CN105764650A - 玻璃板的制造方法 - Google Patents
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Abstract
一种玻璃板的制造方法,将玻璃板保持于在双面研磨装置的太阳齿轮与齿圈之间进行行星齿轮运动的玻璃板用支座,将保持于玻璃板用支座的玻璃板夹持于安装在上平板和下平板的研磨垫之间,一边供给含有磨粒的研磨液一边进行研磨,由此制造玻璃板,其中,在负载有研磨时的研磨载荷的状态下,研磨垫的各自的变形量的平均值Dp为0.04mm以上。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃板的制造方法。
背景技术
在智能手机等便携式电话或PDA等的便携式设备中,为了保护显示屏,而使用罩盖玻璃。近年来,要求便携式设备的薄型化、轻量化的技术,罩盖玻璃的轻量化及薄板化正在发展。一般来说,玻璃板变薄时强度下降,因此要求比以往的强度高的罩盖玻璃。另外,除了罩盖玻璃以外,还要求更高强度的玻璃板。作为使玻璃板高强度化的方法,正在开发通过离子交换法等对玻璃板进行化学强化的技术。通过化学强化,在玻璃板的表面形成压缩应力层,由此能够提供抑制挠曲而且难以破损的玻璃板。
这样的罩盖玻璃的制造例如通过在将玻璃原板切断成规定形状后对主平面进行研磨等而制造。在专利文献1中,公开了如下方法:在化学强化后使用包含平均粒径为80nm以下的硅胶的浆料而进行研磨的强化后研磨工序,由此提供更高强度且轻量的强化玻璃板。
一般来说,在玻璃板的制造方法中的研磨工序中,使用如下的研磨装置:将玻璃板保持于玻璃板用支座,使用研磨垫将包含磨粒的研磨液(浆料)向玻璃板与研磨垫之间供给并进行研磨。在该研磨装置中,将研磨垫贴附于上下平板而夹入玻璃板,使用行星齿轮机构,使保持于玻璃板用支座的玻璃板和研磨垫相对移动,对玻璃板的主平面进行研磨。玻璃板用支座典型地以比所研磨的玻璃板的板厚薄的方式设定板厚。基于该研磨装置的研磨能够同时对多个玻璃板进行研磨,因此是在生产效率方面优异的方法。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本国特开2012-218995号公报
发明内容
本发明人通过努力研究而结果实现了本发明。
本发明提供以下的方式。(1)一种玻璃板的制造方法,将玻璃板保持于在双面研磨装置的太阳齿轮与齿圈之间进行行星齿轮运动的玻璃板用支座,将保持于所述玻璃板用支座的玻璃板夹持于安装在上平板和下平板的研磨垫之间,一边供给含有磨粒的研磨液一边进行研磨,由此制造玻璃板,其特征在于,在负载有研磨时的研磨载荷的状态下,所述研磨垫的各自的变形量的平均值Dp为0.04mm以上。(2)根据(1)所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,若设所述玻璃板用支座的板厚为Lc、设所述玻璃板的板厚为Lg,则满足Lc<Lg-2·Dp。(3)根据(1)或(2)所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,所述玻璃板的板厚为0.7mm以下。(4)根据(1)~(3)中任一项所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,所述玻璃板为化学强化玻璃。(5)根据(1)~(4)中任一项所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,所述玻璃板用支座由形成在外周面的齿轮部、及形成在所述齿轮部的内侧的玻璃板保持部一体地形成,所述玻璃板保持部具有保持所述玻璃板的玻璃板保持孔。(6)根据(1)~(5)中任一项所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,所述玻璃板为罩盖玻璃。(7)根据(1)~(6)中任一项所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,所述研磨垫的肖氏A硬度处于45~95的范围内。(8)根据(1)~(7)中任一项所述的强化玻璃板的制造方法,其特征在于,以50~150g/cm2的研磨压力进行研磨。(9)根据(1)~(8)中任一项所述的强化玻璃板的制造方法,其特征在于,所述研磨垫为软研磨垫。(10)根据(9)所述的强化玻璃板的制造方法,其特征在于,所述软研磨垫为无纺布垫。
【发明的效果】
根据本发明的强化玻璃板的制造方法,能够制造高强度的强化玻璃板。
附图说明
图1是双面研磨装置的概略构成图。
图2是表示玻璃板用支座、研磨垫及玻璃板的关系的示意图。
图3是说明罩盖玻璃的制造方法的流程的流程图。
图4是用于说明强度试验的方法的概略图。
图5是表示例1~4中的研磨垫的肖氏A硬度与研磨后的玻璃板的BOR强度之间的关系的坐标图。
图6是表示例1~4中的研磨垫(无纺布垫)的变形量与研磨后的玻璃板的BOR强度之间的关系的坐标图。
图7是表示例5~7中的玻璃板用支座的板厚与研磨率之间的关系的坐标图。
具体实施方式
以下,对于本发明的玻璃板的制造方法的一实施方式、及本实施方式的玻璃板的制造方法中能够使用的双面研磨装置,参照附图进行说明。
作为除去包含缺陷及微细的凹凸的缺陷层的方法,可举出通过图1所示的双面研磨装置12进行研磨的方法。双面研磨装置12中,如图1所示,将能够设置玻璃板30(参照图1)的玻璃板用支座10放置于太阳齿轮13、齿圈14之间。在太阳齿轮13、齿圈14及玻璃板用支座10的外周面形成的齿轮部10a构成行星齿轮机构,以规定的旋转比率对太阳齿轮13、齿圈14进行旋转驱动,由此进行玻璃板用支座10自转且绕太阳齿轮13公转的行星齿轮运动。
此时,玻璃板用支座10在将玻璃板30保持于在齿轮部10a的内侧的玻璃板保持部10b形成的玻璃板保持孔11的状态下,如图2所示,被夹持于在与玻璃板30相对的面安装有研磨垫16、18的上平板15与下平板(未图示)之间,玻璃板30被以规定的研磨载荷按压。并且,向研磨垫16、18与玻璃板用支座10及玻璃板30之间供给含有磨粒的研磨液(研磨浆料),通过上平板15和下平板相对旋转而同时研磨保持于玻璃板用支座10的玻璃板30的两主平面。
玻璃板30的组成没有特别限定,但优选能够进行化学强化。作为优选的玻璃板30的组成,例如为以氧化物基准的摩尔%表示包含SiO2:50~80%、Al2O3:2~25%、Li2O:0~10%、Na2O:0~18%、K2O:0~10%、MgO:0~15%、CaO:0~5%及ZrO2:0~5%的玻璃。
除此以外,优选使用以氧化物基准的摩尔%表示包含SiO2:50~74%、Al2O3:1~10%、Na2O:6~14%、K2O:3~11%、MgO:2~15%、CaO:0~6%及ZrO2:0~5%,SiO2及Al2O3的含量的总计为75%以下,Na2O及K2O的含量的总计为12~25%、MgO及CaO的含量的总计为7~15%的玻璃,包含SiO2:68~80%、Al2O3:4~10%、Na2O:5~15%、K2O:0~1%、MgO:4~15%及ZrO2:0~1%的玻璃,包含SiO2:67~75%、Al2O3:0~4%、Na2O:7~15%、K2O:1~9%、MgO:6~14%及ZrO2:0~1.5%,SiO2及Al2O3的含量的总计为71~75%,Na2O及K2O的含量的总计为12~20%,在含有CaO的情况下,其含量小于1%的玻璃。
玻璃板30通过浮法、熔化下拉法、狭缝下拉法、再曳引法等方法制造。
另外,玻璃板30优选为实施了化学强化处理的化学强化玻璃。由此,在玻璃板30的表面形成压缩应力层,提高了强度及耐擦伤性。化学强化是以玻化温度以下的温度将玻璃表面的离子半径小的碱金属离子(典型地为Na离子或Li离子)变换成离子半径更大的碱金属离子(典型地为K离子),由此在玻璃表面形成压缩应力层的处理。化学强化处理能够通过以往公知的方法来进行。
另外,玻璃板30的尺寸、形状、厚度根据用途而不同,但在便携式电话等的罩盖玻璃用途的情况下,通常玻璃板30的厚度为0.3mm~1.5mm程度,优选为0.35mm~1.2mm。
玻璃板30的厚度更优选为0.7mm以下,进一步优选为0.6mm以下。在研磨板厚为0.7mm以下的玻璃板30的情况下,考虑到研磨垫的变形量和玻璃板用支座10的板厚而进行研磨,由此能够高效率地实施研磨。
另外,若由于玻璃板用支座10的板厚而研磨率下降,则在玻璃板30的研磨时玻璃板用支座10也一起较多地研磨。由此玻璃板用支座10的寿命也会缩短,因此选择适当的板厚的玻璃板用支座10也能够抑制玻璃板用支座10的更换频度,因而优选。
研磨垫16、18优选软研磨垫,层叠为4.5mm厚的硬度优选以肖氏A硬度计为45~95,更优选为55~92。若肖氏A硬度小于45,则难以得到充分的研磨率,若超过95,则担心由于磨粒的压入而在玻璃产生微小的损伤。满足这样的条件的研磨垫16、18的材料典型地可列举出无纺布垫、织布垫、绒面革垫等。
软研磨垫与硬质聚氨酯垫的厚度(典型地为1.5mm~2.0mm)相比较薄,典型地具有0.3mm~5.0mm程度的厚度。另外,关于在垫表面形成的槽深度,与硬质聚氨酯垫的槽深度(典型地为1.2mm~1.7mm)相比也较浅,典型地具有0.2mm~2.5mm程度的厚度。
研磨垫16、18能够选择无纺布垫。无纺布垫是将使纤维不编织而缠绕成的毛毡、或在该毛毡含浸有橡胶或树脂的材料粘贴于PET等的基材而成的软研磨垫。硬度优选层叠为4.5mm厚的硬度以肖氏A硬度计为45~95。构成无纺布垫的纤维可适当选择聚酯纤维、芳香族聚酰胺纤维、尼龙纤维、聚烯烃纤维等,但其中最优选聚酯纤维。树脂可适当选择聚氨酯、环氧树脂等,但其中最优选聚氨酯。
无纺布垫典型地具有1.0mm~5.0mm程度的厚度。另外,关于在垫表面形成的槽深度,典型地相对于研磨垫的厚度具有50%程度的厚度。
研磨垫16、18也能够选择绒面革垫。绒面革垫是由具有纵孔的氨基甲酸酯片构成的软研磨垫。构成绒面革垫的树脂是氨基甲酸酯树脂。在具有纵孔构造的氨基甲酸酯片的衬底层也能够重叠无纺布、PET片。绒面革垫典型地具有0.3mm~1.2mm程度的厚度。另外,关于在垫表面形成的槽深度,典型地说相对于研磨垫的厚度具有30~70%程度的厚度。
玻璃板用支座10通过将预浸料坯层叠多个而制成。关于预浸料坯的材质没有特别限制,能够根据作为目的的玻璃板用支座10的变形量等而选择。例如,作为基材能够使用玻璃纤维布、玻璃纤维无纺布、芳香族聚酰胺纤维无纺布、聚酯纤维布等,并能够使用在其中含浸有环氧树脂树脂、酚醛树脂、不饱和聚酯树脂、聚酰亚胺树脂等的树脂而成的材料。
另外,所使用的预浸料坯不限于一个种类,也可以层叠不同的材料的预浸料坯。通过将层叠的预浸料坯利用冲压机进行加压、加热,制造玻璃板用支座10。
在此,如图2所示,若设负载有研磨时的研磨载荷的状态下的各研磨垫16、18的变形量(沉入量)分别为Dp1、Dp2,设Dp1和Dp2的平均值为Dp(=(Dp1+Dp2)/2),则Dp为0.04mm以上。各研磨垫16、18的变形量Dp1、Dp2分别为与玻璃板30接触的最为收缩的研磨垫16、18的面和位于玻璃板30间的最靠玻璃板用支座10侧的部分之间的距离。研磨压力可根据研磨时间与研磨量等的关系而适当设定,但优选为50~150g/cm2(SI),进一步优选为60~120g/cm2。
即,当设研磨压力为一定时,为了确保由研磨时的研磨压力引起的各研磨垫16、18的变形量的平均值为0.04mm以上,使用硬度低即软的研磨垫,或在使用硬度高即硬的研磨垫的情况下通过加厚研磨垫的厚度而能够确保研磨垫的变形量。在使用绒面革垫那样薄的研磨布的情况下,也可以在衬底层粘贴无纺布而增加厚度。此外,在本实施方式中,变形量在将研磨垫16、18濡湿的状态下施加压力而测定。通过在濡湿的状态下进行测定,能够以与研磨中相同的条件进行测定。
另外,若设玻璃板用支座10的板厚为Lc、玻璃板30的板厚为Lg,则玻璃板用支座10的板厚Lc设定成满足以下的(A)式。
Lc<Lg-2·Dp(A)
这样,考虑研磨时的研磨载荷下的研磨垫16、18的沉入,使玻璃板用支座10的板厚Lc小于研磨垫16、18间的距离(Lg-2·Dp),由此,即使在研磨时负载有规定的研磨载荷的情况下,研磨垫16、18也不与玻璃板用支座10接触。由此,研磨垫16、18仅与玻璃板30接触,研磨载荷适当地施加于玻璃板30。
因此,消除下述不良情况:如以往那样玻璃板用支座与研磨垫抵碰,压力未顺利地作用于玻璃板,期望的研磨率恶化。此外,从强度的观点出发,研磨垫16、18的厚度优选为300μm以上,更优选为350μm以上,进一步优选为370μm以上。
另外,在研磨时研磨垫16、18不与玻璃板用支座10接触,压力不施加于玻璃板用支座10,因此能够抑制齿轮部10a的破裂,能够使玻璃板用支座10长寿命化。抑制该齿轮部10a的破裂的效果特别是在齿轮部10a和齿轮部10a的内侧的玻璃板保持部10b一体地形成的玻璃板用支座10中显著。因此,玻璃板用支座10优选齿轮部10a和玻璃板保持部10b一体地形成。此外,玻璃板用支座10不限于齿轮部10a和玻璃板保持部10b一体地形成的结构,也可以是由金属制的齿轮部和树脂制的玻璃基板保持部构成的结构。
研磨液(研磨浆料)使用例如包含硅胶等氧化硅、氧化铈等稀土类氧化物、氧化锆、氧化铝、氧化镁、碳化硅、氧化锰、氧化铁、金刚石、氮化硼及锆石等公知的磨粒的浆料。磨粒可以单独使用1个种类,也可以同时使用2个以上种类。
本发明的玻璃板的制造方法也可以在化学强化处理前包含将在玻璃板的表面存在的损伤(裂纹)或玻璃板的挠曲或凹陷除去的其他工序。作为在化学强化处理前将玻璃板的表面的裂纹除去的方法,与前述的除去缺陷层的工序同样,可列举出研磨玻璃板的表面的方法。
接着,作为本实施方式的玻璃板的制造方法的一例,参照图3对罩盖玻璃的制造方法进行说明。
罩盖玻璃的制造方法中,首先,将通过浮法等制造出的玻璃板切断而选取规定的玻璃原板(S1)。接着,以与期望的罩盖玻璃的尺寸一致的方式进行切断处理,进行端面的倒角处理(S2)。接着,使用双面研磨装置12对玻璃板的表面进行研磨(强化前研磨)而除去裂纹(S3)。
接着,进行化学强化处理(S4)。通过进行化学强化处理,玻璃的表面被进行离子交换,形成残留压缩应力的表面层。具体而言,通过使玻璃的表面进行离子交换,玻璃中包含的小的离子半径的离子(例如Li离子、Na离子)被置换为大的离子半径的离子(例如K离子)。由此,在玻璃的表面残留压缩应力,玻璃的强度提高。化学强化处理例如通过在400℃~450℃的KNO3熔融盐中浸渍1小时~10小时而进行。另外,在化学强化处理后,优选以除去附着于玻璃板的熔融盐等的附着物等为目的,用水进行清洗。
进行了基于离子交换的化学强化处理的强化玻璃板在其表面产生缺陷。另外,在强化玻璃板的表面有时残留最大1μm程度的微细的凹凸。在力作用于玻璃的情况下,应力集中于前述的缺陷或微细的凹凸存在的部位,有时即使是小于理论强度的力也会破裂。存在缺陷的缺陷层的厚度也取决于化学强化处理的条件,但通常为0.01~0.5μm。因此,优选接着化学强化处理,除去在化学强化处理后的玻璃的至少一方的表面存在的具有缺陷及微细的凹凸的层(称为缺陷层)。缺陷层的除去通过使用双面研磨装置12来研磨(强化后研磨)玻璃板的表面而进行(S5)。最后,在玻璃板的周缘部印刷具有遮光性的黑色层等(S6),而制造罩盖玻璃。
本发明可适用于强化前研磨(S3),也可以适用于强化后研磨(S5),还可以适用于这两者,但在使用更软的研磨垫的强化后研磨(S5)中可起到更显著的效果。
【实施例】
以下,通过例子来具体说明本发明,但本发明并不限于这些例子。
[实验1]
例1~4中,使用在通过浮法成形后切断而得到的尺寸为纵300mm×横225mm、板厚Lg为0.56mm的玻璃板。所使用的玻璃板的组成以氧化物基准的摩尔%表示为SiO2:64%、Al2O3:8%、MgO:11%、Na2O:12.5%、ZrO2:0.5%。
以下,使用例1~4的研磨垫(无纺布垫),在化学强化处理后进行研磨处理。表1中示出例1~4的研磨垫的厚度、密度、压缩率、变形量、压缩弹性率、硬度。
(化学强化)
将玻璃板浸渍于KNO3熔融盐中,进行离子交换处理后,冷却至室温附近,从而进行化学强化。此时,KNO3熔融盐的温度设为435℃,浸渍时间设为4小时。对得到的化学强化玻璃板(以下称为强化玻璃板)进行水洗,供应给随后的氧化铈研磨工序。强化后的强化玻璃板的表面压缩应力(CS)为700±50MPa,压缩应力层深度(DOL)为18±2μm。
(强化后研磨)
作为研磨浆料,将平均粒子直径(d50)为1μm的氧化铈分散到水中而制作浆料,使用得到的浆料,将强化玻璃板研磨规定时间。
【表1】
[评价方法]
以下说明评价方法。对于各例,在研磨处理后进行下述的BallonRing试验。
《BallonRing试验》
在BallonRing(BOR)试验中,以水平地载置强化玻璃板1的状态,使用SUS304制的加压夹具2来对强化玻璃板1加压,测定强化玻璃板1的强度。图4中示出用于说明本发明所使用的强度试验的概略图。图4中,在SUS304制的支承夹具3上,水平地设置作为试样的强化玻璃板1。在强化玻璃板1的上方,设置有用于对强化玻璃板1进行加压的加压夹具2。
在本例中,从强化玻璃板1的上方对强化玻璃板1的中央区域进行加压。此外,试验条件如下所述。
试样的厚度:0.56(mm);
加压夹具2的下降速度:1.0(mm/min)。
此时,将玻璃被破坏时的破坏载荷(单位N)设为BOR强度。表1的BOR强度设为如下范围:一边改变研磨压力、平板转速一边求出规定次数(N次)的BOR强度的平均,能够包含该求出的BOR强度的平均的范围。
例如,在例1中,如下述表2所示,在60~100g/cm3的范围内改变研磨压力,在20~40rpm的范围内改变下平板转速并在各条件下分别进行6批次(N次)研磨。将6批次的平均设为BOR强度而示于表2。另外,也一并测定此时的加工余量,示于表2。在例1中,BOR强度的平均的最低值为323N,最高值为339N,四舍五入后能包含BOR强度的平均的范围成为320N~340N。在表1中,将该范围作为BOR强度示出。此外,下平板、上平板、支座自转、支座公转预先设定为规定的比率,研磨时间设为300秒。
【表2】
图5是表示例1~4中的研磨垫(无纺布垫)的肖氏A硬度与研磨后的强化玻璃的BOR强度的关系的坐标图。
若将使用例1~3的大致相同厚度(约1.35mm)的研磨垫的情况进行比较,则可知随着肖氏A硬度变低、即研磨垫变软,则玻璃板的BOR强度变高。另外,另一方面,可知,在使用厚度大的例4(3mm)的研磨垫的情况下,尽管肖氏A硬度高即研磨垫硬,但板玻璃的BOR强度也较高。
图6是表示对例1~4中的研磨垫施加100g/cm2的载荷的情况下的变形量(研磨垫的变形量)的平均值Dp与研磨后的强化玻璃板1的BOR强度的关系的坐标图。
由图6明确可知,若在横轴取研磨垫的变形量的平均值Dp,则可知随着研磨垫的变形量的平均值Dp变大,BOR强度也变大。这可以认为是通过确保规定的变形量,能够在研磨时使磨粒逃到研磨垫,因此磨粒与玻璃表面的接触变得柔和,难以产生微小的损伤。可认为通过像这样确保研磨垫的变形量,强化玻璃板1的BOR强度变高。
由图5及图6可知,为了确保研磨垫的变形量,使用研磨垫的硬度低的软的研磨垫,或在使用硬度高(硬)的研磨垫的情况下加厚研磨垫的厚度是有效的。
由图6可发现,在研磨垫的变形量的平均值Dp与BOR强度之间存在线性关系。若在这些例1~4中引出近似直线(回归直线),则得到y=1374.8x+151.11,若设BOR强度为200N以上,则研磨垫的变形量的平均值Dp为0.04mm以上,若设BOR强度为250N以上,则研磨垫的变形量的平均值Dp需要为0.072mm以上。
[实验2]
在使玻璃板负载有规定的研磨载荷的状态下,准备变形量不同的3个种类的研磨垫(软研磨垫),研究各研磨垫中的玻璃板用支座的板厚Lc与研磨率的关系。图7是表示玻璃板用支座的板厚Lc与研磨率的关系的坐标图,纵轴表示研磨率,横轴表示玻璃板用支座的板厚Lc。
作为变形量不同的3个种类的研磨垫,准备规定的研磨载荷下的研磨垫的总计变形量为0.08mm的软研磨垫(例5)、0.1mm的软研磨垫(例6)、及0.25mm的软研磨垫(例7),测定使用0.250mm、0.350mm、0.450mm的不同的板厚Lc的玻璃板用支座而进行研磨时的研磨率。总计变形量是指将上下的研磨垫的变形量(沉入量)相加后而得到的量。
在图7中,以具有0.450mm的板厚Lc的玻璃板用支座中的研磨率为基准(100%)而算出研磨率。此外,玻璃板使用尺寸为150mm×84mm、板厚Lg为0.56mm、表面压缩应力(CS)为700±50MPa、压缩应力层深度(DOL)为18±2μm的玻璃板。
根据图7的结果,在使用研磨垫的总计变形量最小的例5的研磨垫的研磨中,与玻璃板用支座的板厚Lc无关地,研磨率显示出大致一定的值。相对于此,在使用研磨垫的总计变形量第二小的例6的研磨垫的研磨中,若从0.450mm将玻璃板用支座减薄为0.350mm,则可确认到研磨率的上升。在0.350mm和0.250mm的玻璃板用支座中,研磨率之差微小。另一方面,在使用研磨垫的总计变形量最大的例7的研磨垫的研磨中,成为玻璃板用支座的板厚Lc越小则研磨率显著地越变大的结果。
由此可认为,若研磨垫的变形量大,则研磨时的研磨垫间的距离小,即使单纯地使用比玻璃板薄的玻璃板用支座,玻璃板用支座也与研磨垫接触,压力未顺利地作用于玻璃板,无法确保期望的研磨率。这可以认为是,虽然在板厚Lg比0.7mm厚的玻璃板的研磨中使用现有的玻璃板用支座没有问题,但伴随着玻璃板的薄壁化而研磨垫间的距离减小,因此产生上述问题。
另外,由前述的(A)式可知,在例5中,玻璃板用支座10的板厚Lc小于0.48mm即可,在例6中,玻璃板用支座10的板厚Lc小于0.46mm即可,在例7中,玻璃板用支座10的板厚Lc小于0.31mm即可。
此外,本发明并不受上述实施方式的任何限制,在不脱离其主旨的范围内能以各种方式实施。
例如,在上述实施方式中,作为玻璃板的制造方法的一例而例示了罩盖玻璃的制造方法,但并不限于此,而能够适用于各种用途的玻璃。
另外,本申请基于2013年11月20日申请的日本专利申请2013-240417、2014年1月27日申请的日本专利申请2014-012548,将其内容作为参照援引于此。
【标号说明】
1强化玻璃板
2加压夹具
3支承夹具
10玻璃板用支座
10a齿轮部
10b玻璃板保持部
11玻璃板保持孔
12双面研磨装置
13太阳齿轮
14齿圈
15上平板
16、18研磨垫
Claims (10)
1.一种玻璃板的制造方法,将玻璃板保持于在双面研磨装置的太阳齿轮与齿圈之间进行行星齿轮运动的玻璃板用支座,将保持于所述玻璃板用支座的玻璃板夹持于安装在上平板和下平板的研磨垫之间,一边供给含有磨粒的研磨液一边进行研磨,由此制造玻璃板,所述玻璃板的制造方法的特征在于,
在负载有研磨时的研磨载荷的状态下,所述研磨垫的各自的变形量的平均值Dp为0.04mm以上。
2.根据权利要求1所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,
若设所述玻璃板用支座的板厚为Lc、设所述玻璃板的板厚为Lg,则满足Lc<Lg-2·Dp。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,
所述玻璃板的板厚为0.7mm以下。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,
所述玻璃板为化学强化玻璃。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,
所述玻璃板用支座由形成在外周面的齿轮部、及形成在所述齿轮部的内侧的玻璃板保持部一体地形成,所述玻璃板保持部具有保持所述玻璃板的玻璃板保持孔。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,
所述玻璃板为罩盖玻璃。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的玻璃板的制造方法,其特征在于,
所述研磨垫的肖氏A硬度处于45~95的范围内。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的强化玻璃板的制造方法,其特征在于,
以50~150g/cm2的研磨压力进行研磨。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的强化玻璃板的制造方法,其特征在于,
所述研磨垫为软研磨垫。
10.根据权利要求9所述的强化玻璃板的制造方法,其特征在于,
所述软研磨垫为无纺布垫。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013240417A JP2017013138A (ja) | 2013-11-20 | 2013-11-20 | ガラス板の製造方法 |
JP2013-240417 | 2013-11-20 | ||
JP2014012548A JP2017014023A (ja) | 2014-01-27 | 2014-01-27 | 強化ガラス板の製造方法 |
JP2014-012548 | 2014-01-27 | ||
PCT/JP2014/080394 WO2015076227A1 (ja) | 2013-11-20 | 2014-11-17 | ガラス板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105764650A true CN105764650A (zh) | 2016-07-13 |
Family
ID=53179489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201480063615.7A Pending CN105764650A (zh) | 2013-11-20 | 2014-11-17 | 玻璃板的制造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105764650A (zh) |
TW (1) | TW201524687A (zh) |
WO (1) | WO2015076227A1 (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107188398A (zh) * | 2016-03-10 | 2017-09-22 | 旭硝子株式会社 | 化学强化玻璃的制造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2004303280A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2009214219A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
CN102001815A (zh) * | 2009-08-18 | 2011-04-06 | Hoya株式会社 | 玻璃制造方法、玻璃熔化炉以及玻璃制造装置 |
WO2013118648A1 (ja) * | 2012-02-06 | 2013-08-15 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
JP2013198969A (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | Fujibo Holdings Inc | 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007029907A1 (de) * | 2007-06-28 | 2009-01-02 | Peter Wolters Gmbh | Läuerscheibe zum materialabtragenden Bearbeiten eines Werkstücks in einer Bearbeitungsmaschine sowie Doppelseiten-Bearbeitungsmaschine |
JP5804846B2 (ja) * | 2011-08-24 | 2015-11-04 | 日本電気硝子株式会社 | カバーガラスの製造方法 |
JP2014008555A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス基板の研磨方法 |
JP2014188668A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Hoya Corp | ガラス基板の製造方法 |
-
2014
- 2014-11-17 CN CN201480063615.7A patent/CN105764650A/zh active Pending
- 2014-11-17 WO PCT/JP2014/080394 patent/WO2015076227A1/ja active Application Filing
- 2014-11-20 TW TW103140300A patent/TW201524687A/zh unknown
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009214219A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
CN102001815A (zh) * | 2009-08-18 | 2011-04-06 | Hoya株式会社 | 玻璃制造方法、玻璃熔化炉以及玻璃制造装置 |
WO2013118648A1 (ja) * | 2012-02-06 | 2013-08-15 | 旭硝子株式会社 | ガラス製品の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
JP2013198969A (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | Fujibo Holdings Inc | 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2015076227A1 (ja) | 2015-05-28 |
TW201524687A (zh) | 2015-07-01 |
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