JP2003021848A - 表示素子 - Google Patents

表示素子

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JP2003021848A
JP2003021848A JP2001206105A JP2001206105A JP2003021848A JP 2003021848 A JP2003021848 A JP 2003021848A JP 2001206105 A JP2001206105 A JP 2001206105A JP 2001206105 A JP2001206105 A JP 2001206105A JP 2003021848 A JP2003021848 A JP 2003021848A
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electrodes
insulator
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Kenji Shinozaki
研二 篠崎
Hiroyuki Mihashi
裕之 三橋
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Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 クロストークがなく、表示がシャープである
低エネルギー駆動の表示素子を提供すること。 【解決手段】 電気化学的な還元若しくは酸化により析
出若しくは溶解若しくは変色する塩化ビスマス、ＡｇＩ
等の着色用物質を含む高分子固体電解質層５が透明画素
電極２と対向電極６との間に配置され、少なくとも透明
画素電極２が少なくとも画素部１７を除いて絶縁物１４
ｂによって覆われている表示素子１８。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば電気化学的
な還元又は酸化によって析出若しくは溶解若しくは変色
する材料を表示材料とする表示素子に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、ネットワークの普及につれ、これ
まで印刷物の形状で配布されていた文書類がいわゆる電
子書類で配信されるようになってきた。更に、書籍や雑
誌等もいわゆる電子出版の形で提供される場合が多くな
りつつある。
【０００３】そして、これらの情報を閲覧するために従
来行なわれているのは、ブラウン管ディスプレイ（Cath
ode Ray Tube：CRT）又は液晶ディスプレイ（Liquid Cr
ystal Display：LCD）から情報を読むことである。しか
し、これらの発光型のディスプレイでは、長時間見続け
ると、人間工学的理由から人体の疲労が著しくなり、長
時間の読書には耐えられないことが指摘されている。
又、読む場所がディスプレイのあるコンピュータの設置
場所付近に限られるという難点がある。
【０００４】最近、ノート型コンピュータの普及で携帯
型のディスプレイとして使えるものもあるが、やはり発
光型のディスプレイであることに加えて消費電力の関係
で、これも数時間以上の読書に用いることはできない。
【０００５】更に、近年、反射型液晶ディスプレイも開
発されており、これを用いれば低消費電力で駆動するこ
とができるが、液晶の無表示（白色表示）における反射
率は３０％程度であり、これでは紙への印刷物に比べて
著しく視認性が悪くて疲労が生じ易く、これも長時間の
読書に耐えるものではない。
【０００６】そこで、これらの問題点を解決するため
に、最近、いわゆるペーパーライクディスプレイ或いは
電子ペーパーと呼ばれるものが開発されつつある。これ
らは主に、電気泳動法により着色粒子を電極間で移動さ
せるか、又は二色性を有する粒子を電場で回転させるこ
とにより着色させている。しかし、これらの方法では粒
子間の隙間が光を吸収してしまい、その結果コントラス
トが悪くなり、又駆動する電圧を１００Ｖ以上にしなけ
れば実用上の書き込み速度（１秒以内）が得られないと
いう難点がある。
【０００７】次に、エレクトロクロミックディスプレイ
（Electrochromic Display：ECD）は、コントラストの
高さという点では上記の方式に比べて優れており、既に
調光ガラスや時計用のディスプレイに実用化されてい
る。
【０００８】従来の構成においては、電子ペーパーのよ
うなディスプレイ用途に適用するにはマトリクス駆動が
必要であるが、例えば電気化学反応を利用したディスプ
レイの場合は駆動にエネルギーが多大に必要なために、
従来の方式では単純マトリクス駆動ができず、アクティ
ブマトリクス駆動をせざるを得ず、表示装置が高価なも
のにならざるを得なかった。従って、単純マトリクス駆
動を可能にする方式の装置が強く求められていた。
【０００９】
【発明に至る経過】そこで、本発明者は、単純マトリク
スだけで発色可能な表示素子としてイオン伝導型の表示
素子を見出した。
【００１０】この表示素子の構造及び機能は下記のよう
なものである。
【００１１】即ち、電位を選択した電極交差領域におけ
る電界エネルギーによってイオンが一方の電極側へ移動
して、着色用物質の還元又は酸化反応により、イオン化
された状態から着色用物質が析出（還元）し、また溶解
（酸化）する。
【００１２】この析出金属により、入射光の反射光がそ
の金属色と背景色との十分なコントラストで基板６１の
側から所定パターンに観察される。この結果、発色と消
色とを繰り返す可逆的反応により、所望の反射型の素子
が可能となる。但し、入射光は透過光として基板６７の
側から観察できる透過型とすることもできる（以下、同
様）。
【００１３】この場合、イオン伝導には、例えば高分子
固体電解質として金属イオン含有のポリビニルアルコー
ル等が、金属イオンには塩化ビスマス等が好適に用いら
れる。
【００１４】このイオン伝導型の表示素子によって、従
来の表示素子の抱えていた問題が解決され、表示素子を
電子ペーパーに使用可能な程度にまで薄くできるだけで
なく、単純マトリクス駆動条件下においても駆動可能と
なる。
【００１５】次に、上記のイオン伝導型の表示素子の構
造の一例を説明する。
【００１６】図１２及び図１３に示すように、ガラス基
板などの透明支持体６１上に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxi
de）膜からなる透明画素電極６２が蒸着、スパッタリン
グ後のパターニングによって形成される。そして、この
透明画素電極６２からなる各画素部５７が透明支持体６
１上にドット状又はマトリクス状に配列されている。
【００１７】また、透明支持体６１上に高分子固体電解
質層６５が形成される。先ず、高分子固体電解質層６５
のマトリクス（母材）用高分子となる合成樹脂と電解質
を構成する材料とが混合され、更に着色材として白色粒
子が分散されて、溶液が調製される。そして、この高分
子固体電解質の溶液が塗布される。
【００１８】その後、予め共通電極６６が形成された支
持体６７が、対向電極６６の側で高分子固体電解質の溶
液を透明画素電極６２付きの透明支持体６１との間に挟
持するように貼り合わせられ、この状態で乾燥、ゲル化
して高分子固体電解質６５を有し、マトリクス電極２１
を構成した表示素子６８が完成する。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】次に、図１２及び１３
に示すように、このイオン伝導型の表示素子６８を使用
して、支持体６７上の任意の対向電極６６の側から電界
の作用下で、発色用の金属イオンを対向する透明画素電
極６２の画素部５７に向かって高分子固体電解質６５
（イオン伝導体）中を拡散、移動（泳動）させ、透明画
素電極６２上にて還元して金属を析出させる。この場
合、イオンの拡散範囲Ａは、電極６６−６２間の等電位
面をほぼ直交する方向であって有効な移動を可能とする
範囲であって、近似的に電極６６からほぼ４５度の角度
θで拡がるものとする（以下、同様）。
【００２０】しかし、両電極６６と６２において、例え
ばＸ2電極と対向するＹ2電極との双方の電極をＯＮに
し、これらの交差部に電界（電位差）を生じさせると、
電極６６間のピッチ等の条件によっては、電極Ｘ2−Ｙ2
間のイオン拡散範囲（メッシュ状の実線で表す。）と、
隣接した電極Ｘ1−Ｙ2間のイオン拡散範囲（破線で表
す。）とが一部重複し、隣接する画素部５７同士が混色
し、クロストーク部分６９が生じて、シャープな表示が
困難となる。また、例えばＸ1電極−Ｙ2電極間に電界が
存在している場合に、この画素部がＸ2電極側からのイ
オンの拡散で幾分着色してしまうこともある。
【００２１】本発明は、上記のような実情に鑑みてなさ
れたものであって、その目的は、画素への着色効率が良
好であり、クロストークのないシャープな表示が可能で
あり、かつ低エネルギーで単純マトリクス駆動が可能な
表示素子を提供することにある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、電気化
学的な還元若しくは酸化により析出若しくは溶解若しく
は変色する着色用物質と、電解質とが、第一電極と第二
電極との間に配置され、これらの電極の少なくとも一方
の電極が少なくとも画素領域を除いて絶縁物によって覆
われている表示素子に係るものである。
【００２３】本発明は又、電気化学的な還元若しくは酸
化により析出若しくは溶解若しくは変色する着色用物質
と、高分子固体電解質とが、第一電極と第二電極との間
に配置されている表示素子において、隣接し合う前記第
一電極における実効電極面間の距離をＬ、前記第二電極
面と前記第一電極における前記実効電極面との間の距離
をＧとすると、 Ｌ≧２Ｇ の関係が成り立つ表示素子に係るものである。
【００２４】本発明によれば、少なくとも一方の電極が
少なくとも画素領域を除いて絶縁物によって覆われてお
り、又隣接し合う第一電極における実効電極面間距離Ｌ
が第二電極と第一電極における実効電極面との距離Ｇの
２倍以上あるために、それぞれの第一電極側から第二電
極側に向かって拡散移動するイオンが第二電極側の画素
領域以外に拡散しようとしても、この拡散を上記絶縁物
によって効果的に阻止でき、或いは隣接する画素へのイ
オンの侵入を効果的に防止できることになる。従って、
所望の画素の着色を十分に行えると共に、イオンの拡散
範囲が画素間で相互に重複せず、また着色すべきでない
画素の着色もなくなり、クロストークがなく、色のにじ
み（又は混色）もない高品質で明確な表示が得られる。
【００２５】しかも、第一電極と第二電極との間におい
て着色用物質の電気化学的な還元、酸化によって選択的
に着色、消色させ、これを高分子電解質が促進し、また
イオンを運ぶ作用をなすため、着色及び消色が低エネル
ギーでも迅速かつ十分に行われ、コントラスト及び着色
濃度(例えば黒色濃度)を高くし、長時間使用した場合で
もメモリー効果によって褪色等の問題が発生せず、また
アクティブマトリクス駆動は勿論のこと単純マトリクス
駆動も可能となる。
【００２６】
【発明の実施の形態】本発明においては、電気化学的な
還元若しくは酸化により析出若しくは溶解若しくは変色
する着色用物質と、高分子固体電解質とが、第一電極と
第二電極との間に配置され、これらの電極の少なくとも
一方の電極が少なくとも画素領域を除いて絶縁物によっ
て覆われている表示素子において、クロストーク現象を
確実に防止するためには、少なくとも前記第二電極側の
一部が絶縁物によって覆われる場合に、隣接し合う前記
第一電極における実効電極面間の距離をＬ、前記第二電
極側の前記絶縁物の厚さをｔ、前記第二電極面と前記第
一電極における前記実効電極面との間の距離をＧとする
と、 Ｌ≧Ｇ或いはＬ≧Ｇ−ｔ の関係が成り立つのが望ましい。但し、Ｌが余りにも大
きくなると、画素間の距離が大きくなりすぎて画素密度
が低下するので、Ｌ≦３Ｇ、更にはＬ≦２．５Ｇとする
のが望ましい。
【００２７】又、電気化学的な還元若しくは酸化により
析出若しくは溶解若しくは変色する着色用物質と、高分
子固体電解質とが、第一電極と第二電極との間に配置さ
れ、これらの電極の少なくとも一方の電極が少なくとも
画素領域を除いて絶縁物によって覆われている表示素子
において、クロストーク現象を確実に防止するために
は、少なくとも前記第二電極側が少なくとも画素領域を
除いて前記絶縁物によって覆われており、前記第一電極
側における実効電極面幅をｂ、前記第二電極における画
素の周囲に存在する前記絶縁物の外側端間の距離をｌ、
前記絶縁物の厚さをｔ、前記第二電極面と前記第一電極
における前記実効電極面との間の距離をＧとすると、マ
トリクス配置にした場合、前記第一及び第二の電極はピ
ッチが等しくなければならないから、 ｌ−ａ＝Ｌ＋ｂ、即ちｌ＝Ｌ＋ａ＋ｂ とする必要がある。
【００２８】又、隣接し合う第一電極における実効電極
面間の距離をＬ、前記第二電極面と前記第一電極におけ
る実効電極面間との距離をＧとするとＬ≧２Ｇとすべき
であるが、Ｌが余りにも大きくなると、画素間の距離が
大きくなりすぎて画素密度が低下するので、Ｌ≦３Ｇ、
更にはＬ≦２．５Ｇとするのが望ましい。
【００２９】又、前記絶縁物がＳｉＯ2等の酸化ケイ素
又は樹脂からなるのが望ましい。
【００３０】又、例えばマトリクス状電極の形成のため
に、前記第一及び第二の電極が、それぞれ所定の基板上
に所定の間隔を置いて形成され、これらの第一及び第二
の電極が電解質を介して互いに対向配置されるのが望ま
しい。
【００３１】この場合、表示をシャープにするために、
電極面に対して垂直方向から見た時に、少なくとも前記
第一及び第二の電極の交差部分以外が前記絶縁物で覆わ
れているのが望ましい。
【００３２】そして、画素領域の確保のために、前記第
一及び第二の電極がストライプ状であり、これらのスト
ライプ状電極において前記絶縁物を形成していない領域
の大きさが互いに等しいか或いは異なるのが望ましい。
【００３３】又、画素領域の確保のために、前記第一の
電極が所定の基板上に周期的に配列された画素電極とし
て形成され、対向する前記第二の電極において、画素に
対応する部分以外が前記絶縁物で覆われているのが望ま
しい。
【００３４】この場合、効果的な画素領域の確保のため
に、前記絶縁物で覆われていない前記第二の電極の面積
が、画素としての前記第一電極の実効電極面積よりも大
きいのが望ましい。
【００３５】又、電気化学的な還元若しくは酸化により
析出若しくは溶解若しくは変色する着色用物質と、電解
質とが、第一電極と第二電極との間に配置され、これら
の電極の少なくとも一方の電極が前記着色用物質の連続
した層で覆われる場合、表示をシャープにするために、
この着色用物質層が前記電解質と接触する状態で、前記
少なくとも一方の電極が少なくとも画素領域を除いて絶
縁物によって覆われているのが望ましい。
【００３６】この場合、マトリクス状電極の形成のため
に、前記絶縁物で覆われていない前記着色用物質層の部
分が所定間隔を置いて形成され、所定間隔を置いて形成
された対向電極と交差しているのが望ましい。
【００３７】又、着色濃度やコントラストを高めるため
に、前記着色用物質が金属イオン又はエレクトロクロミ
ズム材料であるのが望ましい。
【００３８】この金属イオンは、銀、ビスマス、クロ
ム、鉄、ニッケル及びカドミウム等からなる群より選ば
れた少なくとも一種の陽イオンであるのが望ましい。
【００３９】この場合、前記エレクトロクロミズム材料
が前記第一及び第二の電極の少なくとも一方の面上に連
続する層として形成されてよい。
【００４０】そして、このエレクトロクロミズム材料
は、酸化タングステン、スピネル化合物、ビオロゲン化
合物及び電気活性を有する高分子材料等からなる群より
選ばれた少なくとも一種からなるのが望ましい。
【００４１】この電気活性を有する高分子材料は、ポリ
ピロール、ポリアズレン、ポリチオフェン及びポリアニ
リン等からなる群より選ばれた少なくとも一種からなる
のが望ましい。
【００４２】又、表示素子の形成のために、前記第二の
電極の側が表示パターンを形成するように構成するのが
望ましい。
【００４３】この場合、アクティブマトリクス駆動のた
めに、前記第一の電極が、同一基板上に設けられた駆動
トランジスタに接続されているのが望ましい。
【００４４】以下に、本発明の好ましい実施の形態を図
面の参照下に説明する。
【００４５】まず、図１（１）に示す表示素子１８は、
透明画素電極２及び対向電極６のそれぞれの電極面の所
定の位置に絶縁膜１４ａ、１４ｂを設けたものである。
【００４６】ガラス基板などの透明支持体１上に、ＩＴ
Ｏ膜からなる透明画素電極２を画素部１７毎に形成す
る。この透明画素電極（ＩＴＯ膜）２は蒸着又はスパッ
タリング等の物理的成膜及びフォトエッチングによって
形成する。そして、各画素部１７は透明支持体１上にド
ット状（又はマトリクス状）に配列する。
【００４７】透明支持体１の材質としては、石英ガラス
板、白板ガラス板等の透明ガラス基板を用いることが可
能であるが、これに限定されず、ポリエチレンナフタレ
ート、ポリエチレンテレフタレート等のエステル類、ポ
リアミド、ポリカーボネート、酢酸セルロース等のセル
ロースエステル類、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラ
フルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等のフッ
素ポリマー類、ポリオキシメチレン等のポリエーテル
類、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、メチルペンテンポリマー等のポリオレフ
ィン類、及びポリイミドアミドやポリエーテルイミド等
のポリイミド類等を例として挙げることができる。
【００４８】そして、これらの合成樹脂を透明支持体１
として用いる場合には、容易に曲がらないような剛性基
板にすることも可能であるが、可撓性を持ったフィルム
状の構造体とすることも可能である。
【００４９】又、透明画素電極２の材質としては、Ｉｎ
2Ｏ3とＳｎＯ2との混合物であるＩＴＯ、ＳｎＯ2、Ｉｎ
2Ｏ3、ＭｇＯ又はＺｎＯ等をスパッタ法や真空蒸着法等
で成膜してなる膜を用いることが好ましい。又、これら
の膜にＳｎやＳｂをドーピングしたものでもよい。
【００５０】さらに、透明画素電極２においては、幅、
厚さ、隣接する透明画素電極２との間隔等は、所定の効
果が有れば、自由にしてよい。
【００５１】次に、このドット状（又はストライプ状）
の透明画素電極（例えばＩＴＯ膜）２の上に、ＴＥＯＳ
（ケイ酸エチルＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4：Tetra-Ethoxyortho
-Silicate）とＯ2とを使用したプラズマＣＶＤ法等、更
にはパターニングにより、所定パターンの絶縁膜１４ｂ
（ＳｉＯ2）を２００ｎｍの厚さに成膜する。
【００５２】なお、絶縁膜１４ｂの材質、幅、厚さ、形
成方法、長さ、隣接する絶縁膜１４ｂとの間隔等は、所
定の効果が有れば、自由にしてよい。
【００５３】次に、絶縁膜１４ｂの形成された透明支持
体１上に、電解質を含むポリマーの溶液を所定厚みに塗
布し、しかる後に、対向電極６及び絶縁膜１４ａを有す
る支持体７を被せ、この状態で乾燥して高分子固体電解
質層５を形成する。
【００５４】ここで、高分子電解質となるポリマー分子
を予め適切な非水溶媒（有機溶媒等）に溶解させて用い
る。その際に、適用可能な有機溶媒は特別なものではな
く、例えば汎用電池溶媒として公知となっているもので
あってよい。
【００５５】こうした汎用電池溶媒としては、例えばエ
チレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレ
ンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカー
ボネート、エチルメチルカーボネート、酢酸メチル、酢
酸エチル、プロピオン酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、γ−ブチロラクトン、ジメトキシエタン、ジエトキ
シエタン、テトラヒドロフラン、ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、アセトニトリル、プロピオニトリル、メチル
ピロリドン等の非プロトン性非水溶媒が適当である。
【００５６】又、上記の溶媒の選択においては、表示素
子の作製環境下において、例えば揮発性の高い材料を用
いて表示素子を作製する時に減圧又は加温することによ
って溶媒を除去することができる。或いは、一部の溶媒
を内部に残して表示素子を作製してもよい。
【００５７】そして、高分子電解質を形成するためのポ
リマーとしては、骨格ユニットがそれぞれ−〔（Ｃ
Ｈ2）mＯ−〕n−、−〔（ＣＨ2）mＮ〕n−、又は−
〔（ＣＨ2）mＳ−〕n−で表される、ポリエチレンオキ
サイド等のポリアルキレンオキサイド、ポリエチレンイ
ミン等のポリアルキレンイミン、ポリエチレンスルフィ
ド等のポリアルキレンスルフィドの各ポリマー、又はこ
れらを主鎖構造として枝分かれした高分子材料のポリマ
ー、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポ
リフッ化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリアクリロ
ニトリル、ポリビニルアルコールの各ポリマー、及びこ
れらの混合物からなる群より選ばれた少なくとも１種を
使用できる。
【００５８】又、上記の汎用電池溶媒に溶解させる、電
気化学的な析出と溶出とによって発色と消色とを行うこ
とのできる着色用物質としての金属イオン（電解質）の
材質としては、特に限定されるのもではないが、ビスマ
ス、銅、銀、リチウム、鉄、クロム、ニッケル、カドミ
ウム等の各金属イオン又はこれらの組み合わせからなる
金属イオン等を例示することができる。特に好ましい金
属イオンはビスマスイオン、銀イオンである。ビスマス
や銀が好適である理由は、例えば可逆的な反応（発色と
消色とを繰り返す反応）を容易に進めることができ、か
つ析出時の変色度が高く、電析後のメモリー効果（表示
色の保持）が良好であるためである。
【００５９】さらにこの着色用物質としては、硝酸銀、
ホウフッ化銀、ハロゲン化銀（ＡｇＩなど）、過塩素酸
銀、シアン化銀及びチオシアン化銀等から選ばれた少な
くとも１種からなる銀塩を用いるのがよい。
【００６０】こうした銀塩類の他に、着色用物質を安定
化させるために、四級アンモニウムハライド（ハロゲン
はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、アルカリ金属ハライド（Ｌ
ｉＣｌ、ＬｉＢｒ、Ｌｉｌ、ＮａＣｌ、ＮａＢｒ、Ｎａ
Ｉ等）、シアン化アルカリ金属塩及びチオシアン化アル
カリ金属塩（いずれもアルカリ金属はＮａ、Ｌｉ、Ｋな
ど）等から選ばれた少なくとも１種からなる支持電解質
を溶解させるのがよい。
【００６１】その他の支持電解質として、ＬｉＢＦ4、
ＬｉＣｌＯ4、ＬｉＰＦ6、ＬｉＣＦ3ＳＯ3等のリチウム
塩や、ＫＣｌ、ＫＩ、ＫＢｒ等のカリウム塩や、ホウフ
ッ化テトラエチルアンモニウム、過塩素酸テトラエチル
アンモニウム、ホウフッ化テトラブチルアンモニウム、
過塩素酸テトラブチルアンモニウム、テトラブチルアン
モニウムハライド等のテトラアルキルアンモニウム塩を
挙げることができる。なお、これらのテトラアルキルア
ンモニウム塩のアルキル鎖長は互いに異なっていてもよ
い。
【００６２】次に、高分子固体電解質層５を形成する際
には、高分子化合物の加工性を良くするために所定量の
可塑剤を加えるのが好ましい。そして、好ましい可塑剤
としては、例えばポリマーが親水性の場合には、水、エ
チルアルコール、イソプロピルアルコールおよびこれら
の混合物が好ましく、また疎水性の場合には、エチレン
カーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカー
ボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネー
ト、エチルメチルカーボネート、γ−ブチロラクトン、
アセトニトリル、プロピオニトリル、スルホラン、ジメ
トキシエタン、ジエトキシエタン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸エチル、ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、
ｎ−メチルピロリドン等（特に非プロトン性溶媒）、お
よびこれ等の混合物からなる群より選ばれた少なくとも
１種が挙げられる。
【００６３】又、高分子固体電解質層５には、コントラ
ストを向上させるために着色剤が添加される。前述のよ
うに、金属イオンの発色が黒色の場合には、背景色とし
ては白色の隠蔽性の高い材料が添加される。このような
材料として、例えば、白色布、白色紙、着色用の白色粒
子等が用いられ、例えば着色用の白色粒子としては二酸
化チタン、炭酸カルシウム、二酸化珪素（シリカ）、酸
化マグネシウム、酸化アルミニウム等からなる群より選
ばれた少なくとも１種を使用することができる。又、着
色のための色素を用いることもできる。
【００６４】この着色剤の混合割合としては、無機粒子
による場合、約１〜２０重量（ｗｔ）％が好ましく、よ
り好ましくは約１〜１０ｗｔ％であり、さらに好ましく
は約５〜１０ｗｔ％である。
【００６５】二酸化チタン等の無機の白色粒子は、高分
子材料への溶解性がなくて分散するだけであるために、
混合する割合が増えると無機粒子が凝集してしまい、光
学濃度が不均一になってしまうからである。又、無機粒
子はイオン導電性がないため、混合割合の増加は高分子
電解質の導電性の低下を招いてしまう。そこで、両者を
考慮すると、混合割合の上限はおよそ２０ｗｔ％とする
のがよい。
【００６６】又、着色剤として色素を用いる場合には、
その混合量は１０ｗｔ％でもよい。これは、色素の発色
効率が無機粒子に比べてはるかに高いためである。従っ
て、電気化学的に安定した色素であれば、少ない量でも
コントラストを出すことができる。通常は、色素として
油溶性染料が好ましい。
【００６７】また、無機粒子を着色剤として混合する場
合、高分子固体電解質層５の膜厚は２０μｍ〜２００μ
ｍであることが好ましく、より好ましくは５０μｍ〜１
５０μｍであり、さらに好ましくは７０μｍ〜１５０μ
ｍである。
【００６８】これは、高分子固体電解質層５の膜厚が薄
い方が電極間の抵抗が小さくなるために、発色及び消色
時間の低減や消費電力の低下につながり、好ましいから
である。しかし、２０μｍ未満になると、機械的強度が
低下してピンホールや亀裂が生じ易くなり、またあまり
に薄い場合には、白色粒子の混合量が少なくなるため
に、白色性（コントラスト）が十分でなくなる。
【００６９】次に、高分子固体電解質層５を形成するポ
リマー溶液の作成と並行して、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムなどからなる支持体７上に、所要の膜厚の
パラジウム膜等からなる対向電極６をスパッタリング等
の物理的成膜法によって形成する。
【００７０】この対向電極６は、電気化学的に安定な金
属であれば何でもよいが、白金、クロム、アルミニウ
ム、コバルト、パラジウム等によって形成されるのが好
ましく、支持体７上に良導体としてスパッタ法や真空蒸
着法で成膜することができる。
【００７１】なお、対向電極６の幅、厚さ、隣接する対
向電極６との間隔等は、所定の効果が有れば、自由にし
てよい。
【００７２】又、主反応に用いる金属を予め或いは随時
十分に補うことができれば、カーボンを対向電極６に使
用することも可能である。このためのカーボンは例えば
金属電極上に担持させてよいが、この方法として、例え
ば樹脂を用いてインク化したカーボン塗料を基板面に印
刷する方法がある。このようにカーボンを使用すること
によって、対向電極６の低価格化を図れる。
【００７３】又、対向電極６に十分な剛性がある場合に
は、支持体７を設けなくともよい。次に、支持体７の材
質は、必ずしも透明である必要はなく、対向電極６や高
分子固体電解質層５を確実に保持できる基板やフィルム
等を用いることができる。
【００７４】例示すると、石英ガラス板、白板ガラス板
等のガラス基板、セラミック基板、紙基板、木材基板等
を用いることが可能であるが、これに限定されず、合成
樹脂基板を使用可能であり、これには、ポリエチレンナ
フタレート、ポリエチレンテレフタレート等のエステル
類、ポリアミド、ポリカーボネート、酢酸セルロース等
のセルロースエステル類、ポリフッ化ビニリデン、ポリ
テトラフルオロエチレン−コヘキサフルオロプロピレン
等のフッ素ポリマー類、ポリオキシメチレン等のポリエ
ーテル類、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、メチルペンテンポリマー等のポリ
オレフィン類、及びポリイミド−アミドやポリエーテル
イミド等のポリイミド類を挙げることができる。
【００７５】ドット状（又はストライプ状）の対向電極
６の所定の位置に、ＴＥＯＳ（ケイ酸エチルＳｉ（ＯＣ
2Ｈ5）4：Tetra-Ethoxyortho-Silicate）とＯ2とを使用
したプラズマＣＶＤ法等及びパターニングにより、所定
形状の絶縁膜１４ａ（ＳｉＯ 2）を２００ｎｍ厚に成膜
した。
【００７６】次に、透明支持体１に塗布したポリマー溶
液上から支持体７を被せて、この支持体７と透明支持体
１との間に両電極６及び２に接して高分子電解質のポリ
マー溶液を挟持する。
【００７７】この際、高分子電解質のポリマー溶液を挟
持する各電極間を所定距離（ギャップ）に確保すること
が必要である。このためには、例えばポリマー溶液中
に、予め素子の強度維持のために任意の粒径又は長さを
持つロッド状の補強材等を混入し（或いは支持体１上に
載置し）、これをスペーサとして使用してもよい。
【００７８】或いは、例えば不織布や紙等からなるスペ
ーサ等を挟持することによって電極間にギャップを確保
して、高分子電解質のポリマー溶液をこの不織布や紙等
からなるスペーサーに染み込ませることによって、各電
極間の最適な距離を確保することもできる。
【００７９】次に、対向電極６側がポリマー溶液に接す
るように、支持体７を透明支持体１上に重ね、ポリマー
溶液を両支持体７−１間に挟持した状態とする。
【００８０】次に、この状態で加熱、乾燥等の処理によ
って、溶媒を蒸発させてポリマー溶液を硬化させ、高分
子固体電解質層５を支持体７と透明支持体１との間に形
成する。
【００８１】なお、上記のポリマー分子（又は線状高分
子化合物）間を互いに化学結合させて、三次元網状構造
の高分子化合物とするために、架橋剤を用いてもよい。
この架橋剤の使用法としては、例えば予め構成モノマー
分子（単量体）に混合して重合反応と同時に架橋反応を
起こさせてもよい。
【００８２】こうした架橋剤には、ジビニルベンゼン、
１，５−ヘキサジエン−３−イン、ヘキサトリエン、ジ
ビニルエーテル、ジビニルスルホン等のジビニル化合
物、フタル酸アリル、２，６−ジアクリルフェノール、
ジアリルカルビノール等のジアリル化合物等がある。
【００８３】架橋剤はイオン的機構による架橋や、縮合
反応、付加反応によるものであってよい。縮合反応によ
るものとしては、アルデヒド、ジアルデヒド、尿素誘導
体、グリコール、ジカルボン酸、モノ及びジアミン等が
用いられ、付加反応によるものとしてジイソシアナー
ト、ビスエポキシ化合物、ビスエチレンイミン化合物等
が用いられる。
【００８４】次に、本発明の好ましい実施の形態を具体
的に例示する。
【００８５】例１ 本例の表示素子１８によれば、図１に示すように、透明
画素電極２及び対向電極６の双方の電極上の所定位置に
ＳｉＯ2からなる絶縁膜１４ｂ、１４ａが配置されてい
る。
【００８６】そして、この表示素子１８の透明画素電極
２において、絶縁膜１４ｂによって覆われた部分は、電
解質である上記金属イオンと透明画素電極２との間での
電子の授受が遮断されるために、高分子固体電解質層５
に含有される金属イオンの電析が生じず、着色表示され
ない（以下、同様）。従って、イオンの拡散範囲Ａは、
実質的に絶縁膜１４ｂの内側に規制され、画素部１７の
みに金属が析出（着色）することになる。
【００８７】絶縁膜１４ｂの設置パターンは、開口部
（画素部１７）が透明画素電極２と対向電極６とが重な
る部分に存在するように、二次元的に周期配列するもの
とする。又、電極の重なった部分の面積や形状と画素部
１７の面積及び形状とが同じでなくてよく、概して後者
を大きくする。そして、電極の幅自体は、絶縁膜の開口
部より大きくし、その電気抵抗を低減しておくのがよ
い。
【００８８】透明画素電極２上に、絶縁膜１４ｂを設け
る目的は、開口部（画素部１７）以外を着色しないよう
にし、画素部１７間のクロストーク現象や色のにじみを
防ぐことにある。また、対向電極６上に絶縁膜１４ａを
設けるのは、図４にも明示するように、対向電極６を幅
広にして電気抵抗を小さくすること（導電性の確保）
と、イオン拡散範囲Ａの規制のためである。
【００８９】次に、例えば、透明画素電極２の電極面２
２と対向電極６における実効電極面２３との間の距離
（但し、対向電極６の電極面上に絶縁膜１４ａがある時
は、イオンの拡散が生じる絶縁膜１４ａの開口部上端面
を実効電極面とする。）をＧ、隣接し合う対向電極６に
おける実効電極面間の距離をＬ、透明画素電極２におけ
る画素部１７の周囲に存在する絶縁物１４ｂの外側端間
の距離をｌ、透明画素電極２の電極面上の絶縁膜１４ｂ
の厚さをｔ、透明画素電極２の電極面上の絶縁膜１４ｂ
の幅（長さ）をａ、対向電極６側における実効電極面２
３の幅をｂとする（以下の他の例においても同様）。
【００９０】なお、透明画素電極２面上の絶縁膜１４ｂ
の長さａは限りなくゼロに近い値であれば画素領域の確
保には望ましいが、最終的にこの長さａは表示素子の画
素数によって決めてよい。
【００９１】又、透明画素電極２面上の絶縁膜１４ｂの
厚さｔについては、実際には絶縁膜１４ｂが微細な形成
工程を経て形成されるために、図１に示すように、厚さ
ｔは均一ではなく、絶縁膜１４ｂの角部や断面形状が様
々なものとなる可能性がある。ここでは、この厚さｔに
関する後述の各式は実質的には、設計上の関数とし、実
際にはそれと近似するものとする。
【００９２】又、対向電極６の実効電極面と透明画素電
極２の電極面との間で透明画素電極２側へ拡散するイオ
ンは、透明画素電極２の画素部１７に向かってほぼ４５
度の角度範囲内で拡散移動（泳動）する。実際のイオン
の拡散範囲は４５度を超える領域にも及ぶことがある
が、これは極端に少ないものであるから、イオンの拡散
範囲はほぼ４５度以内とする（以下の他の例においても
同様とする）。
【００９３】そして、絶縁膜１４ｂ、１４ａが透明画素
電極２と対向電極６とにそれぞれ設けられた場合に、図
１（１）に示すように、例えば隣接し合う対向電極６上
のイオン拡散範囲Ａが互いに重複しない（クロストーク
が生じない）ように対向電極６を配置して、イオンの拡
散領域の重複によって生じるクロストーク現象を防止で
きるようにしている。
【００９４】そして、この表示素子１８においては、透
明画素電極２面に設けられ且つ絶縁膜１４ｂによって区
切られた画素部１７全域に無駄無くイオンが拡散し、析
出（着色）することから、表示効率のよい理想的な画素
部１７の状態となる。
【００９５】次に、図１（２）に示すように、絶縁膜１
４ｂ、１４ａが透明画素電極２と対向電極６とにそれぞ
れ設けられ且つ対向電極６が互いに接近しすぎている場
合、隣接し合う対向電極６における実効電極面間の距離
ＬはＬ＜Ｇ−ｔであれば、隣接する対向電極６上のイオ
ン拡散領域が一方から他方へ一部侵入することになり、
これを透明画素電極２側の絶縁膜１４ｂによって防ぎき
れなくなり、クロストーク現象や色のにじみ（又は混
色）（以下、クロストーク現象等と称する。）が生じ
る。
【００９６】従って、これを防止するには、Ｌ≧Ｇ−ｔ
とすべきである。理論的にも、Ｌ≧Ｇ−ｔとすれば、一
方から他方へイオンが拡散するのを絶縁膜１４ｂが阻止
するからである。
【００９７】また、図１（３）に示すように、図１
（２）と同様の状態であって、マトリクス配置とした場
合、透明画素電極２及び対向電極６はピッチが等しくな
ければならないので、 ｌ−ａ＝Ｌ＋ｂ、即ちｌ＝Ｌ＋ａ＋ｂ とする必要がある。
【００９８】また、上記したクロストーク現象等の防止
のためには、透明画素電極２における画素部１７の周囲
に存在する絶縁物１４ｂの外側端間の距離ｌの範囲は、
ｌ≧２Ｇ＋ｂ−２ｔとするのがよい。仮に、ｌ＜２Ｇ＋
ｂ−２ｔであれば、透明画素電極２上の絶縁膜１４ｂの
外側端間が接近しすぎて、やはりイオンの拡散が隣接す
る画素部へ及ぶのを絶縁膜１４ｂによって防ぎきれなく
なり、クロストーク現象等が起きる。
【００９９】上記の表示素子１８において、Ｌ≧Ｇ−ｔ
とｌ＝Ｌ＋ａ＋ｂのいずれかを満たせばよいが、それら
の２つの条件が同時に満たされることによって、クロス
トーク現象や色のにじみ（又は混色）を一層確実に防止
でき、かつ画素領域及び画素密度も良好に確保できる。
【０１００】しかも、透明画素電極２上では、金属イオ
ンからなる着色用物質の電気化学的な還元、酸化によっ
て選択的に着色、消色させ、これを高分子電解質が促進
するため、コントラスト及び着色濃度を高くし、長時間
使用した場合でも電析物のメモリー効果により褪色等の
問題が発生しない反射型表示素子となる（以下、同
様）。これは単純マトリクス（パッシブマトリクス）駆
動方式でも、アクティブマトリクス駆動方式でもよい。
【０１０１】図４及び図５には、本例に基づく表示素子
の具体例を示すものである。透明画素電極２と対向電極
６との双方に絶縁膜１４ｂ、１４ａが設けられ、且つ上
記のＬ≧Ｇ−ｔとｌ≧２Ｇ＋ｂ−２ｔとの一方又は双方
の条件を満たすことによって、クロストーク現象等の防
止と画素領域の確保を実現することができる。
【０１０２】更に、それぞれの電極がマトリクス状に配
置された図１と同様の形態の表示素子１８に構成すると
共に、例えば、ストライプ状に形成された対向電極６の
幅を十分に確保しているので、画素部に対向する実効電
極面１５が絶縁膜１４ａによって小さくなっても、対向
電極６の配線としての電気抵抗を小さくし、導電性を確
保することができる。
【０１０３】又、画素部１７中央の対向電極６の実効電
極面１５の面積を狭くして、クロストーク現象等を一層
効果的に防止することもできる。
【０１０４】なお、図６に示すように、実効電極面１５
（絶縁膜１４ａの開口部上端面）の形状は可能ならば、
四角形状よりも円形状等の曲線状である方がよい。何故
ならば、円形状の場合は角の部分がないために、電界集
中がなく、等電位面が生じ易い。角の部分があると、こ
こに表示の消え残りが発生し易いが、曲線状の場合はこ
れが発生しない。
【０１０５】例２ 本例は、図２（１）に示すように、透明画素電極２に絶
縁膜１４ｂが全く設けられない場合であり、隣接する対
向電極６上のそれぞれのイオン拡散領域が互いに重複し
ないように、隣接し合う対向電極６における実効電極面
間の距離Ｌを大きくして、クロストーク現象等が生じな
いようにしている。
【０１０６】即ち、隣接し合う対向電極６上のそれぞれ
のイオンの拡散領域が重複してクロストーク現象等を生
じさせないために、隣接し合う対向電極６における実効
電極面間の距離Ｌの範囲は、 Ｌ≧２Ｇ とする。
【０１０７】仮に、Ｌ＜２Ｇであれば、隣接する対向電
極６が互いに接近しすぎて、イオン拡散領域が重複し、
クロストーク現象等が起きる。
【０１０８】次に、図２（２）に示すように、透明画素
電極２に絶縁膜１４ｂが設けられずに対向電極６側にの
み絶縁膜１４ａが設けられた場合は、隣接し合う対向電
極６における実効電極面間の距離Ｌの範囲も Ｌ≧２Ｇ とする。
【０１０９】仮に、Ｌ＜２Ｇであれば、隣接する対向電
極６が互いに接近しすぎて、イオン拡散領域が重複し、
クロストーク現象等が起きる。
【０１１０】それゆえに、図２（１）及び図２（２）の
いずれの場合も、上記のＬ≧２Ｇの条件が満たされるこ
とによって、クロストーク現象等の防止と共に画素領
域、画素密度も十分に確保できる。
【０１１１】例３ 次に、図３（１）に示すように、絶縁膜１４ｂが透明画
素電極２側のみに設けられた場合に、この表示素子１８
においては、透明画素電極２面に設けられ且つ絶縁膜１
４ｂによって区切られた画素部１７全域に、無駄無くイ
オンが到達するように対向電極６が配置されているため
に、表示効率のよい画素部１７の状態となる。
【０１１２】即ち、図２（２）に示すように、隣接し合
う対向電極６が接近した場合は、隣接し合う対向電極６
における実効電極面間の距離Ｌの範囲は、 Ｌ≧Ｇ とすべきである。これによって、図７に示すように、隣
接する画素間のクロストークがなく、色のにじみや混色
も生じない。
【０１１３】仮に、Ｌ＜Ｇであれば、隣接する対向電極
６が互いに接近しすぎて、イオン拡散が一方から他方へ
の画素へも生じるのを透明画素電極６側の絶縁膜１４ｂ
によって防ぎきれなくなり、クロストーク現象等が起き
る。
【０１１４】次に、図３（３）に示すように、図３
（２）と同様の状態の場合に、透明画素電極２における
画素部１７の周囲に存在する絶縁物１４ｂの外側端間の
距離ｌの範囲は、上述した理由と同様の理由から、 ｌ＝Ｌ＋ａ＋ｂ とする必要があり、 ｌ≧２Ｇ＋ｂ−２ｔ とするのがよい。
【０１１５】仮に、ｌ＜２Ｇ＋ｂ−２ｔであれば、やは
り隣接する対向電極６が互いに接近しすぎて、イオン拡
散が一方から他方の画素へ生じるのを透明画素電極６側
の絶縁膜１４ｂによって防ぎきれなくなり、クロストー
ク現象等が起きる。
【０１１６】そして、上記のＬ≧Ｇとｌ＝Ｌ＋ａ＋ｂの
いずれかが満たされればよいが、それらの２つの条件が
満たされることによって、クロストーク現象等を一層効
果的に防止でき、画素領域及び画素密度も一層良好に確
保できる。
【０１１７】例４ 次に、図８（１）に示す表示素子１８は、図３に示した
例３の表示素子１８とほぼ同様であり、着色用物質であ
る金属イオンが高分子固体電解質層５内（イオン伝導体
内）に含有され、これの電析によって着色表示する例え
ばパッシブマトリクス方式で駆動されるものである。
【０１１８】また、図８（２）及び（３）に示す表示素
子１８は、上記の構造とは違って、着色用物質に金属イ
オンを用いずに、着色用物質の層であるエレクトロクロ
ミズム（ＥＣ）層４を透明画素電極２と電解質含有の高
分子固体電解質層５との間に連続した層として接合した
ものである。
【０１１９】なお、この表示素子１８においては、絶縁
膜１４ｂを透明画素電極２上（図８（２））或いはエレ
クトロクロミズム（ＥＣ）層４上（図８（３））のいず
れに設けてもよい。
【０１２０】これらの図８（２）、図８（３）の構造に
よれば、透明画素電極２はエレクトロクロミズム（Ｅ
Ｃ）層４に接しているが、このエレクトロクロミズム層
４は、電気活性を有する高分子材料であるエレクトロク
ロミック材料によって形成されている。
【０１２１】このエレクトロクロミズム層４は、電気化
学的な酸化もしくは還元により変色する性質を有し、透
明画素電極２と他方の電極６との間に電圧を印加し、こ
れらの間に電位差が生じた時に、絶縁膜１４ｂの内側の
透明画素電極２上において例えば黒色Ｂに変色する。こ
の黒色パターンは、透明支持体１の側から表示色として
視認することができる。この際、絶縁膜１４ｂによっ
て、画素領域内でのみ、エレクトロミズム材料４が着色
することになるが、印加電圧を逆にすれば、消色する。
【０１２２】上記のエレクトロクロミズム材料には、酸
化タングステン、スピネル化合物、ビオロゲン化合物及
び電気活性を有する高分子材料等からなる群より選ばれ
た少なくとも一種を用いることができる。
【０１２３】さらに、エレクトロクロミズム層４の材質
としては、特に電解合成によって得られる導電性高分子
も好ましい。これは導電性があるために、電子の授受反
応が速やかであり、さらに着色及び消色の反応も速やか
に行われるからである。
【０１２４】こうした高分子材料の好ましい例を次の表
１に掲げるが、ピロール、アニリン、アズレン、チオフ
ェン、インドール、カルバゾール、又はこれらの誘導体
等を電解酸化重合（平均分子量は１０００〜１０万がよ
い。）して得ることができる。又、次の表１に掲げる高
分子材料やその誘導体を組み合わせた（併用した）材料
等を使用できる。
【０１２５】
【表１】表１
【０１２６】この表に挙げられた高分子材料（ポリピロ
ール、ポリアニリン、ポリアズレン、ポリチオフェン、
ポリインドール、ポリカルバゾール）の中でも特に好ま
しいものの１つは、ポリピロールである。この理由は、
酸化還元電位が低いこと、クーロン効率が高いこと、酸
化時の発色が黒いこと、繰り返し寿命が長いことといっ
た理由が挙げられる。
【０１２７】酸化電位の低いものが好まれる理由として
は、酸化電位の低い方が発色状態において安定している
からである。
【０１２８】又、クーロン効率が高いものが望ましいと
される理由としては、これにより、有害な副反応が抑え
られることであるが、このポリピロールのクーロン効率
が高くて１００％に近いということは、有害な副反応が
殆ど起っていないことを意味するのであり、表示素子と
しての寿命が長くなることを意味する。
【０１２９】又、酸化時の発色が黒いという点において
は、ドキュメントのディスプレイとして重要な性質であ
る。なぜならば、他のポリマーによる発色が緑色もしく
は赤みがかった黒色であるのに対し、完全な酸化時にお
いてポリピロールの発色は黒色である。このために、ポ
リピロールを採用することにより、黒色濃度を高くする
ことができると共にコントラストをも良くできる。
【０１３０】更に、繰り返し使用状態における寿命が長
いのも、ポリピロールの有益な特徴の１つである。
【０１３１】この発色を行うエレクトロクロミズム層４
に接するように高分子電解質層５が形成されているの
で、例えば、この高分子電解質層５を構成する高分子電
解質とエレクトロクロミック材料である高分子材料から
なるエレクトロクロミズム層４とを複合して形成するこ
とにより、発色及び消色に伴った高分子材料の体積変化
による電極からの脱落や微粉化が生じにくくなり、耐久
性が増すので好ましい。
【０１３２】そして、この構造の表示素子１８において
は、アクティブマトリクス駆動が可能であり、またエレ
クトロクロミズム層４の材料を選択することによりコン
トラスト及び黒色濃度を高くすることができる。
【０１３３】しかも、透明画素電極２と共通電極６との
間において着色用物質としてエレクトロクロミズム材料
を含む層４の電気化学的な酸化、還元によって選択的に
着色させ、これを高分子電解質５が促進するため、コン
トラスト及び着色濃度を高くし、長時間使用した場合で
も褪色等の問題が発生しない。
【０１３４】例５ まず、図１１に、比較のための表示素子３８を示すが、
この表示素子は、駆動素子である薄膜トランジスタ（Ｔ
ＦＴ：Thin Film Transistor）３によって制御される透
明画素電極２と、金属イオン（着色用物質としての電解
質）、高分子電解質及び白色化剤等を含有した高分子固
体電解質層５と、透明画素電極２に対向して１ラインの
各画素に共通に設けられたストライプ状の対向電極６と
で構成された表示画素部１７の複数個が面状に配列され
た平面型ディスプレイとして構成されている。
【０１３５】この表示素子３８は、透明画素電極２と薄
膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと略す。）３との組みに
よって１画素部１７を構成し、これらの画素部１７が透
明支持体１上に例えばドット状（又はマトリクス状）に
配列されている。
【０１３６】透明画素電極２は、略矩形若しくは正方形
パターンに形成された透明導電膜からなり、各画素１７
間が分離されており、その一部には各画素１７ごとにＴ
ＦＴ３が配設されている。
【０１３７】各画素１７ごとに形成されたＴＦＴ３は図
示しない配線によって選択され、対応する透明画素電極
２の駆動を制御する。なお、ＴＦＴ３は、画素部１７間
のクロストークを防止するのに有効である。さらに、Ｔ
ＦＴ３は、例えば透明画素電極２の一角を占めるように
形成されるが、透明画素電極２がＴＦＴ３と重なる構造
であってもよい。
【０１３８】又、ＴＦＴ３には、ゲート線とデータ線と
が接続され、各ゲート線に各ＴＦＴ３のゲート電極が接
続され、各データ線には各ＴＦＴ３のソース及びドレイ
ンの一方が接続され、そのソース及びドレインの他方は
透明画素電極２に電気的に接続されている。
【０１３９】この表示素子３８においては、高分子固体
電解質層５に着色用物質としての金属イオン（電解質）
が含有され、これが変色に用いられる。この変色のため
に用いられるハロゲン化銀などの金属イオン（電解質）
は、変色又は電気化学的な析出である電解めっき（発
色）１２と、その逆反応である溶出（消色）とを可逆的
に生じ、これによって表示が行われる。この発色パター
ンは例えば析出銀１２からなり、透明支持体１の側から
表示色として視認することができる。
【０１４０】透明画素電極２と対向する側には、対向電
極６が形成されているが、この対向電極６を支持するた
めに支持体７が設けられている。支持体７の材質は、画
素部１７側に設けられていないために必ずしも透明であ
る必要はなく、共通電極６や高分子固体電解質層５を確
実に保持できる基板やフィルム等を用いることができ
る。
【０１４１】透明画素電極２と電極６とを対向させるた
めに、両支持体１及び７を保持する封着樹脂部１０及び
シール材１３が周囲に形成される。この封着樹脂部１０
及びシール材１３によって、両支持体１及び７と、これ
らの間に配設された透明画素電極２とＴＦＴ３と高分子
固体電解質層５及び対向電極６とが確実に保持されるこ
とになる。
【０１４２】上述のように構成された表示素子３８にお
いては、ＴＦＴ３を用いてアクティブマトリクス駆動が
可能であり、高分子固体電解質層５に含有された金属イ
オン（電解質）の析出、溶解によりコントラスト及び着
色濃度を高くすることができる。
【０１４３】しかしながら、この表示素子３８において
は、透明画素電極２の側方に表示部とはならないＴＦＴ
３があるために、画素部１７の面積を減少させて開口率
を低下させ、画素部１７の明るさに悪影響を及ぼす。
【０１４４】このような影響を無くすために、本例で
は、図９及び図１０に示すように、上記の例３の表示素
子１８を用いて電極の配置をドット状（ストライプ状で
あってもよい。）にし、隣接する駆動電極（対向電極）
３６における実効電極面間の距離Ｌを少なくともＴＦＴ
３が設置できるほどに大きくして（但し、Ｌ≧Ｇ及び／
又はｌ＝Ｌ＋ａ＋ｂ、ｌ≧２Ｇ＋ｂ−２ｔ）、それぞれ
の駆動電極３６の側方にＴＦＴ３を接続して設けたもの
である。
【０１４５】この構造によれば、透明画素電極２側にＴ
ＦＴ３が設けられないために、画素部１７の開口率にＴ
ＦＴ３が悪影響を及ぼすことはなく、画素部１７におけ
る表示効率（明るさを含む。）を高めることができる。
【０１４６】次に、主反応を司る透明画素電極２及び駆
動電極３６の電位をそれぞれ検知するために、反応に全
く関与しない第三の電極があるのが好ましい。
【０１４７】この第三の電極の材質としては、反応に全
く関与しない、そして透明画素電極２と駆動電極３６と
に挟まれた媒質である高分子固体電解質層５中への自然
溶出がない安定した金属材料を選ぶことが好ましく、駆
動電極と同様な白金、クロム、アルミニウム、コバル
ト、パラジウム、銀等を選ぶことができる。
【０１４８】又、これを設置するにあたっては、透明画
素電極２又は駆動電極３６と同一平面状における電気的
に絶縁された部分に形成することが好ましい。
【０１４９】
【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
【０１５０】実施例１ 上記の例１（図１（１）、図４及び図５）と同様の表示
素子１８を作製した。即ち、大きさが１０ｃｍ×１０ｃ
ｍであり、厚さが２ｍｍのポリカーボネート基板（透明
支持体１）上に以下の手順でストライプ状の透明画素電
極（表示極）２及び絶縁膜１４ｂを形成した。
【０１５１】まず、ストライプの幅を１５０μｍとし、
ストライプの設置間隔を１７０μｍピッチとし、開口部
（絶縁膜１４ｂに覆われていない部分である画素部１
７）の大きさは１４０μｍ角とした。
【０１５２】次に、スパッタ法により、膜厚５００ｎｍ
でありかつシート抵抗値が１２Ω／ｃｍ2であるＩＴＯ
をポリカーボネート基板（透明支持体１）上に成膜し
た。
【０１５３】次に、このＩＴＯ膜上にフォトレジストを
塗布し、その後にリソグラフィー法によりフォトレジス
トを所望のストライプ形状に形成した。
【０１５４】次に、このポリカーボネート基板をＩＴＯ
エッチング液に侵食させて、フォトレジストで覆われて
いない部分のＩＴＯ膜を除去した。その後、フォトレジ
ストはアセトン等の有機溶剤で除去した。
【０１５５】次に、このようにストライプ状に形成され
た透明画素電極２（ＩＴＯ膜）の上に、ＴＥＯＳ（ケイ
酸エチルＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4：Tetra-Ethoxyortho-Silic
ate）とＯ2とを使用したプラズマＣＶＤ法により、絶縁
膜１４ｂとなるＳｉＯ2を２００ｎｍ厚に成膜した。
【０１５６】次に、このＳｉＯ2膜上にフォトレジスト
を塗布した後にリソグラフィー法によりこのフォトレジ
ストを所望の形状に形成し、更にフッ化アンモニウムや
フッ酸等から成る混合液にこの基板を侵食させてフォト
レジストで覆われていない部分のＳｉＯ2膜を除去し
た。その後、フォトレジストはアセトン等の有機溶剤で
除去した。このようにして絶縁膜１４ｂを所定パターン
に形成した。
【０１５７】他方、大きさが１０ｃｍ×１０ｃｍであ
り、厚さが０．２ｍｍのポリカーボネート基板（支持体
７）上に以下の手順でストライプ状金属電極（対向電極
６）及び絶縁膜１４ａを形成した。なお、開口部（絶縁
膜１４ａに覆われていない部分）の大きさは２０μｍ角
とした。
【０１５８】まず、スパッタ法により、膜厚３００ｎｍ
のアルミニウム膜をポリカーボネート基板（支持体７）
上に成膜した。
【０１５９】次に、このアルミニウム膜上にフォトレジ
ストを塗布し、その後リソグラフィー法によりフォトレ
ジストを所望のストライプ形状に形成した。
【０１６０】次いで、このポリカーボネート基板をＢＣ
ｌ3とＣｌ2との混合ガスを使ったＲＩＥ（Reactive Ion
Etching）法によりフォトレジストで覆われていない部
分のアルミニウム膜を除去した。その後、フォトレジス
トはアセトン等の有機溶剤で除去した。
【０１６１】次に、このようにストライプ状に形成され
たアルミニウム膜（対向電極６）の上に、ＴＥＯＳ（ケ
イ酸エチルＳｉ（ＯＣ2Ｈ5）4：Tetra-Ethoxyortho-Sil
icate）とＯ2とを使用したプラズマＣＶＤ法により絶縁
膜１４ａとなるＳｉＯ2を２００ｎｍ厚に成膜した。
【０１６２】次に、このＳｉＯ2膜上にフォトレジスト
を塗布した後にリソグラフィー法によりこのフォトレジ
ストを所望の形状に形成し、更にフッ化アンモニウムや
フッ酸等から成る混合液にこの基板を侵食させてフォト
レジストで覆われていない部分のＳｉＯ2膜を除去し
た。その後、フォトレジストはアセトン等の有機溶剤で
除去した。このようにして絶縁膜１４ａを所定パターン
に形成した。
【０１６３】次に、高分子電解質の調製及び塗布につい
て説明する。
【０１６４】まず、分子量約３５万のポリビニルアルコ
ール１重量部と、水とイソプロピルアルコールとの混合
比が１：１である混合溶媒１０重量部と、臭化リチウム
（支持電解質）１．７重量部と、塩化ビスマス（着色用
物質）１．７重量部とを混合し、この混合液を１２０℃
に加熱して均一溶液を調製した。
【０１６５】次に、これに、平均粒径０．５μｍの二酸
化チタン０．２重量部を添加し、ホモジナイザー（均一
分散機）で均一に分散せしめた。そして、これを上記透
明基板（透明画素電極２付き）の上にドクターブレード
法により厚さ６０μｍに塗布した後に、対向電極６付き
の支持体を直ちに貼り合わせ、これを１１０℃、０．１
ＭＰａの条件下で１時間減圧乾燥し、ゲル化した高分子
固体電解質層５を二つの電極間に形成した。そして、こ
の貼り合わせの端面をシール材１３及び封着樹脂部１０
によって封止した。
【０１６６】以上のようにして作製した表示素子１８
（イオン伝導型ディスプレイ）の構造は図１に示す様な
ものであった。
【０１６７】更に、この表示素子１８においては、Ｌが
１５０μｍ、ｌが２００μｍ、ｔが２００ｎｍ、ｂ＝２
０μｍ、Ｇが約６０μｍ（正確には５９．５μｍ）とな
り、Ｌ≧Ｇ−ｔというクロストーク現象防止条件を満た
していた。
【０１６８】＜表示特性の評価＞所望のストライブ状電
極（透明画素電極及び対向電極）の組を公知の方法で選
択し、発色時には透明画素電極２（表示極）に１画素部
１７当りに、定電圧を１．２〜１．５Ｖとして５μＣの
電気量を０．１秒間流し、透明画素電極２（表示極側）
で還元反応を起こさせ、又消色時には同一電気量で酸化
することにより、着色表示と無色（白色）表示とを切り
替えた。
【０１６９】この結果、無色（白色）時の反射率は７０
％となり、着色（黒色）時の表示部の光学濃度（ＯＤ）
は約１．４（反射率４％）であった。そして、選択して
いない画素が発色或いは消色することはなかった。
【０１７０】更に、発色状態に置いた後に回路を開放し
て放置したところ、１週間後の表示部の光学濃度に変化
はなく、メモリー性を有していた。
【０１７１】更に、発色及び消色のサイクルを繰り返し
行なったところ、発色時の黒色濃度が１．０以下（実使
用時は１．５以上が望ましい。）になるまでの繰り返し
サイクル回数は約８００万回であり、良好な特性を示し
た。
【０１７２】実施例２ 本実施例においては、透明画素電極２上にエレクトロク
ロミズム（ＥＣ）層４である酸化タングステン膜を１μ
ｍの厚さで、スパッタリング法により形成し、更に下記
のように実施した以外は、実施例１と同様にして表示素
子を作製した。
【０１７３】但し、高分子固体電解質の調製と塗布にお
いて、分子量約３５万のポリフッ化ビニリデン１重量
部、アセトニトリル１０重量部、チオシアン酸カリウム
（ＫＳＣＮ）１．７重量部をそれぞれ混合し、１２０℃
に加熱して、均一溶液を調製した。
【０１７４】そして、これに平均粒径０．５μｍの二酸
化チタン０．２重量部を添加し、ホモジナイザーで、こ
れを均一に分散せしめた。そして、これを基板（透明画
素電極２）の上にドクターブレード法により厚さ２０μ
ｍで塗布した後に、これを１５０℃、０．１Ｍｐａの条
件下で２４時間減圧乾燥して高分子固体電解質を得た。
【０１７５】上記以外は実施例１と同様とし、表示素子
１８として図８（２）の構造を作製した（上記のＬやｌ
も実施例１と同様でよい）。
【０１７６】＜表示特性の評価＞実施例１と同様に測定
した結果、無色（白色）時の反射率は７０％となり、着
色（青色）時の表示部の光学濃度（ＯＤ）は約１．３
（反射率４％）であった。そして、選択していない画素
が発色或いは消色することはなかった。
【０１７７】更に、発色状態に置いた後に回路を開放し
て放置したところ、１週間後の表示部の光学濃度に変化
はなく、メモリー性を有していた。
【０１７８】更に、発色及び消色のサイクルを繰り返し
行なったところ、発色時の黒色濃度が１．０以下になる
までの繰り返しサイクル回数は約８００万回であり、良
好な特性を示した。
【０１７９】実施例３ 本実施例は、大きさが１０ｃｍ×１０ｃｍで厚さが１．
１ｍｍであり、片面の全面にシート抵抗値が７Ω／ｃｍ
2の透明導電膜（ＩＴＯ）が形成されたガラス基板を用
い、絶縁膜として１４０μｍ角の開口部が１７０μｍ間
隔（１５０ｄｐｉ）で２次元的に配列し、また、厚さ
１．１ｍｍで１０ｃｍ×１０ｃｍの大きさのガラス基板
上に、１７０μｍピッチで、２０μｍ角の平面的に配列
された駆動電極３６（ＩＴＯ膜）とＴＦＴ３とを公知の
方法により作成した以外は実施例１と同様にし、図９及
び図１０に示した表示素子１８と同様のディスプレイデ
バイスを作製した。
【０１８０】＜表示特性の評価＞実施例１と同様に測定
した結果、表示極側にはＴＦＴがないため、無色（白
色）時の反射率は、実施例１と同等の７０％が得られ
た。着色（黒色）時の表示部の光学濃度（ＯＤ）は約
１．４（反射率４％）であった。選択していない画素が
発色、あるいは消色することはなかった。
【０１８１】発色状態に置いた後、回路を開放して放置
したところ、１週間後の表示部の光学濃度に変化はな
く、メモリー性を有していた。
【０１８２】発色、消色のサイクルを繰り返し行なった
ところ、発色時の黒色濃度が１．０以下になるまでの繰
り返しサイクル回数は約８００万回であった。
【０１８３】比較例１ 高分子固体電解質層５の厚さＧを１２０μｍとした以外
は実施例１と同様のディスプレイを作製した。なお、こ
の表示素子１８においては、Ｌ≧Ｇ−ｔの条件が満たさ
れずに、Ｌ＜Ｇ−ｔとなった。
【０１８４】そして、ある１画素部１７を着色状態と
し、隣接する画素部１７を非着色状態として、実施例１
と同様の条件で駆動したところ、隣接する画素部１７
の、着色画素部１７に近い側が幅約１０μｍにわたって
着色してクロストーク現象が生じてしまった。
【０１８５】比較例２ 画素電極２及び対向電極６上のいずれにも絶縁膜１４
ｂ、１４ａを形成しない以外は比較例１と同様のディス
プレイを製作した。なお、この表示素子１８において
は、Ｌ≧２Ｇの条件が満たされずに、Ｌ＜２Ｇとなっ
た。
【０１８６】そして、ある１画素部１７を着色状態と
し、隣接する画素部１７を非着色状態として、実施例１
と同様の条件で駆動したところ、電圧印加中に着色領域
が次第に拡大し、想定していた１４０μｍのサイズ（画
素部１７）を超え、０．１ｓで１７０μｍのサイズとな
った。
【０１８７】以上に説明した実施の形態及び実施例は、
本発明の技術的思想に基づいて更に変形が可能である。
【０１８８】例えば、上記の表示素子１８において、絶
縁膜１４ａ、１４ｂのパターンやサイズ、材質等は上述
したものに限定されない。また、対向電極６側の材料が
不透明であるために透明画素電極２側からしか表示が見
えないが、表示素子１８の対向電極６や支持体７等を透
明化して透過型の表示素子１８にすることによって、片
面のみならず、両面からも見えるようにしてもよい。
【０１８９】
【発明の作用効果】本発明は上述したように、少なくと
も一方の電極が少なくとも画素領域を除いて絶縁物によ
って覆われており、又隣接し合う第一電極における実効
電極面間距離Ｌが第二電極と第一電極における実効電極
面との距離Ｇの２倍以上あるために、それぞれの第一電
極側から第二電極側に向かって拡散移動するイオンが第
二電極側の画素領域以外に拡散しようとしても、この拡
散を上記絶縁物によって効果的に阻止でき、或いは隣接
する画素へのイオンの侵入を効果的に防止できることに
なる。従って、所望の画素の着色を十分に行えると共
に、イオンの拡散範囲が画素間で相互に重複せず、また
着色すべきでない画素の着色もなくなり、クロストーク
がなく、色のにじみや混色もない高品質で明確な表示が
得られる。
【０１９０】しかも、第一電極と第二電極との間におい
て着色用物質の電気化学的な還元、酸化によって選択的
に着色、消色させ、これを高分子電解質が促進し、また
イオンを運ぶ作用をなすため、着色及び消色が低エネル
ギーで迅速かつ十分に行われ、コントラスト及び着色濃
度（例えば黒色濃度）を高くし、長時間使用した場合で
もメモリー効果によって褪色等の問題が発生せず、また
単純マトリクス駆動も可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態における表示素子の断面図
である。
【図２】本発明の他の実施の形態における表示素子の断
面図である。
【図３】本発明の他の実施の形態における表示素子の断
面図である。
【図４】図１（１）の実施の形態における表示素子の平
面図及び断面図である。
【図５】同、表示素子の分解斜視図である。
【図６】同、他の表示素子の部分平面図である。
【図７】図２（１）の実施の形態における表示素子の平
面図及び断面図である。
【図８】本発明の他の実施の形態における表示素子の断
面図である。
【図９】本発明の更に他の実施の形態における表示素子
の斜視図である。
【図１０】同、表示素子の平面図及び断面図である。
【図１１】従来例における表示素子の断面図である。
【図１２】同、表示素子とクロストーク発生状態の平面
図である。
【図１３】同、表示素子の図１２のXIII−XIII線に相当
の断面図である。
【符号の説明】
１…透明支持体、２…透明画素電極、３…ＴＦＴ（薄膜
トランジスタ）、４…エレクトロクロミズム（ＥＣ）
層、５…高分子固体電解質層、６…対向電極、７…支持
体、１０…封着樹脂部、１３…シール材、１４ａ、１４
ｂ…絶縁膜、１５…実効電極面、１７…画素部、１８、
３８…表示素子、２０…表示装置、２１…マトリクス電
極、２２…電極面、２３…実効電極面、３６…駆動電
極、Ａ…イオン拡散範囲、ａ…透明画素電極２面上の絶
縁膜１４ｂの幅、ｂ…対向電極６側における実効電極面
幅、Ｇ…透明画素電極２面と対向電極６における実効電
極面との間の距離（但し、対向電極６面上に絶縁膜１４
ａがある時は絶縁膜１４ａの上端面を実効電極面とす
る）、Ｌ…隣接し合う対向電極６における実効電極面間
の距離、ｌ…透明画素電極２における画素部１７の周囲
に存在する絶縁物１４ｂの外側端間の距離、ｔ…透明画
素電極２面上の絶縁膜１４ｂの厚さ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３８０ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３８０ Ｆターム(参考） 2H048 CA04 CA05 CA14 CA19 2K001 AA02 BA12 BA20 BB30 BB37 CA37 CA41 5C094 AA09 AA22 BA03 BA52 CA18 DA15 EA04 EA05 EA07 HA08

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 電気化学的な還元若しくは酸化により析
    出若しくは溶解若しくは変色する着色用物質と、電解質
    とが、第一電極と第二電極との間に配置され、これらの
    電極の少なくとも一方の電極が少なくとも画素領域を除
    いて絶縁物によって覆われている表示素子。
  2. 【請求項２】 電気化学的な還元若しくは酸化により析
    出若しくは溶解若しくは変色する着色用物質と、高分子
    固体電解質とが、第一電極と第二電極との間に配置さ
    れ、これらの電極の少なくとも一方の電極が少なくとも
    画素領域を除いて絶縁物によって覆われている表示素子
    において、少なくとも前記第二電極側の一部が絶縁物に
    よって覆われる場合に、隣接し合う前記第一電極におけ
    る実効電極面間の距離をＬ、前記第二電極側の前記絶縁
    物の厚さをｔ、前記第二電極面と前記第一電極における
    前記実効電極面との間の距離をＧとすると、 Ｌ≧Ｇ或いはＬ≧Ｇ−ｔ の関係が成り立つ、請求項１に記載の表示素子。
  3. 【請求項３】 電気化学的な還元若しくは酸化により析
    出若しくは溶解若しくは変色する着色用物質と、高分子
    固体電解質とが、第一電極と第二電極との間に配置さ
    れ、これらの電極の少なくとも一方の電極が少なくとも
    画素領域を除いて絶縁物によって覆われている表示素子
    において、少なくとも前記第二電極側が少なくとも画素
    領域を除いて前記絶縁物によって覆われており、隣接し
    合う前記第一電極における実効電極面間の距離をＬ、前
    記第一電極側における実効電極面幅をｂ、前記第二電極
    における画素の周囲に存在する前記絶縁物の外側端間の
    距離をｌ、前記絶縁物の幅をａとすると、 ｌ＝Ｌ＋ａ＋ｂ の関係が成り立つ、請求項１に記載の表示素子。
  4. 【請求項４】 電気化学的な還元若しくは酸化により析
    出若しくは溶解若しくは変色する着色用物質と、高分子
    固体電解質とが、第一電極と第二電極との間に配置され
    ている表示素子において、隣接し合う前記第一電極にお
    ける実効電極面間の距離をＬ、前記第二電極面と前記第
    一電極における前記実効電極面との間の距離をＧとする
    と、 Ｌ≧２Ｇ の関係が成り立つ表示素子。
  5. 【請求項５】 前記絶縁物が酸化ケイ素又は樹脂からな
    る、請求項１に記載の表示素子。
  6. 【請求項６】 前記第一及び第二の電極が、それぞれ所
    定の基板上に所定の間隔を置いて形成され、これらの第
    一及び第二の電極が電解質を介して互いに対向配置され
    た、請求項１又は４に記載の表示素子。
  7. 【請求項７】 電極面に対して垂直方向から見た時に、
    少なくとも前記第一及び第二の電極の交差部分以外が前
    記絶縁物で覆われている、請求項６に記載の表示素子。
  8. 【請求項８】 前記第一及び第二の電極がストライプ状
    であり、これらのストライプ状電極において前記絶縁物
    を形成していない領域の大きさが互いに等しいか或いは
    異なる、請求項７に記載の表示素子。
  9. 【請求項９】 前記第一の電極が所定の基板上に周期的
    に配列された画素電極として形成され、対向する前記第
    二の電極において、画素に対応する部分以外が前記絶縁
    物で覆われている、請求項１又は４に記載の表示素子。
  10. 【請求項１０】 前記絶縁物で覆われていない前記第二
    の電極の面積が、画素としての前記第一電極の実効電極
    面積よりも大きい、請求項９に記載の表示素子。
  11. 【請求項１１】 電気化学的な還元若しくは酸化により
    析出若しくは溶解若しくは変色する着色用物質と、電解
    質とが、第一電極と第二電極との間に配置され、これら
    の電極の少なくとも一方の電極が前記着色用物質の連続
    した層で覆われ、この着色用物質層が前記電解質と接触
    する状態で、前記少なくとも一方の電極が少なくとも画
    素領域を除いて絶縁物によって覆われている、請求項１
    又は４に記載の表示素子。
  12. 【請求項１２】 前記絶縁物で覆われていない前記着色
    用物質層の部分が所定間隔を置いて形成され、所定間隔
    を置いて形成された対向電極と交差している、請求項１
    １に記載の表示素子。
  13. 【請求項１３】 前記着色用物質が金属イオン又はエレ
    クトロクロミズム材料である、請求項１又は４に記載の
    表示素子。
  14. 【請求項１４】 前記金属イオンが、銀、ビスマス、ク
    ロム、鉄、ニッケル及びカドミウム等からなる群より選
    ばれた少なくとも一種の陽イオンである、請求項１３に
    記載の表示素子。
  15. 【請求項１５】 前記エレクトロクロミズム材料が前記
    第一及び第二の電極の少なくとも一方の面上に連続する
    層として形成される、請求項１３に記載の表示素子。
  16. 【請求項１６】 前記エレクトロクロミズム材料が、酸
    化タングステン、スピネル化合物、ビオロゲン化合物及
    び電気活性を有する高分子材料等からなる群より選ばれ
    た少なくとも一種からなる、請求項１３に記載の表示素
    子。
  17. 【請求項１７】 前記電気活性を有する高分子材料が、
    ポリピロール、ポリアズレン、ポリチオフェン及びポリ
    アニリン等からなる群より選ばれた少なくとも一種から
    なる、請求項１６に記載の表示素子。
  18. 【請求項１８】 前記第二の電極の側が表示パターンを
    形成するように構成した、請求項１又は４に記載の表示
    素子。
  19. 【請求項１９】 前記第一の電極が、同一基板上に設け
    られた駆動トランジスタに接続されている、請求項１８
    に記載の表示素子。
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