CN106702318A - 掩膜框架及制造方法和掩膜板 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种掩膜框架，包括主框架和多个遮挡条，主框架上形成有沿厚度方向贯穿主框架的蒸镀区，主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个第一容纳槽分别位于蒸镀区第一方向的两侧，每个遮挡条对应一对第一容纳槽，遮挡条的两端分别设置在相应的两个第一容纳槽中，掩膜框架包括至少一对第一定位孔，每对第一定位孔对应一对第一容纳槽，且同一对第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个第一容纳槽位置对应。本发明还提供一种掩膜板。由于遮挡条精确地焊接在第一容纳槽中，从而可以对设置在掩膜框架上的掩膜条的边缘部进行遮挡，并且，由于遮挡条位置焊接精确，从而可以为掩膜条设计提供了较大的预偏量。

Description

掩膜框架及制造方法和掩膜板

技术领域

本发明涉及蒸镀设备领域，具体地，涉及一种掩膜框架、该掩膜框架的制造方法和一种包括所述掩膜框架的掩膜板。

背景技术

在形成有机发光二极管显示面板时，需要用到蒸镀工艺。在蒸镀工艺中，为了形成特定的图形，需要用到掩膜板。为了提高生产效率，通常在一个大的母板上进行蒸镀，然后将母板切割成多个小的阵列基板。相应地，掩膜板包括掩膜框架和多个掩膜条。掩膜条上形成有多个通孔，并且掩膜条固定在掩膜框架上。掩膜条上形成有多个通孔，蒸镀材料透过通孔沉积在母板上，以获得相应的图形。

为了保证掩膜条上应力处处相等，减少褶皱的产生，在掩膜条的边缘上也形成有通孔。但是，在沉积材料时，母板上与掩膜条的边缘对应的部分不需要沉积材料，因此，需要利用遮挡条对掩膜条的边缘进行遮挡。

图1中所示的是掩膜框架的主框架的示意图，如图所示，所述主框架上形成有沿厚度方向贯穿主框架100的蒸镀区A，主框架100上设置有多对第一容纳槽110，同一对第一容纳槽包括两个第一容纳槽110，两个第一容纳槽110分别位于蒸镀区A第一方向(图1中的上下方向)的两侧。在图1中所示的实施方式中，主框架上设置有三对第一容纳槽110。所述第一容纳槽用于容纳遮挡条的两个端部，具体地，所述遮挡条的两端分别设置在相应的两个第一容纳槽中。

在固定遮挡条时，首先需要对容纳槽的位置进行对位，对位准确后，将遮挡条焊接在容纳槽内。在对位时，利用容纳槽的侧壁作为对位基准。但是，容纳槽侧壁难以识别，容易造成对位不准确。此外，当掩膜板使用一段时间后，遮挡条可能会损坏，此时需要对遮挡条进行更换，更换时，需要将损坏了的遮挡条拆下，然后对第一容纳槽内的焊点进行打磨，重新焊接没有损坏的遮挡条。但是，对第一容纳槽内的焊点进行打磨也容易使得第一容纳槽的侧壁变成圆角，更加难以识别。

因此，如何将第一容纳槽与遮挡条进行精确对位成为本领域亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩膜框架、该掩膜框架的制造方法和一种包括所述掩膜框架的掩膜板。在所述掩膜框架上，遮挡条定位精确。

为了实现上述目的，作为本发明的一个方面，提供一种掩膜框架，所述掩膜框架包括主框架和多个遮挡条，所述主框架上形成有沿厚度方向贯穿所述主框架的蒸镀区，所述主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽分别位于所述蒸镀区第一方向的两侧，每个所述遮挡条对应一对所述第一容纳槽，所述遮挡条的两端分别设置在相应的两个第一容纳槽中，其中，所述掩膜框架包括至少一对第一定位孔，每对所述第一定位孔对应一对所述第一容纳槽，且同一对所述第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽位置对应。

优选地，所述主框架上设置有多对第二容纳槽和多个支撑条，两个所述第二容纳槽分别位于所述蒸镀区第二方向的两侧，所述第一方向和所述第二方向互相垂直，每个支撑条对应一对第二容纳槽，所述支撑条的两端分别设置在相应的两个第二容纳槽中。

优选地，所述掩膜框架包括至少一对第二定位孔，每对所述第二定位孔对应一对所述第二容纳槽，且同一对所述第二定位孔中的两个第二定位孔分别与相应的一对第二容纳槽中的两个第二容纳槽位置对应。

优选地，所述主框架包括框架本体和开放式掩膜板，所述开放式掩膜板上形成有所述第一定位孔和所述第二定位孔，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽形成在所述框架本体上，所述框架本体上还形成有环绕所述蒸镀区的第三容纳槽，所述开放式掩膜板设置在所述第三容纳槽中。

优选地，所述主框架包括框架本体和两个第一定位条，所述第一定位条上形成有多个所述第一定位孔，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽形成在所述框架本体上，所述蒸镀区的第一方向的两侧各形成一个第四容纳槽，两个所述第一定位条分别设置在两个所述第四容纳槽中。

优选地，所述主框架还包括两个第二定位条，所述第二定位条上形成有多个所述第二定位孔，所述第二容纳槽形成在所述框架本体上，所述蒸镀区的第二方向的两侧各形成一个第五容纳槽，两个所述第二定位条分别设置在两个所述第五容纳槽中。

优选地，所述主框架包括框架本体，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽、所述第二容纳槽、所述第一定位孔和所述第二定位孔均形成在所述框架本体上。

优选地，所述掩膜框架设置所述遮挡条和所述支撑条的表面形成为平整的安装表面。

作为本发明的另一方面，提供一种掩膜板，所述掩膜板包括掩膜框架和多个掩膜条，其中，所述掩膜框架为本发明所提供的上述掩膜框架，多个所述掩膜条固定在所述主框架上，且一个所述掩膜条位于相邻两个所述遮挡条之间，所述掩膜条的边缘区与所述遮挡条重叠。

作为本发明的还一方面，提供一种掩膜框架的制造方法，其中，所述掩膜框架包括至少一对第一定位孔，所述制造方法包括：

提供主框架，所述主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽分别位于所述蒸镀区第一方向的两侧，每对所述第一定位孔对应一对所述第一容纳槽，且同一对所述第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽位置对应；

以所述第一定位孔为基准，对与所述第一定位孔对应的第一容纳槽与遮挡条进行对位，对位准确后，将所述遮挡条的两端分别焊接在相应一对所述第一容纳槽中的两个第一容纳槽中。

优选地，所述掩膜框架包括至少一对第二定位孔，每对所述第二定位孔对应一对所述第二容纳槽，且同一对所述第二定位孔中的两个第二定位孔分别与相应的一对第二容纳槽中的两个第二容纳槽位置对应，所述制造方法还包括：

以第二定位孔为基准，对与所述第二定位孔对应的第二容纳槽与支撑条进行对位，对位准确后，将所述支撑条的两端分别焊接在相应一对所述第二容纳槽中的两个第一容纳槽中。

与第一容纳槽的边界相比，第一定位孔的边界更加清楚，容易识别，并且，即便在更换破损遮挡条时对第一容纳槽内的焊点进行打磨也不会影响第一定位孔的边界。因此，在以第一定位孔为基准对遮挡条进行对位时，可以将遮挡条精确地焊接在第一容纳槽中，从而可以对设置在所述掩膜框架上的掩膜条的边缘部进行遮挡，并且，由于遮挡条位置焊接精确，从而可以为掩膜条设计提供了较大的预偏量。因此，在利用包括所述掩膜框架的掩膜板进行蒸镀时，可以在衬底基板上形成更加精确的图形。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1是现有的掩膜框架中的主框架的示意图；

图2a是本发明所提供的掩膜框架中主框架的一种实施方式的示意图；

图2b是图2a的I-I剖视图；

图3a是本发明所提供的掩膜框架中主框架的另一种实施方式的示意图；

图3b是图3a的II-II剖视图；

图3c是图3a的III-III剖视图；

图4是本发明所提供的掩膜板的结构示意图。

附图标记说明

100：主框架 110：第一容纳槽

200：主框架 200a：框架本体

200b：开放式掩膜板 200c：第一定位条

200d：第二定位条 A：蒸镀区

210：第一容纳槽 210a：第一定位孔

220：第二容纳槽 220a：第二定位孔

300：掩膜条 400：遮挡条

500：支撑条

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。

作为本发明的一个方面，提供一种掩膜框架，如图2所示，所述掩膜框架包括主框架200和多个遮挡条(未示出)，主框架200上形成有沿厚度方向贯穿该主框架的蒸镀区A。主框架200上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中两个第一容纳槽210分别位于蒸镀区A第一方向(图2中的上下方向)的两侧，每个所述遮挡条对应一对第一容纳槽。所述遮挡条的两端分别设置在相应的两个第一容纳槽210中，其中，所述掩膜框架包括至少一对第一定位孔210a，每对第一定位孔210a对应一对第一容纳槽210，且同一对第一定位孔210a中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽210中的两个所述第一容纳槽位置对应。

在焊接遮挡条时，可以将第一定位孔210a作为相应的第一容纳槽210的对位基准。由于第一定位孔210a的边界是封闭图形，与第一容纳槽210的侧壁边缘相比，第一定位孔210a的边缘更加容易识别。并且，利用第一定位孔210a作为定位基准，可以排除设备精度对焊接精度的影响和打磨修复时对识别边界的损伤。因此，在将遮挡条焊接在第一容纳槽中之前，可以将遮挡条与第一定位孔进行精确的对位，并且可以确保遮挡条精确地焊接在第一容纳槽中。

当遮挡条发生损坏时，可以将破损的遮挡条从第一容纳槽中拆除。对第一容纳槽内的焊点进行打磨的过程中，不会打磨到第一定位孔，因此，更换新的遮挡条时，仍然可以以第一定位孔为基准对新的遮挡条进行定位，从而将遮挡条定位精确地固定在主框架上。

由于遮挡条精确地焊接在第一容纳槽中，从而可以对设置在所述掩膜框架上的掩膜条的边缘部进行遮挡，并且，由于遮挡条位置焊接精确，从而可以为掩膜条设计提供了较大的预偏量。因此，在利用包括所述掩膜框架的掩膜板进行蒸镀时，可以在衬底基板上形成更加精确的图形。

优选地，每对第一容纳槽都对应有相应的一对所述第一定位孔，从而可以对所有的遮挡条进行精确定位。

容易理解的是，在蒸镀形成显示基板时，通常在一个面积较大的衬底基板上蒸镀形成多个显示基板的图形。相应地，需要主框架的尺寸与所述衬底基板对应，此种情况中，所述主框架上焊接有多个掩膜条，每个掩膜条都具有一定的下垂量，为了防止掩膜条下垂量过大，需要对掩膜条进行横向支撑，优选地，可以在主框架上设置支撑条，支撑条可以对掩膜条进行横向支撑，减少掩膜条的下垂量，使得掩膜条与基板更好的贴合。

除了支撑作用外，支撑条的另一作用是遮挡掩膜条上的一些通孔。

相应地，如图2中所示，所述主框架上设置有多对第二容纳槽和多个支撑条，两个第二容纳槽220分别位于蒸镀区A第二方向(图2中的左右方向)的两侧，所述第一方向和所述第二方向互相垂直。每个支撑条对应一对第二容纳槽220，所述支撑条的两端分别设置在相应的两个第二容纳槽中。

设置了支撑条后，可以增加主框架的刚性，防止主框架变形，同时对掩膜条进行了横向支撑，防止掩膜条变形。并且，掩膜条上与支撑条位置相重叠的区域的蒸镀通孔被遮挡，蒸镀的材料不会穿过支撑条到达衬底基板上，从而可以在相邻两个显示基板之间形成间隔。因此，设置支撑条也有利于在衬底基板上蒸镀形成精确的图形。

为了将支撑条精确地设置在第二容纳槽内，优选地，所述掩膜框架包括至少一对第二定位孔220a，每对第二定位孔220a对应一对第二容纳槽220，且同一对第二定位孔中的两个第二定位孔分别与相应的一对第二容纳槽中的两个第二容纳槽位置对应。

与第一定位孔210a类似，第二定位孔220a边界明显便于识别，有利于支撑条与第二容纳槽220之间的精确对位。并且，当支撑条发生破损时，拆除破损的支撑条后对第二容纳槽内的焊点进行打磨也不会对第二定位孔220a造成影响。再次焊接新的支撑条时，仍然可以以第二定位孔220a为基准进行精确的对位。

在本发明中，对如何获得第一定位孔210a和第二定位孔220a并没有特殊的限制，例如，可以在加工主框架时，在第一容纳槽210相对应的位置加工第一定位孔210a，并在第二容纳槽220相对应的位置加工第二定位孔220a。

或者，可以将第一定位孔210a和第二定位孔220a设置在辅助框架上，然后将辅助框架固定在主框架200上，并使得第一定位孔210a的位置与第一容纳槽210相对应、第二定位孔220a的位置与第二容纳槽220相对应。

为了简化制造工艺，优选地，如图2a所示，主框架200包括框架本体200a和开放式掩膜板200b。此处所述的开放式掩膜板200b与蒸镀共有层的开放式掩膜板类似，通过商购即可获得。在这种实施方式作用，开放式掩膜板本身只有一个外框，且开口区的位置大小与蒸镀区A大小相当，并且，开放式掩膜板本身设置有定位孔，因此，将开放式掩膜板上的定位孔用作所述第一定位孔和所述第二定位孔即可。

如图2a所示，框架本体200a环绕蒸镀区A，第一容纳槽210形成在框架本体200a上，框架本体200a上还形成有环绕蒸镀区A的第三容纳槽，开放式掩膜板200b设置在所述第三容纳槽中。

将开放式掩膜板200b设置在第三容纳槽内的优点在于，可以容纳开放式掩膜板200b，防止开放式掩膜板从框架本体的上表面凸出，从而可以确保固定在框架本体200a上的掩膜条的平整性，并保证获得精确的蒸镀图形。

图2b是图2a的I-I剖视图，从图中可以看出，开放式掩膜板200b设置在第三容纳槽中。

作为另一种实施方式，如图3a所示，主框架200包括框架本体200a和两个第一定位条200c。该第一定位条200c上形成有多个第一定位孔210a，框架本体200a环绕蒸镀区A，第一容纳槽210形成在框架本体200a上，蒸镀区A的第一方向的两侧各形成一个第四容纳槽，两个第一定位条200c分别设置在两个所述第四容纳槽中。

图3b中所示的是图3a的II-II剖视图，从图中可以看出，第一定位条200c设置在第四容纳槽中。

在本发明中，可从开放式掩膜板上切割一部分，以形成第一定位条。

优选地，所述主框架还包括两个第二定位条200d，该第二定位条200d上形成有多个第二定位孔220a，第二容纳槽220形成在框架本体200a上，所述蒸镀区的第二方向的两侧各形成一个第五容纳槽(未示出)，两个第二定位条200d分别设置在两个所述第五容纳槽中。

此处，可从开放式掩膜板上切割一部分，以形成第二定位条200d。

图3c中所示的是图3a的III-III剖视图，从图中可以看出，第二定位条200d设置在第五容纳槽中。

在图3a中所示的具体实施方式中，将开放式掩膜板切割成四部分，分别形成两个第一定位条和两个第二定位条。

在本发明所提供的优选实施方式中，第三容纳槽、第四容纳槽、第五容纳槽的深度均大于第一容纳槽的深度，也均大于第二容纳槽的深度。

作为本发明的另外一种方式，可以直接在框架本体上加工形成所述第一定位孔和所述第二定位孔。具体地，所述主框架包括框架本体，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽、所述第二容纳槽、所述第一定位孔和所述第二定位孔均形成在所述框架本体上。

为了防止掩膜条表面出现不平整，优选地，遮挡条和支撑条的表面均不高于所述主框架的表面。具体地，遮挡条的厚度可以小于或者等于第一容纳槽的深度；所述支撑条的厚度小于或等于所述第二容纳槽的深度。

作为本发明的第二个方面，提供一种掩膜板，如图4所示，所述掩膜板包括掩膜框架和多个掩膜条300，其中，所述掩膜框架为本发明所提供的上述掩膜框架，多个掩膜条300固定在所述主框架上，且一个遮挡条400位于相邻两个掩膜条300之间，掩膜条300的边缘区与遮挡条400重叠。

本发明中，掩膜条300的边缘部上形成有通孔，从而使得整个掩膜条上应力分布均匀，不会出现变形等现象。

如上文中所述，由于所述掩膜框架上设置有与所述第一容纳槽相对应的第一定位孔，因此，可以将遮挡条400精确地定位在第一容纳槽内。遮挡条400精确定位后，可以有效地阻挡透过边缘区通孔的蒸镀材料沉积在待加工的衬底基板上，从而可以提高形成在衬底基板上的图形的精度。

在图4中，虚线L表示的即为相邻两个掩膜条300的交接线。

由于所述掩膜框架上设置有与所述第二容纳槽对应的第二定位孔，因此，可以将支撑条500精确地定位在第二容纳槽内。

由于所述掩膜板中支撑条和遮挡条定位精确，因此，可以对掩膜条之间的间隙进行准确的遮挡，从而可以在衬底基板上形成精确的图形。

作为本发明的还一个方面，提供一种掩膜框架的制造方法，其中，所述掩膜框架包括至少一对第一定位孔，所述制造方法包括：

提供主框架，所述主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽分别位于所述蒸镀区第一方向的两侧，每对所述第一定位孔对应一对所述第一容纳槽，且同一对所述第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽位置对应；

以所述第一定位孔为基准，对与所述第一定位孔对应的第一容纳槽与遮挡条进行对位，对位准确后，将所述遮挡条的两端分别焊接在相应一对所述第一容纳槽中的两个第一容纳槽中。

如上文中所述，由于第一定位孔的边界是封闭图形，与第一容纳槽210的侧壁边缘相比，第一定位孔的边缘更加容易识别。并且，利用第一定位孔作为定位基准，可以排除设备精度对焊接精度的影响和打磨修复时对识别边界的损伤。因此，在将遮挡条焊接在第一容纳槽中之前，可以将遮挡条与第一定位孔进行精确的对位，并且可以确保遮挡条精确地焊接在第一容纳槽中。

当遮挡条发生损坏时，可以将破损的遮挡条从第一容纳槽中拆除。对第一容纳槽内的焊点进行打磨的过程中，不会打磨到第一定位孔，因此，更换新的遮挡条时，仍然可以以第一定位孔为基准对新的遮挡条进行定位，从而将遮挡条定位精确地固定在主框架上。

由于遮挡条精确地焊接在第一容纳槽中，从而可以对设置在所述掩膜框架上的掩膜条的边缘部进行遮挡，并且，由于遮挡条位置焊接精确，从而可以为掩膜条设计提供了较大的预偏量。因此，在利用包括所述掩膜框架的掩膜板进行蒸镀时，可以在衬底基板上形成更加精确的图形。

当所述掩膜框架具有较大尺寸时，需要设置支撑条对掩膜条进行支撑。在这种情况中，所述掩膜框架包括至少一对第二定位孔，每对所述第二定位孔对应一对所述第二容纳槽，且同一对所述第二定位孔中的两个第二定位孔分别与相应的一对第二容纳槽中的两个第二容纳槽位置对应，所述制造方法还包括：

以第二定位孔为基准，对与所述第二定位孔对应的第二容纳槽与支撑条进行对位，对位准确后，将所述支撑条的两端分别焊接在相应一对所述第二容纳槽中的两个第一容纳槽中。

与第一定位孔类似，第二定位孔边界明显便于识别，有利于支撑条与第二容纳槽之间的精确对位。并且，当支撑条发生破损时，拆除破损的支撑条后对第二容纳槽内的焊点进行打磨也不会对第二定位孔造成影响。再次焊接新的支撑条时，仍然可以以第二定位孔为基准进行精确的对位。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (11)

1.一种掩膜框架，所述掩膜框架包括主框架和多个遮挡条，所述主框架上形成有沿厚度方向贯穿所述主框架的蒸镀区，所述主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽分别位于所述蒸镀区第一方向的两侧，每个所述遮挡条对应一对所述第一容纳槽，所述遮挡条的两端分别设置在相应的两个第一容纳槽中，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一对第一定位孔，每对所述第一定位孔对应一对所述第一容纳槽，且同一对所述第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽位置对应。

2.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架上设置有多对第二容纳槽和多个支撑条，两个所述第二容纳槽分别位于所述蒸镀区第二方向的两侧，所述第一方向和所述第二方向互相垂直，每个支撑条对应一对第二容纳槽，所述支撑条的两端分别设置在相应的两个第二容纳槽中。

3.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一对第二定位孔，每对所述第二定位孔对应一对所述第二容纳槽，且同一对所述第二定位孔中的两个第二定位孔分别与相应的一对第二容纳槽中的两个第二容纳槽位置对应。

4.根据权利要求3所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架包括框架本体和开放式掩膜板，所述开放式掩膜板上形成有所述第一定位孔和所述第二定位孔，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽形成在所述框架本体上，所述框架本体上还形成有环绕所述蒸镀区的第三容纳槽，所述开放式掩膜板设置在所述第三容纳槽中。

5.根据权利要求3所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架包括框架本体和两个第一定位条，所述第一定位条上形成有多个所述第一定位孔，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽形成在所述框架本体上，所述蒸镀区的第一方向的两侧各形成一个第四容纳槽，两个所述第一定位条分别设置在两个所述第四容纳槽中。

6.根据权利要求5所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架还包括两个第二定位条，所述第二定位条上形成有多个所述第二定位孔，所述第二容纳槽形成在所述框架本体上，所述蒸镀区的第二方向的两侧各形成一个第五容纳槽，两个所述第二定位条分别设置在两个所述第五容纳槽中。

7.根据权利要求3所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架包括框架本体，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽、所述第二容纳槽、所述第一定位孔和所述第二定位孔均形成在所述框架本体上。

8.根据权利要求2至7中任意一项所述的掩膜框架，其特征在于，所述遮挡条的厚度小于或等于所述第一容纳槽的深度，所述支撑条的厚度小于或等于所述第二容纳槽的深度。

9.一种掩膜板，所述掩膜板包括掩膜框架和多个掩膜条，其特征在于，所述掩膜框架为权利要求1至8中任意一项所述的掩膜框架，多个所述掩膜条固定在所述主框架上，且一个所述掩膜条位于相邻两个所述遮挡条之间，所述掩膜条的边缘区与所述遮挡条重叠。

10.一种掩膜框架的制造方法，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一对第一定位孔，所述制造方法包括：

提供主框架，所述主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽分别位于所述蒸镀区第一方向的两侧，每对所述第一定位孔对应一对所述第一容纳槽，且同一对所述第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽位置对应；

以所述第一定位孔为基准，对与所述第一定位孔对应的第一容纳槽与遮挡条进行对位，对位准确后，将所述遮挡条的两端分别焊接在相应一对所述第一容纳槽中的两个第一容纳槽中。

11.根据权利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一对第二定位孔，每对所述第二定位孔对应一对所述第二容纳槽，且同一对所述第二定位孔中的两个第二定位孔分别与相应的一对第二容纳槽中的两个第二容纳槽位置对应，所述制造方法还包括：

以第二定位孔为基准，对与所述第二定位孔对应的第二容纳槽与支撑条进行对位，对位准确后，将所述支撑条的两端分别焊接在相应一对所述第二容纳槽中的两个第一容纳槽中。