) 내의 고굴절률 재료 입자(17)가, 점착제 베이스 재료층(20) 내에, 두께 방향으로 침투한다. 이 상태를 도 5(b)에 나타낸다. 그 후, 건조 공정에 의해 점착제 베이스 재료층(20)을 건조시키는 것에 의해, 분산액(19)의 용매를 증발시켜, 도 2에 나타내는 점착제층(13)을 얻을 수 있다. 이 상태를 도 5(c)에 나타낸다.

점착제 베이스 재료층(20)에 대한 고굴절률 재료 입자(17)의 침투 깊이는, 점착제 베이스 재료와 분산액(19)의 용매와의 관계로 정해진다. 용매는, 침투 깊이가 상술한 값이 되도록, 적당하게 선정할 수 있다.

실시예

이하, 본 발명의 실시예를 설명한다.

[점착제 베이스 제작]

〈점착제 A의 제작〉

(아크릴 올리고머)

디시클로펜타닐아크릴레이트(DCPMA, 메타크릴산디시크로펜타닐) 60 중량부, 메틸 메타크릴레이트(MMA, 메타크릴산 메틸) 40 중량부, 연쇄 이동제로서의 α－티오글리세롤 3.5 중량부, 및 중합 용매로서의 톨루엔 100 중량부를, 4개구 플라스크에 투입하고, 이들을 질소 분위기하에서 70℃로 1시간 교반했다. 다음에, 중합 개시제로서의 2, 2′－아조비스이소부티로니트릴 0.2 중량부를 4개구 플라스크에 투입하고, 70℃로 2시간 반응시키고, 계속해서, 80℃로 2시간 반응시켰다. 그 후, 반응액을 130℃ 온도 분위기하에 투입하고, 톨루엔, 연쇄 이동제 및 미반응 모노머를 건조 제거시켜, 고형 형상의 아크릴계 폴리머를 얻었다. 이와 같이 하여 얻어진 아크릴계 폴리머를 「아크릴계 폴리머(A－1)」라고 했다. 이 아크릴계 폴리머(A－1)의 중량 평균 분자량(Mw)은 5.1×10³이었다.

(점착제 A)

아크릴산 2－에틸 헥실(2 EHA) 68 중량부, N－비닐-2－피롤리돈(NVP) 14.5 중량부, 및 아크릴산 2－히드록시 에틸(HEA) 17.5 중량부로부터 구성되는 모노머 혼합물에, 광중합 개시제(상품명 「이르가큐아 184」, BASF 사제) 0.035 중량부, 및 광중합 개시제(상품명 「이르가큐아 651」, BASF 사제) 0.035 중량부를 배합한 후, 점도(계측 조건：BH점도계 No.5 로터, 10rpm, 측정 온도 30℃)가 약 20Pa·s가 될 때까지 자외선을 조사하여, 상기 모노머 성분의 일부가 중합한 프리폴리머 조성물을 얻었다.

다음에, 그 프리폴리머 조성물에, 상기 아크릴계 폴리머(B－1) 5 중량부, 헥산디올디아크릴레이트(HDDA) 0.15 중량부, 실란커플링제(상품명 「KBM－403」, 신에츠 화학공업 주식회사제) 0.3 중량부를 첨가하여 혼합하여, 아크릴계 점착제 조성물을 얻었다. 상기 아크릴계 점착제 조성물을, 박리 필름(상품명 「MRF＃38」, 미츠비시수지 주식회사제)의 박리 처리된 면상에, 점착제층 형성 후의 두께가 150μm가 되도록 도포하여, 점착제 조성물층을 형성하고, 그 다음에, 이 점착제 조성물층의 표면에, 박리 필름(상품명 「MRN＃38」, 미츠비시수지 주식회사제)을 첩합시켰다. 그 후, 조도：5mW／cm2, 광량：1500mJ／cm2의 조건으로 자외선 조사를 행하고, 점착제 조성물층을 광경화시켜, 점착제층을 형성했다.

〈점착제 B의 제작〉

2－에틸 헥실 아크릴레이트(2 EHA) 32 중량부, 이소 스테아릴 아크릴레이트(ISTA) 48 중량부, 2－히드록시 프로필 아크릴레이트(2 HPA) 20 중량부, 2종의 광중합 개시제(상품명：이르가큐아 184, BASF제) 0.05 중량부, 및 광중합 개시제(상품명：이르가큐아 651, BASF제) 0.05 중량부를, 4개구 플라스크에 투입하여 모노머 혼합물을 조제했다. 그 다음에, 이 모노머 혼합물을 질소 분위기하에서 자외선에 폭로하여 부분적으로 광중합시킴으로써, 중합율 약 10 중량％의 부분 중합물(아크릴계 폴리머 시럽)을 얻었다. 이와 같이 하여 얻어진 아크릴계 폴리머 시럽의 100 중량부에, 트리메티롤프로판 트리아크릴레이트(TMPTA) 0.02 중량부, 실란커플링제(상품명：KBM－403, 신에츠 화학공업(주)제)를 0.3부 첨가한 후, 이들을 균일하게 혼합하여 모노머 성분을 조제했다.

그 다음에, 상기와 같이 조제한 모노머 성분을, 한 면을 실리콘으로 박리 처리한 두께 38μm의 폴리에스테르 필름(상품명：다이아 호일 MRF, 미츠비시수지(주)제)의 박리 처리면에, 최종적인 두께가 100μm가 되도록 도포하여 도포층을 형성했다. 그 다음에, 도포된 모노머 성분의 표면에, 한 면을 실리콘으로 박리 처리한 두께 38μm의 폴리에스테르 필름(상품명：다이아 호일 MRE, 미츠비시수지(주)제)을, 당해 필름의 박리 처리면이 도포층 측이 되도록 하여 피복했다. 이것에 의해, 모노머 성분의 도포층을 산소로부터 차단했다. 이와 같이 하여 얻어진 도포층을 가지는 시트에, 케미컬 라이트 램프((주)도시바제)를 이용하여 조도 5mW／cm2(약 350nm에 최대 감도를 가지는 탑콘 UVR－T1로 측정)의 자외선을 360초간 조사하여, 도포층을 경화시켜 점착제층을 형성하여, 점착제층의 양면에 박리 시트가 설치된 점착 시트(기재리스 타입, 점착제층의 두께：100μm)를 제작했다.

〈점착제 C의 제작〉

온도계, 교반기, 환류 냉각관 및 질소 가스 도입관을 구비한 세퍼러블 플라스크에, 모노머 성분으로서 부틸 아크릴레이트(BA) 99부, 4 히드록시 부틸 아크릴레이트(4 HBA1부, 중합 개시제로서 아조비스 이소부티로니트릴 0.2부 및 중합 용매로서 초산에틸을 고형분이 30％가 되도록 투입한 후, 질소 가스를 흐르게 하여, 교반하면서 약 1시간 질소 치환을 행했다. 그 후 60℃로 플라스크를 가열하여, 7시간 반응시켜 중량 평균 분자량(Mw) 110만의 아크릴계 폴리머를 얻었다. 이 아크릴계 폴리머의 용액(고형분 100부)에, 이소시아네이트계 가교제로서 트리메티롤프로판 크실렌 디이소시아네이트(미츠이 화학(주)제 「타케네이트 D110N」) 0.1부, 실란커플링제(신에츠 화학(주)제 「KBM－403」) 0.1부를 가하여 점착제 조성물(용액)을 조제했다. 이와 같이 하여 조제한 점착제 용액을, 박리 시트의 이형처리면에 건조 후의 두께가 25μm가 되도록 도포하고, 상압하, 60℃로 1분간 및 150℃로 1분간 가열 건조하고, 또한 23℃로 120시간 에이징을 행하여 점착제층을 작성했다.

[굴절률 조정층 부착 점착제의 제작]

〈점착제 A／고굴절률 재료의 나노 입자 분산액을 사용하는 사례〉

(점착제 A／나노 입자 분산액(분산매：에탄올)을 사용한 사례)

점착제층의 두께가 150μm이며, 그 점착제층의 양면이 경박리 PET 박리 시트로 보호되어 있는 상태의 점착제 A(점착제층의 굴절률：1.49)의 한편의 경박리 PET 박리 시트를 박리했다. 노출한 점착제층의 표면에, 고굴절률 입자를 함유하는 분산액으로서의 지르코니아 입자(ZrO₂, 굴절률：2.17, 평균 일차 입자 지름：20nm)를 함유하는 도포용 처리액(분산매：에탄올, 입자 농도：1.5 중량％, 분산액의 투과율：75％, CIK 나노텍(주)제)을, 굴절률 조정 구분의 두께가 20nm~300nm가 되도록 바 코터 RDS No.5로 도포하고, 110℃의 건조 오븐에서 180초간 건조시켰다. 그 다음에, 지르코니아(ZrO₂) 입자가 분산된 점착제층 표면에, PET 박리 시트를 첩합하여, 점착제 시트를 얻었다. 또한, 이와 같이 하여 지르코니아 입자의 평균 일차 입자 지름을, TEM 관찰에 의해 계측했다.

〈다른 사례〉

상기의 사례와 같이하여, 하기의 점착제 및 고굴절률 재료의 나노 입자 분산액을 사용하여, 똑같이 점착제 시트를 제작했다. 사용 재료는, 점착제 B(굴절률 1.48), 점착제 C(굴절률 1.47), ZrO₂ 나노 입자 분산액(분산매：에탄올, 입경 20nm), ZrO₂ 나노 입자 분산액(분산매：에탄올, 입경 30nm), 및 ZrO₂ 나노 입자 분산액(분산매：n-프로판올, 입경 20nm)이었다.

〈점착제 A／고굴절률 재료로서 스틸렌 올리고머 용액을 사용한 사례〉

점착제층의 두께가 150μm이며, 그 점착제층의 양면이 경박리 PET 박리 시트로 보호된 상태의 점착제 A(점착제층의 굴절률：1.49)의 한편의 경박리 PET 박리 시트를 박리했다.

노출한 점착제층의 표면에, 미리 고형분 농도 2 중량％가 되도록 톨루엔에 분산한 스틸렌 올리고머 용액(굴절률：1.60, 야스하라 케미컬사제, SX－100)을, 굴절률 조정층의 두께가 20nm~300nm가 되도록 바 코터 RDS No.5로 도포하고, 110℃의 건조 오븐에서 180초간 건조시켰다. 그 다음에, 스틸렌을 배치한 점착제층 표면에, PET 박리 시트를 첩합하여, 점착제 시트를 얻었다.

[평가방법]

＜점착제층의 표면 상태의 관찰＞

실시예의 각각에 있어서의 점착제층의 고굴절률 재료 입자를 가지는 측의 표면을, FE－SEM를 이용하여, 가속 전압 2kV, 관찰 배율 500배, 2,000배, 5,000배, 및 20,000배로 관찰했다. 도 8에 그 20,000배 사진을 나타낸다. 고굴절률 재료 입자가 균일하게 분산되고 있는 것을 알 수 있다.

＜그라데이션 구조의 관찰＞

실시예의 점착제층의 고굴절률 재료 입자를 가지는 측의 표면 근방의 단면을, 투과형 전자현미경(TEM)을 이용하여, 배율 30,000배로 관찰했다. 그 결과를 도 9(a)(b)에 나타낸다. 도 9(a)에서는, 굴절률 조정용 구분의 두께의 거의 전체에 걸쳐서 고굴절률 재료 입자가 거의 균일하게 분포하고 있지만, 도 9(b)의 예에서는, 점착제층에 있어서의 고굴절률 재료 입자의 분포가, 점착제층의 표면에서 가장 높고, 점착제층의 두께 방향에 따라서 감소해 가는 분포를 가지는 것을 알 수 있다.

＜평균 표면 굴절률＞

실시예 및 비교예로 얻어진 점착 시트의 평균 표면 굴절률을, 분광 엘립소미터(EC－400, JA.Woolam제)를 이용해 나트륨 D선(589nm)에 있어서의 굴절률을 측정했다. 실시예 및 비교예의 점착 시트에서는, 양면의 박리 시트를 박리하여, 입자를 도포하고 있지 않은 면에 흑판을 첩합한 상태로, 입자가 도포되어 있는 면의 평균 굴절률을 측정했다. 비교예의 점착 시트에서는, 양쪽 모두의 박리 시트를 박리하여, 한편의 면에 흑판을 첩합한 상태로, 점착제층 표면의 평균 굴절률을 측정했다.

＜굴절률 조정층의 두께의 측정＞

점착제층의 깊이 방향의 단면을 조정하여, TEM 관찰을 행했다. 얻어진 TEM상(직접 배율 3000~30000배)으로부터 굴절률 조정층의 두께의 측정을 계측했다. 굴절률 조정층의 두께는, 점착제 베이스층과의 조정층과의 계면의 요철의 평균치로 하고, 점착제 베이스층과의 계면의 판별이 곤란한 경우에는, 표면 TEM상을 화상 처리 소프트(ImageJ)로 2치화 화상 처리하고, 나노 입자의 90％가 존재하는 영역의 깊이를 조정층의 두께로 했다.

＜고굴절률 입자의 면적비율＞

점착제층의 입자 도포 측의 표면을, FE－SEM를 이용하여, 가속 전압 2kV, 관찰 배율 500배, 2,000배, 5,000배로 관찰했다. 얻어진 표면 SEM상을 화상 처리 소프트(ImageJ)로 2치화 화상 처리하는 것으로, 장변 23μm, 단변 18μm의 장방형 영역에 있어서의 전체 면적에 대한 면적으로서 고굴절률 입자가 차지하는 면적비율(％)을 구했다.

＜전광선 투과율, 헤이즈 값＞

실시예 및 비교예로 얻어진 점착 시트에서는, 입자 도포 측의 박리 시트를 박리하여, 슬라이드 유리(상품명：흰색 연마 No.1, 두께：0.8~1.0mm, 전광선 투과율：92％, 헤이즈：0.2％, 마츠나미 유리 공업(주)제)에 첩합했다. 또한 다른 한편의 박리 시트를 박리하여, 점착제층／슬라이드 유리의 층 구성을 가지는 시험편을 제작했다. 또, 비교예의 점착 시트에서는, 한편의 박리 시트를 박리하여, 슬라이드 유리(상품명：흰색 연마 No.1, 두께：0.8~1.0mm, 전광선 투과율：92％, 헤이즈：0.2％, 마츠나미 유리 공업(주)제)에 첩합하고, 또한 다른 한편의 박리 시트를 박리하여, 점착제층／슬라이드 유리의 층 구성을 가지는 시험편을 제작했다. 상기 시험편의 가시광선 영역에 있어서의 전광선 투과율, 헤이즈 값을, 헤이즈미터(장치명：HM－150, (주)무라카미 색채 연구소제)를 이용해 측정했다.

＜180도 필 접착력(유리판에 대한 180도 떼어내는 접착력)＞

실시예 및 비교예로 얻어진 점착 시트로부터, 길이 100mm, 폭 20mm의 시트편을 잘랐다. 그 다음에, 실시예 및 비교예의 시트편에서는, 입자가 도포되어 있지 않은 측의 박리 시트를 박리하여, PET 필름(상품명：루미라 S－10, 두께：25μm, 토레이(주)제)을 첨부(배접) 했다. 또, 비교예 1, 2의 시트편에서는, 한편의 박리 시트를 박리하여, PET 필름(상품명：루미라 S－10, 두께：25μm, 토레이(주)제)를 첨부(배접) 했다. 다음에, 다른 한편의 박리 시트를 박리하여, 시험판으로서의 유리판(상품명：소다 라임 유리 ＃0050, 마츠나미 유리 공업(주)제)에, 2kg 롤러, 1 왕복의 압착 조건으로 압착하여, 시험판／점착제층／PET 필름으로 구성되는 샘플을 제작했다.

얻어진 샘플에 대해서, 오토클레이브 처리(50℃, 0.5MPa, 15분) 하고, 그 후, 23℃, 50％R.H.의 분위기하에서 30분간 방랭했다. 방랭 후, 인장 시험기(장치명：오토글레이브 AG－IS, (주)시마즈 제작소제)를 이용하고, JIS Z0237에 준거하여, 23℃, 50％R.H.의 분위기하, 인장 속도 300mm／분, 박리 각도 180°의 조건으로, 시험판으로부터 점착 시트(점착제층／PET 필름)를 떼어내고, 180° 떼어내는 접착력(N／20mm)을 측정했다. 또, 각 실시예, 비교예에 있어서, 고굴절률 입자미도포의 점착 시트를 제작하고, 그 고굴절률 입자 미도포의 점착 시트에 있어서도, 상기 같이 180도 필 접착력을 측정하고(베이스 점착제층의 접착력), 베이스 점착제층의 접착력에 대한 각 샘플의 180도 필 접착력의 비율(％)을 계산했다.

＜고굴절률 입자를 함유하는 분산액의 투과율＞

고굴절률 입자를 함유하는 분산액의 투과율은, 광전 비색계(AC－114, OPTIMA사제)로 530nm의 필터를 이용하여 측정했다. 분산 용매 단독의 투과율을 100％로서, 각 실시예, 비교예에서 사용한 분산액의 투과율(％)을 측정했다.

＜반사 억제율의 측정＞

실시예 및 비교예의 광학 부재 적층체의 한편의 면을 반사율 측정면으로 하고, 반대 측의 면에 흑PET기재 부착 테이프(린텍(주)제 PET75NBPET38)를 붙여 반사율 측정용의 시료로 했다. 광학 부재 적층체의 반사율 측정면측의 반사율(Y값)을 반사형 분광 광도계(U4100, (주)히타치 하이테크놀로지즈제)에 의해 측정했다. 측정은, 투명 도전층을 에칭한 부분과, 에칭하고 있지 않은 부분의 쌍방의 위치에서 행했다. 즉, 투명 도전층을 에칭한 부분(개구부)의 측정은, 점착제층의 굴절률 조정층과 광학 부재 적층체의 굴절률 조정층과의 계면의 반사율이며, 에칭하고 있지 않는 부분(패턴부)의 측정은, 점착제층의 굴절률 조정층과 투명 도전층계면의 반사율을 나타낸다.

반사 억제율은, 에칭한 부분과 에칭하지 않는 부분의 각각에 대해서, 아래 식에 근거하여 산출했다. 또한, 하기 식 중의 「입자가 없는 경우의 반사율(％)」이란, 비교예(입자를 이용하지 않는 경우)의 광학 부재 적층체의 반사율이다. 즉, 반사 억제율은, 굴절률 조정층을 가지는 것으로 어느 정도 반사율이 저감 할 수 있었는지를 나타내는 지표이다.

반사 억제율(％)=반사율(％)－입자가 없는 경우의 반사율(％)

[굴절률 조정층 부착 점착제와 투명 도전층의 적층체의 제작]

＜기재로서 제오노아(COP)를 사용하는 투명 도전층의 제작＞

두께 100μm의 시클로 올레핀 폴리머 필름(상품명：「제오노아 ZF16」, 면내 복굴절율：0.0001, 일본 제온(주)제)의 양면에, 직경 3μm의 복수의 입자(상품명：「SSX105」, 세키스이 수지(주)제)를, 바인더 수지(상품명：「유니디크 RS29－120」, DIC사제) 100부에 대해서 0.07부 첨가한 도공액을 바 코터를 이용하여 도포하고, 80℃의 오븐하에서 1분간 건조 후, 적산 광량 각 300mJ의 자외선(고압 수은등)을 조사하는 것으로 양면에 안티 블로킹층을 가지는 필름을 형성했다(이하, COP기재). 다음에, COP기재의 한 면에, 굴절률 조정제(상품명：「오프스타 KZ6661」, JSR(주)제)를 바 코터에 의해 도포하고, 80℃의 오븐하에서 1분간 건조 후, 적산 광량 각 300mJ의 자외선(고압 수은등)을 조사하는 것으로, 두께 100nm, 굴절률 1.65의 굴절률 조정층을 형성했다. 얻어진 COP기재의 굴절률 조정층의 표면에, 권취식 스팩터 장치에서, 투명 도전층으로서 두께 23nm의 인듐 주석 산화물층(ITO)을 적층했다.

＜기재로서 PET를 사용하는 투명 도전성층의 제작＞

두께 50μm의 PET 필름(상품명：「루미라：U40」토레이 사제)의 한 면에 직경 3μm의 복수의 입자(상품명：「SSX105」, 세키스이 수지(주)제)를, 바인더 수지(상품명：「유니디크 RS29－120」, DIC사제) 100부에 대해서 0.1부 첨가한 도공액을, 바 코터를 이용하여 도포하고, 80℃의 오븐하 1분간 건조 후, 적산 광량 각 300mJ의 자외선(고압 수은등)을 조사하는 것으로 한 면에 막 두께 1.5μm의 안티 블로킹층을 형성했다. 다음에, 방금 전 도공한 면과는 반대 면에, 하드 코트용 수지(상품명：「오프스타 KZ7540(실리카 나노 입자 함유)」, JSR(주)제)를 MIBK로 고형분 10％가 되도록 조정한 도공액을, 바 코터를 이용하여 도공하고, 80℃의 오븐하에서 1분간 건조 후, 적산 광량 300mJ의 자외선(고압 수은등)을 조사하는 것으로 막 두께 1.5μm의 하드 코트층을 가지는 필름을 형성했다(이하, PET기재). 다음에, 방금 전 얻어진 하드 코트층의 위에, 굴절률 조정제(상품명：「오프스타 H0001(지르코니아 나노 입자 함유)」, JSR(주)제)를 MIBK로 고형분 10％가 되도록 조정한 도공액을, 바 코터를 이용하여 도공하고, 80℃의 오븐하에서 1분간 건조 후, 적산 광량 300mJ의 자외선(고압 수은등)을 조사하는 것으로 막 두께 35nm, 굴절률 1.63의 굴절률 조정층2를 형성했다. 다음에, 전술의 굴절률 조정층2의 위에, 굴절률 조정제(상품명：「L－005(중공 나노 실리카 입자 함유)」, JSR(주)제)를 MIBK로 고형분 1.5％가 되도록 조정한 도공액을, 바 코터를 이용하여 도공하고, 80℃의 오븐하에서 1분간 건조 후, 적산 광량 300mJ의 자외선(고압 수은등)을 조사하는 것으로 막 두께 40nm, 굴절률 1.49의 굴절률 조정층1을 형성했다. 그 후, 굴절률 조정층1, 2를 가지는 PET기재를, 권취식 스팩터 장치에 투입하고, 굴절률 조정층1의 표면에, 투명 도전층으로서 두께 23nm의 인듐 주석 산화물층(ITO)을 적층했다.

＜기재로서 유리를 사용하는 투명 도전층의 제작＞

무알칼리 유리(굴절률 1.53)의 한편의 면에, 스퍼터링법에 의해 ITO막을 형성하고, 비결정화 ITO막(굴절률 1.85)을 가지는 투명 도전성기재를 제작했다. 이 비결정성 ITO 박막의 Sn비율은, 3 중량％이었다. 또한, ITO 박막의 Sn비율은, Sn원자의 중량／(Sn원자의 중량＋In원자의 중량)으로부터 산출했다.

＜터치 패널 센서로서 기능하는 광학 부재 적층체의 제조＞

상기 투명 도전층상의 일부에 포토레지스트막을 형성한 후, 이것을 25℃, 5 중량％의 염산(염화수소 수용액)에 1분간 침지하여, 투명 도전층의 에칭을 행했다. 이것에 의해 전극 배선 패턴에 상당하는 투명 도전층이 존재하는 부분(패턴부)과, 제거된 부분(개구부)을 제작했다. 상술한 점착제 시트의 고굴절률 재료 입자를 가지는 측의 PET 박리 시트를 박리하고, 패터닝된 투명 도전층의 위에, 그 점착제 시트의 점착제층(상기 고굴절률 입자를 가지는 측)과 그 투명 도전층이 접촉하도록, 그 점착제 시트를 적층했다. 점착제 시트의 반대 측의 PET 박리 시트를 박리한 후에, 표면 보호 및 광학 측정을 위해서 슬라이드 유리 또는 두께 100μm의 시클로 올레핀 폴리머 필름(상품명：「제오노아 ZF16」, 면내 복굴절율：0.0001, 일본 제온(주)제)을 접합했다.

[제2 광학 부재의 제작]

제2 광학 부재(4)로서, 도 6(a)에 나타내는 적층체(21)와 도 6(b)에 나타내는 적층체(31)를 준비했다. 도 6(a)에 나타내는 적층체(21)는, 굴절률 1.53의 COP기재(22)의 일 표면상에 굴절률 1.65의 굴절률 조정층(23)이 형성되고, 그 굴절률 조정층(23)의 위에, 패턴화된 ITO층(24)이 형성된 구성이다. ITO의 굴절률은, 1.9였다. 이 적층체(21)를 「ITO 부착 제2 광학 부재(1)」라고 부른다.

도 6(b)에 나타내는 적층체(31)는, 굴절률 1.57의 PET기재(32)의 일 표면상에 굴절률 1.63의 굴절률 조정층(33)이 형성되고, 그 굴절률 조정층(33)의 위에, 또한 굴절률 1.49의 다른 굴절률 조정층(33a)이 형성되고, 그 굴절률 조정층(33a)의 위에, 패턴화된 ITO층(34)이 형성된 구성이다. 이 경우에 있어서도, ITO의 굴절률은, 1.9였다. 이 적층체(31)를 「ITO 부착 제2 광학 부재(2)」라고 부른다.

또한, 도 6(c)에 나타내는 「ITO 부착 제2 광학 부재(3)」라고 부르는 적층체(41)를 제작했다. 이 ITO 부착 제2 광학 부재(3)의 적층체(41)는, 굴절률 1.53의 유리 기판(42)에 패턴 부착되어 있지 않은 ITO층(44)을 형성한 구성이다.

[실시예 1]

도 7(a)에 나타내는 바와 같이, ITO 부착 제2 광학 부재(1)를, 본 발명의 일실시 형태에 의한 점착제층(25)를 개재시켜 제1 광학 부재(2)를 구성하는 유리 윈도우(26)에 접합했다. 유리 윈도우(26)의 굴절률은 1.53이었다. 점착제층(25)은, 점착제 A에 의해 형성된 굴절률 1.49의 베이스 점착제 구분(25a)과, 굴절률 1.68의 굴절률 조정용 구분(25b)를 가지는 것이었다. 굴절률 조정용 구분(25b)은, 평균 입경 20nm의 산화 지르코늄 입자를 에탄올액에 분산시킨, 산화 지르코늄 입자 1.5wt％의 분산액을, 점착제 A로 이루어지는 점착제층의 표면에 도포하고, 산화 지르코늄 입자를 점착제층의 한편의 표면으로부터 두께 방향으로 침투시켜, 건조시킴으로써 얻어진 것이다. 점착제층(25)의 두께는 150μm이며, 굴절률 조정용 구분(25b)의 두께는 150nm였다. 이 실시예 1에 있어서의 굴절률 조정용 구분(25b)의 표면 사진을 도 8에, 단면 사진을 도 9(a)에, 각각 나타낸다. 반사율 측정을 위해서, COP기재(22)의 굴절률 조정층(23)과는 반대 측의 면인 이면에는, 흑색의 PET 필름(27)을 붙였다. 이와 같이 하여 얻어진 광학 부재 적층체의 광학 특성을 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.

[실시예 2]

도 7(b)에 나타내는 바와 같이, ITO 부착 제2 광학 부재(2)를, 본 발명의 다른 실시 형태에 의한 점착제층(35)를 개재시켜 제1 광학 부재(2)를 구성하는 유리 윈도우(36)에 접합했다. 유리 윈도우(26)의 굴절률은 1.53이었다. 점착제층(35)은, 점착제 B에 의해 형성된 굴절률 1.48의 베이스 점착제 구분(35a)과, 굴절률 1.62의 굴절률 조정용 구분(35b)을 가지는 것이었다. 굴절률 조정용 구분(35b)은, 평균 입경 20nm의 산화 지르코늄 입자를 n프로판올액에 분산시킨, 산화 지르코늄 입자 2.0wt％의 분산액을, 점착제 B로 이루어지는 점착제층의 표면에 도포하고, 산화 지르코늄 입자를 점착제층의 한편의 표면으로부터 두께 방향으로 침투시켜, 건조시킴으로써 얻어진 것이다. 점착제층(35)의 두께는 100μm이며, 굴절률 조정용 구분(35b)의 두께는 500nm였다. 이 실시예 2에 있어서의 굴절률 조정용 구분(35b)의 단면 사진을 도 9(b)에 나타낸다. 반사율 측정을 위해서, PET기재(32)의 굴절률 조정층(33)과는 반대 측의 면인 이면에는, 흑색의 PET 필름(37)을 붙였다. 이와 같이 하여 얻어진 광학 부재 적층체의 광학 특성을 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.

[실시예 3]

도 7(c)에 나타내는 바와 같이, ITO 부착 제2 광학 부재(3)를, 본 발명의 또 다른 실시 형태에 의한 점착제층(45)를 개재시켜 제1 광학 부재(2)를 구성하는 윈도우(46)에 접합했다. 윈도우(46)는, 제오노아 필름(ZF14－100, 등록상표)에 의해 제작한, 굴절률 1.53의 투명 부재이다. 점착제층(45)은, 점착제 C에 의해 형성된 굴절률 1.46의 베이스 점착제 구분(45a)과, 굴절률 1.70의 굴절률 조정용 구분(45b)을 가지는 것이었다. 굴절률 조정용 구분(45b)은, 평균 입경 30nm의 산화 지르코늄 입자를 에탄올액에 분산시킨, 산화 지르코늄 입자 1.5wt％의 분산액을, 점착제 C로 이루어지는 점착제층의 표면에 도포하고, 산화 지르코늄 입자를 점착제층의 한편의 표면으로부터 두께 방향으로 침투시켜, 건조시킴으로써 얻어진 것이다. 점착제층(45)의 두께는 25μm이며, 굴절률 조정용 구분(45b)의 두께는 200nm였다. 반사율 측정을 위해서, 유리 기판(42)의 ITO층(44)과는 반대 측의 면인 이면에는, 흑색의 PET 필름(47)을 붙였다. 이와 같이 하여 얻어진 광학 부재 적층체의 광학 특성을 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.

[실시예 4]

실시예 1과는 다른 구성의 점착제층을 사용하여, 도 7(a)에 나타내는 것과 같은 광학 부재 적층체를 제작했다. 이 실시예에 있어서는, ITO 부착 제2 광학 부재(1)를, 본 발명의 또 다른 실시 형태에 의한 점착제층(25)을 개재시켜 제1 광학 부재(2)를 구성하는 유리 윈도우(26)에 접합했다. 유리 윈도우(26)의 굴절률은 1.53이었다. 점착제층(25)은, 점착제 A에 의해 형성된 굴절률 1.49의 베이스 점착제 구분(25a)과, 굴절률 1.65의 굴절률 조정용 구분(25b)을 가지는 것이었다. 굴절률 조정용 구분(25b)은, 평균 입경 20nm의 산화 티탄 입자를 n부탄올액에 분산시킨, 산화 티탄 입자 0.5wt％의 분산액을, 점착제 A로 이루어지는 점착제층의 표면에 도포하고, 산화 티탄 입자를 점착제층의 한편의 표면으로부터 두께 방향으로 침투시켜, 건조시킴으로써 얻어진 것이다. 이 실시예에 있어서의 점착제층(25)의 두께는 150μm이며, 굴절률 조정용 구분(25b)의 두께는 130nm였다. 반사율 측정을 위해서, COP기재(22)의 굴절률 조정층(23)과는 반대 측의 면인 이면에는, 흑색의 PET 필름(27)을 붙였다. 이와 같이 하여 얻어진 광학 부재 적층체의 광학 특성을 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.

[실시예 5]

굴절률 1.60의 스틸렌 올리고머를 사용하여 굴절률 조정용 구분을 형성하는 것으로써, 도 7(a)에 나타내는 것과 같은 광학 부재 적층체를 제작했다. 이 실시예에 있어서는, ITO 부착 제2 광학 부재(1)를, 본 발명의 또 다른 실시 형태에 의한 점착제층(25)을 개재시켜 제1 광학 부재(2)를 구성하는 유리 윈도우(26)에 접합했다. 유리 윈도우(26)의 굴절률은 1.53이었다. 점착제층(25)은, 점착제 A에 의해 형성된 굴절률 1.49의 베이스 점착제 구분(25a)과, 굴절률 1.55의 굴절률 조정용 구분(25b)을 가지는 것이었다. 굴절률 조정용 구분(25b)은, 고형분으로서 굴절률 1.60의 스틸렌 올리고머를 톨루엔액에 분산시킨 고형분 2 wt％의 분산액을, 점착제 A로 이루어지는 점착제층의 표면에 도포하고, 고형분을 점착제층의 한편의 표면으로부터 두께 방향으로 침투시켜, 건조시킴으로써 얻어진 것이다. 이 실시예에 있어서의 점착제층(25)의 두께는 150μm이며, 굴절률 조정용 구분(25b)의 두께는 300nm였다. 반사율 측정을 위해서, COP기재(22)의 굴절률 조정층(23)과는 반대 측의 면인 이면에는, 흑색의 PET 필름(27)을 붙였다. 이와 같이 하여 얻어진 광학 부재 적층체의 광학 특성을 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.

[비교예 1]

ITO 부착 제2 광학 부재(1)를, 점착제 A만으로 이루어지는 점착제층을 개재시켜 제1 광학 부재(2)를 구성하는 굴절률 1.53의 유리 윈도우(26)에 접합하여, 비교예 1의 광학 부재 적층체를 제작했다.

[비교예 2]

ITO 부착 제2 광학 부재(2)를, 점착제 B만으로 이루어지는 점착제층을 개재시켜 제1 광학 부재(2)를 구성하는 굴절률 1.53의 유리 윈도우(26)에 접합하여, 비교예 2의 광학 부재 적층체를 제작했다.

[비교예 3]

ITO 부착 제2 광학 부재(3)를, 점착제 C만으로 이루어지는 점착제층을 개재시켜 제1 광학 부재(2)를 구성하는 굴절률 1.53의 유리 윈도우(26)에 접합하여, 비교예 3의 광학 부재 적층체를 제작했다.

[표 1]

이상 기술한 것처럼, 본 발명에 있어서는, 제1 광학 부재와 제2 광학 부재를 접합하는 점착제층에 있어서, 제2 광학 부재측의 면으로부터 두께 방향으로, 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정 구분을 설치했기 때문에, 외광의 내부 반사광이 제1 광학 부재를 통해서 돌아오는 것을 억제할 수 있다. 본 발명은, 액정표시장치 및 유기 EL표시장치와 같은 광학적 표시장치에 적용할 수 있다. 본 발명은, 특히, 터치 센서를 가지는 터치 패널 방식의 표시장치에 유리하게 적용할 수 있다.

1···광학 부재 적층체
2···제1 광학 부재
3, 13···투명한 점착제층
3a, 13a···베이스 점착제 구분
3b, 13b···굴절률 조정용 구분
4···제2 광학 부재
7···투명 도전성층
17···고굴절률 재료 입자
19···분산액
20···점착제 베이스 재료
21, 31···적층체
22···COP기재
23···굴절률 조정층
24···ITO층
25···점착제층
26···유리 윈도우

Claims

투명한 제1 광학 부재를 제2 광학 부재에 접합하기 위한 투명한 점착제층을 구비하는 광학 부재 적층체에 있어서,
상기 점착제층은, 상기 제1 광학 부재에 면하는 측의 제1의 주면으로부터 두께 방향에 걸쳐서 투명한 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 베이스 점착제 구분과, 그 점착제층의 상기 제2 광학 부재에 면하는 측의 제2의 주면으로부터 두께 방향으로 형성된 투명인 점착성의 굴절률 조정용 구분을 포함하며, 그 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높은 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 1항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 제2 광학 부재의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 제2 광학 부재에는 상기 점착제층에 면하는 측에 소정 패턴의 투명 도전성층이 형성되고, 상기 굴절률 조정용 구분은, 그 투명 도전성층과 상기 제2 광학 부재와의 사이의 단차를 메우도록 그 투명 도전성층과 그 제2 광학 부재의 양쪽 모두에 접하고 있고, 상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 투명 도전성층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 제2 광학 부재에는 상기 점착제층에 면하는 측에 소정 패턴의 투명 도전성층이 형성되고,
상기 굴절률 조정용 구분은, 그 투명 도전성층과 상기 제2 광학 부재와의 사이의 단차를 메우도록 그 투명 도전성층과 그 제2 광학 부재의 양쪽 모두에 접하여 있고,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 투명 도전성층의 굴절률보다 낮고, 또한, 상기 제2 광학 부재의 상기 투명 도전성층 이외의 부분의 굴절률보다 큰 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 3항에 있어서,
상기 제2 광학 부재에는, 상기 점착제층에 면하는 측의 표면에, 상기 투명 도전성층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는 굴절률 조정층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 5항에 있어서,
상기 점착제층의 굴절률 조정용 구분은, 상기 제2 광학 부재의 표면에 형성된 상기 굴절률 조정층의 굴절률보다 높은 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 1항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 두께가 20nm~600nm인 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 1항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 고굴절률 재료의 입자가 분산되어 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 3항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 고굴절률 재료의 입자가 분산되어 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것이며, 상기 투명 도전성층의 굴절률은 1.75~2.14이며, 상기 점착제 베이스 재료의 굴절률은 1.40~1.55이며, 상기 고굴절률 재료의 입자의 굴절률은 1.60~2.74인 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 8항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분과 상기 제2 광학 부재와의 사이의 접합면에는, 상기 고굴절률 재료의 입자가 상기 제2 광학 부재에 접촉하는 영역과, 그 굴절률 조정용 구분의 점착성 재료가 그 제2 광학 부재에 접촉하는 매트릭스 영역을 형성하는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 8항에 있어서,
상기 고굴절률 재료는, TEM 관찰에 의한 평균 일차 입자 지름이 3nm~100nm인 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 8항에 있어서,
상기 고굴절률 재료의 입자와 상기 점착제 베이스 재료의 굴절률의 차가 0.2~1.3인 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 8항에 있어서,
상기 고굴절률 재료는, TiO₂, ZrO₂, CeO₂, Al₂O₃, BaTiO₃, Nb₂O₅, 및 SnO₂로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 또는 복수의 화합물인 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 1항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 입자, 폴리머 또는 올리고머의 형태의 유기 재료가 포함되는 것에 의해서 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 3항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제 베이스 재료와 같은 점착성 재료에 그 점착성 재료보다 높은 굴절률을 가지는 입자, 폴리머 또는 올리고머의 형태의 유기 재료가 포함되는 것에 의해서 그 굴절률 조정용 구분의 평균 굴절률을 높이도록 구성된 것이며, 상기 투명 도전성층의 굴절률은 1.75~2.14이며, 상기 점착제 베이스 재료의 굴절률은 1.40~1.55이며, 상기 유기 재료의 굴절률은 1.59~2.04인 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 1항에 있어서,
상기 점착제층의 전광선 투과율이 80％ 이상인 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 8항에 있어서,
상기 고굴절률 재료의 입자는, 복수의 입자가 응집한 응집체의 형태로 존재하는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
제 1항에 있어서,
상기 굴절률 조정용 구분은, 상기 점착제층의 두께 방향으로, 불규칙한 깊이로 존재하는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체.
투명한 제1 광학 부재를 소정 패턴의 투명 도전성층이 형성된 제2 광학 부재에 접합하기 위한 점착제층에, 그 점착제층의 상기 제2 광학 부재 및 상기 투명 도전성층에 면하는 측에 있어서, 상기 점착제층의 점착제 베이스 재료의 굴절률보다 높고, 상기 투명 도전성층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는, 투명한 점착성 굴절률 조정용 구분을 형성하고,
그 투명한 점착성 굴절률 조정용 구분이 상기 투명 도전성층 및 상기 제2 광학 부재에 면하고, 상기 점착제층의 반대 측의 면이 상기 제1 광학 부재에 면하는 상태로, 그 투명 도전성층 및 그 제2 광학 부재상에 그 투명한 점착성 굴절률 조정용 구분을 접합하고, 상기 점착제층의 상기 반대 측의 면을 상기 제1 광학 부재에 접합하여, 상기 굴절률 조정용 구분이, 그 투명 도전성층과 상기 제2 광학 부재와의 사이의 단차를 메우도록 그 투명 도전성층과 그 제2 광학 부재의 양쪽 모두에 접하는 상태로 하고,
상기 제1 광학 부재를 통하여 입사하는 외광의, 상기 점착제층에 있어서의,상기 점착제 베이스층에 의해 형성되는 구분과 상기 굴절률 조정용 구분과의 계면에 있어서의 반사광과, 상기 굴절률 조정용 구분과 상기 투명 도전성층과의 계면에 있어서의 반사광이, 광학적 간섭에 의해 적어도 부분적으로 상쇄되도록 하는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체 내에 있어서의 내부 반사 억제 방법.
제 19항에 있어서,
상기 제1 광학 부재를 통하여 입사하는 외광의, 상기 점착제층에 있어서의 상기 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 구분과 상기 굴절률 조정용 구분과의 계면에 있어서의 반사광과, 상기 굴절률 조정용 구분과 상기 제2 광학 부재와의 계면에 있어서의 반사광이, 광학적 간섭에 의해 적어도 부분적으로 상쇄되도록 하는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체 내에 있어서의 내부 반사 억제 방법.
투명한 제1 광학 부재를 제2 광학 부재에 접합하기 위한 투명한 점착제층을 구비하는 광학 부재 적층체의 제조 방법에 있어서,
투명한 점착제 베이스 재료에 의해 본질적으로 형성되는 점착제층을 준비하고,
상기 점착제 베이스 재료보다 높은 굴절률을 가지는 굴절률 조정 재료의 입자를 포함한 도공액을 준비하고,
상기 점착제층의 한편의 면에 상기 도공액을 도포하여, 그 도공액에 포함되는 상기 굴절률 조정 재료의 입자를, 상기 점착제층의 상기 한편의 면으로부터 두께 방향으로 침투시켜,
상기 점착제층을 건조시킴으로써 상기 도공액의 액체 부분을 증발시키는 공정에 의해서, 상기 굴절률 조정 재료의 입자가 분산 형상으로 포함되는 굴절률 조정 구분을 상기 한편의 면으로부터 두께 방향으로 가지는 굴절률 조정 구분 부착 점착제층을 형성하는 단계와,
상기 굴절률 조정 구분 부착 점착제층을, 상기 한편의 면과는 반대 측의 면인 다른 한편의 면에 있어서 상기 제1 광학 부재에 접합하고, 상기 한편의 면에 있어서 상기 제2 광학 부재에 접합하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체의 제조 방법.
제 21항에 있어서,
상기 굴절률 조정 구분은, 상기 제2 광학 부재의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체의 제조 방법.
제 21항 또는 제 22항에 있어서,
상기 제2 광학 부재에는 상기 점착제층에 면하는 측에 소정 패턴의 투명 도전성층이 형성되고, 상기 굴절률 조정 구분은, 그 투명 도전성층과 상기 제2 광학 부재와의 사이의 단차를 메우도록 그 투명 도전성층과 그 제2 광학 부재의 양쪽 모두에 접합되고, 상기 굴절률 조정 구분은, 상기 투명 도전성층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 부재 적층체의 제조 방법.