JP2006146252A - エレクトロデポジション型表示素子、エレクトロデポジション型表示装置、及びエレクトロデポジション型表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】長時間使用した場合でも褪色なども問題が発生せず黒色濃度も高い値に維持することが可能なエレクトロデポジション表示装置を提供する。
【解決手段】装置を構成するエレクトロデポジション型表示素子を、金属イオンを含有する高分子固体電解質を用いて構成する。
【選択図】図１

Description

本発明は電気化学的な酸化、還元によって変色する材料を表示材料とするエレクトロデポジション型表示素子及び表示装置、及び表示装置の製造方法に関するものである。

近年、ネットワークの普及につれ従来印刷物の形状で配布されていた文書類が、いわゆる電子書類で配信されるようになってきた。さらに書籍や雑誌などもいわゆる電子出版の形で提供される場合が多くなりつつある。

これらの情報を閲覧するために、従来行われているのは、コンピュータのＣＲＴまたは液晶ディスプレイから読むことである。しかし発光型のディスプレイでは、人間工学的理由から疲労が著しく、長時間の読書には耐えられないことが指摘されている。また読む場所がコンピュータの設置場所に限られるという難点がある。

最近ノート型コンピュータの普及で携帯型のディスプレイとして使えるものもあるが、発光型であることに加えて消費電力の関係で、これも数時間以上の読書に用いることはできない。近年、反射型液晶ディスプレイも開発され、これを用いれば低消費電力で駆動することができるが、液晶の無表示（白色表示）における反射率は３０％であり、これでは紙への印刷物にくらべ著しく視認性が悪く、疲労が生じやすく、これも長時間の読書に耐えるものではない。

これらの問題点を解決するために、最近、いわゆるペーパーライクディスプレイ、あるいは電子ペーパーと呼ばれるものが開発されつつある。これらは主に電気泳動法により着色粒子を電極間で移動させるか、二色性を有する粒子を電場で回転させることにより、着色させている。しかしこれらの方法では、粒子間の隙間が光を吸収し、その結果としてコントラストが悪くなり、また駆動する電圧を１００Ｖ以上にしなければ実用上の書き込み速度（１秒以内）が得られないという難点がある。

電気化学的な作用に基づき発色を行うエレクトロクロミック表示装置（ＥＣＤ）では、コントラストの高さという点では上記電気泳動方式などに比べて優れており、すでに調光ガラスや時計用ディスプレイに実用化されている。ところが、調光ガラスや時計用ディスプレイではそもそもマトリクス駆動の必要性が無いことから、電子ペーパーのようなディスプレイ用途には適用できず、また一般的に黒色の品位が悪く、反射率が低いものにとどまっている。

また、電子ペーパーのようなディスプレイにおいては、その用途上、太陽光や室内光などの光に晒され続けることになるが、調光ガラスや時計用ディスプレイに実用化されているようなエレクトロクロミック表示装置では黒色の部分を形成するために、所要の有機材料が使用される。ところが、一般的に、有機材料は耐光性に乏しく、長時間使用した場合では褪色して黒色濃度が低下すると言う問題点が生ずる。また、表示装置として特公平４−７３７６４号公報に記載されるマトリクス駆動のものも知られるが、駆動素子は液晶表示装置の一部を構成するに過ぎない。

本発明は、このような技術的な課題に鑑み、マトリクス駆動が可能であって、コントラスト及び黒色濃度を高くすることができるエレクトロクロミック表示素子及びエレクトロクロミック表示装置の提供を目的とする。

また、本発明は、前述の技術的な課題に鑑み、長時間使用した場合でも褪色なども問題が発生せず黒色濃度も高い値に維持することが可能なエレクトロデポジション表示素子及びエレクトロデポジション表示装置の提供を他の目的とする。

上述の課題を解決するため、本発明のエレクトロデポジション型表示素子は、駆動素子によって制御される第一の透明電極と、着色剤及び金属イオンを含有した高分子固体電解質層と、前記第一の透明電極との間に前記高分子固体電解質層を挟んでなる第二の電極とを有することを特徴とする。

このような構成のエレクトロデポジション型表示素子においては、第一の透明電極と第二の電極の間に通電することで、これら第一の透明電極と第二の電極の間に存在する高分子固体電解質層に当該高分子固体電解質層が含有する金イオンによる電気化学的な析出が発生し、色の変色が生ずる。この高分子固体電解質層は着色剤を含有することから、色の変化が生じた場合のコントラストを高くすることができ、また、駆動素子によってマトリクス駆動も可能である。

さらに、前記本発明のエレクトロデポジション型表示素子の構造を有するエレクトロデポジション型表示要素を複数個、面状に配列してなることでエレクトロデポジション型表示装置が構成される。

また、エレクトロデポジション型表示装置の製造方法では、透明支持体上に透明画素電極及び駆動素子を形成する工程と、前記透明画素電極及び前記駆動素子が形成された前記透明支持体上に電気活性を有し且つ電気化学的な酸化もしくは還元により変色する高分子材料層と着色剤を含有した高分子固体電解質層を形成する工程若しくは金属イオンと着色剤を含有した高分子固体電解質層を形成する工程と、前記透明画素電極と対向する共通電極を形成する工程とを有することを特徴とする。

上述の製造方法によりエレクトロデポジション型表示素子の構造を有するエレクトロデポジション型表示要素を複数個、面状に配列してなるエレクトロデポジション型表示装置を製造することができる。

また、本発明のエレクトロデポジション型表示素子および表示装置は、金属イオンを含有する高分子固体電解質を用いていることから、長時間使用した場合でも褪色などの問題が発生せず黒色濃度も高い値に維持することが可能である。

また、本発明のエレクトロデポジション型表示装置の製造方法によれば、上述の構造のエレクトロデポジション型表示装置を容易に製造することができる。

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態のエレクトロデポジション表示装置について説明する。本実施形態のエレクトロデポジション表示装置は、エレクトロデポジション表示素子の構造を有するエレクトロデポジション表示要素を複数個、面状に配列してなる構造を有する。

［第１の実施形態］
図１及び図２に示すように、本実施形態のエレクトロデポジション型表示装置は、駆動素子であるＴＦＴ（Thin Film transistor）２３によって制御される第一の透明電極である透明画素電極２２と、金属イオンと着色剤を含有した高分子固体電解質層２５と、第一の透明電極に対向する第二の電極としての各画素に共通な共通電極２６とを有するエレクトロデポジション型表示素子を複数個、面状に配列してなることを特徴とする。

本実施形態のエレクトロデポジション型表示装置は、透明画素電極２２とＴＦＴ２３は、各１つの組み合わせて１画素を構成するように形成されており、透明支持体２１上に各画素がマトリクス状に配列されている。透明支持体２１としては、第１の実施形態と同様に、石英ガラス板、白板ガラス板などの透明ガラス基板を用いることが可能であるが、これに限定されず、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートなどのエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、酢酸セルロースなどのセルロースエステル、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンーコヘキサフルオロプロピレンなどのフッ素ポリマー、ポリオキシメチレンなどのポリエーテル、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、メチルペンテンポリマーなどのポリオレフィン、及びポリイミド−アミドやポリエーテルイミドなどのポリイミドを例として挙げることができる。これら合成樹脂を支持体として用いる場合には、容易に曲がらないような剛性基板状にすることも可能であるが、可とう性を持ったフィルム状の構造体とすることも可能である。

透明画素電極２２は、略矩形若しくは正方形パターンに形成された透明導電性膜からなり、図１に示すように、各画素間が分離されており、その一部には各画素ごとのＴＦＴ２３が配設されている。Ｉｎ₂Ｏ₃とＳｎＯ₂の混合物、いわゆるＩＴＯ膜やＳｎＯ₂またはＩｎ_２Ｏ₃をコーティングした膜を用いることが好ましい。これらＩＴＯ膜やＳｎＯ₂またはＩｎ_２Ｏ₃をコーティングした膜にＳｎやＳｂをドーピングしたものでも良く、ＭｇＯやＺｎＯなどを用いることも可能である。

各画素ごとに形成されたＴＦＴ２３は図示しない配線によって選択され、対応する透明画素電極２２を制御する。ＴＦＴ２３は画素間のクロストークを防止するのに極めて有効である。ＴＦＴ２３は例えば透明画素電極２２の一角を占めるように形成されるが、透明画素電極２２がＴＦＴ２３と積層方向で重なる構造であっても良い。ＴＦＴ２３には、具体的には、ゲート線とデータ線が接続され、各ゲート線に各ＴＦＴ１３のゲート電極が接続され、データ線には各ＴＦＴ２３のソース・ドレインの一方が接続され、そのソース・ドレインの他方は透明画素電極２２に電気的に接続される。なお、ＴＦＴ２３以外の駆動素子は平面型ディスプレイに用いられているマトリクス駆動回路で、透明基板上に形成できるものであれば他の材料でもよい。

本実施形態のエレクトロデポジション型表示装置においては、高分子固体電解質層２５に金属イオンが含有され、その金属イオンが変色に用いられる。変色のために用いられる金属イオンは変色、電気化学的な析出、いわゆる電解めっきとその逆反応である溶出が可逆的に行われて表示が行われる。このような電気化学的な析出と溶出によって発色と消色を行うことのできる金属イオンとしては、特に限定されるものではないが、金属イオンとして、ビスマス、銅、銀、リチウム、鉄、クロム、ニッケル、カドミウムの各イオンまたはそれらの組み合わせからなるイオンを例示することができ、また、特に好ましい金属イオンはビスマス、銀である。ビスマスや銀が好適である理由は可逆的な反応を容易にすすめることができ、析出時の変色度が高いためである。

金属イオンを含有する高分子固体電解質層２５を構成する高分子固体電解質に用いるマトリクス（母材）高分子としては、骨格ユニットがそれぞれ−(Ｃ-Ｃ-Ｏ）n−、−(Ｃ-Ｃ(ＣＨ₃）-Ｏ）n−、−(Ｃ-Ｃ-Ｎ）n−、若しくは−(Ｃ-Ｃ-Ｓ）n−であらわされるポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリエチレンイミン、ポリエチレンスルフィドが挙げられる。これらを主鎖構造として、枝分があってもよい。また、ポリメチルメタクリレート、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネートなども好ましい。

高分子固体電解質層２５を形成する際には、前記マトリクス用高分子に所要の可塑剤を加えるのが好ましい。好ましい可塑剤としては、マトリクスポリマーが親水性の場合には、水、エチルアルコール、イソプロピルアルコールおよびこれらの混合物等が好ましく、疎水性の場合にはプロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、エチレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、アセトニトリル、スルフォラン、ジメトキシエタン、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキシド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドンおよびこれらの混合物が好ましい。

高分子固体電解質は前記マトリクス用高分子に支持電解質を溶解せしめて形成されるが、その電解質としては、リチウム塩、例えばＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、ＬｉＩ、ＬｉＢＦ₄、ＬｉＣｌＯ₄、ＬｉＰＦ_６、ＬｉＣＦ₃ＳＯ₃などや、カリウム塩、例えばＫＣｌ、ＫＩ、ＫＢｒなどや、ナトリウム塩、例えばＮａＣｌ、ＮａＩ、ＮａＢｒ、或いはテトラアルキルアンモニウム塩、例えば、ほうフッ化テトラエチルアンモニウム、過塩素酸テトラエチルアンモニウム、ほうフッ化テトラブチルアンモニウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムハライドなどを挙げることができる。上述の４級アンモニウム塩のアルキル鎖長は不揃いでも良い。

高分子固体電解質層２５にはコントラストを向上させるために着色剤が含有される。前述のように金属イオンの発色が黒色の場合には、背景色としては白色の隠蔽性の高い材料が導入される。このような材料として、例えば、着色用の白色粒子が用いられ、着色用の白色粒子としては二酸化チタン、炭酸カルシウム、シリカ、酸化マグネシウム、酸化アルミニウムを使用することができる。また、着色のための色素を用いることもできる。

この着色剤を混ぜる割合としては、無機粒子による場合、約１〜２０ｗｔ％が好ましく、より好ましくは約１〜１０ｗｔ％であり、さらに好ましくは約５〜１０ｗｔ％である。無機粒子を着色剤として混ぜる場合、高分子固体電解質層２５の膜厚は、２０μｍ〜２００μｍであることが好ましく、高分子固体電解質層２５の膜厚は、より好ましくは５０μｍ〜１５０μｍであり、さらに好ましくは７０μｍ〜１５０μｍである。これらの理由については、前述の第１の実施形態の説明と同じであるため、ここでは重複した説明を省略する。

色素系の着色剤を混ぜる割合は１０ｗｔ％でも良い。これは色素の発色効率は無機粒子に比べてはるかに高いためである。従って、電気化学的に安定した色素であれば、少ない量でもコントラストを出すことができる。通常は、色素として油溶性染料が好ましい。

第一の透明電極と対向する側には、第二の電極として共通電極２６が形成される。この共通電極２６は、電気化学的に安定な金属であれば何でもよいが、好ましいのは白金、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウムなどであり、支持体２７上に金属膜などの良導体からなる膜を成膜することで作成できる。更に主反応に用いる金属を予め或いは随時十分に補うことができれば、カーボンを共通電極として使用可能である。そのためのカーボンを電極上に担持させる方法として、樹脂を用いてインク化し、基板面に印刷する方法がある。カーボンを使用することで、電極の低価格化を図ることができる。

支持体２７としては、透明である必要はなく、共通電極２６や高分子固体電解質層２５を確実に保持できる基板やフィルムなどを用いることができ、材料としては、第１の実施形態の支持体１７と同様の構成とすることができる。また、図２に示すように、第一の透明電極側と第二の電極を対向させるために、両支持体１１、１７を保持する封着樹脂部２８が周囲に形成される。この封着樹脂部２８によって両支持体２１、２７とこれらの間に配設された透明画素電極２２とＴＦＴ２３、高分子固体電解質層２５、共通電極２６が確実に保持されることになる。

上述の構造によれば、本実施形態のエレクトロデポジション型表示装置においては、ＴＦＴ２３を用いてマトリクス駆動が可能であり、高分子固体電解質層２５に含有された金属イオンを利用してコントラスト及び黒色濃度を高くすることができる。

［第２の実施形態］
本実施形態は、第１の実施形態のエレクトロデポジション型表示装置を製造する方法であり、図３の（ａ）乃至（ｃ）及び図４の（ｄ）乃至（ｅ）を参照しながら工程順に説明する。

先ず、図３の（ａ）に示すように、ガラス基板などの透明支持体５１上に、ＩＴＯ膜からなる透明画素電極５２と、薄膜トランジスタ５３とが画素毎に形成される。薄膜トランジスタ５３は公知の半導体製造技術を用いて形成され、ＩＴＯ膜は蒸着、スパッタリングなどの方法によって形成される。これら透明画素電極５２と、薄膜トランジスタ５３は画素ごとに形成され、各画素は透明支持体５１上にマトリクス状に配列されている。

このように透明支持体５１上に透明画素電極５２と薄膜トランジスタ５３を形成した後、図３の（ｂ）に示すように、透明支持体５１上に高分子固体電解質層５４が形成される。この高分子固体電解質層５４の形成工程においては、先ず、高分子固体電解質層５４のマトリクス（母材）用高分子となる合成樹脂と電解質を構成する材料例えばリチウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、或いはテトラアルキルアンモニウム塩などの材料と共に、塩化ビスマスなどの金属イオンの生成剤が混合され、更に着色材として白色粒子が分散されて調整される。この高分子固体電解質材料が塗布されて高分子固体電解質層５４が形成される。

これと平行して、ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支持体５６上に、図３の（ｃ）に示すように、所要の膜厚のパラジウム膜からなる共通電極５５が形成される。この支持体５６上の共通電極５５は、共通電極５５側が未硬化の高分子固体電解質層５４に圧着され、図４の（ｄ）に示すように、貼り合わされる。この貼り合わせ後、減圧乾燥させてゲル化した高分子固体電解質層を支持体５６と透明支持体５１の間に形成する。そして、貼り合わせの端部に、図４の（ｅ）に示すように、封着部材５７が取り付けられ、エレクトロデポジション型表示装置が完成する。

本実施形態においては、高分子固体電解質層５４の調整段階で、電解質と共に金属イオンが導入される。したがって、比較的に簡単な工程で、高分子固体電解質層５４と変色する材料が組み合わされることになり、製造上も容易に製造できる。

［第３の実施形態］
本実施形態のエレクトロデポジション型表示装置は、第三の電極として、第一の透明電極および第二の電極（共通電極）とは独立した電位検知電極６４、６５が形成される例である。これら電位検知電極６４、６５は、透明支持体上の透明画素電極または共通電極と同一の面内に電気的に絶縁された部材として配設されてなり、透明支持体上の透明画素電極または共通電極の電位を検知するのに用いられる。

図５は第一の透明電極側の平面図である。透明支持体６１上には、画素毎に透明画素電極６３と駆動素子としてのＴＦＴ６２が形成されており、各画素はマトリクス状に配されている。透明画素電極の電位を検知するための電位検知電極６４は、各画素の間のスペースに略十字状のパターンで形成されており、その端部（図中黒丸でしめす。）は厚さ約１０００ｎｍの銀又はアルミニウム電極となっている。端部をつなぐ線の部分は幅約１μｍ程度の銀又はアルミニウム線状配線部とされる。この電位検知電極６４は透明画素電極６３と同一の面内に電気的に絶縁された部材として形成されることから、透明画素電極６３の電位を正確にモニターすることができ、従って、透明画素電極６３で生じている反応を検知できる。電位検知電極６４の材質としては、反応に全く関与しない媒質中への自然溶出がない安定した金属材料を選ぶことが好ましく、第二の電極と同様な白金、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウム、銀などを選ぶことができる。

図６は第二の電極側の平面図である。支持体６６上には共通電極６７が形成されているが、逆π字状のパターンで、電位検知電極６５が形成されている。この電位検知電極６５は共通電極６７と同一の面内に電気的に絶縁された部材として形成されることから、共通電極６７の電位を正確にモニターすることができ、従って、共通電極６７で生じている反応を検知できる。電位検知電極６５の材質としては、反応に全く関与しない媒質中への自然溶出がない安定した金属材料を選ぶことが好ましく、第二の電極と同様な白金、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウム、銀などを選ぶことができる。また、電位検知電極６５は共通電極６７と同一の面内に同一の材料で形成できるため、電位検知電極６５と共通電極６７の間をパターンニングすることで容易に形成可能である。

図７は電位検知電極７６を備えたエレクトロデポジション型表示装置の回路図である。ＴＦＴ７４と透明画素電極７５からなる画素がマトリクス状に配されており、容量の対向電極側が共通電極となる。各画素を選択するためのデータ線駆動回路７２、７２ａとゲート線駆動回路７３が設けられており、それぞれ所定のデータ線７８とゲート線７７が信号制御部７１からの信号によって選択される。信号制御部７１からは電位検知電極７６が接続するように構成されていて、電位検知電極７６からの信号によって画素部分の電位をモニターすることができる。すなわち、電位検知電極７６の材質としては、反応に全く関与しない媒質中への自然溶出がない安定した金属材料が選択され、エレクトロクロミックまたは金属析出溶解の主反応の進み具合を正確にモニターすることができる。この電位検知電極７６を用いたモニターから、十分な析出や電気化学反応が行われたところでそれ以上の反応を止めることができる。

［第１の比較形態］
前述した実施形態のエレクトロデポジション表示装置の比較形態として、エレクトロクロミック表示装置は、図８及び図９に示すように、駆動素子であるＴＦＴ（Thin Film transistor）１３によって制御される第一の透明電極である透明画素電極１２と、電気活性を有し且つ電気化学的な酸化もしくは還元により変色するポリマー層１４と、このポリマー層１４と接触し着色剤を含有した高分子固体電解質層１５と、第一の透明電極に対向する第二の電極としての各画素に共通な共通電極１６とを有するエレクトロクロミック表示素子を複数個、面状に配列してなることを特徴とする。

透明画素電極１２とＴＦＴ１３は、各１つの組み合わせて１画素を構成するように形成されており、透明支持体１１上に各画素がマトリクス状に配列されている。透明支持体１１としては、石英ガラス板、白板ガラス板などの透明ガラス基板を用いることが可能であるが、これに限定されず、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートなどのエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、酢酸セルロースなどのセルロースエステル、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンーコヘキサフルオロプロピレンなどのフッ素ポリマー、ポリオキシメチレンなどのポリエーテル、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、メチルペンテンポリマーなどのポリオレフィン、及びポリイミド−アミドやポリエーテルイミドなどのポリイミドを例として挙げることができる。これら合成樹脂を支持体として用いる場合には、容易に曲がらないような剛性基板状にすることも可能であるが、可とう性を持ったフィルム状の構造体とすることも可能である。

透明画素電極１２は、略矩形若しくは正方形パターンに形成された透明導電性膜からなり、図８に示すように、各画素間が分離されており、その一部には各画素ごとのＴＦＴ１３が配設されている。Ｉｎ₂Ｏ₃とＳｎＯ₂の混合物、いわゆるＩＴＯ膜やＳｎＯ₂またはＩｎ_２Ｏ₃をコーティングした膜を用いることが好ましい。これらＩＴＯ膜やＳｎＯ₂またはＩｎ_２Ｏ₃をコーティングした膜にＳｎやＳｂをドーピングしたものでも良く、ＭｇＯやＺｎＯなどを用いることも可能である。

各画素ごとに形成されたＴＦＴ１３は図示しない配線によって選択され、対応する透明画素電極１２を制御する。ＴＦＴ１３は画素間のクロストークを防止するのに極めて有効である。ＴＦＴ１３は例えば透明画素電極１２の一角を占めるように形成されるが、透明画素電極１２がＴＦＴ１３と積層方向で重なる構造であっても良い。ＴＦＴ１３には、具体的には、ゲート線とデータ線が接続され、各ゲート線に各ＴＦＴ１３のゲート電極が接続され、データ線には各ＴＦＴ１３のソース・ドレインの一方が接続され、そのソース・ドレインの他方は透明画素電極１２に電気的に接続される。なお、ＴＦＴ１３以外の駆動素子は平面型ディスプレイに用いられているマトリクス駆動回路で、透明基板上に形成できるものであれば他の材料でもよい。

このような透明画素電極１２とＴＦＴ１３は高分子材料層であるポリマー層１４に接している。ポリマー層１４は電気活性を有する高分子材料であってエレクトロクロミック材料によって構成される。ポリマー層１４は電気化学的な酸化もしくは還元により変色する性質を有し、容量の対向電極の一方となる透明画素電極１２に電位差が与えられた時に黒色に変色する。好適なポリマー層１４としては、特に電解合成によって得られるいわゆる導電性高分子が好ましい。これは導電性があるため、電子の授受反応が速やかであり、着色及び消色の反応が速やかに行われるからである。好ましい高分子の例を次の表１に掲げる。また表にあげた高分子材料のほか、ピロール、チオフェン、アズレン、アニリンの誘導体を電解酸化重合して得られる高分子材料を用いてもよい。また、次の表１に掲げる高分子やその誘導体の組み合わせにかかる材料を使用することもできる。

この表に挙げられた高分子材料（ポリピロール、ポリアニリン、ポリアズレン、ポリチオフェン、ポリインドール、ポリカルバゾール）のなかでも特に好ましいものの１つはポリピロールである。これは、１）酸化電位が低い、２) クーロン効率が高い、３) 酸化時の発色が黒い、４) 繰り返し寿命が長い、といった理由が挙げられる。酸化電位が低いものが好まれる理由は酸化電位が低い方が発色状態において安定だからである。またクーロン効率が高いものが望ましいとされる理由は、副反応がそれだけ抑えられていることを示しており、高いクーロン効率が１００％に近いということは副反応が殆どおこってないということであり、素子としての寿命が長くなることを意味する。酸化時の発色が黒いという点は、ドキュメントのディスプレイとしては重要な性質である。他のポリマーが緑色もしくは赤みがかった黒色であるのに対し、ポリピロールは完全な酸化時においては黒色である。このためポリピロールを採用することで、黒色濃度を高くすることができ、コントラストを良くできることになる。更に繰り返し寿命が長いのもポリピロールの有益な特徴の１つである。

この発色を行うポリマー層１４に接するように高分子固体電解質層１５が形成されている。高分子固体電解質層１５を構成する高分子固体電解質とエレクトロクロミック材料である高分子材料を複合して形成すると、発色及び消色に伴った高分子材料の体積変化による電極からの脱落や微粉化が生じにくくなり、耐久性が増すので好ましい。

高分子固体電解質層１５を構成する高分子固体電解質に用いるマトリクス（母材）用高分子としては、骨格ユニットがそれぞれ−(Ｃ-Ｃ-Ｏ）n−、−(Ｃ-Ｃ(ＣＨ₃）-Ｏ）n−、−(Ｃ-Ｃ-Ｎ）n−、若しくは−(Ｃ-Ｃ-Ｓ）n−であらわされるポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリエチレンイミン、ポリエチレンスルフィドが挙げられる。これらを主鎖構造として、枝分があってもよい。また、ポリメチルメタクリレート、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネートなども好ましい。

高分子固体電解質層１５を形成する際には、前記マトリクス用高分子に所要の可塑剤を加えるのが好ましい。好ましい可塑剤としては、マトリクスポリマーが親水性の場合には、水、エチルアルコール、イソプロピルアルコールおよびこれらの混合物等が好ましく、疎水性の場合にはプロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、エチレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、アセトニトリル、スルフォラン、ジメトキシエタン、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキシド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドンおよびこれらの混合物が好ましい。

高分子固体電解質は前記マトリクス用高分子に電解質を溶解せしめて形成されるが、その電解質としては、リチウム塩、例えばＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、ＬｉＩ、ＬｉＢＦ₄、ＬｉＣｌＯ₄、ＬｉＰＦ_６、ＬｉＣＦ₃ＳＯ₃などや、カリウム塩、例えばＫＣｌ、ＫＩ、ＫＢｒなどや、ナトリウム塩、例えばＮａＣｌ、ＮａＩ、ＮａＢｒ、或いはテトラアルキルアンモニウム塩、例えば、ほうフッ化テトラエチルアンモニウム、過塩素酸テトラエチルアンモニウム、ほうフッ化テトラブチルアンモニウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムハライドなどを挙げることができる。上述の４級アンモニウム塩のアルキル鎖長は不揃いでも良い。

高分子固体電解質とエレクトロクロミック材料である高分子材料を複合して形成すると、発色及び消色に伴う高分子材料の体積変化による電極からの脱落や微粉化が生じにくくなり、耐久性が増すので好ましい。この高分子固体電解質は、第一の電極上にあらかじめ高分子固体電解質層を適当な方法で形成した後、これをピロールモノマーを含む電析槽に入れて電解酸化重合することにより得られる。

高分子固体電解質層１５にはコントラストを向上させるために着色剤が含有される。前述のようにポリマー層１４の発色が黒色の場合には、背景色としては白色の隠蔽性の高い材料が導入される。このような材料として、例えば、着色用の白色粒子が用いられ、着色用の白色粒子としては二酸化チタン、炭酸カルシウム、シリカ、酸化マグネシウム、酸化アルミニウムを使用することができる。

この着色剤を混ぜる割合としては、無機粒子による場合、約１〜２０ｗｔ％が好ましく、より好ましくは約１〜１０ｗｔ％であり、さらに好ましくは約５〜１０ｗｔ％である。これは酸化チタンなどの無機の白色粒子は、高分子への溶解性はなく分散するだけであって、混合する割合が増えると、無機粒子が凝集する結果、光学濃度が不均一になってしまう。また、無機粒子にはイオン導電性がないため、混合割合の増加は高分子固体電解質の導電性の低下を招く。両者を考慮すると、混合割合の上限はおよそ２０ｗｔ％である。

無機粒子を着色剤として混ぜる場合、高分子固体電解質層１５の膜厚は、２０μｍ〜２００μｍであることが好ましく、高分子固体電解質層１５の膜厚は、より好ましくは５０μｍ〜１５０μｍであり、さらに好ましくは７０μｍ〜１５０μｍである。薄い方が電極間の抵抗が小さくなるので発色・消色時間の低減や消費電力の低下につながり好ましい。しかし、２０μｍ以下になると、機械的強度が低下して、ピンホールや亀裂が生じて好ましくない。また、あまり薄い場合には白色粒子の混合量が少なくなるため、白色性（光学濃度）が十分でなくなることになる。

着色剤を混ぜる割合としては、色素による場合では、１０ｗｔ％でも良い。これは色素の発色効率は無機粒子に比べてはるかに高いためである。従って、電気化学的に安定した色素であれば、少ない量でもコントラストを出すことができる。通常は、色素として油溶性染料が好ましい。

第一の透明電極と対向する側には、第二の電極として共通電極１６が形成される。この共通電極１６は、電気化学的に安定な金属であれば何でもよいが、好ましいのは白金、クロム、アルミニウム、コバルト、パラジウムなどであり、支持体１７上に金属膜などの良導体からなる膜を成膜することで作成できる。更に主反応に用いる金属を予め或いは随時十分に補うことができれば、カーボンを共通電極として使用可能である。そのためのカーボンを電極上に担持させる方法として、樹脂を用いてインク化し、基板面に印刷する方法がある。カーボンを使用することで、電極の低価格化を図ることができる。

支持体１７としては、透明である必要はなく、共通電極１６や高分子固体電解質層１５を確実に保持できる基板やフィルムなどを用いることができる。例示すると、石英ガラス板、白板ガラス板などのガラス基板、セラミック基板、紙基板、木材基板を用いることが可能であるが、これに限定されず、合成樹脂基板として、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートなどのエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、酢酸セルロースなどのセルロースエステル、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレンーコヘキサフルオロプロピレンなどのフッ素ポリマー、ポリオキシメチレンなどのポリエーテル、ポリアセタール、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、メチルペンテンポリマーなどのポリオレフィン、及びポリイミド−アミドやポリエーテルイミドなどのポリイミドを例として挙げることができる。これら合成樹脂を支持体として用いる場合には、容易に曲がらないような剛性基板状にすることも可能であるが、可とう性を持ったフィルム状の構造体とすることも可能である。共通電極１６に十分な剛性がある場合には、支持体１７を設けなくとも良い。

図９に示すように、第一の透明電極側と第二の電極を対向させるために、両支持体１１、１７を保持する封着樹脂部１８が周囲に形成される。この封着樹脂部１８によって両支持体１１、１７とこれらの間に配設された透明画素電極１２とＴＦＴ１３、ポリマー層１４、高分子固体電解質層１５、共通電極１６が確実に保持されることになる。

上述の構造によれば、本実施形態のエレクトロクロミック表示装置においては、ＴＦＴ１３を用いてマトリクス駆動が可能であり、ポリマー層１４の材料を選択することでコントラスト及び黒色濃度を高くすることができる。

［第２の比較形態］
本比較形態は、前述の第１の比較形態のエレクトロクロミック表示装置を製造する方法であり、図１０の（ａ）乃至（ｃ）及び図６の（ｄ）乃至（ｆ）を参照しながら工程順に説明する。

先ず、図１０の（ａ）に示すように、ガラス基板などの透明支持体３１上に、ＩＴＯ膜からなる透明画素電極３２と、薄膜トランジスタ３３とが画素毎に形成される。薄膜トランジスタ３３は公知の半導体製造技術を用いて形成され、ＩＴＯ膜は蒸着、スパッタリングなどの方法によって形成される。これら透明画素電極３２と、薄膜トランジスタ３３は画素ごとに形成され、各画素は透明支持体３１上にマトリクス状に配列されている。

このように透明支持体３１上に透明画素電極３２と薄膜トランジスタ３３を形成した後、駆動回路３４に接続可能なリード部が形成され、図１０の（ｂ）に示すように、全体が電析槽３５内の電析液３６に浸される。この電析液３６はポリピロールなどのポリマー層を電析させるための液体である。駆動回路３４によって、各透明画素電極３２に通電して各透明画素電極３２上にポリピロールなどの図示しないポリマー層を電析させる。この時、各透明画素電極３２は電析液３６を介在させながら電析用電極３７に対向する。続いて、変色用の高分子材料（この場合はピロール）を含まない電析槽内の電析液に再度浸して、ポリマー層を脱ドープして一旦透明画素電極３２の上を透明に戻す。次いで、透明支持体３１を電析液から取り出して、エタノールで洗浄した後、真空乾燥される。

次に、図１０の（ｃ）に示すように、透明支持体３１上に高分子固体電解質層３８が形成される。先ず、高分子固体電解質層３８のマトリクス（母材）用高分子となる合成樹脂と電解質を構成する材料例えばリチウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、或いはテトラアルキルアンモニウム塩などの材料が混合され、更に着色材として白色粒子が分散されて調整される。この高分子固体電解質材料が塗布されて高分子固体電解質層３８が形成される。

これと平行して、ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支持体４０上に、所要の膜厚のパラジウム膜からなる共通電極３９が形成される。この支持体４０上の共通電極３９は、図１１の（ｄ）に示すように、共通電極３９側が未硬化の高分子固体電解質層３８に圧着され、図１１の（ｅ）に示すように、貼り合わされる。この貼り合わせ後、減圧乾燥させてゲル化した高分子固体電解質層を支持体４０と透明支持体３１の間に形成する。そして、貼り合わせの端部に、図１１の（ｆ）に示すように、封着部材４１が取り付けられ、エレクトロクロミック表示装置が完成する。

本比較形態においては、電気活性なポリマー層が、電析槽３５の電析液３６に浸し通電することで被着されるため、透明画素電極３２上にポリマー層が形成され、その上に高分子固体電解質層３８が複合するように形成される。このためポリマー層の脱落等が防止され、透明画素電極３２上に重点的に形成できる。

［第３の比較形態］
本比較形態は、前述の第１の比較形態のエレクトロクロミック表示装置を製造する方法の他の例であって第２の比較形態の変形例である。本比較形態を図１２の（ａ）乃至（ｃ）を参照しながら工程順に説明する。

先ず、第２の比較形態の製造方法と同様に、図１２の（ａ）に示すように、ガラス基板などの透明支持体３１上に、ＩＴＯ膜からなる透明画素電極３２と、薄膜トランジスタ３３とが画素毎に形成される。薄膜トランジスタ３３は公知の半導体製造技術を用いて形成され、ＩＴＯ膜は蒸着、スパッタリングなどの方法によって形成される。これら透明画素電極３２と、薄膜トランジスタ３３は画素ごとに形成され、各画素は透明支持体３１上にマトリクス状に配列されている。なお、後の工程で駆動回路に接続可能なリード部（図示しない）も形成される。

次に、図１２の（ｂ）に示すように、透明支持体３１上に高分子固体電解質層３８が形成される。先ず、高分子固体電解質層３８のマトリクス（母材）用高分子となる合成樹脂と電解質を構成する材料例えばリチウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、或いはテトラアルキルアンモニウム塩などの材料が混合され、更に着色材として白色粒子が分散されて調整される。この高分子固体電解質材料が塗布されて高分子固体電解質層３８が形成される。この段階で、高分子固体電解質層３８は乾燥されゲル化される。

透明支持体３１上の高分子固体電解質層３８は乾燥されゲル化されたところで、図１２の（ｃ）に示すように、全体が電析槽３５内の電析液３６に浸される。この電析液３６はポリピロールなどのポリマー層を電析させるための液体である。駆動回路３４によって、各透明画素電極３２に通電して各透明画素電極３２上にポリピロールなどの図示しないポリマー層を電析させる。この時、各透明画素電極３２は電析液３６を介在させながら電析用電極３７に対向する。この電析の後、直ちに第二の電極である支持体と共通電極側が貼り合わせられ、図１１の（ｄ）乃至（ｆ）に示す工程を経て、エレクトロクロミック表示装置が完成する。

［実施例］
以下実施例により、本発明のエレクトロでポジション表示装置について、その製造方法と共に詳しく説明する。これら実施例をもって本発明の効果を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、併せてエレクトロクロミック表示装置についての比較例を記す。

[実施例１]
エレクトロデポジション型表示装置における画素電極への通電電気量と析出した銀による画素の着色濃度（光学濃度）の関係について計測した。その計測結果を図１３に示す。一般に視認性のよい文字を得るためには、文字部の濃度が少なくとも光学濃度（OD）で１．０以上、好ましくは１．５以上が必要である。従って、図１３に示す結果から、必要な通電電気量はおよそ５ｍC／ｃｍ^２以上、好ましくは１０ｍC／ｃｍ^２以上であることが分かる。この範囲以下の電気量の場合、文字が薄くて読みにくいと言うような問題が生ずる。光学濃度が１．５を超える場合では、十分な視認性が得られるものの、これ以上濃度を高くしても人間の感覚としては飽和しているために、余り視認性は向上しない。しかも光学濃度が１．５を超える場合では、多量に銀などの金属が析出することになるため、逆反応（消色反応）が完全に起こらず、消え残りが発生してしまう。従って、通電電気量は２０ｍC／ｃｍ^２以下が好ましい。

［比較例１］
（表示極の作成）厚さ１．５mmで１０cm×１０cmのガラス基板上に、１５０μｍピッチで平面的に配列されたＩＴＯ膜とＴＦＴ（Thin Film transistor）を公知の方法により作成した。この基板から公知の方法により駆動回路につながるリード部を形成し、次いで全体を電析槽内に設置した（図５の（ｂ）参照）。電析液は、プロピレンカーボネート中に、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレートを１Ｍ、ピロールを０．１Ｍ溶解せしめて得た。次いで、駆動回路より各画素に、０．２μＡの電流を通電電気量が２０μＣとなるまで通電した。各ＩＴＯ上には黒色のポリピロールが電析した。

次いで、該ガラス基板をプロピレンカーボネート中に、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレートを１Ｍ溶解せしめて得た電解液を含む電解槽内に設置し、各画素電極をＡg+/Ａg参照電極に対して−１Ｖに設定し、電解重合時にポリピロール中にドーピングされたイオンを脱ドープした。ポリピロールはやや黄色がかった透明に変化した。次いで、この基板を取り出しエタノールで洗浄した後、真空乾燥した。

（高分子固体電解質の調整と塗布）分子量約３５万のポリフッ化ビニリデン１重量部をプロピレンカーボネートとエチレンカーボネートの１：１混合溶媒１０重量部、ほうフッ化テトラブチルアンモニウム１．７重量部を混合し、１２０℃に過熱して、均一溶液を調整した。ついでこれに平均粒径０．５μｍの二酸化チタン０．２重量部を添加し、ホモジナイザーで、これを均一に分散せしめた。これを上記ガラス基板の上にドクターブレードにより厚さ６０μｍで塗布したのち、次に説明する第２の電極である共通電極を直ちに貼り合わせ、これを１１０℃、０．１Ｍpaで１時間減圧乾燥し、ゲル化した高分子固体電解質を二つの電極間に形成した。次いで貼り合わせの端面を接着剤によって封止した。

（第２の電極（対極、共通電極））厚さ０．５mmで１０cm×１０cmの大きさのポリエチレンテレフタレートフィルム上にスパッタリングによって厚さ３０００Ａのパラジウム膜を形成した。これを上記高分子固体電解質の塗布後ただちに圧着した。

（駆動と表示特性の評価）公知のアクティブマトリクス駆動回路により、発色時には１画素あたり５μＣの電気量で表示極を酸化し、消色時には同一電気量で還元することにより、黒色表示と無色（白色）表示とを切り替えた。無色（白色）時の反射率は７０％であり、発色（黒色）時の表示部の光学濃度（ＯＤ）は約１．３（反射率５％）であった。したがって反射率のコントラストとしては1：12が得られた。発色状態に置いた後、回路を開放して放置したところ、１週間後の表示部の光学濃度は約１．０であり、メモリー性を有していた。発色、消色のサイクルを繰り返し行ったところ、発色時の黒色濃度が１．０以下になるまでの繰り返しサイクル回数は約８００万回であった。

［比較例２］
あらかじめ高分子固体電解質をＴＦＴ基板上に塗布し、比較例１と同様に乾燥してゲル化した後、これを電析槽内に入れ、比較例１と同様にして、通電したところ、ＩＴＯ電極上にポリピロールが高分子固体電解質のマトリクスポリマーと複合化された状態で析出した。電析槽から取り出し、ただちに対極（第２の電極）を貼り合わせ、同様の条件で減圧乾燥した。

以後、比較例１と同様に駆動し評価したところ、繰り返しサイクル回数は約３０００万回であり、他の特性は同様であった。

［比較例３］
（表示極の作成及び高分子固体電解質の調整と塗布）厚さ１．５mmで１０cm×１０cmのガラス基板上に、１５０μｍピッチで平面的に配列されたＩＴＯ膜とＴＦＴ（Thin Film transistor）を公知の方法により作成した。次いで、分子量約３５万のポリフッ化ビニリデン１重量部を水とイソプロピルアルコールの１：１混合溶媒１０重量部、臭化リチウム１．７重量部、塩化ビスマス１．７重量部を混合し、１２０℃に過熱して均一溶液を調整した。これに平均粒径０．５μｍの二酸化チタン０．２重量部を添加し、ホモジナイザーで、これを均一に分散せしめた。これを上記ガラス基板の上にドクターブレードにより厚さ６０μｍで塗布したのち、次に説明する第２の電極である共通電極を直ちに貼り合わせ、これを１１０℃、０．１Ｍpaで１時間減圧乾燥し、ゲル化した高分子固体電解質を二つの電極間に形成した。次いで貼り合わせの端面を接着剤によって封止した。

（第２の電極（対極、共通電極））厚さ０．５mmで１０cm×１０cmの大きさのポリエチレンテレフタレートフィルム上にスパッタリングによって厚さ３０００Ａのパラジウム膜を形成した。これを上記高分子固体電解質の塗布後ただちに圧着した。

（駆動と表示特性の評価）公知のアクティブマトリクス駆動回路により、発色時には１画素あたり５μＣの電気量で表示極を酸化し、消色時には同一電気量で還元することにより、黒色表示と無色（白色）表示とを切り替えた。無色（白色）時の反射率は７０％であり、発色（黒色）時の表示部の光学濃度（ＯＤ）は約０．８（反射率１３％）であった。したがって反射率のコントラストとしては1：５が得られた。発色状態に置いた後、回路を開放して放置したところ、１週間後の表示部の光学濃度に特に変化はなく、メモリー性を有していた。発色、消色のサイクルを繰り返し行ったところ、発色時の黒色濃度が１．０以下になるまでの繰り返しサイクル回数は約８０００万回であった。

［比較例４］
高分子固体電解質をポリフッ化ビニリデンクロライド、ＬｉＢＦ_４、ＡｇＣｌＯ_４の混同物とする以外は実施例３と同様の条件で作成した。以後、実施例３と同様に駆動し評価したところ、繰り返しサイクル回数は約３０００万回であり、他の特性は同様であった。

本発明の第１の実施形態のエレクトロデポジション型表示装置の部分斜視図である。 本発明の第１の実施形態のエレクトロデポジション型表示装置の断面図である。 本発明の第２の実施形態のエレクトロデポジション型表示装置の製造方法の工程断面図であり、（ａ）はＴＦＴ及び透明画素電極の形成工程までの工程断面図であり、（ｂ）は高分子固体電解質層の形成工程までの工程断面図であり、（ｃ）は支持体の圧着工程までの工程断面図である。 本発明の第２の実施形態のエレクトロデポジション型表示装置の製造方法であり且つ図８の続きの工程断面図であって、（ｄ）は貼り合わせ工程までの工程断面図であり、（e）は封着部材の取り付け工程までの工程断面図である。 本発明の第３の実施形態のエレクトロデポジション型表示装置の透明画素電極側の構造の平面図である。 本発明の第３の実施形態のエレクトロデポジション型表示装置の共通電極側の構造の平面図である。 本発明の第３の実施形態のエレクトロデポジション型表示装置の回路図である。 本発明の第１の比較形態のエレクトロクロミック表示装置の部分斜視図である。 本発明の第１の比較形態のエレクトロクロミック表示装置の断面図である。 本発明の第２の比較形態のエレクトロクロミック表示装置の製造方法の工程断面図であり、（ａ）はＴＦＴ及び透明画素電極の形成工程までの工程断面図であり、（ｂ）は電析槽への浸漬工程までの工程断面図であり、（ｃ）は高分子固体電解質層の形成工程までの工程断面図である。 本発明の第２の比較形態のエレクトロクロミック表示装置の製造方法であり且つ図５の続きの工程断面図であって、（ｄ）は支持体の圧着工程までの工程断面図であり、（e）は貼り合わせ工程までの工程断面図であり、（ｃ）は封着部材の取り付け工程までの工程断面図である。 本発明の第３の比較形態のエレクトロクロミック表示装置の製造方法の工程断面図であり、（ａ）はＴＦＴ及び透明画素電極の形成工程までの工程断面図であり、（ｂ）は高分子固体電解質層の形成工程までの工程断面図であり、（ｃ）は電析槽への浸漬工程までの工程断面図である。 本発明のエレクトロデポジション型表示装置における電流密度と光学濃度（着色濃度）の関係を示す測定結果のグラフである。

符号の説明

１１、２１、３１、５１、６１ 透明支持体
１２、２２、３２、５２、６３ 透明画素電極
１３、２３、３３、５３、６２ ＴＦＴ
１４ ポリマー層
１５、２５、３８、５４ 高分子固体電解質層
１６、２６、３９、５５、６７ 共通電極
１７、２７、４０、５６、６６ 支持体
６４、６５，７６ 電位検知電極

Claims (16)

1. 駆動素子によって制御される第一の透明電極と、着色剤及び金属イオンを含有した高分子固体電解質層と、前記第一の透明電極との間に前記高分子固体電解質層を挟んでなる第二の電極とを有する
   ことを特徴とするエレクトロデポジション型表示素子。
2. 前記金属イオンがビスマス、銅、銀、リチウム、鉄、クロム、ニッケル、カドミウムの各イオンまたはそれらの組み合わせからなる
   ことを特徴とする請求項１記載のエレクトロデポジション型表示素子。
3. 前記高分子固体電解質層を構成する高分子固体電解質が、骨格ユニットがそれぞれ−(Ｃ-Ｃ-Ｏ）n−、−(Ｃ-Ｃ(ＣＨ₃）-Ｏ）n−、−(Ｃ-Ｃ-Ｎ）n−、若しくは−(Ｃ-Ｃ-Ｓ）n−であらわされるポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリエチレンイミン、ポリエチレンスルフィド、若しくはこれらを主鎖構造として枝分かれを有する高分子材料、またはポリメチルメタクリレート、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、またはこれらの混合物若しくは積層物であって金属塩若しくはアルキルアンモニウム塩を混合せしめたものである
   ことを特徴とする請求項１記載のエレクトロデポジション型表示素子。
4. 前記高分子固体電解質層に水、エチルアルコール、イソプロピルアルコールプロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、エチレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、アセトニトリル、スルフォラン、ジメトキシエタン、ジメチルフォルムアミド、ジメチルフォキシド、またはこれらの混合物からなる可塑剤を添加した
   ことを特徴とする請求項１記載のエレクトロデポジション型表示素子。
5. 前記着色剤が無機顔料または色素である
   ことを特徴とする請求項１記載のエレクトロデポジション型表示素子。
6. 前記無機顔料は二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウムのそれぞれの粉末からなる
   ことを特徴とする請求項５記載のエレクトロデポジション型表示素子。
7. 前記第一の透明電極は、ＳｎＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃あるいはこれらの混合物を主成分とする
   ことを特徴とする請求項１３記載のエレクトロデポジション型表示素子。
8. 前記第二の電極が金属薄膜である
   ことを特徴とする請求項１記載のエレクトロデポジション型表示素子。
9. 前記高分子固体電解質層と前記第二の電極の間にはイオンを導入及び放出できる材料層または電気化学的な酸化還元反応を生じさせる材料層を配設した
   ことを特徴とする請求項１記載のエレクトロデポジション型表示素子。
10. 前記材料層はカーボンを含む
    ことを特徴とする請求項１０記載のエレクトロデポジション型表示素子。
11. 前記金属イオンが電析される際の成長阻害剤が前記高分子固体電解質層に含まれる
    ことを特徴とする請求項１記載のエレクトロデポジション型表示素子。
12. 前記成長阻害剤は酸素原子または硫黄原子を有する基を備えている
    ことを特徴とする請求項１記載のエレクトロデポジション型表示素子。
13. 前記金属イオンが析出する際に、前記第一の透明電極及び前記第二の電極の何れででも起こりうる副反応を抑制するための還元剤または酸化剤が前記高分子固体電解質層に含まれる
    ことを特徴とする請求項１記載のエレクトロデポジション型表示素子。
14. 前記電極間に通電される電気量を一平方ｃｍ当たり、５ｍC以上２０ｍC以下とする
    ことを特徴とする請求項１記載のエレクトロデポジション型表示素子。
15. 駆動素子によって制御される第一の透明電極と、着色剤及び金属イオンを含有した高分子固体電解質層と、前記第一の透明電極との間に前記高分子固体電解質層を挟んでなる第二の電極とを有することを特徴とするエレクトロデポジション型表示要素を複数個、面状に配列してなる
    ことを特徴とするエレクトロデポジション型表示装置。
16. 透明支持体上に透明画素電極及び駆動素子を形成する工程と、前記透明画素電極及び前記駆動素子が形成された前記透明支持体上に金属イオンと着色剤を含有した高分子固体電解質層を形成する工程と、前記透明画素電極と対向する共通電極を形成する工程とを有する
    ことを特徴とするエレクトロデポジション型表示装置の製造方法。

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