JP5966526B2 - エレクトロクロミック表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置について説明する。図1に示されるように、本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置は、支持基板となる表示基板10と対向基板20を有している。表示基板10には、対向基板20と対向する面において、表示基板10に接して形成された第1の表示電極11と、第1の表示電極11に接して形成された第1のエレクトロクロミック層12と、第1のエレクトロクロミック層12に接して形成された絶縁層13と、絶縁層13に接して形成された第2の表示電極14と、第2の表示電極14に接して形成された第2のエレクトロクロミック層15とを有している。このように、表示基板10は、これらの積層構造されたものを支持するための基板である。第1のエレクトロクロミック層12及び第2のエレクトロクロミック層15は、導電性または半導体性微粒子により形成された多孔質電極と、この微粒子に担持された酸化還元反応により呈色反応を示すエレクトロクロミック分子により形成されている。尚、表示基板10は、光を透過する材料により形成されており、第1の表示電極11及び第2の表示電極14は、透明導電膜等の光に対し透明であって導電性を有する材料により形成されている。
表示基板10としては、透明な材料であれば特に限定されるものではないが、ガラス基板、プラスチックフィルム等の基板が用いられる。また、水蒸気バリア性・ガスバリア性・視認性を高めるために表示基板10の表裏に透明絶縁層・反射防止層等がコーティングされていてもよい。
対向基板20としては、特に透明である必要もないため、ガラス基板、プラスチックフィルム、シリコン基板、ステンレス等の金属基板、またこれらを積層したものなどが用いられる。
第1の表示電極11及び第2の表示電極14等の表示電極(以下「表示電極」と記載する場合がある)としては、透明性と導電性を有する材料であれば特に限定されるものではない。表示電極の材料としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウムスズ酸化物、インジウム亜鉛酸化物等の金属酸化物が好ましい。また、透明性を有する銀、金、カーボンナノチューブ、金属酸化物等のネットワーク電極やこれらの複合層も有用である。また作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、または該表示電極材料が塗布形成できるものであれば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法も用いることができる。表示電極における光の透過率は60%以上、100%未満が好ましく、更に好ましくは90%以上、100%未満である。
対向電極21としては、導電性を有する材料であれば特に限定されるものではない。対向電極21の材料としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウムスズ酸化物、インジウム亜鉛酸化物等の金属酸化物、あるいは亜鉛、白金等の金属、カーボン、またはそれらの複合膜などを用いることができる。また、対向電極21が酸化還元反応により不可逆的に腐食されないように、対向電極21を覆う保護層を形成したものであってもよい。対向電極21の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。また、対向電極21を形成するための材料が塗布により形成することがきるものであれば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法も用いることができる。
対向電極21を覆う保護層としては、対向電極21の不可逆的な酸化還元反応による腐食を防止する役割を担う材料であれば特に限定されるものではなく、Al2O3(酸化アルミニウム)やSiO2(酸化シリコン)またはそれらを含む絶縁体材料や、酸化亜鉛、酸化チタンまたはそれらを含む半導体材料、またはポリイミドなどの有機材料など、様々な材料を用いることができる。特に可逆的な酸化還元反応を示す材料は有用である。例えば酸化アンチモン錫や酸化ニッケルなどの導電性または半導体性金属酸化物微粒子を、例えばアクリル系、アルキド系、イソシアネート系、ウレタン系、エポキシ系、フェノール系などのバインダにより対向電極21上に固定化する方法がある。対向電極21を覆う保護層の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。また、保護層を形成するための材料が塗布により形成することができるものであれば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法も用いることができる。
第1のエレクトロクロミック層12及び第2のエレクトロクロミック層15等のエレクトロクロミック層(以下、「エレクトロクロミック層」と記載する)は、エレクトロクロミック材料を含んだものであり、このようなエレクトロクロミック材料としては、無機エレクトロクロミック化合物、有機エレクトロクロミック化合物のいずれを用いても構わない。また、エレクトロクロミズムを示すことで知られる導電性高分子も用いることができる。無機エレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化イリジウム、酸化チタンなどが挙げられる。また有機エレクトロクロミック化合物としてはビオロゲン、希土類フタロシアニン、スチリルなどが挙げられる。また導電性高分子としては、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、またはそれらの誘導体などが挙げられる。
電解液層30における電解液は電解質と、電解質を溶解させるための溶媒より構成される。電解液は表示基板10と対向基板20を貼り合わせる際、表示電極、エレクトロクロミック層、絶縁層等の表示基板10側に作製した層へ含浸させることができる。また、表示電極、エレクトロクロミック層、絶縁層等を作製する段階で電解質を各層内に分布させ、表示基板10と対向基板20を貼り合わせる際に溶媒のみを含浸させることも可能である。この方法では電解液の浸透圧によって各層への含浸速度を向上させることが望める。
白色反射層40は、エレクトロクロミック表示素子を反射型の表示装置として用いる場合に、白色の反射率を向上させるためのものである。白色反射層40は、電解液内に白色顔料粒子を分散させる、あるいは、白色顔料粒子を分散した樹脂を塗布形成する等によって作製することができる。白色反射層40に含まれる白色顔料粒子の材料としては、例えば、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、シリカ、酸化セシウム、酸化イットリウム等が用いられる。
絶縁層13等は、第1のエレクトロクロミック層12の設けられた第1の表示電極11と、第2のエレクトロクロミック層15の設けられた第2の表示電極14とが電気的に絶縁されるように隔離するためのものである。第1の表示電極11及び第2の表示電極14は、対向電極21に対する電位を独立して制御するために、各表示電極間の電気抵抗が、各表示電極面内での電気抵抗よりも大きく形成されなくてはならない。少なくとも各表示電極間の抵抗が、各表示電極面内での電気抵抗の500倍以上であることが好ましい。各表示電極間の絶縁性はエレクトロクロミック層の層厚で制御することができるが、絶縁層13等を形成して制御することが好ましい。また、同様に第3または、第4と表示電極とエレクトロクロミック層を増やして設ける場合にも、それぞれの隣接する表示電極間での絶縁性を補償するための絶縁層を挿入することが好ましい。
次に、第2の表示電極14及び第2の表示電極14の製造方法について説明する。図3は、図1において一点座線1Aにより囲まれた領域の拡大図である。本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置は、図2に示されるように、表示基板10に接して形成された第1の表示電極11と、第1の表示電極11に接して形成された第1のエレクトロクロミック層12と、第1のエレクトロクロミック層12に接して形成された絶縁層13と、絶縁層13に接して形成された第2の表示電極14と、第2の表示電極14に接して形成された第2のエレクトロクロミック層15とを有している。第2の表示電極14には、微細貫通孔14aが複数形成されている。
コロイダルリソグラフィー法に用いられるコロイダルマスクとなる微粒子の材質については表示電極に微細貫通孔14a等を形成することが可能であれば何でも構わないが、例えば、SiO2微粒子(酸化シリコン微粒子)等が経済的に優位である。また、コロイダルマスク散布時に用いる分散物は分散性のよいものが好ましく、例えば、SiO2微粒子等であれば水系のものが使用できる。但し、エレクトロクロミック層、絶縁性多孔質層等のコロイダルマスクの下層にダメージを与える場合は、非水系溶媒に分散するように表面処理したSiO2を用いて非水系分散物を用いることができる。尚、本実施の形態においては、この微粒子をコロイダルリソグラフィーに用いるコロイダルマスクと記載する場合がある。
次に、本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置において、多色表示の動作について説明する。本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示は、図1において説明した構造を有するものであり、容易に多色表示が可能である。具体的には、第1の表示電極11と、第2の表示電極14とが、絶縁層13を介して隔離して設けられているため、任意の表示電極と、対向電極21とを電気的に接続し、ある時間に電流を流すことで、選択された任意の対向電極21の直上にある、選択された任意の表示電極に接するエレクトロクロミック層の領域のみで発消色反応が起こる。つまり、第1の表示電極11または第2の表示電極14のうちのいずれか一つの表示電極と、複数あるうちの任意の対向電極21を選択した場合には、単色での高精細表示が可能となり、第1の表示電極11及び第2の表示電極14の双方と、複数ある任意の対向電極21を選択した場合には、2色の混色での高精細表示が可能となる。
次に、図1に示される本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の製造方法について図4に基づき説明する。
次に、図2に示される本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の製造方法について図7に基づき説明する。
[実施例1]
粒子径が200nm、450nm、1200nmの各々のコロイダルマスクを用いてコロイダルリソグラフィーを行った結果について説明する。
次に、コロイダルリソグラフィーにより微細貫通孔を形成した電極の電極特性を評価するために、40nm□のガラス基板上に、スパッタリングにより成膜したITO透明導電膜の評価素子を作製し、電極特性の評価を行なった。尚、スパッタリングにより成膜したITO透明導電膜は、2mm×32mmの領域と両端の取り出し部分の領域にメタルマスクを介して形成し,両端の取り出し部分間の抵抗値を測定することにより電極特性の評価を行なった。
比較例1について説明する。比較例1は、コロイダルリソグラフィーを行わず、単にガラス基板上に、スパッタリングによりITOスパッタ膜を100nm成膜したものの電極抵抗を測定した。
次に、比較例2について説明する。比較例2は、コロイダルリソグラフィーを行わず、基板等の上に、平均一次粒径20nmのシリカ微粒子分散液(シリカ固形分濃度13wt%、水性ポリエステル系ウレタン樹脂(HW350、DIC株式会社)2wt%、2,2,3,3-テトラフロロプロパノール85wt%)をスピンコートすることにより、約1μmの絶縁性多孔質層を形成し、この後、スパッタリングによりITOスパッタ膜を100nm成膜したものの電極抵抗を測定した。
次に、実施例2について説明する。実施例2は、基板等の上に平均一次粒径20nmのシリカ微粒子分散液(シリカ固形分濃度13wt%、水性ポリエステル系ウレタン樹脂(HW350、DIC株式会社)2wt%、2,2,3,3-テトラフロロプロパノール85wt%)をスピンコートすることにより、約1μmの絶縁性多孔質層を形成し、この後、コロイダルマスクを形成した後、スパッタリングによりITOスパッタ膜を100nm成膜し、コロイダルマスクを除去したものの電極抵抗を測定した。
次に、実施例3について説明する。実施例3は、基板等の上に平均一次粒径20nmのシリカ微粒子分散液(シリカ固形分濃度13wt%、ポリビニルアルコール樹脂(PVA 500)2wt%、2,2,3,3-テトラフロロプロパノール85wt%)をスピンコートすることにより、約1μmの絶縁性多孔質層を形成し、この後、コロイダルマスクを形成した後、スパッタリングによりITOスパッタ膜を100nm成膜し、コロイダルマスクを除去したものの電極抵抗を測定した。
[実施例4]
<第1の表示電極及び第1のエレクトロクロミック層の作製>
40mm×40mmの表示基板10となるガラス基板上にスパッタリング法により、約100nmのITO膜を20mm×20mmの領域及び引き出し部分にメタルマスクを介して形成し、第1の表示電極11を作製した。この上に酸化チタン微粒子分散液(SP210 昭和タイタニウム)をスピンコートし、120℃の温度で15分間のアニール処理を行い、酸化チタン粒子膜を形成した。この後、更に、この上にマゼンタ色発色するエレクトロクロミック化合物であるビオロゲン化合物の1wt% 2,2,3,3-テトラフロロプロパノール溶液をスピンコートし、120℃の温度で10分間のアニール処理を行い、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第1のエレクトロクロミック層12を形成した。
次に、平均一次粒径20nmのシリカ微粒子分散液(シリカ固形分濃度13wt%、水性ポリエステル系ウレタン樹脂(HW350、DIC株式会社)2wt%、2,2,3,3-テトラフロロプロパノール85wt%)をスピンコートした後、平均一次粒径80nmのシリカ微粒子分散液(シリカ固形分濃度1wt%、水性ポリエステル系ウレタン樹脂(HW350、DIC株式会社)4wt%、2,2,3,3-テトラフロロプロパノール95wt%)をスピンコートし、絶縁層13を形成した。絶縁層13の膜厚は約1μmであった。
次に、この上に1wt%の濃度でIPA中に分散させた450nmのSiO2微粒子をスピンコート法により散布し、更に、この上にスパッタ法により約100nmのITO透明導電膜を、第1の表示電極11で形成したITO膜と重なる部分に20mm×20mmの領域に、また第1の表示電極11とは異なる部分に引き出し部分を、メタルマスクを介して形成し、第2の表示電極14を作製した。この後、IPA中において超音波照射を3分間行なうことにより、コロイダルマスク除去処理を行った。このときのコロイダルマスク除去前後(超音波照射前後)におけるSEM(scanning electron microscope)画像を図13に示し、コロイダルマスク除去後における断面SEM画像を図14に示し、コロイダルマスク除去後において斜め方向から見たSEM画像を図15に示す。尚、図13(a)はコロイダルマスク除去前のSEM画像を示し、図13(b)はコロイダルマスク除去前のSEM画像を示す。図13に示されるSEM画像では、平均一次粒子径450nmのコロイダルマスクに対し、約300nm以下の微細貫通孔が形成されており、断面SEM画像により、微細貫通孔で上下機能層が接合していることが確認された。また、第1の表示電極11からの引き出し部分と第2の表示電極14からの引き出し部分の間の抵抗は、40MΩ以上であり絶縁状態であった。
次に、この上に酸化チタン微粒子分散液(SP210 昭和タイタニウム)をスピンコートし、120℃の温度で15分間のアニール処理を行なうことにより、酸化チタン粒子膜を形成し、更に、この上にイエロー発色するエレクトロクロミック化合物であるビオロゲン化合物の1wt% 2,2,3,3-テトラフロロプロパノール溶液をスピンコートし、120℃の温度で10分間のアニール処理を行なうことにより、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第2のエレクトロクロミック層15を形成した。
対向基板20となる40mm×40mmのガラス基板上にスパッタリング法により、7mm×15mmの領域を3か所、及びそれぞれに引き出し部分にメタルマスクを介して約100nmのITO膜を成膜し対向電極21とした。
電解質として過塩素酸テトラブチルアンモニウム、溶媒としてジメチルスルホキシドおよびポリエチレングリコール(分子量:200)、更に、UV硬化接着剤(商品名:PTC10 十条ケミカル社製)を1.2対5.4対6対16で混合した溶液に白色酸化チタン粒子(商品名:CR50 石原産業株式会社製、平均粒子径:約250nm)を20wt%添加した電解液を用意し、対向基板20側に滴下塗布した後、表示基板10と重ね合わせ、対向基板20側より、UV光照射硬化させて貼りあわせ、実施例4におけるエレクトロクロミック表示装置を作製した。尚、電解液層の厚さはビーズスペーサを電解液に0.2wt%混合することにより10μmに設定した。
作製した実施例4におけるエレクトロクロミック表示装置の発色評価を実施した。
3つの対向電極21のうち2か所を正極に、第1の表示電極11を負極につなぎ、定電圧電源を用いて+6Vの電圧を十分な発色濃度となるまで1500m秒間印加した。第1のエレクトロクロミック層12に、選択された2か所の対向電極の形状を反映した、マゼンタ色の領域が観測された。続いて、先ほど選択した対向電極21の一方と、選択しなかったさらにもう1か所の計2か所を正極に、第2の表示電極14を負極につなぎ、定電圧電源を用いて+6Vの電圧を十分な発色濃度となるまで500m秒間印加した。第2のエレクトロクロミック層15に、選択された2箇所の対向電極21形状を反映したイエロー色の領域が観測された。このうち、連続して選択された対向電極21の直上には、マゼンタとイエローの減色混合であるレッドの領域が観測された。
11 第1の表示電極
12 第1のエレクトロクロミック層
13 絶縁層
14 第2の表示電極
14a 微細貫通孔
15 第2のエレクトロクロミック層
20 対向基板
21 対向電極
30 電解液層
40 白色反射層
Claims (9)
- 表示基板の上に、一の表示電極を形成する工程と、
前記一の表示電極の上に、一のエレクトロクロミック層を形成する工程と、
前記一のエレクトロクロミック層の上に、絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層の上に、所定の粒径の微粒子を塗布し付着させる工程と、
前記微粒子を塗布した後、前記絶縁層及び前記微粒子の上に、透明導電膜を成膜する工程と、
前記微粒子を除去することにより、前記微粒子の表面に付着している透明導電膜を除去し、前記微粒子が付着していた位置に微細貫通孔を有する他の表示電極を形成する工程と、
前記他の表示電極の上に、他のエレクトロクロミック層を形成する工程と、
前記他のエレクトロクロミック層が形成されている前記表示基板と、対向電極が形成されている対向基板とを、電解液を介し、前記他のエレクトロクロミック層と前記対向電極とを対向させ貼り合せる工程と、
を有することを特徴とするエレクトロクロミック表示装置の製造方法。 - 前記透明導電膜は、スパッタリングにより成膜されることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロクロミック表示装置の製造方法。
- 表示基板の上に、一の表示電極を形成する工程と、
前記一の表示電極の上に、一のエレクトロクロミック層を形成する工程と、
前記一のエレクトロクロミック層の上に、絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層の上に、所定の粒径の微粒子を塗布し付着させる工程と、
前記微粒子を塗布した後、透明導電膜を成膜する工程と、
前記微粒子を除去することにより、前記微粒子の表面に付着している透明導電膜を除去し、前記微粒子が付着していた位置に微細貫通孔を有する他の表示電極を形成する工程と、
前記他の表示電極の上に、他のエレクトロクロミック層を形成する工程と、
前記他のエレクトロクロミック層が形成されている前記表示基板と、対向電極が形成されている対向基板とを、電解液を介し、前記他のエレクトロクロミック層と前記対向電極とを対向させ貼り合せる工程と、
を有し、
前記微粒子の平均粒径は、前記他の表示電極を形成する透明導電膜の膜厚の2倍を超える値であって、かつ、前記他のエレクトロクロミック層の膜厚以下であることを特徴とするエレクトロクロミック表示装置の製造方法。 - 前記微粒子の平均粒径は、前記他の表示電極を形成する透明導電膜の膜厚の2倍を超える値であって、かつ、前記他のエレクトロクロミック層の膜厚以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のエレクトロクロミック表示装置の製造方法。
- 前記絶縁層、前記他の表示電極及び前記他のエレクトロクロミック層を複数有するものであって、
絶縁層を形成する工程、微粒子を塗布し付着させる工程、透明導電膜を成膜する工程、他の表示電極を形成する工程及び他のエレクトロクロミック層を形成する工程を順次繰り返し行なうことにより、前記絶縁層、前記他の表示電極及び前記他のエレクトロクロミック層を複数形成することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示装置の製造方法。 - 前記微粒子は、球体状であることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示装置の製造方法。
- 前記微粒子は、酸化シリコンを含む材料により形成されているものであることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示装置の製造方法。
- 前記微粒子の平均粒径は、前記微粒子の平均粒径をCMとした場合、
200nm<CM≦1μmであることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示装置の製造方法。 - 前記微粒子の除去は、超音波振動を用いて行なわれるものであることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示装置の製造方法。
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JP2016027361A (ja) * | 2014-07-01 | 2016-02-18 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック表示装置およびその製造方法、駆動方法 |
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EP3167336B8 (en) * | 2014-07-11 | 2022-04-13 | Clearist Inc. | Electrochromic devices and methods for forming such devices |
JP6798098B2 (ja) | 2014-11-19 | 2020-12-09 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック装置及びその製造方法 |
US9869918B2 (en) | 2015-01-16 | 2018-01-16 | Ricoh Company, Ltd. | Electrochromic apparatus, electrochromic element, and method of manufacturing electrochromic element |
JP6728628B2 (ja) | 2015-03-13 | 2020-07-22 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック化合物、エレクトロクロミック組成物、並びにエレクトロクロミック素子及びエレクトロクロミック調光素子 |
JP2017021077A (ja) | 2015-07-07 | 2017-01-26 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック装置及びその製造方法 |
CN105093829B (zh) * | 2015-07-07 | 2019-06-28 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 一种复合白色颜料、含有该颜料的光阻材料及其应用 |
EP3182197B1 (en) | 2015-12-15 | 2018-05-23 | Ricoh Company, Ltd. | Electrochromic element |
JP6870288B2 (ja) * | 2015-12-15 | 2021-05-12 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック素子 |
JP6662017B2 (ja) | 2015-12-16 | 2020-03-11 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック装置、及びエレクトロクロミック調光装置 |
US10409129B2 (en) | 2016-05-11 | 2019-09-10 | Ricoh Company, Ltd. | Electrochromic element |
US10429710B2 (en) | 2016-05-13 | 2019-10-01 | Ricoh Company, Ltd. | Electrochromic device |
JP2018010106A (ja) | 2016-07-13 | 2018-01-18 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック装置及びその製造方法、並びにエレクトロクロミック調光装置 |
WO2018033620A1 (en) * | 2016-08-18 | 2018-02-22 | Basf Se | Composition especially for printing or coating comprising polyurethane polymers |
JP2018132635A (ja) | 2017-02-15 | 2018-08-23 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック装置及びエレクトロクロミック装置の製造方法 |
EP3498452A3 (en) | 2017-12-18 | 2019-08-28 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for forming three-dimensional curved surface on laminated substrate, and three-dimensional curved laminated substrate |
EP3712695B1 (en) | 2019-03-20 | 2022-02-23 | Ricoh Company, Ltd. | Electrochromic device, wearable device, and method for driving electrochromic device |
EP3835859A1 (en) | 2019-11-29 | 2021-06-16 | Ricoh Company, Ltd. | Electrochromic element, production method thereof and electrochromic light-adjusting element |
JP7472705B2 (ja) | 2020-07-29 | 2024-04-23 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック素子、エレクトロクロミック調光素子、及びエレクトロクロミック装置 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02207223A (ja) | 1989-02-07 | 1990-08-16 | Ube Ind Ltd | エレクトロクロミック素子の製造方法 |
US6301038B1 (en) | 1997-02-06 | 2001-10-09 | University College Dublin | Electrochromic system |
JP2003345267A (ja) * | 2002-05-30 | 2003-12-03 | Canon Inc | 表示装置及びその製造方法 |
EP1764116A1 (en) * | 2005-09-16 | 2007-03-21 | Debiotech S.A. | Porous coating process using colloidal particles |
JP2007086461A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Brother Ind Ltd | 表示媒体の製造方法および表示媒体 |
JP4816069B2 (ja) | 2005-12-26 | 2011-11-16 | ソニー株式会社 | エレクトロクロミック装置 |
JP2008026454A (ja) * | 2006-07-19 | 2008-02-07 | Konica Minolta Holdings Inc | 表示素子 |
EP2064364B1 (en) * | 2006-09-21 | 2014-02-12 | Fujirebio Inc. | Method and apparatus for producing small structures |
JP4873146B2 (ja) | 2006-11-06 | 2012-02-08 | ソニー株式会社 | エレクトロクロミック装置 |
JP4549363B2 (ja) | 2007-05-18 | 2010-09-22 | 株式会社リコー | 電気泳動粒子及びこれを利用した画像表示装置 |
JP5081583B2 (ja) | 2007-10-31 | 2012-11-28 | 株式会社リコー | 画像表示装置及びその制御方法 |
JP5584957B2 (ja) * | 2008-01-07 | 2014-09-10 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック表示素子及び画像表示装置 |
JP5042110B2 (ja) * | 2008-04-22 | 2012-10-03 | サルナス、ペトロニス | ナノ細孔の製造 |
WO2010003138A1 (en) * | 2008-07-03 | 2010-01-07 | Ajjer Llc | Novel electrochromic materials, devices and applications of the same |
JP5353092B2 (ja) | 2008-07-03 | 2013-11-27 | 株式会社リコー | 電気泳動分散液、並びにこれを用いた画像表示媒体、及び画像表示装置 |
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JP2010282128A (ja) | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Fuji Xerox Co Ltd | 表示媒体及び表示装置 |
JP5589801B2 (ja) | 2010-03-12 | 2014-09-17 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック表示装置及びその製造方法 |
JP2011221121A (ja) * | 2010-04-06 | 2011-11-04 | Konica Minolta Holdings Inc | 表示素子 |
JP5742440B2 (ja) | 2010-05-13 | 2015-07-01 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック表示素子 |
JP5782860B2 (ja) | 2010-08-03 | 2015-09-24 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック表示装置並びにその製造方法及び駆動方法 |
JP5610144B2 (ja) * | 2010-08-26 | 2014-10-22 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック表示装置の駆動方法 |
JP2012113942A (ja) | 2010-11-24 | 2012-06-14 | Ricoh Co Ltd | 多層型光電変換素子およびその製造方法 |
JP5790403B2 (ja) | 2010-12-07 | 2015-10-07 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック表示装置 |
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