JP5998519B2 - 表示装置および駆動方法 - Google Patents
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Description
電子ペーパーは、表示装置が紙のように用いられるところに特徴があるため、CRT(Cathode Ray Tube)や液晶ディスプレイといった従来の表示装置とは異なった特性が要求される。例えば、反射型表示装置であり、かつ、高い白反射率・高いコントラスト比を有すること、高精細な表示ができること、表示にメモリ効果があること、低電圧でも駆動できること、薄くて軽いこと、安価であること、などの特性が要求される。このうち特に、表示の品質に関わる特性として、紙と同等な白反射率・コントラスト比についての要求度が高い。
エレクトロクロミズムとは、電圧を印加することで、可逆的に酸化還元反応が起こり、可逆的に色が変化する現象をいう。このエレクトロクロミズムの現象を引き起こすエレクトロクロミック化合物の発色/消色(以下、発消色)を利用した表示装置が、エレクトロクロミック表示素子である。
このエレクトロクロミック表示素子については、反射型の表示装置であること、メモリ効果があること、低電圧で駆動できることから、電子ペーパー用途の表示装置技術の有力な候補として、材料開発からデバイス設計に至るまで、幅広く研究開発が行なわれている。またエレクトロクロミック表示素子は、エレクトロクロミック化合物の構造によって様々な色を発色できるため、多色表示装置として期待されている。
例えば特許文献1では、複数種のエレクトロクロミック化合物の微粒子を積層したエレクトロクロミック化合物を用いた多色表示装置が開示されている。該文献では、発色を示す電圧の異なる複数の機能性官能基を有する高分子化合物であるエレクトロクロミック化合物を複数積層し、多色表示エレクトロクロミック化合物とした多色表示装置の例が記載されている。
このエレクトロクロミック表示素子は、高い白色度を有し、簡便な方法で複数の色を個別発色して、広い色範囲でカラー表示することができる。
エレクトロクロミック表示素子80において、図1に示すように、一方の基板である表示基板1bには表示電極1とさらにエレクトロクロミック層3が設けられ、他方の基板である対向基板2bには対向電極2とさらに白色顔料粒子による白色反射層6が設けられ、これら両者を電解質層4を介して貼り合わせた構造となっている。
この「消え残り」の現象は、図2に示すような、図1の構成例とは白色反射層6の位置が異なる従来のエレクトロクロミック表示素子90についても同様に発生した。
図3に示すように、エレクトロクロミック表示素子10の構成は、図1に示す従来の素子の構成例とほぼ同様であるが、白色反射層6上に表示電極1との間にエレクトロクロミック層3を挟むように第三の電極として消去電極5を設けた点で異なる。
なお、図3ではエレクトロクロミック表示素子の構成をモデル図的に示しており、各構成要素の大きさや厚みの関係は実際とはかなり異なっている。これ以降に示す本発明のエレクトロクロミック表示素子の図4,図5でも同様である。
まず表示基板1bは、透明な材料からなるものであれば特に限定されるものではないが、ガラス基板、プラスチックフィルム等の基板が好適に用いられる。
表示電極1の材料としては、導電性を有する材料であれば特に限定されるものではないが、光の透過性を確保する必要があるため、透明な材料からなる透明電極が用いられる。
透明電極の材料としては、特に限定されるものではないが、スズをドープした酸化インジウム(以下ITO)、フッ素をドープした酸化スズ(以下FTO)、アンチモンをドープした酸化スズ(以下ATO)等が好適に用いられる。
金属錯体系のエレクトロクロミック化合物としては、プルシアンブルーやビス(ターピリジル)ベンゼン系錯体などが挙げられる。
図4に示すように、エレクトロクロミック表示素子20の構成は、図2に示す従来の素子の構成例とほぼ同様であるが、表示電極1との間にエレクトロクロミック層3及び白色反射層6を挟むように第三の電極として消去電極5を設けた点で異なる。
本構成例では、表示電極1とエレクトロクロミック層3を組み合わせた層構造(エレクトロクロミック表示層ともいう)が3層積層されて設けられており、詳しくは、表示基板1b側から第1表示電極1Cと第1エレクトロクロミック層3Cの層構造、第2表示電極1Mと第2エレクトロクロミック層3Mの層構造、第3表示電極1Yと第3エレクトロクロミック層3Yの層構造がこの順で積層されている。このとき、3つのエレクトロクロミック層3C,3M,3Yがそれぞれ別の色、例えばシアン、マゼンタ、イエローに発色する構成であり、フルカラー表示が可能である。
図7における画像消去(消色駆動)は、全表示電極および全TFT画素電極を一括選択し消色電圧を印加する。次いで、全表示電極および消去電極を一括選択し消色電圧を印加する。
図8における画像消去(消色駆動)は、全表示電極および全TFT画素電極を順に選択し消色電圧を印加する。次いで、全表示電極および消去電極を順に選択し消色電圧を印加する。
図9における画像消去(消色駆動)は、全表示電極および全TFT画素電極を一括選択し消色電圧を印加する。次いで、消去電極を選択すると共に全表示電極を順に選択し消色電圧を印加する。
図10における画像消去(消色駆動)は、全表示電極および全TFT画素電極を順に選択し消色電圧を印加する。次いで、全表示電極および消去電極を一括選択し消色電圧を印加する。
図11における画像消去(消色駆動)は、全表示電極および消去電極を一括選択し消色電圧を印加する。
図12における画像消去(消色駆動)は、消去電極を選択すると共に全表示電極を順に選択し消色電圧を印加する。
[エレクトロクロミック表示素子10の作製]
(1)電解質層前駆体材料の調製
電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウムの炭酸プロピレン溶液(TBAP、濃度2mol/l)を調製した。ついで、電解質層前駆体材料としてDIC(株)製のPNLC用の液晶組成物、モノマー組成物、および重合開始剤の混合物(製品名:PNM-170)と上記電解質を混合した。このとき、TBAP濃度が約0.04mol/lになるように調整し、また作製される電解質層4の層厚を規定するために粒径10μmの真球状樹脂ビーズを0.2wt%濃度で電解質層前駆体材料に分散させた。
40mm×40mmのガラス基板(表示基板1b)上の全面にスパッタ法により厚さ100nmのITO膜を形成し、表示電極1を作製した。この電極端部間の抵抗は約200Ωであった。この上に酸化チタンナノ粒子分散液(商品名SP210 昭和タイタニウム社製)をスピンコートし、120℃で15分間アニール処理を行うことにより、酸化チタン粒子膜を形成し、さらにこの上にエレクトロクロミック化合物である、4,4'-(isooxazole-3,5-diyl)bis(1-(2-phosphonoethyl)pyridinium)bromideの1wt% 2,2,3,3-テトラフロロプロパノール(以下TFPと記載)溶液をスピンコートし、120℃で10分間アニール処理を行うことにより、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなるエレクトロクロミック層3を形成した。
40mm×40mmのガラス基板(対向基板2b)上に、厚さ100nmのITO膜をストライプ状に形成し対向電極2とした。この上にさらに、酸化チタンおよび水性ポリウレタン樹脂のTFP分散液をスピンコートし、120℃で10分間アニール処理を行うことにより白色反射層6を形成した。さらにこの上にスパッタ法により厚さ100nmのITO膜を形成し、消去電極5を作製した。
(2)項で作製した表示電極1、エレクトロクロミック層3上に(1)項で調製した電解質層前駆体材料を塗布した。ついで、(3)項で作製した対向電極2、白色反射層6および消去電極5を重ね合わせ、高圧水銀ランプにより波長365nm中心の紫外線(照射光強度50mW/cm2)を対向電極2側から2分間照射し、光重合相分離させることで電解質層4を介するエレクトロクロミック表示素子10を作製した。
(4)項で作製したエレクトロクロミック表示素子10の表示電極1側に負極を、対向電極2側に正極を繋ぎ、電圧6V印加したところ、対向基板2bのITOストライプパターン対向電極2の形に合わせて、表示電極1のエレクトロクロミック層3が青色に発色した。反応は約500ミリ秒で高速に起こった。次に、表示電極1側に正極を、対向電極2側に負極を繋ぎ、電圧−6V印加したところ約500ミリ秒で高速に消色した。
前項で行なった発色および消色の操作を百回繰り返したところ、ストライプ状の対向電極2と対向電極2の間隙に「消え残り」が生じ、消色操作のみ何度繰り返しても消えずに残ってしまった。ここで、表示電極1側に負極を、消去電極5側に正極を繋いで、電圧−6V印加したところ、前述の「消え残り」がきれいに消滅した。
[エレクトロクロミック表示素子20の作製]
(1)電解質層前駆体材料の調製
電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウムの炭酸プロピレン溶液(TBAP、濃度2mol/l)を調製した。ついで、電解質層前駆体材料としてDIC(株)製のPNLC用の液晶組成物、モノマー組成物、および重合開始剤の混合物(製品名:PNM-170)と前記電解質を混合した。このとき、TBAP濃度が約0.04mol/lになるように調整し、また作製される電解質層4の層厚を規定するために粒径10μmの真球状樹脂ビーズを0.2wt%濃度で電解質層前駆体材料に分散させた。
40mm×40mmのガラス基板(表示基板1b)上の全面にスパッタ法により厚さ100nmのITO膜を形成し、表示電極1を作製した。この電極端部間の抵抗は約200Ωであった。この上に酸化チタンナノ粒子分散液(商品名SP210 昭和タイタニウム社製)をスピンコートし、120℃で15分間アニール処理を行うことにより、酸化チタン粒子膜を形成し、さらにこの上にエレクトロクロミック化合物である、4,4'-(isooxazole-3,5-diyl)bis(1-(2-phosphonoethyl)pyridinium)bromideの1wt% 2,2,3,3-テトラフロロプロパノール(以下TFPと記載)溶液をスピンコートし、120℃で10分間アニール処理を行うことにより、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなるエレクトロクロミック層3を形成した。この上にさらに、酸化チタンおよび水性ポリウレタン樹脂のTFP分散液をスピンコートし、120℃で10分間アニール処理を行うことにより白色反射層6を形成した。さらにこの上にスパッタ法により厚さ100nmのITO膜を形成し、消去電極5を作製した。
40mm×40mmのガラス基板(対向基板2b)上に、厚さ100nmのITO膜をストライプ状に形成し対向電極2とした。
(2)項で作製した表示電極1、エレクトロクロミック層3、白色反射層6および消去電極5上に(1)項で調製した電解質層前駆体材料を塗布した。ついで、(3)項で作製した対向電極2を重ね合わせ、高圧水銀ランプにより波長365nm中心の紫外線(照射光強度50mW/cm2)を対向電極2側から2分間照射し、光重合相分離させることで電解質層4を介するエレクトロクロミック表示素子20を作製した。
(4)項で作製したエレクトロクロミック表示素子20の表示電極1側に負極を、対向電極2側に正極を繋ぎ、電圧6V印加したところ、対向基板2bのITOストライプパターン対向電極2の形に合わせて、表示電極1のエレクトロクロミック層3が青色に発色した。反応は約500ミリ秒で高速に起こった。次に表示電極1側に正極を、対向電極2側に負極を繋ぎ電圧−6V印加したところ約500ミリ秒で高速に消色した。
前項で行なった発色および消色の操作を百回繰り返したところ、ストライプ状の対向電極2と対向電極2の間隙に「消え残り」が生じ、消色操作のみ何度繰り返しても消えずに残ってしまった。ここで、表示電極1側に負極を、消去電極5側に正極を繋いで、電圧−6V印加したところ、この「消え残り」がきれいに消滅した。
[エレクトロクロミック表示素子30の作製]
(1)電解質層前駆体材料の調製
電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウムの炭酸プロピレン溶液(TBAP、濃度2mol/l)を調製した。ついで、電解質層前駆体材料としてDIC(株)製のPNLC用の液晶組成物、モノマー組成物、および重合開始剤の混合物(製品名:PNM-170)と上記電解質を混合した。このとき、TBAP濃度が約0.04mol/lになるように調整し、また作製される電解質層4の層厚を規定するために粒径10μmの真球状樹脂ビーズを0.2wt%濃度で電解質層前駆体材料に分散させた。
ガラス基板(表示基板1b)上の所定の領域にスパッタ法により厚さ100nmのITO膜を形成し、第1表示電極1Cを作製した。シート抵抗は約200Ωであった。この上に酸化チタンナノ粒子分散液(商品名SP210 昭和タイタニウム社製)をスピンコートし、120℃・15minのアニール処理により、酸化チタン粒子膜を形成し、さらにこの上にエレクトロクロミック化合物である、4,4'-(isooxazole-3,5-diyl)bis(1-(2-phosphonoethyl)pyridinium)bromideの1wt%TFP溶液をスピンコートし、120℃で10分間アニール処理を行うことにより、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第1エレクトロクロミック層3Cを形成した。
次にこの上に、ポリNビニルアミドの0.1wt%エタノール溶液、ポリビニルアルコールの0.5wt%水溶液をスピンコート法により塗布することによって保護層を形成し、引続いて、8:2の組成比を有するZnS−SiO2を、スパッタ法により140nmの膜厚になるように成膜することによって絶縁層7を形成した。
更にこの上に、ITO膜をスパッタ法により厚さ100nmになるように成膜することによって、第2表示電極1Mを形成した。シート抵抗は約200Ωであった。この上に、酸化チタンナノ粒子分散液(商品名SP210 昭和タイタニウム社製)をスピンコート法により塗布し、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子膜を形成し、引続いて、エレクトロクロミック化合物である、4,4'-(1-phenyl-1H-pyrrole-2,5-diyl)bis(1-(4-(phosphonomethyl)benzyl)pyridinium)bromideの1wt%TFP溶液をスピンコート法により塗布し、120℃で10分間アニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第2エレクトロクロミック層3Mを形成した。
次にこの上に、ポリNビニルアミドの0.1wt%エタノール溶液、ポリビニルアルコールの0.5wt%水溶液をスピンコート法により塗布することによって保護層を形成し、引続いて、8:2の組成比を有するZnS−SiO2を、スパッタ法により140nmの膜厚になるように成膜することによって絶縁層7を形成した。
更に、この上に、ITO膜をスパッタ法により厚さ100nmになるように成膜することによって、第3表示電極1Yを形成した。シート抵抗は約200Ωであった。この上に、酸化チタンナノ粒子分散液(商品名SP210 昭和タイタニウム社製)をスピンコート法により塗布し、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子膜を形成し、引続いて、エレクトロクロミック化合物である、4,4'-(4,4'-(1,3,4-oxadiazole-2,5-diyl)bis(4,1-phenylene))bis(1-(8-phosphonooctyl)pyridinium)bromideの1wt%TFP溶液をスピンコート法により塗布し、120℃で10分間アニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第3エレクトロクロミック層3Yを形成した。
ガラス基板(対向基板2b)上に形成された複数の駆動素子2TFT(140ppi)及び画素電極である対向電極2の上に、酸化チタンおよび水性ポリウレタン樹脂のTFP分散液をスピンコートし、120℃・で10分間アニール処理を行うことにより白色反射層6を形成し、さらにこの上にスパッタ法により厚さ100nmのITO膜を形成し、消去電極5を作製した。
(2)項で作製した部材に、(1)項で調製した電解質層前駆体材料を塗布した。ついで、(3)項で作製した対向電極2、白色反射層6および消去電極5を重ね合わせ、高圧水銀ランプにより波長365nm中心の紫外線(照射光強度50mW/cm2)を対向電極2側から2分間照射し、光重合相分離させることで電解質層4を介するエレクトロクロミック表示素子30を作製した。
(4)項で作製したエレクトロクロミック表示素子30の駆動素子2TFTを所定の方法で駆動したところ、第1、第2、第3のエレクトロクロミック表示層(すなわち第1表示電極1Cと第1エレクトロクロミック層3Cの層構造、第2表示電極1Mと第2エレクトロクロミック層3Mの層構造、第3表示電極1Yと第3エレクトロクロミック層3Yの層構造)それぞれが対応する画像を表示し、鮮明なカラー画像を得た。駆動開始から画像が得られるまでの時間は約500ミリ秒であった。また画像の消去に要した時間も約500ミリ秒であった。
前項のカラー画像を表示させた後、種々の異なるカラー画像を次々に表示させた。それを10分ほど続けたところ、画素(すなわち対向電極2)間に「消え残り」が生じた。第1表示電極1Cと消去電極5の間に消色電圧−6.5vを印加し、次いで第2表示電極1Mと消去電極5の間に消色電圧−6.5vを印加し、次いで第3表示電極1Yと消去電極5の間に消色電圧−6.5vを印加して全面を白表示(全画素消去)しようとしても、前述の「消え残り」のために白表示が得られなかった。この状態の表示素子について、分光測色計を用いてスポットサイズ:5×8mmで550nmにおける反射率を測定したところ、31.8%であった。この状態は、本発明の特徴であるところの消色電極を有しない、従来の構成の表示素子の表示状態と言える。次に第1表示電極1Cと第2表示電極1Mおよび第3表示電極1Yを接続して消去電極5との間に消色電圧−6.5vを印加したところ、前述の「消え残り」がきれいに消滅し、白表示が得られた。
この状態の表示素子について、分光測色計を用い、スポットサイズ:5×8mmで550nmにおける反射率を測定したところ、60.3%であった。本発明の特徴である消去電極を用いた消去工程により、反射率が著しく増大することが確認された。
1b 表示基板
2 対向電極
2b 対向基板
2TFT 駆動素子
3,3C,3M,3Y エレクトロクロミック層
4 電解質層
5 消去電極(第三の電極)
6 白色反射層
7 絶縁層
10,20,30,80,90 エレクトロクロミック表示素子
Claims (5)
- 少なくとも表示基板と、前記表示基板上に設けられた表示電極と、前記表示電極上に設けられたエレクトロクロミック層と、対向基板と、前記対向基板上に設けられ前記表示電極に対向して配置される複数の対向電極と、前記表示電極と前記複数の対向電極とに挟まれるように設けられた電解質層と、を有するエレクトロクロミック表示素子を有する表示装置であって、
前記エレクトロクロミック表示素子は、さらに前記表示電極と前記複数の対向電極の間にあって、前記表示電極との間に前記エレクトロクロミック層を挟むように配置された第三の電極を有するとともに、前記対向基板上に、前記複数の対向電極それぞれに対応して設けられる複数の駆動素子を有し、かつ、前記表示電極と前記エレクトロクロミック層を組み合わせた層構造が前記表示基板上に複数積層されて設けられており、
1つまたは複数の前記表示電極を選択する手段と、前記第三の電極あるいは前記複数の対向電極のどちらか一方を可変的に選択する手段と、前記第三の電極あるいは前記複数の対向電極のうち選択された一方と前記選択された表示電極との間に電圧を印加する手段と、を有することを特徴とする表示装置。 - 前記第三の電極は、前記複数の対向電極に跨って配置されていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記表示電極と前記第三の電極の間に前記エレクトロクロミック層を消色させる電圧を印加する消去動作が行われることを特徴とする請求項1または2に記載の表示装置。
- 前記電解質層中に、白色反射層を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の表示装置。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の表示装置の駆動方法であって、
前記1つまたは複数の表示電極を選択する工程と、
次いで、前記複数の対向電極を選択し、当該選択された対向電極と前記選択された1つまたは複数の表示電極との間に、前記選択された1つまたは複数の表示電極に対応するエレクトロクロミック層が消色する電圧を印加する工程と、
さらに、前記第三の電極を選択し、当該選択された第三の電極と前記選択された1つまたは複数の表示電極との間に、前記選択された1つまたは複数の表示電極に対応するエレクトロクロミック層が消色する電圧を印加する工程と、を含むことを特徴とする表示装置の駆動方法。
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