CN105807527A - 电致彩色显示装置，电致彩色显示元件及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供抑制伴随电极变粗造成的视认性降低、使得低电阻和高透明性同时实现、且支持体和电极的密接性优异的电致彩色显示装置。其包括：第一支持体(101)，在一面具有槽；第一电极(102)，形成在第一支持体中的槽；第一透明导电层(103)，形成为与第一支持体中的形成第一电极的面相接；电致彩色显示层(104)，形成为与第一透明导电层相接；第二支持体(108)，在第一支持体有槽侧相对，在第一支持体侧的面具有槽；第二电极(107)，形成在第二支持体中的槽；第二透明导电层(106)，形成为与第二支持体中的形成上述第二电极的面相接；以及电解质层(105)，形成在电致彩色显示层和第二透明导电层之间。

Description

电致彩色显示装置，电致彩色显示元件及其制造方法

技术领域

本发明涉及电致彩色显示装置，电致彩色显示元件及其制造方法。

背景技术

通过施加电压，引发可逆的氧化还原反应，将颜色可逆地变化的现象称为电致变色。利用该电致变色的装置为电致彩色显示装置，在电致彩色显示装置中，可以实现来自电致变色特征的应用，至今进行了很多研究。

作为用于电致彩色显示装置的电致彩色显示材料，可列举有机材料、无机材料。有机材料由于其分子结构能实现各种各样色彩发色，有希望作为彩色显示装置。另一方面，无机材料在色彩的控制方面存在课题，利用其作为色彩度低成为优点的应用，研究在调光玻璃或ND滤光器方面的实用化。

另一方面，当将电致彩色显示装置作为大型的应用展开时，发生电化学反应耗时，因此，产生发色消色所需速度(应答速度)低的问题。对此，在电致彩色显示装置中，以氧化铟锡(ITO)为代表的透明导电膜适合作为电极使用，为了抑制应答速度降低，尝试使得ITO叠层。

但是，为了抑制应答速度降低，需要使得ITO叠层厚，伴随膜厚增加，透光性(透明性)降低。为此，低电阻和高透明性相互处于冲突关系，难以两立。

为了解决这样的冲突关系，报告通过具备由比ITO体积电阻率低的材料形成的栅极电极作为辅助电极，尝试使低电阻和高透明性两立(例如专利文献1，2)。

在专利文献1，报告电致彩色显示元件，其对透明基板、透明电极、电致彩色显示层、电解质层、相对电极进行叠层，与透明电极相接，或在透明电极内部设有栅极电极层。

在此，已知栅极电极的表面电阻值RS用下式表示：

$RS=\frac{\mathrm{\ρ}}{t}\·\frac{1}{1-OA}$

在式(1)中，RS表示表面电阻值，ρ表示栅极电极材料的体积电阻率，T表示栅极电极的配线的厚度，OA表示栅极电极的开口率。

若根据式(1)可知，为了一边保证高透明性，一边降低表面电阻值RS，一边使得开口率OA尽可能高(一边减小栅极电极的配线宽度，保持配线间隔宽)，一边减小体积电阻率ρ，增大配线厚度T很有效。

另一方面，在专利文献1中，通过使用银膏的丝网印刷，在平面基板上形成栅极电极配线。

但是，若在平面上使用膏体印刷，由于膏体材料湿润延展，配线宽度变粗，电极显眼，因此，视认性降低，同时透明性也降低(开口率OA降低)。并且，基板和栅极电极仅仅以平面接触，因此，基板和栅极电极的密接性低，当基板弯曲时，存在栅极电极容易剥离的问题。

并且，在专利文献2中，报告了电致彩色显示元件，其对基板、透明导电膜、氧化发色层、电解层、还原发色层进行叠层，在透明导电膜中具有金属栅极电极。在专利文献2中，记载在平面基板上印刷触媒图样后，用电镀处理形成栅极电极，或通过在平面基板上印刷导电性油墨图样形成栅极电极。

但是，在电镀处理中，栅极电极配线在宽度方向生长，并且在导电性油墨中，湿润扩展，因此，不管哪种场合配线宽度都变大显眼。因此，视认性降低，同时透明性也降低(开口率OA降低)。又，基板和栅极电极仅仅以平面接触，因此，基板和栅极电极的密接性低，当弯曲基板时，存在栅极电极容易剥离的问题。

【专利文献】

【专利文献1】日本特开昭64-090422号公报

【专利文献2】日本特开2010-014917号公报

发明内容

于是，本发明鉴于上述课题而提出，其目的在于，提供抑制伴随电极变粗造成的视认性降低、使得低电阻和高透明性同时实现、且支持体和电极的密接性优异的电致彩色显示装置，电致彩色显示元件及其制造方法。

为了解决上述课题，本发明的电致彩色显示装置的特征在于，包括：

第一支持体，在一面具有槽；

第一电极，形成在上述第一支持体中的槽；

第一透明导电层，形成为与上述第一支持体中的形成上述第一电极的面相接；

电致彩色显示层，形成为与上述第一透明导电层相接；

第二支持体，在上述第一支持体有槽侧相对，在上述第一支持体侧的面具有槽；

第二电极，形成在上述第二支持体中的槽；

第二透明导电层，形成为与上述第二支持体中的形成上述第二电极的面相接；以及

电解质层，形成在上述电致彩色显示层和上述第二透明导电层之间。

下面，说明本发明的效果：

根据本发明，能提供抑制伴随电极变粗造成的视认性降低、使得低电阻和高透明性同时实现、且支持体和电极的密接性优异的电致彩色显示装置。

根据本发明，能提供解决以往技术中诸问题、没有发色不匀、应答速度优异的电致彩色显示元件。

附图说明

图1是本发明的电致彩色显示装置的一例的截面模式图。

图2是表示本发明的电致彩色显示元件的一例的概略截面图。

图3是表示本发明的电致彩色显示元件的另一例的概略截面图。

图4A是表示以往的电致彩色显示元件的一例的概略截面图。

图4B是表示图4A的点划线框部分的局部放大图。

图5是表示以往的电致彩色显示元件的另一例的概略截面图。

具体实施方式

以下，一边参照附图一边说明本发明涉及的电致彩色显示装置。本发明并不限于以下所示实施形态，其他实施形态、追加、修正、删除等，在本领域技术人员能想到的范围内可以进行变更，不管哪一种形态只要能达到本发明的作用/效果，都包含在本发明的范围内。

本发明的电致彩色显示装置的特征在于，包括：

第一支持体，在一面具有槽；

第一电极，形成在上述第一支持体中的槽；

第一透明导电层，形成为与上述第一支持体中的形成上述第一电极的面相接；

电致彩色显示层，形成为与上述第一透明导电层相接；

第二支持体，在上述第一支持体有槽侧相对，在上述第一支持体侧的面具有槽；

第二电极，形成在上述第二支持体中的槽；

第二透明导电层，形成为与上述第二支持体中的形成上述第二电极的面相接；以及

电解质层，形成在上述电致彩色显示层和上述第二透明导电层之间。

关于本发明的电致彩色显示装置的一实施形态，使用图1进行说明。图1为本实施形态的电致彩色显示装置中的截面模式图，图1图示第一支持体101，第一电极102，第一透明导电层103，电致彩色显示层104，电解质层105，第二透明导电层106，第二电极107，第二支持体108。

并且，在图1中，图示在第一支持体101和第二支持体108的一面形成槽，在各自槽中形成电极(第一电极102，第二电极107)。

以下进行详细说明。

<第一支持体和第二支持体>

作为第一支持体101和第二支持体108，可以使用玻璃，透明性树脂等。

作为透明性树脂，例如，可以列举聚碳酸酯树脂，丙烯酸树脂，聚乙烯，聚氯乙烯，聚酯，环氧树脂，三聚氰胺树脂，酚树脂，聚氨酯树脂，聚酰亚胺树脂等。

电致彩色显示装置为反射型显示装置场合，第一支持体101和第二支持体108中某个不需要透明性。

其中，优选第一支持体和第二支持体是透明性树脂薄膜。作为支持体，通过使用透明性树脂薄膜，与以往相比，电极的密接性高，可以制作能弯曲的柔性的电致彩色显示装置。

并且，在第一支持体101或第二支持体108的表面，为了提高水蒸气屏障性、气体屏障性、视认性，可以涂布透明绝缘层，反射防止层等。

第一支持体101和第二支持体108的厚度可以适当变更，例如使用玻璃时，通常为0.01～10mm，优选0.5～2.0mm。并且，使用透明性树脂薄膜时，通常为0.01～0.3mm，优选0.05～0.1mm。

第一支持体101和第二支持体108既可以使用相同材料，也可以是不同材料。

<<槽>>

在第一支持体101和第二支持体108的一面形成槽，在各自槽中形成电极(第一电极102，第二电极107)。

通过在支持体上形成电极，可以使得发色消色应答速度提高，同时，通过在槽局部形成电极，能抑制电极宽度粗，由此，可以提高视认性、透明性。

作为在支持体表面形成槽的手段，可以列举例如使用激光形成的手段，利用光/蚀刻处理形成的手段，通过压模精细加工形成的手段等。

槽的形状可以合适地变更，例如，可以设为如下：槽宽度为1～100μm，优选的是5～50μm，槽的深度为0.1～100μm，优选的是0.5～10μm，槽的间隔为100～50，000μm，优选的是500～5，000μm。并且，优选槽为线状或格子状图形化。第一支持体101中的槽和第二支持体108中的槽的形状、间隔、个数既可以相同，也可以不同。

<第一电极和第二电极>

作为第一电极102和第二电极107，可以使用导电率优异的银膏、铜膏、银油墨、铜油墨、低电阻金属(金，银，铜，铝，镍，锡等)等。第一电极102和第二电极107的材料既可以相同，也可以不同。

第一电极和第二电极的体积电阻率由于使用材料不同而变更，因此，可以合适地变更，优选第一电极102的体积电阻率比第一透明导电层103的体积电阻率小，且第二电极107的体积电阻率比第二透明导电层106的体积电阻率小。此时，可以进一步提高发色消色应答速度。

作为形成电极的方法，可以列举通过丝网印刷、凹版胶印、喷墨印刷等各种印刷手段形成的方法，使用溅镀、蒸镀、离子电镀法通过掩模保护非电极部分仅仅在所希望部位形成电极的方法，在槽中形成种子层图样后通过非电解电镀、电解电镀形成电极的方法等。

作为上述种子层，非电解电镀时，可以成为非电解电镀的触媒，根据因非电解电镀析出的金属种类或使用的电镀液选择。可以使用例如PdTIO₃·6H₂O(金属氧化物水和物)微粒，或使得氧化钛等的金属氧化物载置Pd的微粒等。电解电镀时，只要能导通的材料即可，使用银膏，铜膏，银油墨，铜油墨，氧化铟锡(ITO)等。

又，在第一支持体101中的电致彩色显示层104侧的面，形成第一电极102的第一支持体101的开口率优选为90％以上，更优选95％以上。此时，可以更加提高透明性。开口率是指相对于第一支持体101的全体面积，没有形成第一电极102的部分的面积的比例。

又，关于第二支持体108也同样，更优选的是，第一支持体101和第二支持体108的开口率都满足上述范围。

并且，在本实施形态中，如图1所示，形成为电极的高度比槽的深度长。换言之，如图1所示，电极使得槽的局部鼓出，形成为中心部成为凸状。

在本发明中，并不限于如图1所示的形态，可以在能得到本发明的效果的范围内适当变更。例如，可以使得电极的高度与槽的深度相同，或者使得电极的高度比槽的深度短。

<第一透明导电层和第二透明导电层>

作为第一透明导电层103和第二透明导电层106，可以列举例如ITO，FTO，ATO等的无机材料等。其中，优选的是，包含真空成膜形成的氧化铟，氧化锡，以及氧化锌中的任意一种的无机材料。氧化铟，氧化锡，以及氧化锌是通过溅镀法可以容易成膜的材料，同时，也是可以得到良好的透明性和导电率的材料。其中，更好的是，InSnO，GaZnO，SnO，In₂O₃，ZnO，InZnO。

再有，为了提高耐弯曲性，优选结晶性低的物质。又，具有透明性的银、金、铜、碳纳米管、金属氧化物等的网络电极，或这些的复合层也很有用。上述所谓网络电极是指将碳纳米管或其他高导电性的非透过性材料等形成细微的网络状使其具有透射率的电极。

透明导电层的厚度为10nm～1μm，优选的是50nm～500nm。

第一透明导电层103和第二透明导电层106既可以是相同材料，也可以是不同材料。

<电致彩色显示层>

电致彩色显示层104是含有电致彩色显示材料的层。

作为电致彩色显示材料，可以是无机电致彩色显示化合物以及有机电致彩色显示化合物的任意一种。并且，也可以使用因电致彩色显示而公知的导电性高分子。

作为无机电致彩色显示化合物，可以列举例如氧化钨，氧化钼，氧化铱，氧化钛等。

作为有机电致彩色显示化合物，可以列举例如紫罗碱，稀土类酞菁，苯乙烯等。

作为导电性高分子，可以列举例如多吡咯，聚噻吩，聚苯胺，或这些的衍生物等。

作为电致彩色显示层104，优选使用在导电性或半导体性微粒载置有机电致彩色显示化合物的结构。具体来说，在电极表面粘附粒径5nm～50nm左右的微粒，在微粒表面吸附具有膦酸或羧基、硅烷醇基等的极性基团的有机电致彩色显示化合物的结构。

上述结构由于利用微粒的大的表面效果，高效地向有机电致彩色显示化合物注入电子，与以往的电致彩色显示显示元件相比，可以实现高速应答。再有，通过使用微粒，能形成透明的膜作为显示层，由此，能得到电致彩色显示化合物的高的发色浓度。并且，也可以将多种类有机电致彩色显示化合物载置在导电性或半导体性微粒。再有，导电性微粒能兼有作为电极层的导电性。

具体来说，作为聚合物系以及色素系的电致彩色显示化合物，可以列举例如偶氮苯系，蒽醌系，二芳基乙烯系，二氢芘系，二吡啶系，苯乙烯基系，苯乙烯基螺吡喃系，螺噁嗪系，螺噻喃系，硫靛蓝系，四硫富瓦烯系，对苯二酸系，三苯甲烷系，联苯胺系，三苯胺系，萘并吡喃系，紫罗碱系，吡唑啉系，吩嗪系，苯二胺系，吩恶嗪系，吩噻嗪系，酞菁系，荧光母素系，俘精酸酐系，苯并吡喃系，金属茂系等的低分子系有机电致彩色显示化合物，聚苯胺，聚噻吩等的导电性高分子化合物等。这些可以一种单独使用，也可以二种以上并用。

其中，从发色消色电位低有良好的色值来看，优选紫罗碱系化合物，二吡啶系化合物，例如，用下述一般式(1)表示的二吡啶系化合物更好：

但是，在上述一般式(1)中，R1以及R2分别独立地表示可以具有置换基的碳原子数1～8的烷基、以及碳原子数1～8的芳基的任意一种，R1以及R2的至少一方具有从COOH、PO(OH)₂、以及Si(OC_kH_2k+1)₃(k为1～20)中选择的置换基。

在上述一般式(1)中，X表示一价的阴离子。作为一价的阴离子，只要和阳离子部能稳定地成对，没有特别限制，可以根据目的选择适合的，可以列举例如Br离子(Br^-)，Cl离子(Cl^-)，ClO₄离子(ClO₄ ^-)，PF₆离子(PF₆ ^-)，BF₄离子(BF₄ ^-)等。

在上述一般式(1)中，n，m，以及1分别独立地表示0，1，或2。

在上述一般式(1)中，A，B，以及C分别独立地表示可以具有置换基的碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的芳基、以及碳原子数1～20的杂环基的任意一种。

并且，作为金属络合物系以及金属氧化物系的电致彩色显示化合物，可以使用例如氧化钛，氧化钒，氧化钨，氧化铟，氧化铱，氧化镍，普鲁士蓝等的无机系电致彩色显示化合物。

作为载置电致彩色显示化合物的导电性或半导体性微粒，没有特别限制，可以根据目的选择适合的，优选使用金属氧化物。

作为金属氧化物的材料，可以列举例如氧化钛，氧化锌，氧化锡，氧化锆，氧化铈，氧化钇，氧化硼，氧化镁，钛酸锶，钛酸钾，钛酸钡，钛酸钙，氧化钙，铁氧体，氧化铪，氧化钨，氧化鉄，氧化铜，氧化镍，氧化钴，氧化钡，氧化锶，氧化钒，铝矽酸，磷酸钙，硅酸铝等为主要成分的金属氧化物等。

这些可以一种单独使用，也可以二种以上并用。

其中，从导电性等的电学特性或光学性质等的物理特性角度看，优选从氧化钛、氧化锌、氧化锡、氧化锆、氧化鉄、氧化镁、氧化铟、以及氧化钨中选择的至少一种，从发色消色的应答速度能更优异的颜色显示角度看，更优选氧化钛或氧化锡。

并且，导电性或半导体性微粒的形状没有特别限制，可以根据目的选择适合的，为了有效地载置电致彩色显示化合物，可以使用每单位体积的表面积(以下，称为比表面积)大的形状。例如，微粒为纳米微粒的集合体时，由于具有大的比表面积，更有效地载置电致彩色显示化合物，发色消色的显示对比度优异。

电致彩色显示层104以及导电性或半导体性微粒层也可以通过真空成膜形成，从生产性来看，优选作为微粒分散膏涂布形成。

电致彩色显示层104的厚度没有特别限制，可以根据目的选择适合的，优选0.2μm～5.0μm。厚度不足0.2μm时，有时难以得到发色浓度，超过5.0μm时，制造成本增大的同时，由于着色有时容易造成视认性降低。

<电解质层>

电解质层105为固体电解质层，作为光或热硬化树脂中保有电解质的膜形成。再有，优选混合有控制电解质层的层厚的无机微粒。

电解质层优选的是，作为混合无机微粒、硬化型树脂以及电解质的溶液，涂布到电致彩色显示层104上后，因光或热使之硬化成膜，但是，也可以事先形成多孔质的无机微粒层后，作为混合硬化型树脂以及电解质的溶液涂布，使其浸透到无机微粒层，之后，用光或热使之硬化成膜。再有，电致彩色显示层104为在导电性或半导体性纳米微粒载置电致彩色显示化合物的层时，也可以涂布混合硬化型树脂以及电解质的溶液，使其浸透到电致彩色显示层，之后，用光或热使之硬化成膜。

作为电解质，可以使用离子性液体等的液体电解质，或将固体电解质溶解在溶剂中的溶液。

作为电解质材料，可以使用例如碱金属盐、碱土类金属盐等的无机离子盐，4级铵盐，酸类、碱类的支持盐。具体可以列举LiClO₄，LiBF₄，LiAsF₆，LiPF₆，LiCF₃SO₃，LiCF₃COO，KCl，NaClO₃，NaCl，NaBF₄，NaSCN，KBF₄，Mg(ClO₄)₂，Mg(BF₄)₂等。

作为离子性液体，没有特别限制，只要是一般研究/报告的物质都可以。

有机离子性液体具有在包含室温的宽范围温度领域中为液体的分子结构。

分子结构由阳离子成分和阴离子成分构成。

作为阳离子成分，可以列举例如N，N-二甲基咪唑盐，N，N-甲基乙基咪唑盐，N，N-甲基丙基咪唑盐等的咪唑衍生物；N，N-二甲基吡啶盐，N，N-甲基丙基吡啶盐等的吡啶衍生物等的芳香族系盐；三甲基丙基铵盐，三甲基己基铵盐，三乙基己基铵盐等的四烷基铵等的脂肪族4级铵系化合物等。

作为阴离子成分，从在空气中的稳定性角度看，优选含有氟的化合物，可以使用例如BF₄ ^-，CF₃SO₃ ^-，PF₄ ^-，(CF₃SO₂)₂N^-，B(CN₄)^-等。可以使用这些阳离子成分和阴离子成分组合配制的离子性液体。

作为溶剂，可以列举例如丙烯碳酸脂，乙腈，γ-丁内酯，乙烯碳酸脂，环砜烷，二氧戊环，四氢呋喃，2-甲基四氢呋喃，二甲基亚砜，1，2-二甲氧基乙烷，1，2-乙氧基甲氧基乙烷，聚乙二醇，醇类，或其混合溶剂等。

作为硬化树脂，可以列举例如丙烯酸树脂，尿烷树脂，环氧树脂，氯乙烯树脂，乙烯树脂，三聚氰胺树脂，酚树脂等的光硬化型树脂，热硬化型树脂等的一般材料，优选与电解质相溶性高的材料。作为这样的结构，优选聚乙二醇、聚丙二醇等的乙二醇的衍生物。并且，作为硬化树脂，优选使用能光硬化的树脂。与通过热聚合或使得溶剂蒸发使其薄膜化的方法相比，可以低温且短时间内制造元件。

特别优选的组合是，由含有乙撑氧链、丙撑氧链的母体聚合物和离子性液体的固溶体构成的电解质层。通过使用该结构，容易使硬度和高的离子传导率两立。

作为无机微粒，只要是可以形成多孔质层并保持电解质和硬化树脂的材料，没有特别限制，可以根据目的选择适合的，但是，从电致彩色显示反应的安定性、视认性角度看，优选绝缘性、透明性、耐久性高的材料。作为无机微粒，可以列举例如硅，铝，钛，锌，锡等的氧化物或硫化物，或其混合物等。

无机微粒的大小(平均粒径)没有特别限制，可以根据目的选择适合的，优选10nm～10μm，更优选10nm～100nm。

下面说明本发明的电致彩色显示元件。

本发明的电致彩色显示元件包括第一及第二支持体，第一及第二电极层，辅助电极，电致彩色显示层，以及电解质层，根据需要，可进一步包括其它部件。

<第一支持体和第二支持体>

作为上述支持体，是用能支持各层的透明材料形成、能支持各层的结构，只要上述第一支持体和上述第二支持体的表面之中，至少在具有后述的电致彩色显示层侧的形成支持体的电极层侧的表面中，形成凹部，其形状、结构、大小、材质等不作特别限定，可以根据目的适当选择。

作为上述支持体的形状，没有特别限制，可以根据目的适当选择，可以列举例如平板形状，具有曲面的形状等。

作为上述支持体的结构，只要上述第一支持体和上述第二支持体的表面之中，至少在具有上述电致彩色显示层侧的形成上述支持体的上述电极层侧的表面中，形成凹部，不作特别限定，可以根据目的适当选择。

作为上述凹部，只要在上述支持体上形成多个，埋设后述的辅助电极，对凹部的宽度、凹部的深度、凹部的间距、形成凹部的手段等，不作特别限定，可以根据目的适当选择。

作为上述凹部的宽度，不作特别限定，可以根据目的适当选择，但是，考虑埋入上述辅助电极，从不使得上述支持体的开口率明显降低观点出发，优选5μm～50μm。

作为上述凹部的深度，不作特别限定，可以根据目的适当选择，优选5μm～10μm。

作为上述凹部的间距，不作特别限定，可以根据目的适当选择，优选100μm～50000μm，更优选500μm～5000μm。

作为形成上述凹部的手段(凹部形成工序)，不作特别限定，可以根据目的适当选择，例如，可以列举使用激光的形成手段，利用光/蚀刻处理的形成手段，通过压模的精细加工手段等。

上述凹部可以设为作为凹条的槽形状，优选将上述槽的短方向的宽度设为上述凹部的宽度范围。

作为上述槽的图形形状，不作特别限定，可以根据目的适当选择，例如，从形成上述槽的简易性角度考虑，可以列举线状、格子状等。

作为上述支持体的大小，不作特别限定，可以根据目的适当选择。

作为上述支持体的材质，只要透明即可，公知的有机材料及无机材料可以直接使用，例如，可以列举无碱玻璃，硼硅酸玻璃，浮法玻璃，以及苏打石灰玻璃等的玻璃基板，以及聚碳酸酯树脂，丙烯酸树脂，聚乙烯，聚氯乙烯，聚酯，环氧树脂，三聚氰胺树脂，酚树脂，聚氨酯树脂，聚酰亚胺树脂等。

在上述支持体的表面，为了提高水蒸气屏障性、气体屏障性、耐紫外线性、及视认性，可以涂布透明绝缘层，UV截除层，反射防止层等。

<第一电极层，第二电极层>

作为第一电极层和第二电极层的材料，只要是具有导电性的透明材料，不作特别限定，可以根据目的适当选择，例如，可以列举添加锡的氧化铟(以下，称为“ITO”)、添加氟的氧化锡(以下，称为“FTO”)、添加锑的氧化锡(以下，称为“ATO”)、氧化锌等的无机材料等。其中，优选InSnO，GaZnO，SnO，In₂O₃，ZnO。

再有，也可以将具有透明性的碳纳米管、或其它Au、Ag、Pt、Cu等高导电率的非透过性材料等形成为细微的网络状，使用在保持透明度的状态下改善导电性的电极。

上述第一电极层和上述第二电极层的各自厚度调整为能得到对于电致彩色显示层的氧化还原反应必要的电阻值。

使用上述ITO作为上述第一电极层和上述第二电极层的材料场合，上述第一电极层和上述第二电极层的各自厚度优选例如50nm以上、500nm以下。

作为上述第一电极层和上述第二电极层的各自的制作方法，可以使用真空蒸镀法、溅镀法、离子电镀法等。

只要能涂布形成上述第一电极层和上述第二电极层的各自的材料，不作特别限定，可以使用例如旋涂法，铸造法，微电子照相涂布法，照相涂布法，棒式涂布法，辊式涂布法，电线杆涂布法，浸渍涂布法，滑动涂布法，毛细管涂布法，喷涂法，喷嘴涂布法，照相印刷法，丝网印刷法，苯胺印刷法，胶版印刷法，翻转印刷法，喷墨印刷法等的各种印刷法。

<第一辅助电极，第二辅助电极>

上述第一辅助电极和上述第二辅助电极之中，至少具有上述电致彩色显示层侧的辅助电极埋设在具有上述电致彩色显示层侧的支持体，只要与具有上述电致彩色显示层侧的辅助电极一起，具有上述电致彩色显示层侧的支持体的上述表面形成的面平滑，以便成为与具有上述电致彩色显示层侧的支持体的表面一致，其材质、形成方法等不作特别限定，可以根据目的适当选择。又，与具有上述电致彩色显示层侧的辅助电极相同，不具有上述电致彩色显示层侧的辅助电极埋设在不具有上述电致彩色显示层侧的支持体，与不具有上述电致彩色显示层侧的辅助电极一起，不具有上述电致彩色显示层侧的支持体的上述表面形成的面也可以平滑，以便成为与不具有上述电致彩色显示层侧的支持体的表面一致。

上述辅助电极的表面和具有上述电致彩色显示层侧的支持体的表面的平均阶梯差优选50nm以下。若上述平均阶梯差为50nm以下，则能形成平滑的电致彩色显示层。

作为上述辅助电极的材料，只要电传导率优异，不作特别限定，可以根据目的适当选择，例如可以使用银膏、铜膏、银油墨、铜油墨、低电阻金属(金，银，铜，铝，镍，锡)、碳纳米管等。

作为上述辅助电极的平均宽度，不作特别限定，可以根据目的适当选择，从不使得上述支持体的开口率明显降低角度看，优选5μm～50μm。若上述辅助电极的平均宽度为5μm以上，则能使得上述电致彩色显示元件的应答性提高，若上述辅助电极的平均宽度为50μm以下，则能防止上述电致彩色显示元件的视认性降低。

作为上述辅助电极的平均厚度，不作特别限定，可以根据目的适当选择，从上述电致彩色显示元件的应答性角度看，优选0.5μm～10μm。若上述辅助电极的平均厚度为0.5μm以上，则能使得上述电致彩色显示元件的应答性提高，若上述辅助电极的平均厚度为10μm以下，则能抑制上述电致彩色显示元件的厚度。

作为上述辅助电极的形成方法(辅助电极形成工序)，只要能在上述支持体的上述凹部或上述槽形成，不作特别限定，可以根据目的适当选择，例如，可以列举使用丝网印刷、凹版胶印、喷墨印刷等各种印刷手段形成的方法，使用溅镀、蒸镀、离子电镀法通过掩模保护非电极部分仅仅在所希望部位形成电极的方法，在上述凹部或上述槽中形成种子层图样后通过非电解电镀或电解电镀形成电极的方法等。上述种子层当上述非电解电镀时，可以成为非电解电镀的触媒，根据因上述非电解电镀析出的金属种类或使用的电镀液选择，例如，可以使用PdTiO₃·6H₂O(金属氧化物水和物)微粒，或使得氧化钛等的金属氧化物载置Pd的微粒等。又，上述电解电镀时，只要能导通的材料即可，能使用例如银膏，铜膏，银油墨，铜油墨，氧化铟锡(ITO)等。

优选形成上述辅助电极，使得在上述支持体上形成上述辅助电极后的上述支持体的开口率成为90％以上，更优选95％以上。

对于将埋设上述辅助电极的上述支持体的表面设为与上述辅助电极一起平滑的方法(表面平滑工序)，不作特别限定，可以根据目的适当选择。例如，对于已形成图样化的上述凹部或上述槽的上述支持体，用任意方法将辅助电极材料制膜，通过用平面研磨机施以研磨处理，能与上述辅助电极一起，使得上述支持体的表面平滑。对于上述辅助电极材料的制膜方法，只要用上述辅助电极材料填满已图样化的上述凹部或上述槽，不作特别限定，可以根据目的适当选择，例如，可以使用上述辅助电极的形成方法等。

再有，也可以在具有平滑面的另一支持体上的上述平滑面中，使得上述辅助电极图样化，成为凸部或凸条，使得充填用于埋设上述辅助电极的、软化或熔融的支持体后，使得上述支持体硬化，通过从上述另一支持体上在埋设上述辅助电极的状态下剥离，能与上述辅助电极一起，使得上述支持体的面平滑。对于上述辅助电极形成图样化，不作特别限定，可以使用上述辅助电极形成方法等。

<其他部件>

作为上述其他部件，没有特别限制，可以根据目的适当选择，可以列举例如绝缘性多孔质层，防止劣化层，保护层等。

<<绝缘性多孔质层>>

上述绝缘性多孔质层具有使得上述第一电极层和上述第二电极层电气绝缘地隔离、同时保持电解质的功能。作为上述绝缘性多孔质层材料，只要是多孔质即可，没有特别限制，优选使用绝缘性以及耐久性高、成膜性优异的有机材料、无机材料，以及其复合体。

作为上述绝缘性多孔质层的形成方法，可以列举例如烧结法(将高分子微粒、无机微粒添加粘合剂等使其部分熔融，利用微粒之间产生的孔隙)，萃取法(用溶剂中可溶的有机物或无机物类和溶剂不溶的粘合剂等形成结构层后，用溶剂使得有机物或无机物类溶解得到细微的孔隙)，使其发泡的发泡法，操作富溶剂和贫溶剂使高分子类混合物相分离的相转移法，各种放射线辐射形成细微孔隙的放射线照射法等。

<<防止劣化层>>

上述防止劣化层的作用是与上述电致彩色显示层发生相反的化学反应，得到电荷的平衡以抑制上述第一电极层、上述第二电极层因发生不可逆的氧化还原反应造成腐蚀、劣化。所谓逆反应除了防止劣化层氧化还原场合，还包括起到电容的作用。

作为上述防止劣化层的材料，只要是能起防止上述第一电极层和第二电极层因发生不可逆的氧化还原反应造成的腐蚀的作用的材料，没有特别限制，可以根据目的适当选择，例如，可以使用氧化锑锡、氧化镍，氧化钛，氧化锌，氧化锡，或包含上述多种的导电性或半导体性金属氧化物。

上述防止劣化层可以由不妨碍电解质注入程度的多孔质薄膜构成。例如，将氧化锑锡、氧化镍、氧化钛、氧化锌、氧化锡等的导电性或半导体性金属氧化物微粒，通过例如丙烯酸系、醇酸系、异氰酸酯系、尿烷系、环氧树脂系、酚系等的粘合剂在第二电极上固定化，得到满足电解质的浸透性和作为防止劣化层的功能、合适的多孔质薄膜。

<<保护层>>

上述保护层的作用是保护元件免受外部应力或清洗工序的药品影响，防止电解质泄漏，以及为了使上述电致彩色显示元件稳定地动作而防止大气中的水分、氧等不需要的物质侵入等。

作为上述保护层的厚度，没有特别限制，可以根据目的适当选择，优选1μm～200μm。

作为上述保护层的材料，可以例如使用紫外线硬化型、热硬化型的树脂，具体可以列举丙烯酸系、尿烷系、环氧树脂系树脂等。

<用途>

本发明的电致彩色显示元件可以适用于例如电致彩色显示器，股价的显示板等的大型显示板，防眩镜，调光玻璃等的调光元件，触摸面板式按键开关等的低电压驱动元件，光转换器，光存储器，电子纸张，电子相册等。

下面，参照附图说明本发明的电致彩色显示元件的一实施形态，但本发明并不受该实施形态限定。各附图中的相同符号分别表示相同意义。

图2是表示本发明的电致彩色显示元件的一例的概略截面图。图3是表示本发明的电致彩色显示元件的另一例的概略截面图。

如图2所示，电致彩色显示元件10构成为第一辅助电极42埋入形成在第一支持体22上的作为连续的凹部的槽26，由第一支持体22和第一辅助电极42构成的面成为平滑。向由第一支持体22和第一辅助电极42构成的面上形成第一电极层32，再在第一电极层32上叠层电致彩色显示层52。第二辅助电极44形成在第二支持体24上。向由第二支持体24和第二辅助电极44构成的面上形成第二电极层34。并且，通过电解质层60，第一支持体22侧的第一电极层32和第二支持体24侧的第二电极层34形成对向，形成本发明的电致彩色显示元件10。

通过使得由第一支持体22和第一辅助电极42构成的面平滑，能使得叠层的层的膜厚均一化。这对于电致彩色显示层的厚度影响发色不匀的电致彩色显示元件特别有利。

又，如图3所示，也可以构造为第二辅助电极44埋入形成在第二支持体24上的槽28，使得由第二支持体24和第二辅助电极44构成的面成为平滑。在该构造中，第二电极层34向由第二支持体24和第二辅助电极44构成的面上形成平滑。并且，与图2所示电致彩色显示元件10相同，通过电解质层60，第一支持体22侧的第一电极层32和第二支持体24侧的第二电极层34形成对向，形成本发明的电致彩色显示元件10。

电致彩色显示元件10使得比第一电极层32电阻低的第一辅助电极42成为图样，通过向已图样化的第一支持体22的槽26埋入，与没有第一辅助电极42及第二辅助电极44场合比较，也能使得电致彩色显示的应答速度高速化。

再有，通过使用金属或碳等电传导率高的材料作为第一辅助电极42及第二辅助电极44的材料，能更有效地提高电致彩色显示的应答速度。又，通过使得第一电极层32和第二电极层34在整个面上制膜，电致彩色显示层52及另一电致彩色显示层(没有图示)能在面内均一反应。再有，通过将第一电极层32和第二电极层34设为含有导电性氧化物、导电性微粒、或导电性碳的层，不仅使得导电性和透明性俱佳，而且起着作为第一辅助电极42及第二辅助电极44的保护层的功能，能实现电致彩色显示元件10的长期稳定化。

本实施形态中的电致彩色显示层52与上述电致彩色显示层104等价，本实施形态中的电解质层60与上述电解质层105等价，相同内容说明省略。

下面，说明电致彩色显示调光部件。

本发明的电致彩色显示调光部件包括电致彩色显示元件，进而，根据需要，具有其它部件。作为上述电致彩色显示调光部件，可以适用于例如调光眼镜，调光玻璃，防眩镜等。

[实施例]

以下，通过实施例详细说明本发明，但本发明不限于以下实施例。

(实施例1)

-制作电致彩色显示装置-

作为第一支持体101和第二支持体108，准备40mm×40mm，厚度100μm的PET薄膜。对于该PET薄膜，使用激光(Y·E·DATA公司制，激光绘制装置)在第一支持体101和第二支持体108的各自单侧一面上，形成宽20μm，深度3μm的线状图形的槽。配线间隔设为5mm。使用具有与该线状图形相同的开口图形的丝网版，在槽部分形成由银膏(大研化学公司制，CA-405NL)形成的金属电极配线。电极为如图1截面图所示那样的形状。

其次，在支持体(第一支持体101和第二支持体108)的电极配线形成面上，通过溅镀法使得ITO膜成膜为厚度约100nm，形成透明导电层(第一透明导电层103和第二透明导电层106)。

接着，通过旋涂法在第一支持体101中的ITO膜的表面涂布氧化钛纳米微粒分散液(平均微粒径：20nm，商品名：SP210，昭和TITANIUM公司制)，形成由厚度约1.0μm的氧化钛微粒膜构成的纳米结构半导体材料。接着，作为电致彩色显示化合物，通过旋涂法涂布含有用下述结构式(A)表示的化合物1.5质量％的2，2，3，3-四氟丙醇溶液，使其载置(吸附)在氧化钛微粒膜上，形成电致彩色显示层104。

接着，调制如下所示组成的电解质液，用微量吸管量取30mg，向电致彩色显示层104滴加。

IRGACURE184(BASFJAPAN公司制)：5质量份

PEG400DA(日本化药公司制)：100质量份

1-乙基-3-甲基咪唑硼酸盐(MERCK公司制)：50质量份

然后，在其上面，粘结具有第二透明导电层106的第二支持体108，使用UV(波長250nm)照射装置(USHIO电机公司制，SPOTCURE)以10mW照射60秒使其UV硬化。由此，制作电致彩色显示装置。所得到的电致彩色显示装置的第一支持体101中的开口率为99.6％。

-评价-

其次，关于所得到的电致彩色显示装置，进行视认性评价，透明性评价，发色消色应答性评价，密接性评价。以下分别具体说明试验方法、评价基准。

<视认性评价>

視力1.0的评价者在离电致彩色显示装置的显示部30cm远的地方裸眼观察，进行官能评价。评价基准如下所示：

[评价基准]

◎：非常好。形成在支持体的槽部分的电极基本看不出。

○：良好。形成在支持体的槽部分的电极稍微看得出，但不到使得视认性降低的程度。

×：差。形成在支持体的槽部分的电极显眼，使得视认性降低。

<透明性评价>

按照下述基准评价波長400nm～800nm中的透射率的平均值。透射率用OceanOptics公司制USB4000测定。评价基准如下所示：

[评价基准]

◎：透过率为60％以上。

○：透过率为50％以上、不足60％。

×：透过率为不足50％。

<发色消色应答性评价>

在上述得到的电致彩色显示装置中的第一电极102和第二电极107之间，为了使第一电极102为负，施加-3V的电压，施加5秒钟，使其发色。再有，为了使第一电极102为正，施加+3V的电压，施加5秒钟，使其消色。如上所述，关于使其发色、消色的电致彩色显示装置的应答性，按照如下基准进行评价：

[评价基准]

◎：发色或消色在3秒以内完成。

○：发色或消色在超过3秒、10秒以内完成。

×：发色或消色需要超过10秒的时间。

<密接性评价>

将上述得到的电致彩色显示装置以使其沿着φ4mm周长一半的长度的形态进行弯曲试验，10次弯曲伸长后，评价电极的断线处和电阻值的变化。评价基准如下所示：

[评价基准]

◎：基本没有断线处，电阻值的降低率为10％以内。

○：基本没有断线处，电阻值的降低率为25％以内。

×：断线处多，电阻值的降低率为大于25％。

(实施例2)

在实施例1中，使得支持体上的槽不是线状图形，变更为格子状图形，除此以外和实施例1相同，制作电致彩色显示装置。所得到的电致彩色显示装置的第一支持体101中的开口率为99.2％。关于所得到的电致彩色显示装置进行与实施例1同样的评价。

(比较例1)

在实施例1中，在支持体上没有形成槽，除此以外与实施例1相同，制作电致彩色显示装置。即，在比较例1中，在平面的PET薄膜上形成由银膏构成的金属电极配线，这一点和实施例1不同。关于得到的电致彩色显示装置，进行与实施例1同样的评价。

(比较例2)

在比较例1中，没有形成由银膏构成的金属电极配线，除此以外与比较例1相同，制作电致彩色显示装置。关于所得到的电致彩色显示装置，进行与实施例1同样的评价。

上述实施例、比较例得到的结果如表1所示。在表1中，“-”表示不能测定，在比较例2中没有形成电极配线，因此，难以求得视认性、透明性。

表1

	视认性	透明性	发色消色应答性	密接性
					实施例1	◎	○	◎	○
实施例2	◎	○	◎	◎
					比较例1	×	×	◎	×
比较例2	-	-	×	×

由表1可知，根据本发明，通过在支持体上形成电极，提高了发色消色应答性，并且，与以往技术(比较例1)相比，提高了视认性，透明性，密接性。

(实施例3)

制作图3所示构成的电致彩色显示元件，进行评价。

<向第一支持体上形成第一辅助电极及第一电极层>

作为第一支持体，准备玻璃基板(40mm×40mm×0.7mm)。

向上述第一支持体的面上，使用激光，形成宽20μm、深度3μm、间距5mm的十字格子状图形的槽。通过溅镀法向形成有上述十字格子状图形的槽的上述第一支持体制作金膜后，通过电解电镀法，制膜直到铜埋入上述槽。对上述镀铜的上述第一支持体通过用平面研磨机研磨处理，形成以下构成：上述铜作为第一辅助电极，埋入上述第一支持体，使得面成为平滑。

接着，向已制作的上述第一辅助电极与上述第一支持体面成为平滑地被埋入的第一支持体上，通过溅镀法制作厚度约100nm的ITO膜，形成第一电极层，得到第一叠层体。

<向第二支持体上形成第二辅助电极及第二电极层>

与上述第一叠层体相同，作为第二支持体，准备玻璃基板(40mm×40mm×0.7mm)。

向上述第二支持体的面上，使用激光，形成宽20μm、深度3μm、间距5mm的十字格子状图形的槽。通过溅镀法向形成有上述十字格子状图形的槽的上述第二支持体制作金膜后，通过电解电镀法，制膜直到铜埋入上述槽。对上述镀铜的上述第二支持体通过用平面研磨机研磨处理，形成以下构成：上述铜作为第二辅助电极，埋入上述第二支持体，使得面成为平滑。

接着，向已制作的上述第二辅助电极与上述第二支持体面成为平滑地被埋入的第二支持体上，通过溅镀法制作厚度约100nm的ITO膜，形成第二电极层，得到第二叠层体。

<电致彩色显示层的形成>

通过旋涂法向制作的上述第一叠层体的上述第一电极上涂布氧化钛纳米微粒分散液(商品名：SP210，昭和TITANIUM公司制，平均微粒径：20nm)，在120℃温度下进行15分钟的退火处理，形成由厚度约1.0μm的氧化钛微粒膜构成的纳米结构半导体材料。接着，作为电致彩色显示化合物，通过旋涂法涂布含有用下述结构式(A)表示的化合物1.5质量％的2，2，3，3-四氟丙醇溶液在上述纳米结构半导体材料上，之后，在120℃温度下进行10分钟的退火处理，使其载置(吸附)在氧化钛微粒膜上，形成电致彩色显示层。

<电解质层的形成以及电致彩色显示元件的制作>

调制如下所示组成的电解质液：

IRGACURE184(BASFJAPAN公司制)：5质量份

PEG400DA(日本化药公司制)：100质量份

1-乙基-3-甲基咪唑硼酸盐(MERCK公司制)：50质量份

用微量吸管量取30mg所得到的上述电解质液，向上述第一叠层体上的电致彩色显示层滴加。在其上面，粘结上述第二叠层体，制作粘结元件。

使用UV(波長250nm)照射装置(USHIO电机公司制，SPOTCURE)以10mW照射所得到的粘结元件60秒钟。由此，制作电致彩色显示元件。

<平均阶梯差的测定>

作为上述第一支持体的表面和上述第一辅助电极的表面的上述阶梯差的测定，使用触针式阶梯差计(αSTEPIQ，YAMATO科学公司制)，检测任意10点的阶梯差，求取平均值，计算平均阶梯差。阶梯差的测定值为噪声校正后的值。

<应答性评价>

在上述电致彩色显示元件的上述第一电极层和上述第二电极层之间，为了使第一电极层为负，施加-3V的电压，施加5秒钟，使其发色。再有，为了使第一电极层为正，施加+3V的电压，施加5秒钟，使其消色。如上所述，关于使其发色、消色的电致彩色显示元件的应答性，按照如下基准进行评价：

[评价基准]

◎：发色或消色在2秒钟以下完成。

○：发色或消色在超过2秒钟、5秒钟以下完成。

×：发色或消色需要超过5秒钟时间。

<透明性评价>

根据视认性和透射率，用以下基准评价消色状态的电致彩色显示元件的透明性。

<视认性评价>

[评价基准]

◎：从离开30mm距离看，看不到辅助电极。

○：从离开30mm距离看，几乎不能确认辅助电极。

×：从离开30mm距离看，清楚地能确认辅助电极。

<透过率评价>

求取波長400nm～800nm中的透过率的平均值，按照下述基准评价。透过率用OceanOptics公司制USB4000测定。

[评价基准]

◎：透过率为60％以上。

○：透过率为50％以上、不足60％。

×：透过率为不足50％。

<发色不匀评价>

按照下述基准目视评价发色状态的电致彩色显示元件的发色不匀。

[评价基准]

◎：从离开30mm距离看，看不到发色不匀。

○：从离开30mm距离看，几乎不能确认发色不匀。

×：从离开30mm距离看，有明显的发色不匀。

(实施例4)

在实施例3中，向上述第一支持体的表面，使用激光，形成宽5μm、深度0.5μm、间距5mm的十字格子状图形的槽，将第一辅助电极设为宽5μm、厚度0.5μm、间距5mm，除此以外和实施例3相同，制作电致彩色显示元件，进行评价。

(实施例5)

在实施例3中，向上述第一支持体的表面，使用激光，形成宽5μm、深度10μm、间距5mm的十字格子状图形的槽，将第一辅助电极设为宽5μm、厚度10μm、间距5mm，除此以外和实施例3相同，制作电致彩色显示元件，进行评价。

(实施例6)

在实施例3中，向上述第一支持体的表面，使用激光，形成宽50μm、深度0.5μm、间距5mm的十字格子状图形的槽，将第一辅助电极设为宽50μm、厚度0.5μm、间距5mm，除此以外和实施例3相同，制作电致彩色显示元件，进行评价。

(实施例7)

在实施例3中，向上述第一支持体的表面，使用激光，形成宽50μm、深度10μm、间距5mm的十字格子状图形的槽，将第一辅助电极设为宽50μm、厚度10μm、间距5mm，除此以外和实施例3相同，制作电致彩色显示元件，进行评价。

(比较例3)

制作图4A所示的电致彩色显示元件，与实施例3相同，进行评价。

<向支持体上形成辅助电极及电极层>

作为第一支持体，准备玻璃基板(40mm×40mm×0.7mm)。

掩模保护上述第一支持体表面的不形成上述辅助电极的非辅助电极部，用溅镀法制作ITO膜后，除去上述掩模，通过电解电镀法，使得铜形成为宽20μm、线厚3μm、间距5mm的十字格子状。

向已形成上述第一辅助电极的上述第一支持体上，通过溅镀法制作厚度约100nm的ITO膜，形成第一电极层。

第二支持体、第二辅助电极、及第二电极层也与上述同样形成。

<电致彩色显示层的形成>

使用浸渍涂布法，代替旋涂法，除此之外与实施例3相同，形成电致彩色显示层。

(比较例4)

与比较例3相同，制作图4A所示的电致彩色显示元件，与实施例3相同，进行评价。

将第一辅助电极及第二辅助电极的宽设为60μm，线厚设为0.3μm，除此之外与比较例3相同。

(比较例5)

与比较例3相同，制作图4A所示的电致彩色显示元件，与实施例3相同，进行评价。

将第一辅助电极及第二辅助电极的线宽设为2μm，线厚设为0.3μm，除此之外与比较例3相同。

(比较例6)

制作图5所示的电致彩色显示元件，与实施例3相同，进行评价。

<向支持体上形成电极层>

作为第一支持体，准备玻璃基板(40mm×40mm×0.7mm)。不形成上述第一辅助电极，向上述第一支持体上，通过溅镀法制作厚度约100nm的ITO膜，形成第一电极层。

第二支持体、及第二电极层也与上述同样形成。

除此之外与实施例3相同。

关于实施例3～7及比较例3～6，进行应答性评价，透明性评价，发色不匀评价，结果表示在表2。可以确认在实施例3～7制作的电致彩色显示元件的第一支持体表面和第一辅助电极表面的平均阶梯差为0±3nm，全部为50nm以下。

关于比较例3～5，由于包含第一辅助电极的第一支持体不平滑，阶梯差的测定省略。又，关于比较例6，由于不具有辅助电极，阶梯差的测定省略。

表2

在表2中，“-”表示不具有辅助电极，因此，无此项数据。

从表2结果可知，实施例3～7没有成为“×”的评价项目，能提供无发色不匀、应答速度优异的电致彩色显示元件。

即，如图4A所示，形成为第一辅助电极42没有埋入到第一支持体22上场合，因第一辅助电极42的线厚及线宽，在第一支持体22上形成凸。尤其，随着第一辅助电极42的线厚，图4A的用点划线表示的区域(参照图4B)的电致彩色显示层52的垂直方向厚度增加，成为电致彩色显示层52的膜厚不匀。上述膜厚不匀作为使得上述电致彩色显示元件发色时的发色不匀表现出来。电致彩色显示层52的上述膜厚不匀因第一支持体22上的凸部而产生，因此，如图2所示，消除上述凸部，仅仅通过使得支持体和辅助电极成为平滑，解决上述发色不匀。

作为本发明的形态，例如，设为如下：

(1)一种电致彩色显示元件，其特征在于：

上述电致彩色显示元件包括：

第一电极层，形成在第一支持体上；

第二电极层，设为与上述第一电极层对向，形成在第二支持体上；

电解质层，设在上述第一电极层和上述第二电极层之间；以及

电致彩色显示层，设为与上述第一电极层及上述第二电极层的某一方相接；

设有第一辅助电极，其由比具有上述电致彩色显示层侧的电极层低电阻的材料构成，上述第一辅助电极与具有上述电致彩色显示层侧的上述电极层相接；

上述第一辅助电极埋设在具有上述电致彩色显示层侧的上述支持体的表面，同时，上述第一辅助电极的表面及具有上述电致彩色显示层侧的支持体的表面形成的面平滑。

(2)上述(1)记载的电致彩色显示元件，上述第一辅助电极的表面和具有上述电致彩色显示层侧的支持体的表面的平均阶梯差为50nm以下。

(3)上述(1)或(2)记载的电致彩色显示元件，设有第二辅助电极，其由比不具有上述电致彩色显示层侧的电极层低电阻的材料构成，上述第二辅助电极与不具有上述电致彩色显示层侧的电极层相接；

上述第二辅助电极埋设在不具有上述电致彩色显示层侧的支持体的表面，同时，上述第二辅助电极的表面及不具有上述电致彩色显示层侧的支持体的表面形成的面平滑。

(4)上述(1)～(3)任一个记载的电致彩色显示元件，上述第一、第二辅助电极的平均宽度为5μm～50μm。

(5)上述(1)～(4)任一个记载的电致彩色显示元件，上述第一、第二辅助电极的平均厚度为0.5μm～10μm。

(6)上述(1)～(5)任一个记载的电致彩色显示元件，上述第一、第二辅助电极的材料为从金、银、铜、铝、镍、锡、碳选择的至少一种。

(7)上述(1)～(6)任一个记载的电致彩色显示元件，上述第一电极层及上述第二电极层为含有导电性氧化物、导电性微粒、或导电性碳的层。

(8)电致彩色显示调光部件，其特征在于：

设有上述(1)～(7)任一个记载的电致彩色显示元件。

(9)上述(8)记载的电致彩色显示调光部件，上述电致彩色显示调光部件为调光眼镜、调光玻璃、防眩镜中任一种。

(10)电致彩色显示元件的制造方法，其特征在于，至少包括：

凹部形成工序，在第一支持体及第二支持体的至少一方的、互相对向侧的面形成凹部；

辅助电极形成工序，在上述凹部形成辅助电极；以及

表面平滑工序，上述第一支持体及上述第二支持体之中，至少使得设有电致彩色显示层侧的支持体的上述辅助电极形成的面平滑。

Claims (15)

1.一种电致彩色显示装置，其特征在于，包括：

第一支持体，在一面具有槽；

第一电极，形成在上述第一支持体中的槽；

第一透明导电层，形成为与上述第一支持体中的形成上述第一电极的面相接；

电致彩色显示层，形成为与上述第一透明导电层相接；

第二支持体，在上述第一支持体有槽侧相对，在上述第一支持体侧的面具有槽；

第二电极，形成在上述第二支持体中的槽；

第二透明导电层，形成为与上述第二支持体中的形成上述第二电极的面相接；以及

电解质层，形成在上述电致彩色显示层和上述第二透明导电层之间。

2.如权利要求1所述的电致彩色显示装置，其特征在于：

上述第一电极的体积电阻率比上述第一透明导电层的体积电阻率小，且上述第二电极的体积电阻率比上述第二透明导电层的体积电阻率小。

3.如权利要求1或2所述的电致彩色显示装置，其特征在于：

上述第一支持体和第二支持体中的槽的宽度为5～50μm，深度为0.5～10μm，间隔为500～5000μm。

4.如权利要求1～3任意一项所述的电致彩色显示装置，其特征在于：

上述槽图形化为线状或格子状。

5.如权利要求1～4任意一项所述的电致彩色显示装置，其特征在于：

在上述第一支持体中的上述电致彩色显示层侧的面，形成上述第一电极的上述第一支持体的开口率为90％以上。

6.如权利要求项1～5任意一项所述的电致彩色显示装置，其特征在于：

上述第一支持体和第二支持体为透明性树脂薄膜。

7.一种电致彩色显示元件，其特征在于：

上述电致彩色显示元件包括：

第一电极层，形成在第一支持体上；

第二电极层，设为与上述第一电极层对向，形成在第二支持体上；

电解质层，设在上述第一电极层和上述第二电极层之间；以及

电致彩色显示层，设为与上述第一电极层及上述第二电极层的某一方相接；

设有第一辅助电极，其由比具有上述电致彩色显示层侧的电极层低电阻的材料构成，上述第一辅助电极与具有上述电致彩色显示层侧的上述电极层相接；

上述第一辅助电极埋设在具有上述电致彩色显示层侧的上述支持体的表面，同时，上述第一辅助电极的表面及具有上述电致彩色显示层侧的支持体的表面形成的面平滑。

8.如权利要求7所述的电致彩色显示元件，其特征在于：

上述第一辅助电极的表面和具有上述电致彩色显示层侧的支持体的表面的平均阶梯差为50nm以下。

9.如权利要求7或8所述的电致彩色显示元件，其特征在于：

设有第二辅助电极，其由比不具有上述电致彩色显示层侧的电极层低电阻的材料构成，上述第二辅助电极与不具有上述电致彩色显示层侧的电极层相接；

上述第二辅助电极埋设在不具有上述电致彩色显示层侧的支持体的表面，同时，上述第二辅助电极的表面及不具有上述电致彩色显示层侧的支持体的表面形成的面平滑。

10.如权利要求7～9所述的电致彩色显示元件，其特征在于：

上述第一、第二辅助电极的平均宽度为5μm～50μm，平均厚度为0.5μm～10μm。

11.如权利要求7～10所述的电致彩色显示元件，其特征在于：

上述第一、第二辅助电极的材料为从金、银、铜、铝、镍、锡、碳选择的至少一种。

12.如权利要求7～11所述的电致彩色显示元件，其特征在于：

上述第一电极层及上述第二电极层为含有导电性氧化物、导电性微粒、或导电性碳的层。

13.一种电致彩色显示调光部件，其特征在于：

设有上述权利要求7～12任一个记载的电致彩色显示元件。

14.如权利要求13所述的电致彩色显示调光部件，其特征在于：

上述电致彩色显示调光部件为调光眼镜、调光玻璃、防眩镜中任一种。

15.一种电致彩色显示元件的制造方法，其特征在于，至少包括：

凹部形成工序，在第一支持体及第二支持体的至少一方的、互相对向侧的面形成凹部；

辅助电极形成工序，在上述凹部形成辅助电极；以及

表面平滑工序，上述第一支持体及上述第二支持体之中，至少使得设有电致彩色显示层侧的支持体的上述辅助电极形成的面平滑。