CN106990680B - 电子照相感光体、处理盒和电子照相设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及电子照相感光体、处理盒和电子照相设备。电子照相感光体与充电构件和/或显影剂承载构件中经由设置于其间的抵接构件抵接,沿感光体的长度方向具有第一部分和与抵接构件抵接的第二部分,并且依次包括支承体,包含电荷产生材料的电荷产生层,和表面层。第一部分包括与电荷产生层的面向支承体的表面抵接的底涂层,所述底涂层包含含有电子输送材料和交联剂的组合物的聚合物。第二部分包括(i)设置在支承体与电荷产生层之间以与二者邻接的中间层,和/或(ii)设置在电荷产生层与表面层之间以与二者邻接的中间层,其中所述中间层各自具有500N/mm2以下的马氏硬度。
Description
技术领域
本发明涉及电子照相感光体、处理盒和电子照相设备。
背景技术
电子照相感光体安装至处理盒或电子照相设备上。为了提高由电子照相成像法形成的图像的品质,已知一种具有底涂层的电子照相感光体,所述底涂层包含含有电子输送材料和交联剂的组合物的聚合物(日本专利特开No.2014-29480)。根据日本专利特开No.2014-29480的记载,此类结构防止正像重影的发生。正像重影是在输出图像中在电子照相感光体的预旋转(pre-roration)期间仅用光照射的部分具有高图像浓度的现象,并且是降低所得图像的品质的技术问题之一。
发明内容
根据本发明的电子照相感光体与选自用于使电子照相感光体带电的充电构件和用于向电子照相感光体供给显影剂的显影剂承载构件中的至少一种构件经由其间的抵接构件抵接。电子照相感光体沿其长度方向具有第一部分和不同于第一部分的第二部分。在第二部分中,电子照相感光体与抵接构件抵接。电子照相感光体依次包括支承体、包含电荷产生材料的电荷产生层、和表面层。电子照相感光体在第一部分包括与电荷产生层的面向支承体的表面邻接的底涂层,所述底涂层包含含有电子输送材料和交联剂的组合物的聚合物。电子照相感光体在第二部分包括以下中的至少一种:
(i)设置在支承体和电荷产生层之间以与二者邻接的中间层;和
(ii)设置在电荷产生层和表面层之间以与二者邻接的中间层,其中
中间层各自具有500N/mm2以下的马氏硬度(Martens hardness)。
参考附图从以下示例性实施方案的描述中,本发明的进一步特征将变得显而易见。
附图说明
图1A-1、1A-2、1B-1和1B-2示出本发明的电子照相感光体的层构成的实例。
图2是示意性示出包括设置有本发明的电子照相感光体的处理盒的电子照相设备的结构的图。
图3是示出本发明中电子照相感光体与抵接构件之间的关系的图。
具体实施方式
在电子照相感光体的周围,设置例如充电单元、曝光单元、显影单元、转印单元和清洁单元。通过由这些单元实施的步骤形成图像。这些单元中,用于使电子照相感光体带电的充电构件和用于向电子照相感光体供给显影剂的显影剂承载构件,经由设置于其间的抵接构件如隔离构件与电子照相感光体的端部抵接。电子照相感光体在该抵接部承受大的应力,从而存在因长时间重复使用导致的在抵接部剥离层的风险。特别是,如在日本专利特开No.2014-29480中记载的,当将包含含有电子输送材料和交联剂的组合物的聚合物的底涂层设置在包含电荷产生材料的电荷产生层下部以与电荷产生层邻接时,在一些情况下,在底涂层与电荷产生层之间的界面处发生明显的剥离。
因此,已经研究了仅将底涂层设置在电子照相感光体的成像区域,即,在抵接构件抵接电子照相感光体的端部不设置底涂层。然而,在抵接部仍然发生电子照相感光体的层剥离。
因此,本发明提供一种电子照相感光体,其即使设置用于改善图像品质的底涂层,也防止在与抵接构件抵接的端部的层剥离,和提供包括所述电子照相感光体的处理盒和电子照相设备。
现在将通过实施方案详细地描述本发明。
本发明人研究了在与抵接构件抵接的端部发生层剥离的原因,并发现抵接部承受的应力在层之间引起应变。本发明人因此研究了通过设置具有应力缓和功能的层来缓和由层间的应力引起的应变的方法,结果,发现通过在特定层之间设置满足特定马氏硬度的层可以阻止层剥离。
本发明的电子照相感光体依次包括支承体、包含电荷产生材料的电荷产生层、和表面层。电子照相感光体沿长度方向进一步具有第一部分、和不同于第一部分的第二部分。第一部分充当成像区,并且第二部分为具有与隔离构件抵接的表面的区域。此外,电子照相感光体在第一部分包括与电荷产生层的面向支承体的表面邻接的底涂层,所述底涂层包含含有电子输送材料和交联剂的组合物的聚合物,并且在第二部分包括(i)设置在支承体与电荷产生层之间以与二者邻接的中间层,和(ii)设置在电荷产生层与表面层之间以与二者邻接的中间层中的至少一种,其中中间层各自具有500N/mm2以下的马氏硬度。
更具体地,电子照相感光体的第一部分依次包括支承体a、底涂层x、电荷产生层b和表面层c。电子照相感光体的第二部分,在图1A-1和1B-1所示的情况下依次包括支承体a、中间层y、电荷产生层b和表面层c,或者在图1A-2和1B-2所示的情况下依次包括支承体a、电荷产生层b、中间层y和表面层c。
在电子照相感光体中,中间层可(A)仅设置在第二部分(图1A-1和1A-2),或(B)可设置在第二部分和第一部分(图1B-1和1B-2)。尽管这两种情况均可实现本发明的效果,即,可防止层的剥离,但情况(A)可赋予所得图像较高的品质。
在情况(A)和(B)中,底涂层x如下配置在第一部分:
(A)在情况(i)(图1A-1)和(ii)(图1A-2)中,底涂层设置在支承体a与电荷产生层b之间以与二者邻接;和
(B)在情况(i)(图1B-1)中,底涂层设置在中间层y与电荷产生层b之间以与二者邻接;和在情况(ii)(图1B-2)中,底涂层设置在电荷产生层b与表面层c之间以与二者邻接。
[处理盒]
本发明的处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体。处理盒包括电子照相感光体,和选自用于使电子照相感光体带电的充电构件与用于向电子照相感光体供给显影剂的显影剂承载构件中的至少一种。充电构件和/或显影剂承载构件包括如用于与电子照相感光体保持距离的隔离构件等抵接构件,并且可进一步包括转印构件或清洁构件。
<电子照相感光体>
本发明的电子照相感光体依次包括支承体、电荷产生层和表面层。电子照相感光体进一步在第一部分中包括在电荷产生层正下方并与之邻接的底涂层,和在第二部分中包括在特定层之间的中间层。感光体的第一部分的表面包括能够形成图像的区域(成像区)。感光体的第二部分的表面包括与抵接构件抵接的区域。第二部分可以是感光体的端部。此类构成,即,在感光体端部与抵接构件抵接的构成,可以使成像区最大化。第二部分可设置在感光体的各端部,并且可以设置在距感光体的端部沿长度方向20mm以下的范围内。
电子照相感光体可通过例如制备用于下述层的涂布液,以期望顺序的层施涂涂布液并且干燥涂膜来制造。施涂涂布液的方法的实例包括浸涂法、喷涂法、帘式涂布法和旋涂法。特别是,浸涂法在效率性和生产性方面是优异的。
现在将详细描述各层。各层的平均厚度通过使用膜厚计(Fischer MMS EddyCurrent Probe EAW3.3,Fischer Instruments K.K.制)测量层的五个点处的厚度、并且计算其平均值来求得。当通过该方法测量的厚度为1μm以下时,用膜厚测量系统(F20,Filmetrics,Inc.制)测量五个点处的厚度、并且计算其平均值。
(支承体)
在本发明中,支承体可以具有导电性。导电性支承体的实例包括由如铝、铁、镍、铜和金等金属或其合金制成的支承体;和各自由绝缘支承体以及形成于其上的薄膜构成的支承体,其中绝缘支承体为例如聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰亚胺树脂或玻璃;和所述薄膜为例如如铝、铬、银或金薄膜等金属薄膜,如氧化铟、氧化锡或氧化锌薄膜等导电材料薄膜,或含银纳米线的导电性墨的薄膜。
支承体的表面可进行例如如阳极化等电化学处理、湿法珩磨处理、喷砂处理或切割处理,以改进电性质,或防止干涉条纹。
(导电层)
在本发明中,可在支承体上设置导电层。导电层可包含金属氧化物颗粒。
导电层可通过制备导电层用涂布液,并且将涂布液施涂至支承体上而形成。导电层用涂布液可包含金属氧化物颗粒和溶剂。溶剂的实例包括醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃溶剂。金属氧化物颗粒可通过例如使用油漆搅拌器、砂磨机、球磨机或液体冲撞型高速分散机的方法分散在导电层用涂布液中。金属氧化物颗粒的表面可用例如硅烷偶联剂处理以改善金属氧化物颗粒的分散性。此外,金属氧化物颗粒可掺杂有另一种金属或金属氧化物以降低导电层的电阻。
金属氧化物颗粒的实例包括氧化锌、白铅、氧化铝、氧化铟、氧化硅、氧化锆、氧化锡、氧化钛、氧化镁、氧化锑、氧化铋、掺杂有锡的氧化铟、掺杂有锑或钽的氧化锡、和氧化锆的颗粒。这些颗粒中,可特别使用氧化锌、氧化钛和氧化锡的颗粒。
金属氧化物颗粒可具有30-450nm、更优选30-250nm的数均粒径,以防止因局部导电路径的形成而产生黑点。
导电层可进一步包含平均粒径为1μm以上且5μm以下的树脂颗粒。此类构成使导电层的表面粗糙化,从而可防止由导电层表面反射的光的干涉,从而防止输出图像中出现干涉条纹。树脂颗粒的实例包括热固性树脂颗粒,如可固化橡胶、聚氨酯、环氧树脂、醇酸树脂、酚醛树脂、聚酯、硅酮树脂和丙烯酸系三聚氰胺树脂的颗粒。这些颗粒中,硅酮树脂颗粒几乎不聚集,并且可特别地使用。
导电层可具有2μm以上且40μm以下,更优选10μm以上且30μm以下的平均厚度。
导电层的表面可具有0.5μm以上且2.5μm以下的根据JIS B 0601:2001的十点平均粗糙度RzJIS(基准长度:0.8mm)。
(电荷产生层)
在本发明中,电荷产生层包含电荷产生材料。在电子照相感光体的第一部分中,电荷产生层的面向支承体的表面(电荷产生层的面向表面层的表面相对侧的表面)与下述底涂层邻接。
电荷产生材料可以是已知的材料。所述材料的实例包括偶氮颜料,茈颜料,蒽醌衍生物,蒽嵌蒽酮(anthoanthrone)衍生物,二苯并芘醌(dibenzpyrenequinone)衍生物,皮蒽酮衍生物,蒽酮紫衍生物、异蒽酮紫衍生物,靛蓝衍生物,硫靛衍生物,如金属酞菁和无金属酞菁等酞菁颜料,以及二苯并咪唑衍生物。这些材料中,可特别使用偶氮颜料和酞菁颜料。酞菁颜料中,可特别使用酞菁氧钛、氯化镓酞菁(chlorogallium phthalocyanine)和羟基镓酞菁。
电荷产生层可进一步包含树脂。树脂的实例包括聚缩醛树脂;如苯乙烯、乙酸乙烯酯、氯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、偏二氟乙烯和三氟乙烯等乙烯基化合物的聚合物和共聚物;聚乙烯醇树脂;聚碳酸酯树脂;聚酯树脂;聚砜树脂;聚苯醚树脂;聚氨酯树脂;纤维素树脂;酚醛树脂;三聚氰胺树脂;硅酮树脂;和环氧树脂。从与邻接层的粘附性的观点,电荷产生层可包含聚缩醛树脂。商购可得的聚缩醛树脂的实例包括S-LEC系列,如BX-1、BM-1、KS-1和KS-5(Sekisui Chemical Co.,Ltd.制)。所述树脂可具有100以上且10000以下的重均分子量。
电荷产生层中电荷产生材料的含量与树脂的含量的质量比(电荷产生材料的含量/树脂的含量)可以为0.1以上且10以下,更优选0.2以上且5以下。
电荷产生层可具有0.05μm以上且5μm以下,更优选0.1μm以上且1μm以下的平均厚度。
在第二部分(与抵接构件抵接的区域)中的电荷产生层的平均厚度可小于第一部分(成像区)中电荷产生层的平均厚度。此类构成抑制感光体的第二部分(与抵接构件抵接的区域)与充电构件或显影剂承载构件之间发生放电现象,从而防止因放电现象导致的感光体的磨耗。
电荷产生层可通过制备电荷产生层用涂布液并且施涂该涂布液而形成。电荷产生层用涂布液可包含电荷产生材料、树脂和溶剂。所述溶剂的实例包括醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃溶剂。
(表面层)
在本发明中,表面层是电子照相感光体的最外表面。具体地说,表面层例如仅由电荷输送层构成,仅由表面保护层构成,或由电荷输送层和表面保护层构成。现在将描述电荷输送层和表面保护层。
(1)电荷输送层
在本发明中,电荷输送层可包含电荷输送材料和树脂。
电荷输送材料的实例包括稠环芳香族化合物、杂环化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、联苯胺化合物、三芳基胺化合物、三苯胺和具有衍生自这些化合物的基团作为主链或侧链的聚合物。这些化合物中,可特别使用三芳基胺化合物、苯胺化合物和苯乙烯基化合物。
树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚甲基丙烯酸酯树脂、多芳基化合物树脂(polyarylate resins)、聚砜树脂和聚苯乙烯树脂。这些树脂中,可特别使用聚碳酸酯树脂和多芳基化合物树脂。所述树脂可具有10000以上且300000以下的重均分子量。
电荷输送层中电荷输送材料的含量与树脂的含量的质量比(电荷输送材料的含量/树脂的含量)可以为0.5以上且2以下,更优选0.6以上且1.25以下。
电荷输送层可具有3μm以上且40μm以下,更优选5μm以上且25μm以下,最优选5μm以上且16μm以下的平均厚度。
电荷输送层可通过制备电荷输送层用涂布液、并施涂该涂布液而形成。电荷输送层用涂布液可包含电荷输送材料、树脂和溶剂。所述溶剂的实例包括醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃溶剂。
(2)表面保护层
在本发明中,表面保护层包含例如导电性颗粒、电荷输送材料和树脂。导电性颗粒的实例包括如氧化锡颗粒等金属氧化物颗粒。表面保护层可包含如润滑剂等添加剂。如果树脂本身具有导电性或电荷输送性,则可不包含导电性颗粒或电荷输送材料。
在另一个实例中,表面保护层包含作为含有电荷输送化合物的组合物的固化产物的树脂。在此情况下的电荷输送化合物的实例包括具有(甲基)丙烯酰氧基的化合物。这些化合物通过放射性射线如电子射线或伽玛射线照射而聚合、并固化。
表面保护层可具有0.1μm以上且20μm以下,更优选1μm以上且10μm以下的厚度。
此外,表面保护层可具有特定表面轮廓(surface profile)以减轻与例如清洁构件的摩擦。所述表面轮廓的实例包括设置有多个凹部的表面、设置有多个凸部的表面、设置有多个沟部的表面,和设置有其组合的表面。这些表面轮廓可通过例如将具有对应形状的模具压向表面保护层而形成。尽管模具的施压也存在层剥离的风险,但本发明电子照相感光体的构成可以防止此类层剥离。
(底涂层)
在本发明中,底涂层包含含有电子输送材料和交联剂的组合物的聚合物。所述组合物可进一步包含电子输送材料、交联剂和树脂。所述组合物中,电子输送材料的含量与其它材料(如交联剂和树脂)的含量的质量比可以是2/7至8/2,更优选3/7至7/3。组合物的聚合温度可为120℃至200℃。
底涂层可具有0.3μm以上且15μm以下,更优选0.5μm以上且5.0μm以下的平均厚度。
在本发明中,第二部分可不存在底涂层。在本发明中,底涂层例如可通过以下来形成:制备底涂层用涂布液,并仅在作为成像区的第一部分施涂该涂布液,或将该涂布液施涂至整个感光体然后除去第二部分中的底涂层,以使得第二部分不存在底涂层。前一种方法可通过例如将感光体以使得第二部分未浸渍的方式浸渍至底涂层用涂布液中来进行。后一种方法例如可通过以下来进行:将感光体浸渍至底涂层用涂布液中,然后用如橡胶刮板、刷子、海绵或纤维布等剥离构件将能够溶解底涂层的溶剂施加至第二部分,以除去底涂层。
然而,前一种方法存在涂布液渗入至第二部分的风险,而后一种方法存在第二部分中的底涂层未完全剥离的风险。在这些方法中,尽管底涂层可存在于第二部分的一部分中,但仍可实现本发明的效果。
更具体地,当底涂层部分地存在于第二部分中时,在与抵接构件接触的区域中存在的底涂层的面积(可与抵接构件接触的区域中存在的底涂层的总面积/可与抵接构件接触的区域的总面积)可以为80%以下,更优选50%以下。底涂层的面积可以如下从最终感光体来测量。
电子照相感光体的底涂层上的层使用溶剂来剥离。在采用Hybrid LaserMicroscope(Lasertec Corporation制)在以下条件下观察的电子照相感光体第二部分中可以与抵接构件接触的区域的整个周面的图像中,将具有200以上的亮度的区域的面积定义为“可以与抵接构件接触的区域中存在的底涂层的总面积”。
(测量条件)
光源:汞-氙灯
照射波长:633nm
受光范围:仅3CCD的红色区域
物镜:5倍放大率(NA:0.15)
设定光量:700
“可以与抵接构件接触的区域的总面积”是指对应于电子照相感光体的第二部分中抵接构件的宽度的整个周面的表面积。例如,当抵接构件具有4mm的宽度,和圆柱体具有30mm的直径时,面积为由周长[30(mm)×3.14]乘以4(mm)求得的376.8mm。
现在将描述电子输送材料、交联剂和树脂。
(1)电子输送材料
电子输送材料
电子输送材料的实例包括醌化合物、酰亚胺化合物、苯并咪唑化合物和亚环戊二烯基化合物。在本发明中,电子输送材料可具有可聚合官能团,特别是,在一个分子中具有两个以上的可聚合官能团。可聚合官能团的实例包括羟基、硫羟基、氨基、羧基和甲氧基。在本发明中,电子输送材料可以是选自下式(A1)-(A11)所示的化合物中的至少一种。
在式(A1)-(A11)中,R11-R16中的至少一个、R21-R30中的至少一个、R31-R38中的至少一个、R41-R48中的至少一个、R51-R60中的至少一个、R61-R66中的至少一个、R71-R78中的至少一个、R81-R90中的至少一个、R91-R98中的至少一个、R101-R110中的至少一个、和R111-R120中的至少一个独立地表示由式(A)表示的单价基团;并且其它取代基各自独立地表示氢原子、氰基、硝基、卤素原子、烷氧基羰基、烷基、芳基、杂环或具有其中一个CH2被O、S、NH或NR121(R121表示烷基)取代的主链的烷基。所述烷基、芳基和杂环可进一步具有取代基。烷基的取代基的实例包括烷基、芳基、卤素原子和烷氧基羰基。芳基或杂环的取代基的实例包括卤素原子、硝基、氰基、烷基、卤代烷基和烷氧基。
Z21、Z31、Z41和Z51各自独立地表示碳原子、氮原子或氧原子。当Z21表示氧原子时,不存在R29和R30,和当Z21表示氮原子时,不存在R30。当Z31表示氧原子时,不存在R37和R38,和当Z31表示氮原子时,不存在R38。当Z41表示氧原子时,不存在R47和R48,和当Z41表示氮原子时,不存在R48。当Z51表示氧原子时,不存在R59和R60,和当Z51表示氮原子时,不存在R60。
在式(A)中,α、β和γ中的至少一个表示具有选自由羟基、硫羟基、氨基、羧基和甲氧基组成的组的取代基的基团。l和m各自独立地表示0或1,并且l和m之和为0以上且2以下。
α表示具有1-6个主链原子的亚烷基,C1-6烷基取代的具有1-6个主链原子的亚烷基,苄基取代的具有1-6个主链原子的亚烷基,烷氧基羰基取代的具有1-6个主链原子的亚烷基,或苯基取代的具有1-6个主链原子的亚烷基。此类基团可以具有至少选自由羟基、硫羟基、氨基、羧基和甲氧基组成的组的至少一种取代基。此类亚烷基主链中的一个CH2可以被O、S或NR122(其中,R122表示氢原子或烷基)取代。
β表示亚苯基、C1-6烷基取代基的亚苯基、硝基取代的亚苯基、卤代亚苯基或烷氧基取代的亚苯基。此类基团可以具有选自由羟基、硫羟基、氨基、羧基和甲氧基组成的组的至少一种取代基。
γ表示氢原子,具有1-6个主链原子的烷基,或C1-6烷基取代基的具有1-6个主链原子的烷基。此类基团可以具有选自由羟基、硫醇基、氨基、羧基和甲氧基组成的组的至少一种取代基。此类烷基的主链中的一个CH2可被O、S或NR123(其中,R123表示氢原子或烷基)取代。
以下示出由式(A1)-(A11)表示的化合物的具体实例。
由式(A1)表示的化合物的具体实例
由式(A2)表示的化合物的具体实例
由式(A3)表示的化合物的具体实例
由式(A4)表示的化合物的具体实例
由式(A5)表示的化合物的具体实例
由式(A6)表示的化合物的具体实例
由式(A7)表示的化合物的具体实例
由式(A8)表示的化合物的具体实例
由式(A9)表示的化合物的具体实例
由式(A10)表示的化合物的具体实例
由式(A11)表示的化合物的具体实例
由式(A1)-(A11)表示的化合物可以通过以下来制备:制备具有由式(A1)-(A11)表示的结构的衍生物(用具有卤素原子代替由式(A1)-(A11)表示的化合物的可聚合官能团的化合物),并且用可聚合官能团(羟基、硫羟基、氨基、羧基或甲氧基)取代卤素原子。
具有由式(A1)-(A11)表示的结构的衍生物可以分别如下制备。具有由式(A1)表示的结构的衍生物可通过从Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.和Johnson Matthey JapanInc.可得的萘四羧酸二酐与一元胺衍生物之间的反应来合成。具有由式(A2)-(A6)和(A9)表示的结构的衍生物(电子输送材料的衍生物)可从Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.、Sigma-Aldrich Co.LLC.和Johnson Matthey Japan Inc.购买。具有由式(A7)表示的结构的衍生物可采用从Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.和Sigma-Aldrich Co.LLC.可得的酚衍生物来合成。具有由式(A8)表示的结构的衍生物可以由从Tokyo Chemical IndustryCo.,Ltd.和Sigma-Aldrich Co.LLC.可得的茈四羧酸二酐和一元胺衍生物之间的反应来合成。具有由式(A10)表示的结构的衍生物可以通过通过已知的合成方法(例如日本专利No.3717320)在无机溶剂中用如高锰酸钾等适当的氧化剂使具有腙结构的酚衍生物氧化来合成。具有由式(A11)表示的结构的衍生物可以通过从Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.、Sigma-Aldrich Co.LLC.和Johnson Matthey Japan Inc.可得的萘四羧酸二酐、一元胺衍生物和肼之间的反应来合成。
可聚合官能团可通过例如如下方法引入至具有由式(A1)-(A11)表示的结构的衍生物(以下也简称为“衍生物”)中:使用钯催化剂和碱的交联(cross coupling)反应以引入具有可聚合官能团的芳基;使用FeCl3催化剂和碱的交联反应以引入具有可聚合官能团的烷基;或使衍生物锂化,然后使环氧化合物或CO2与衍生物反应,从而引入羟烷基或羧基。
(2)交联剂
交联剂可以是任意已知的材料,并且其实例包括在Shinzo Yamashita和TosukeKaneko编写的“Kakyo-zai Handobukku(交联剂手册),Taiseisha Ltd.(1981)”中记载的化合物。在本发明中,所述交联剂可以具有可聚合官能团。
在本发明中,交联剂可以是异氰酸酯化合物或氨基化合物。现在将描述各化合物。
(2-1)异氰酸酯化合物
在本发明中,异氰酸酯化合物具有异氰酸酯基,特别是,在一个分子中具有3-6个异氰酸酯基。由于异氰酸酯化合物的反应性可能难以控制,所以异氰酸酯基可用保护基团保护,并且所得封端异氰酸酯化合物可以添加至涂布液中。
异氰酸酯基可以用由式(H1)-(H6)表示的保护基团保护。用此类保护基团保护的异氰酸酯基为-NHCOX(X表示保护基团)的形式。
异氰酸酯化合物的实例包括各种改性产物,例如异氰脲酸酯改性产物、缩二脲改性产物、脲基甲酸酯改性产物、和与三羟甲基丙烷或季戊四醇的加合产物,具体地,苯三异氰酸酯、甲苯三异氰酸酯、三苯甲烷三异氰酸酯、赖氨酸三异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、二环己基甲烷二异氰酸酯、萘二异氰酸酯、二苯甲烷二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯(xylylene diisocyanate)、2,2,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、甲基-2,6-二异氰酸酯己酸酯和降冰片烷二异氰酸酯。这些改性产物中,可特别使用异氰脲酸酯改性产物和加合产物。
以下示出异氰酸酯化合物B1-B21的具体实例。
(2-2)氨基化合物
在本发明中,氨基化合物可以具有由-CH2-OH或-CH2-O-R1(R1表示任选地支化的C1-10烷基)表示的基团。氨基化合物进一步可以是由任意的式(C1)-(C5)表示的化合物。氨基化合物可具有200以上且1000以下的分子量以形成均匀的固化膜。
在式(C1)-(C5)中,R121-R126、R131-R135、R141-R144、R151-R154和R161-R164各自独立地表示氢原子、-CH2-OH或-CH2-O-R1,其中R1表示任选地支化的C1-10烷基。从可聚合性的观点,烷基可以是甲基、乙基或丁基。
关于商购可得的材料,由式(C1)表示的化合物的实例包括Super Melamine 90(NOF Corporation制),Super Beckamine(注册商标)系列TD-139-60、L-105-60、L127-60、L110-60、J-820-60和G-821-60(DIC Corporation制),Uban 2020(Mitsui Chemicals,Inc.制),Sumitec Resin M-3(Sumitomo Chemical Co.,Ltd.制),和Nikalac系列MW-30、MW-390和MX-750LM(Nippon Carbide Industries Co.,Ltd.制);由式(C2)表示的化合物的实例包括Super Beckamine(注册商标)系列L-148-55、13-535、L-145-60和TD-126(DICCorporation制),和Nikalac系列BL-60和BX-4000(Nippon Carbide Industries Co.,Ltd.制);由式(C3)表示的化合物的实例包括Nikalac MX-280(Nippon Carbide IndustriesCo.,Ltd.制);由式(C4)表示的化合物的实例包括Nikalac MX-270(Nippon CarbideIndustries Co.,Ltd.制);和由式(C5)表示的化合物的实例包括Nikalac MX-290(NipponCarbide Industries Co.,Ltd.制)。
以下示出由式(C1)-(C5)表示的化合物的具体实例。尽管以下示出的实例为单体,但所述材料可以是具有这些单体作为结构单元的聚合物。聚合物的聚合度可以为2以上且100以下。此外,可使用这些材料中的两种以上的混合物。
由式(C1)表示的化合物
由式(C2)表示的化合物
由式(C3)表示的化合物
由式(C4)表示的化合物
由式(C5)表示的化合物
(3)树脂
在本发明中,底涂层可包含含有电子输送材料、交联剂和树脂的组合物的聚合物。所述树脂可具有5000以上且400000以下的重均分子量。
树脂可以是热塑性树脂,例如聚缩醛树脂、聚烯烃树脂、聚酯树脂、聚醚树脂或聚酰胺树脂。树脂可进一步具有可聚合官能团。可聚合官能团的实例包括羟基、硫羟基、氨基、羧基和甲氧基。即,树脂可以具有由式(D)表示的结构单元:
在式(D)中,R1表示氢原子或烷基;Y1表示单键、亚烷基或亚苯基;和W1表示羟基、硫羟基、氨基、羧基或甲氧基。
商购可得的具有可聚合官能团的热塑性树脂的实例包括:
聚醚多元醇系树脂,如AQD-457和AQD-473(Nippon polyurethane Industry Co.,Ltd.制),和Sannix系列GP-400和GP-700(Sanyo Chemical Co.,Ltd.制);
聚酯多系元醇,如Phthalkid W2343(Hitachi Chemical Co.,Ltd.制),Watersol系列S-118和CD-520以及Beckolite系列M-6402-50和M-6201-40IM(DIC Corporation制),Haridip WH-1188(Harima Chemicals Group,Inc.制),和ES3604与ES6538(Japan UpicaCo.,Ltd.制);
聚丙烯酰基多元醇系树脂,如Burnock系列WE-300和WE-304(DIC Corporation制);
聚乙烯醇系树脂,如Kuraray Poval PVA-203(Kuraray Co.,Ltd.制);
聚乙烯醇缩醛系树脂,如BX-1、BM-1和KS-5(Sekisui Chemical Co.,Ltd.制);
聚酰胺系树脂,如Toresin FS-350(Nagase ChemteX Corporation制);
含羧基树脂,如Aqualic(Nippon Shokubai Co.,Ltd.制)和Finelex SG2000(Namariichi Co.,Ltd.制);
多胺树脂,如Rackamide(DIC Corporation制);和
聚硫醇树脂,如QE-340M(Toray Industries,Inc.制)。这些树脂中,从所得底涂层的可聚合性和均匀性的观点,可特别使用具有可聚合官能团的聚乙烯醇缩醛系树脂,和具有可聚合官能团的聚酯多元醇系树脂。
(中间层)
在本发明的电子照相感光体中,第二部分包括马氏硬度为500N/mm2以下的中间层,所述中间层:
(i)在支承体和电荷产生层之间以与二者邻接;
(ii)在电荷产生层和表面层之间以与二者邻接;或
(iii)在支承体与电荷产生层之间以与二者邻接,和在电荷产生层与表面层之间以与二者邻接。
在本发明中,中间层可具有100N/mm2以下的马氏硬度。在本发明中,中间层的马氏硬度如下测量。
剥离形成中间层的部分以外的表面侧的层,从而制备中间层暴露于表面的感光体。在剥离时,可以使用不溶解中间层的溶剂。用Fischer超微硬度检测仪(PicodentorHM500,Fischer Instruments K.K.制),根据ISO14577-1(2002)在以下测量条件下,在来自中间层上部的任意三个点处测量中间层的马氏硬度。将平均值定义为中间层的马氏硬度。在此情况下,测量前,将感光体和测量设备在25℃下放置24小时。
测量条件
测量压头形状:三角锥压头(棱角:115°,Berkovich型)
测量压头材料:金刚石
测量温度:25℃
加载和卸载速度:0.1mN/10s
加载时间:5.0s
在测量时,在中间层以下形成的层的硬度的影响很小,这可通过以下方法来确认:将中间层用涂布液施涂在玻璃基材上,并且干燥以形成与在感光体上形成的中间层相同的层。测量形成的层的马氏硬度,以确认具有与通过上述方法测量的中间层相似的马氏硬度。这可能是由于测量时测量设备的位移精度为非常小的纳米级以下。
中间层可具有0.1μm以上且50μm以下,更优选0.2μm以上且40μm以下的平均厚度。
中间层的表面可具有0.5μm以上且2.5μm以下的根据JIS B 0601:2001的十点平均粗糙度RzJIS(基准长度:0.8mm)。
在本发明中,中间层可包含树脂。所述树脂可以是选自由聚氨酯树脂、氨基树脂、聚酰胺树脂和聚缩醛树脂组成的组中的至少一种。所述树脂可具有100℃以下的玻璃化转变温度。
聚氨酯树脂可以由异氰酸酯化合物和具有可以与异氰酸酯化合物反应的基团的树脂来合成。特别地,由具有封端异氰酸酯基的异氰酸酯化合物和聚缩醛树脂合成的聚氨酯树脂具有令人满意的反应性。具有封端异氰酸酯基的异氰酸酯化合物的实例包括TPA-B80E和SBN-70D(Asahi Kasei Chemicals Corporation制)。氨基树脂可以由三聚氰胺树脂和具有可以与三聚氰胺化合物反应的基团的树脂来合成。特别地,由甲基化三聚氰胺或丁基化三聚氰胺和醇酸树脂合成的氨基树脂具有令人满意的反应性。甲基化三聚氰胺和丁基化三聚氰胺的实例包括Super Beckamine系列(DIC Corporation制)。聚酰胺树脂的实例包括醇溶性共聚合聚酰胺(copolymer polyamides)和改性聚酰胺,具体地说,Toresin EF-30T(Nagase ChemteX Corporation制)和Amilan CM8000(Toray Industries Inc.制)。聚缩醛树脂的具体实例包括BX-1和BM-1(Sekisui Chemical Co.,Ltd.制)。
在本发明中,中间层可包含除了上述聚氨酯树脂、氨基树脂、聚酰胺树脂和聚缩醛树脂以外的树脂。这类树脂的实例包括例如苯乙烯、乙酸乙烯酯、氯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、偏二氟乙烯和三氟乙烯等乙烯基化合物的聚合物和共聚物;聚乙烯醇树脂;聚碳酸酯树脂;聚酯树脂;聚砜树脂;聚苯醚树脂;纤维素树脂;硅酮树脂;和环氧树脂。
除树脂外,中间层可进一步包含材料。例如包含具有羟基的金属氧化物颗粒的中间层可改善与邻接层的粘附性。在此情况下,中间层即使马氏硬度大于100N/mm2且500N/mm2以下也可充分发挥本发明的效果。
金属氧化物颗粒的实例包括氧化锌、白铅、氧化铝、氧化铟、氧化硅、氧化锆、氧化锡、氧化钛、氧化镁、氧化锑、氧化铋、掺杂有锡的氧化铟、掺杂有锑或钽的氧化锡、和氧化锆的颗粒。这些颗粒中,可特别使用氧化锌、氧化钛或氧化锡的颗粒。
金属氧化物颗粒可通过例如采用油漆搅拌器、砂磨机、球磨机或液体冲撞型高速分散机的方法而分散在中间层用涂布液中。金属氧化物颗粒的表面可用例如硅烷偶联剂来处理以改善金属氧化物颗粒的分散性。此外,金属氧化物颗粒可掺杂有其它金属或金属氧化物以降低中间层的电阻。
金属氧化物颗粒可具有30-450nm,更优选30-250nm的数均粒径,以防止因局部导电路径的形成而导致黑点出现。
中间层可进一步包含平均粒径为1μm以上且5μm以下的树脂颗粒。此类构成使得中间层的表面粗糙化,由此可防止中间层表面反射的光的干涉,从而防止在输出图像中出现干涉条纹。树脂颗粒的实例包括热固性树脂颗粒,例如可固化橡胶、聚氨酯、环氧树脂、醇酸树脂、酚醛树脂、聚酯、硅酮树脂和丙烯酸系三聚氰胺树脂的颗粒。这些颗粒中,硅酮树脂颗粒几乎不会聚集,并且可特别地使用。
中间层可通过制备中间层用涂布液并且施涂该涂布液而形成。中间层用涂布液可以包含如树脂等材料和溶剂。所述溶剂的实例包括如甲醇、乙醇和异丙醇等醇系溶剂;亚砜系溶剂;如丙酮、甲基乙基酮和环己酮等酮系溶剂;如四氢呋喃、二噁烷、乙二醇单甲醚和丙二醇单甲醚等醚系溶剂;如乙酸甲酯和乙酸乙酯等酯系溶剂;如甲苯和二甲苯等芳香族烃溶剂。
<抵接构件>
在本发明中,抵接构件与电子照相感光体的第二部分的表面抵接。抵接构件的实例包括隔离构件,所述隔离构件用于保持充电构件与电子照相感光体间、和/或显影剂承载构件与电子照相感光体间的距离。
隔离构件为例如具有一定厚度的圆筒状构件。该构件的材料的实例包括如聚乙烯等聚烯烃树脂;如聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂;如聚四氟乙烯等氟系树脂;如聚甲醛等缩醛树脂;如聚异戊二烯橡胶(天然橡胶)、聚氨酯橡胶、氯丁橡胶、丁腈橡胶、硅橡胶和氟橡胶等橡胶;和如铝、铁、铜、钛和主要由这些金属组成的合金等具有弹性的金属。
本发明中抵接构件的另一个实例为与电子照相感光体抵接的封端构件(end partsealing member)。封端构件设置在清洁刮板的长度方向的两端部,以防止显影剂经电子照相感光体(或清洁刮板)与清洁框间的缝隙而泄露。在使用封端构件的情况下,载体被插入所述构件与电子照相感光体之间,以对电子照相感光体施加压力,引发本申请所要解决的问题层剥离的风险。然而,即使在此情况下,本发明的电子照相感光体的构成也可防止所述层剥离。
[电子照相设备]
本发明的电子照相设备包括电子照相感光体,和选自上述充电构件与显影剂承载构件中的至少一种构件,并且可进一步包括曝光单元或转印单元。
图2示意性显示包括装备有电子照相感光体的处理盒的电子照相设备的结构的实例。
在图2中,圆筒状电子照相感光体1围绕作为旋转中心的轴2、沿箭头所示方向以预定圆周速度旋转驱动。被旋转驱动的电子照相感光体1的表面(圆周面)经充电单元3(主充电机构,如充电辊)均匀地充至预定的正或负电位。然后,使表面暴露于由如狭缝曝光或激光束扫描曝光等曝光单元(未显示)释放的光(图像曝光)4。由此,在电子照相感光体1的表面上顺次形成与目标图像对应的静电潜像。
然后通过显影剂单元5中的显影剂中包含的调色剂使电子照相感光体1的表面上形成的静电潜像显影成调色剂图像。随后,将电子照相感光体1的表面上形成并承载的调色剂图像通过来自转印单元(如转印辊)6的转印偏压连续转印至转印介质(如纸)P上。所述转印介质P从转印介质供给单元(未显示)输出,并供给至电子照相感光体1和与电子照相感光体1同步旋转的转印单元6之间(抵接部)。
将已接收转印调色剂图像的转印介质P与电子照相感光体1的表面分离,然后引入至定影单元8中从而使接收的图像定影,并且作为图像形成物(印刷品或复印品)输出至设备外部。
调色剂图像转印后的电子照相感光体1的表面用清洁单元(如清洁刮板)7进行残留显影剂(调色剂)的除去,从而清洁表面。然后,用预曝光单元(未显示)通过预曝光(未显示)使表面除电,并重复用于图像形成。如图2所示,当充电单元3为接触充电单元如充电辊时,预曝光不是必需的。
选自如电子照相感光体1,充电单元3、显影单元5、转印单元6和清洁单元7等结构组件的两个以上的组件可一体化支承在容器中作为处理盒。所述处理盒可拆卸地安装至如复印机或激光束打印机等电子照相设备的主体。在图2中,电子照相感光体1、充电单元3、显影单元5和清洁单元7一体化支承,从而构成用电子照相设备的主体的如轨道等引导单元10可拆卸地安装至电子照相设备的主体的处理盒9。如图2所示,本发明的抵接构件安装至充电单元3(充电构件)和显影剂单元5的向电子照相感光体供给显影剂的显影剂载体。图3示出充电构件或显影剂载体与电子照相感光体和抵接构件之间的关系。
图3是部分地示出在充电构件或显影剂支承体5a的端部装备有抵接构件11的处理盒的配置图的实例。在图3中,抵接构件11为圆筒状并且安装至充电构件或显影剂支承体5a轴向的两端部。抵接构件11与电子照相感光体1在成像区T外部的邻接区(也称作投影区域)S接触。在此构成中,电子照相感光体1和充电构件或显影剂支承体5a可相对旋转,并且在接近方向上通过预定压力彼此施压。
承受来自抵接构件的抵接力的感光体的损坏大。因此,为了进一步实现本发明的效果,抵接构件在电荷产生层在其中电荷产生层直接形成在中间层或底涂层上的区域与感光体抵接。
抵接构件的实例包括用于以下目的的这些:在接触注入充电体系的情况下,带电刷与感光体间设置间隔以用例如带电刷摩擦感光体的表面。在非接触充电的情况下,采用较高外径的偏斜(runout)精度以通过充电辊使感光体均匀地带电。即使在接触充电系统的情况下,也可使用抵接构件以保持对感光体表面一定的抵接力。此外,在接触显影系统的情况下,使用抵接构件以控制显影辊与感光体的接触、和显影辊的侵入量。在非接触显影系统的情况下,显影辊(套筒)与感光体之间的距离非常重要,并且使用抵接构件以控制该距离。抵接构件也可称作侵入量调节构件。
实施例
现在将通过实施例和比较例更详细地描述本发明,但本发明的范围不限于以下实施例。在以下实施例中,除非另外说明,否则术语“份”为基于质量。
<1>电子照相感光体的制造
(1)支承体的准备
(支承体A)
使用长度为260.5mm和直径为30mm的铝筒(JIS-A3003,铝合金)作为导电性支承体A。
(支承体B)
使用长度为261.6mm和直径为24mm的铝筒(JIS-A3003,铝合金)作为导电性支承体B。
(支承体C)
将支承体A安装在车床上,并且用烧结金刚石刀头切割以获得30.0±0.02mm的外径,15μm的偏斜精度和0.2μm的表面十点平均粗糙度Rz。在此情况下,主轴的旋转速度为3000rpm,刀头的供给速度为0.3mm/rev,和排除安装和拆卸工件时间的加工时间为24秒。使用液体(湿法)珩磨机(honing machine)(Fujiseiki Corporation制),在以下液体珩磨条件下,使所得切割铝管进行液体珩磨。经处理的支承体具有0.32μm的表面粗糙度Rz。
液体珩磨条件
抛光磨粒:球形氧化铝球(CB-A30S,Showa Denko K.K.制,平均粒径:30μm),
悬浮介质:水,
抛光材料/悬浮介质:1/9(体积比)
切割铝管的旋转速度:1.67s-1,
鼓风压力:0.05MPa
喷枪移动速度:20.0mm/sec
喷嘴与铝管之间的距离:150mm,
珩磨磨粒释放角:60°,和
抛光液的投射次数:一次(单路)。
(2)导电层用涂布液的制备
将金属氧化物颗粒(涂覆有贫氧氧化锡的氧化钛颗粒,214份)、粘结剂树脂(酚醛树脂,Plyophen J-325,Dainippon Ink&Chemicals,Inc.,132份)、甲醇(40份)和1-甲氧基-2-丙醇(58份)置于使用玻璃珠(450份,直径:0.8mm)的砂磨机中,并且在2000rpm的旋转速度、4.5小时的分散时间和18℃的冷却水温度下分散,从而制备分散液。用筛(开口:150μm)将玻璃珠从分散液中移除。将表面粗糙化材料(硅酮树脂颗粒,Tospearl 120,MomentivePerformance Materials Inc.制),以基于分散液中金属氧化物颗粒和粘结剂树脂的总质量为10质量%的量添加至分散液中。进一步向分散液中以基于分散液中金属氧化物颗粒和粘结剂树脂的总质量为0.01质量%的量添加流平剂。搅拌所述分散液,从而制备导电层用涂布液。
(3)中间层用涂布液的制备
(中间层用涂布液A)
将平均粒径为70nm且比表面积为15m2/g的氧化锌颗粒(Tayca Corporation制,1000份)通过搅拌与甲苯混合。将N-2-(氨乙基)-3-氨丙基-甲基二甲氧基硅烷(KBM602,Shin-Estu Chemical Co.,Ltd.制,12.5份)进一步添加至混合物中,随后搅拌2小时。然后减压蒸馏出甲苯,接着在120℃下烘烤3小时,从而得到表面处理过的氧化锌颗粒。
将聚乙烯醇缩醛树脂(BM-1,Sekisui Chemcial Co.,Ltd.制,150份)和封端异氰酸酯(Sumidur 3175,Sumika Bayer Urethane Co.,Ltd.制,135份)溶解在甲基乙基酮(1600份)中。
向得到的溶液中,添加表面处理过的氧化锌颗粒(100份)和二苯甲酮(6份)。采用使用玻璃珠(直径:1mm)的砂磨机,在23±3℃的气氛下使混合物进行分散3小时。分散后,将硅酮树脂颗粒(Tospearl 145,Momentive Performance Materials Inc.制,10份)和硅油(1.2份)添加至分散液中,接着搅拌,从而制备中间层用涂布液A。
(中间层用涂布液B)
将聚乙烯醇缩醛树脂(BM-1,Sekisui Chemcial Co.,Ltd.制,60份)和封端异氰酸酯(Sumidur 3175,Sumika Bayer Urethane Co.,Ltd.制,54份)溶解在甲基乙基酮(1600份)中。
向得到的溶液中,添加与在中间层用涂布液A中使用的那些相同的表面处理过的氧化锌颗粒(300份)和二苯甲酮(6份)。采用使用玻璃珠(直径:1mm)的砂磨机,在23±3℃的气氛下使混合物进行分散3小时。分散后,将硅酮树脂颗粒(Tospearl 145,MomentivePerformance Materials Inc.制,10份)和硅油(1.2份)添加至分散液中,接着搅拌,从而制备中间层用涂布液B。
(中间层用涂布液C)
将醇酸树脂(Beckosol 1307-60-EL,Dainippon Ink&Chemicals,Inc.,108份)、胺树脂(Super Beckamine G-821-60,Dainippon Ink&Chemicals,Inc.制,72份)、氧化钛(CR-EL,Ishihara Sangyo Kaisha,Ltd.制,180份)、甲基乙基酮(1800份)和环己酮(450份)通过搅拌混合,从而制备均匀的浆料。然后采用使用玻璃珠(直径:0.8mm)的砂磨机,在25℃的气氛下使浆料进行分散5小时,从而制备中间层用涂布液C。
(中间层用涂布液D)
除了将醇酸树脂、氨基树脂和氧化钛的量分别变为48份、32份和280份外,如中间层用涂布液C的制备来制备中间层用涂布液D。
(中间层用涂布液E)
除了将表面处理过的氧化锌颗粒的量(100份)变为150份外,如中间层用涂布液A的制备来制备中间层用涂布液E。
(中间层用涂布液F)
除了将表面处理过的氧化锌颗粒的量(300份)变为280份外,如中间层用涂布液B的制备来制备中间层用涂布液F。
(中间层用涂布液G)
除了将醇酸树脂、氨基树脂和氧化钛的量分别变为84份、56份和210份外,如中间层用涂布液C的制备来制备中间层用涂布液G。
(中间层用涂布液H)
除了将醇酸树脂、氨基树脂和氧化钛的量分别变为48份、32份和240份外,如中间层用涂布液C的制备来制备中间层用涂布液H。
(中间层用涂布液I)
除了将表面处理过的氧化锌颗粒的量(100份)变为30份外,如中间层用涂布液A的制备来制备中间层用涂布液I。
(中间层用涂布液J)
通过将聚碳酸酯二醇(Benebiol,Mitsubishi Chemical Corporation制,6份)和六亚甲基二异氰酸酯(Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制,12份)溶解在四氢呋喃(50份)中来制备中间层用涂布液J。
(中间层用涂布液K)
通过将聚乙烯醇缩醛树脂(BM-1,Sekisui Chemcial Co.,Ltd.制,150份)和封端异氰酸酯(Sumidur 3175,Sumika Bayer Urethane Co.,Ltd.制,135份)溶解在甲基乙基酮(2200份)中来制备中间层用涂布液K。
(中间层用涂布液L)
通过将醇酸树脂(Beckosol 1307-60-EL,Dainippon Ink&Chemicals,Inc.,108份)、胺树脂(Super Beckamine G-821-60,Dainippon Ink&Chemicals,Inc.制,72份)、甲基乙基酮(1800份)和环己酮(450份)混合来制备中间层用涂布液L。
(中间层用涂布液M)
将N-甲氧基甲基化尼龙(Toresin EF-30T,Nagase ChemteX Corporation制,玻璃化转变温度:10℃,6份)混合并溶解在甲醇(45份)和正丁醇(10份)的溶剂混合物中,从而制备中间层用涂布液M。
(中间层用涂布液N)
将聚缩醛树脂(BM-1,Sekisui Chemcial Co.,Ltd.制,玻璃化转变温度:67℃,10份)混合并溶解在甲基乙基酮(45份)和正丁醇(100份)的溶剂混合物中,从而制备中间层用涂布液N。
(中间层用涂布液O)
除了将醇酸树脂、氨基树脂和氧化钛的量分别变为48份、32份和350份外,如中间层用涂布液C的制备来制备中间层用涂布液O。
(中间层用涂布液P)
将聚酰胺树脂(Amilan CM8000,Toray Industries,Inc.,玻璃化转变温度:40℃,15份)和N-甲氧基甲基化尼龙(Toresin EF-30T,Nagase ChemteX Corporation制,35份)混合并溶解在甲醇(600份)和正丁醇(400份)的溶剂混合物中,从而制备中间层用涂布液P。
(中间层用涂布液Q)
将聚酰胺树脂(Amilan CM8000,Toray Industries,Inc.,50份)混合并溶解在甲醇(600份)和正丁醇(400份)的溶剂混合物中,从而制备中间层用涂布液Q。
(中间层用涂布液R)
将N-甲氧基甲基化尼龙(Toresin EF-30T,Nagase ChemteX Corporation制,50份)混合并溶解在甲醇(400份)和正丁醇(200份)的溶剂混合物中,从而制备中间层用涂布液R。
(中间层用涂布液S)
将聚乙烯醇树脂(PVA500,Kishida Chemical Co.,Ltd.制,玻璃化转变温度:85℃,10份)混合并在40℃下加热、溶解在甲醇(120份)和纯水(80份)的溶剂混合物中,从而制备中间层用涂布液S。
(中间层用涂布液T)
将聚碳酸酯树脂(Iupilon Z400,Mitsubishi Gas Chemical Company制,玻璃化转变温度:140℃,5份)混合并溶解在邻二甲苯(120份)和THF(80份)的溶剂混合物中,从而制备中间层用涂布液T。
(中间层用涂布液U)
将N-甲氧基甲基化尼龙(Toresin EF-30T,Nagase ChemteX Corporation制,50份)混合并溶解在甲醇(500份)和四氢呋喃(500份)的溶剂混合物中,从而制备中间层用涂布液U。
[表1]
中间层用涂布液的制造条件
*涂布液R和U在溶剂的种类上彼此不同。
(4)底涂层用涂布液的制备
将电子输送材料、交联剂和树脂(其种类和用量示于表2),与催化剂(己酸锌(II),Mitsuwa Chemicals Co.,Ltd.制,0.05份)一起溶解在四氢呋喃(50份)和1-甲氧基-2-丙醇(50份)的溶剂混合物中,接着搅拌,从而制备各底涂层用涂布液。在表2中,树脂D1为包含2.5mmol/g羟基的聚乙烯醇缩丁醛树脂(重均分子量:340000);树脂D2为包含2.1mmol/g羟基的聚酯树脂(重均分子量:10000);树脂D3为包含2.8mmol/g甲氧基的聚烯烃树脂(重均分子量:7000);和树脂D4为包含3.3mmol/g羟基的聚乙烯醇缩丁醛树脂(重均分子量:40000)
[表2]
底涂层用涂布液的制造条件
*括号内的表述示出保护基团的种类。例如B1(H5)是指用H5保护的B1。
(5)电荷产生层用涂布液的制备
将电荷产生材料(羟基镓酞菁晶体,其示出在采用Cu-Kα辐射的X-射线衍射中,在7.5°,9.9°,12.5°,16.3°,18.6°,25.1°和28.3°布拉格角(2θ±2°)处具有峰的图案,10份)、聚缩醛树脂(S-LEC BX-1,Sekisui Chemical Co.,Ltd.制,5份)和环己酮(250份)放置在采用玻璃珠(直径:1mm)的砂磨机中,并且分散1.5小时。将乙酸乙酯(250份)添加至得到的分散液中,从而制备电荷产生层用涂布液。
(6)表面层用涂布液
以5:5的摩尔比将以下材料溶解在二甲氧基甲烷(50份)和邻二甲苯(50份)的溶剂混合物中,从而制备表面层用涂布液:
电荷输送材料(由下式表示的胺化合物,7份)
和具有由下式表示的两种结构单元的聚酯树脂(重均分子量:120000,10份),
(7)电子照相感光体的制备
通过以下工艺制造电子照相感光体。采用上述方法,对得到的各感光体进一步进行各层的平均厚度、中间层马氏硬度、和与抵接构件接触区域中底涂层的面积比(可以与抵接构件接触的区域中存在的底涂层的总面积/可以与抵接构件接触的区域的总面积)的测量。如下所示各表示出支承体和涂布液的种类、以及物理性质。
(7-1)电子照相感光体1-1至1-94的制造(图1A-1)
(电子照相感光体1-1至1-92的制造)
通过浸涂将导电层用涂布液施涂在支承体上。干燥得到的涂膜,并在150℃下热固化30分钟,从而形成导电层(在感光体1-85和1-86中,不形成导电层)。在浸涂时,没有将导电层用涂布液施涂至距支承体的一端(浸涂时的上部)2mm的区域。浸涂后,将距另一端(浸涂时的下部)2mm的区域中的涂布液擦除。
随后,将底涂层用涂布液通过浸涂施涂至设置有导电层的支承体(或感光体1-85和1-86中的支承体)上。将得到的涂膜在160℃下加热60分钟以聚合,从而形成底涂层。在感光体1-1至1-86和1-92中,在浸涂时,未将底涂层用涂布液施涂至距支承体的一端(浸涂时的上部)15mm的区域。浸涂后,通过用环己酮溶剂润湿和用橡胶刮板摩擦,部分或完全除去距另一端(浸涂时的下部)15mm的区域中的底涂层。在感光体1-87至1-91中,在除距支承体的一端(浸涂时的上部)3mm的区域和距另一端(浸涂时的下部)3mm的区域外,通过浸涂形成底涂层。
随后,(i)在感光体1-1至1-44和1-87至1-91中,通过浸涂将中间层用涂布液施涂至距支承体的一端(浸涂时的下部)15mm的区域,并干燥得到的涂膜,并且在170℃下热固化60分钟(在感光体1-35至1-44中,在70℃下6分钟),从而仅在下端部形成中间层(干燥并热固化/仅下端部);
(ii)在感光体1-45至1-77、1-85和1-86中,通过浸涂将中间层用涂布液施涂至距支承体的一端15mm的区域,和距支承体的另一端15mm的区域,将得到的涂膜在室温下风干2分钟,从而在两端部形成中间层(风干/两端部);
(iii)在感光体1-78至1-84中,通过浸涂将中间层用涂布液施涂至距支承体的一端(浸涂时的下部)15mm的区域,并将得到的涂膜在室温下风干2分钟,以仅在下端部形成中间层(风干/仅下端部)。
(iv)在感光体1-92中,通过浸涂将中间层用涂布液施涂至距支承体的一端(浸涂时的下部)17mm的区域,并将得到的涂膜在室温下风干2分钟,以仅在下端部形成中间层(风干/仅下端部)。
采用表面粗糙度测量仪(Surfcorder SE-3400,Kosaka Laboratory Ltd.制),在距支承体的一端130mm的位置,使得到的中间层各自进行十点平均粗糙度RzJIS(基准长度:0.8mm)的测量。
将电荷产生层用涂布液通过浸涂施涂至设置有中间层和底涂层的支承体上。将得到的涂膜在100℃下干燥10分钟,从而形成电荷产生层。在该浸涂中,在距支承体的一端(浸涂时的上部)3mm的区域,未施涂电荷产生层用涂布液。浸涂后,将距另一端(浸涂时的下部)3mm的区域中的涂布液擦去。
最后,将表面层用涂布液通过浸涂施涂至设置有中间层、底涂层和电荷产生层的支承体上。将得到的涂膜在120℃下干燥20分钟,从而形成表面层。在该浸涂中,在距支承体的一端(浸涂时的上部)3mm的区域,未施涂表面层用涂布液。浸涂后,将距另一端(浸涂时的下部)3mm的区域中的涂布液擦去。
[表3]
感光体的制造条件和物理性质
[表4]
感光体的制造条件和物理性质
(电子照相感光体1-93的制造)
除了以下几点外,如电子照相感光体1-1的制备来制备电子照相感光体1-93。
(1)使用的支承体为长度为357.5mm和直径为30mm的铝筒(JIS-A3003,铝合金)。
(2)在距支承体的一端18mm而非15mm的区域通过浸涂中间层用涂布液形成中间层。
(3)不施涂表面层用涂布液,并且依次施涂电荷输送层用涂布液和表面保护层用涂布液,从而形成厚度为18μm的电荷输送层,和厚度为5μm的表面保护层。
通过浸涂下示电荷输送层用涂布液来形成电荷输送层,并且在110℃下将涂膜干燥60分钟。在该浸涂中,在距支承体的一端(浸涂时的上部)3mm的区域,未施涂电荷产生层用涂布液。浸涂后,将距另一端(浸涂时的下部)3mm的区域中的涂布液擦去。
通过将由下式表示的两种化合物(各5份),和聚碳酸酯(Iupilon Z400,Mitsubishi Gas Chemical Company制,10份)溶解在氯苯(650份)和二甲氧基甲烷(150份)的溶剂混合物中来制备电荷输送层用涂布液。
如下形成表面保护层。进行下述表面保护层用涂布液的浸涂,并且将得到的涂膜在50℃下干燥5分钟。然后在支承体旋转的同时,在氮气气氛和70kV的加速电压和13000Gy的吸收剂量下用电子射线照射涂膜1.6秒,从而使涂膜固化。将涂膜进一步在120℃的涂膜温度下于氮气气氛中热处理3分钟。用电子射线照射后直至热处理氧浓度为20ppm。然后,在所述气氛中在100℃的涂膜温度下将涂膜热处理30分钟,从而形成表面保护层。
通过来制备表面保护层用涂布液:将由下式表示的化合物(100份)溶解在1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(Zeorora H,Zeon Corporation制,80份)和1-丙醇(80份)的溶剂混合物中,并通过聚四氟乙烯树脂过滤器(polyflon filter)(PF-020,Advangtec Toyo KaisyaLtd.制)过滤该溶液。
(4)在形成表面保护层后,采用模具在感光体表面上形成表面轮廓。模具具有8μm的间隔的基部长轴直径为50μm和高度为2.0μm的穹顶形凸形状(dome-like convexes)。将模具压向感光体,同时将感光体表面和模具的温度保持在110℃,并沿圆周方向旋转感光体,从而转印表面轮廓。通过用激光显微镜(VK-9500,Keyence Corporation制)观察得到的感光体的表面,观察到8μm间隔的长轴直径为50μm和深度为1.0μm的凹形状。
(电子照相感光体1-94的制造)
除了使用如下制备的表面保护层用涂布液形成表面保护层,和将电子射线的吸收剂量改变为8500Gy以外,如电子照相感光体1-93所示制备电子照相感光体1-94。
如下制备表面保护层用涂布液。将含氟原子的树脂(GF-300,Toagosei Co.,Ltd.制,1.5份)溶解在1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(Zeorora H,Zeon Corporation制,45份)和1-丙醇(45份)的溶剂混合物中,并向其中添加润滑剂四氟乙烯树脂粉末(Lubron L-2,Daikin Industries Ltd.制,30份)。采用高压分散机(Microfluidizer M-110EH,Microfluidics Corporation制)在58.8MPa(600kgf/cm2)压力下,对得到的溶液进行分散处理四次,然后通过聚四氟乙烯树脂过滤器(PF-040,Advangtec Toyo Kaisya,Ltd.制)过滤,从而制备分散液。将分散液与由下式表示的化合物(70份)、1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(Zeorora H,Zeon Corporation制,35份)和1-丙醇(35份)混合。通过聚四氟乙烯树脂过滤器(PF-020,Advangtec Toyo Kaisya Ltd.制)过滤得到的混合物,从而制备表面保护层用涂布液。
(7-2)电子照相感光体2-1至2-49的制造(图1B-1)
将中间层用涂布液通过浸涂施涂在支承体上。干燥得到的涂膜并在170℃下热固化60分钟(在感光体2-35至2-44中,在70℃下6分钟),从而形成中间层。采用表面粗糙度测量仪(Surfcorder SE-3400,Kosaka Laboratory Ltd.制),在距支承体的一端130mm的位置处,对得到的中间层进行10点平均粗糙度RzJIS(基准长度:0.8mm)的测量。
随后,将底涂层用涂布液通过浸涂施涂在设置有中间层的支承体上。在160℃下加热得到的涂膜60分钟以聚合,从而形成底涂层。在感光体2-1至2-44中,浸涂时,在距支承体的一端(浸涂时的上部)15mm的区域未施涂底涂层用涂布液。浸涂后,通过用环己酮溶剂润湿和用橡胶刮板摩擦,部分或完全除去距另一端(浸涂时的下部)15mm的区域的底涂层。在感光体2-45至2-49中,在除距支承体的一端(浸涂时的上部)3mm的区域和距另一端(浸涂时的下部)3mm的区域以外的区域通过浸涂形成底涂层。
将电荷产生层用涂布液通过浸涂进一步施涂在设置有中间层和底涂层的支承体上。在100℃下干燥得到的涂膜10分钟,从而形成电荷产生层。在该浸涂中,在距支承体的一端(浸涂时的上部)3mm的区域未施涂电荷产生层用涂布液。浸涂后将距支承体的另一端(浸涂时的下部)3mm的区域中的涂布液擦去。
最后,将表面层用涂布液通过浸涂施涂在设置有中间层、底涂层和电荷产生层的支承体上。将得到的涂膜在120℃下干燥20分钟,从而形成表面层。在该浸涂中,在距支承体的一端(浸涂时的上部)3mm的区域未施涂表面层用涂布液。浸涂后将距支承体的另一端(浸涂时的下部)3mm的区域中的涂布液擦去。
[表5]
感光体的制造条件和物理性质
(7-3)电子照相感光体3-1至3-92的制造(图1A-2)
除了将电荷产生层和中间层的涂布顺序反转外,如电子照相感光体1-1至1-92的制造来制造电子照相感光体3-1至3-92。即,将电荷产生层用涂布液通过浸涂施涂在设置有底涂层的支承体上,从而形成电荷产生层,并且将中间层用涂布液通过浸涂施涂在支承体的一端或两端,从而形成中间层。
(7-4)电子照相感光体4-1至4-7的制造(图1B-2)
将底涂层用涂布液通过浸涂施涂在支承体上。在160℃下加热得到的涂膜60分钟以聚合,从而形成底涂层。浸涂时,底涂层用涂布液未施涂至距支承体的一端(浸涂时的上部)15mm的区域。浸涂后通过用环己酮溶剂润湿和用橡胶刮板摩擦,部分或完全除去距另一端(浸涂时的下部)15mm的区域中的底涂层。
随后,通过浸涂将电荷产生层用涂布液施涂至设置有底涂层的支承体上。在100℃下干燥得到的涂膜10分钟,从而形成电荷产生层。浸涂时,电荷产生层用涂布液未施涂至距支承体的一端(浸涂时的上部)3mm的区域。浸涂后擦去距另一端(浸涂时的下部)3mm的区域中的涂布液。
随后,(i)在感光体4-1至4-3中,通过浸涂将中间层用涂布液施涂至距支承体的一端(浸涂时的下部)17mm的区域,并在室温下风干得到的涂膜2分钟,以仅在下端部形成中间层(风干/仅下端部);
(ii)在感光体4-4和4-5中,通过浸涂将中间层用涂布液施涂至距支承体的一端17mm的区域,和距支承体的另一端17mm的区域,将得到的涂膜在室温下风干2分钟,以在两端部形成中间层(风干/两端部);和
(iii)在感光体4-6和4-7中,浸涂时在距支承体的一端(浸涂时的下部)3mm区域未施涂中间层用涂布液,并且浸涂后擦去距另一端(浸涂时的下部)3mm的区域中的涂布液。将得到的涂膜在室温下风干2分钟,从而形成中间层(全部区域/风干)。
采用表面粗糙度测量仪(Surfcorder SE-3400,Kosaka Laboratory Ltd.制),在距支承体的一端130mm位置处,对得到的中间层进行10点平均粗糙度RzJIS(基准长度:0.8mm)的测量。
最后,将表面层用涂布液通过浸涂施涂在设置有中间层、底涂层和电荷产生层的支承体上。将得到的涂膜在120℃下干燥20分钟,从而形成表面层。在该浸涂中,在距支承体的一端(浸涂时的上部)3mm的区域未施涂表面层用涂布液。浸涂后将距支承体的另一端(浸涂时的下部)3mm的区域中的涂布液擦去。
[表6]
感光体的制造条件和物理性质
<2>电子照相感光体的评价
(电子照相感光体1-1至1-92、2-1至2-49、3-1至3-92、和4-1至4-7)
将以上制造的电子照相感光体安装在下示激光束打印机X或Y上。在此情况下,隔离构件(由聚甲醛材料制成的圆筒)与电子照相感光体的两端部的各自(浸涂时的上部和下部分别也称作“上端部”和“下端部”)抵接,以保持电子照相感光体与显影剂承载构件之间的距离。各抵接的中心位置在距感光体的一端9mm处。电子照相感光体的成像区为除距上端部约20mm的上部和距下端部约20mm以外的区域。
激光束打印机X:HP LaserJet Enterprise 600M603(Hewlett-Packard Company制),非接触显影系统,打印速度:A4垂直格式60张/分钟,隔离构件的宽度:4mm
激光束打印机Y:HP LaserJet Enterprise 500Color M551(Hewlett-PackardCompany制);接触显影系统,打印速度:A4垂直格式30张/分钟,隔离构件的宽度:2mm
所述两个激光束打印机均改造为使得可独立地控制从各隔离构件施加至电子照相感光体的上端部和下端部的压力(抵接力)。
采用设置有任意这些电子照相感光体的激光束打印机,在30℃温度和90%相对湿度的环境中,以每打印两张纸停止打印的间歇运转模式,以1%打印率在500000张A4尺寸的普通纸上打印图像。每100000张纸目测观察与隔离构件抵接的区域中的电子照相感光体的表面,从而评价防止层剥离的效果。评价标准如下:
A:未观察到变化;
B:观察到轻微地浮起;
C:观察到部分浮起,但未观察到剥离;和
D:观察到剥离。
使用的电子照相感光体和激光束打印机的种类、施加至各感光体的上端部和下端部的抵接力、以及评价结果示于下表。
[表7]
评价条件和评价结果
[表8]
评价条件和评价结果
[表9]
评价条件和评价结果
[表10]
评价条件和评价结果
[表11]
评价条件和评价结果
[表12]
评价条件和评价结果
(电子照相感光体1-93和1-94)
将电子照相感光体1-93和1-94安装在彩色复印机(iR-ADV C5255,CANONKABUSHIKI KAISHA制,双组分显影系统,印刷速度:A4横向格式55张/min,封端构件的宽度:5mm)的BK台上。在此情况下,封端构件与电子照相感光体的两端部抵接以防止显影剂泄漏。各抵接的中心位置在距感光体的一端部15mm处。按照上述方法和标准评价感光体。
电子照相感光体1-93和1-94的评价结果与实施例1-1(电子照相感光体1-1)的评价结果相当。
虽然参考示例性实施方案已描述了本发明,但应理解本发明并不局限于公开的示例性实施方案。权利要求书的范围符合最宽泛的解释以涵盖所有此类改进以及等同的结构和功能。
Claims (9)
1.一种电子照相感光体,其特征在于,所述电子照相感光体与选自用于使所述电子照相感光体带电的充电构件和用于向所述电子照相感光体供给显影剂的显影剂承载构件中的至少一种经由设置于其间的抵接构件抵接,其中
所述电子照相感光体沿其长度方向具有第一部分和不同于所述第一部分的第二部分,并且在所述第二部分与所述抵接构件抵接;
所述电子照相感光体依次包括支承体,包含电荷产生材料的电荷产生层,和表面层;
所述电子照相感光体在所述第一部分包括与所述电荷产生层的面向所述支承体的表面邻接的底涂层,所述底涂层包含含有电子输送材料和交联剂的组合物的聚合物;和
所述电子照相感光体在所述第二部分包括以下中的至少一者:
(i)设置在所述支承体与所述电荷产生层之间以与二者邻接的中间层;和
(ii)设置在所述电荷产生层与所述表面层之间以与二者邻接的中间层,其中
所述中间层各自具有500N/mm2以下的马氏硬度。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光体,其中所述电子照相感光体仅在所述第二部分包括所述中间层。
3.根据权利要求1所述的电子照相感光体,其中所述中间层具有100N/mm2以下的马氏硬度。
4.根据权利要求1所述的电子照相感光体,其中所述中间层包含选自由聚氨酯树脂、氨基树脂、聚酰胺树脂和聚缩醛树脂组成的组的至少一种。
5.根据权利要求4所述的电子照相感光体,其中所述树脂具有100℃以下的玻璃化转变温度。
6.根据权利要求1所述的电子照相感光体,其中所述中间层具有根据JIS B 0601:2001的十点平均粗糙度RzJIS为0.5μm以上且2.5μm以下的表面,所述十点平均粗糙度RzJIS的基准长度为0.8mm。
7.根据权利要求1所述的电子照相感光体,其中所述第二部分中的所述电荷产生层的平均厚度小于所述第一部分中的所述电荷产生层的平均厚度。
8.一种处理盒,其特征在于,其可拆卸地安装至电子照相设备的主体,所述处理盒包括:
根据权利要求1-7任一项所述的电子照相感光体;和
选自用于使所述电子照相感光体带电的充电构件和用于向所述电子照相感光体供给显影剂的显影剂承载构件中的至少一种。
9.一种电子照相设备,其特征在于,其包括:
根据权利要求1-7任一项所述的电子照相感光体;和
选自用于使所述电子照相感光体带电的充电构件和用于向所述电子照相感光体供给显影剂的显影剂承载构件中的至少一种。
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