JP2013198969A - 研磨パッド及び研磨パッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ポリウレタン樹脂(A)、炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)及びアシル化セルロース(C)を含むポリウレタン樹脂シートを含む研磨パッドであって、
前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)が、10,000〜100,000の数平均分子量を有し、前記ポリウレタン樹脂シート中の全固形分を基にして1〜10質量%の範囲内で含まれ、且つ、構成単位としてエチレンオキサイドを50質量%以上含み、
前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)に対する前記アシル化セルロース(C)の割合((C)/(B))が、質量基準で0.05〜0.5であることを特徴とする、前記研磨パッド。
【選択図】図1
Description
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、研磨均一性、スクラッチ抑制及び研磨レートのいずれにも優れた研磨パッド、及びその製造方法を提供することを目的とする。
前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)が、構成単位としてエチレンオキサイドを50質量%以上含み、10,000〜100,000の数平均分子量を有し、且つ前記ポリウレタン樹脂シート中に含まれる全固形分を基にして1〜10質量%の範囲内で含まれ、
前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)に対する前記アシル化セルロース(C)の割合((C)/(B))が、質量基準で0.05〜0.5であることを特徴とする、前記研磨パッド。
2. 前記アシル化セルロース(C)におけるアシル基が、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基からなる群から選ばれる少なくとも1種である、上記1に記載の研磨パッド。
3. 前記アシル化セルロース(C)の、セルロースの水酸基に対するアシル化置換度が1〜3の範囲である、上記1又は2に記載の研磨パッド。
4. 前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)が、前記ポリウレタン樹脂シート中に含まれる全固形分を基にして2〜6質量%の範囲内で含まれる、上記1〜3のいずれかに記載の研磨パッド。
5. 前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)が、構成単位として前記エチレンオキサイドを80質量%以上含む、上記1〜4のいずれかに記載の研磨パッド。
6. 前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)の数平均分子量が、12,000〜80,000の範囲内である、上記1〜5のいずれかに記載の研磨パッド。
7. 前記ポリウレタン樹脂シートのA硬度が70以下である、上記1〜5のいずれかに記載の研磨パッド。
8. 前記ポリウレタン樹脂シートの開口面積比率が5〜20%の範囲内である、上記1〜6のいずれかに記載の研磨パッド。
9. 前記ポリウレタン樹脂シートの平均開口径が2〜100μmの範囲内である、上記1〜8のいずれかに記載の研磨パッド。
10. 前記ポリウレタン樹脂(A)、前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)及び前記アシル化セルロース(C)を有機溶媒に溶解した溶液を成膜基材に塗布する工程、及び
前記溶液が塗布された成膜基材を凝固液に浸漬して前記溶液を凝固する工程
を含む、上記1〜9のいずれかに記載の研磨パッドの製造方法。
本発明の研磨パッドは、ポリウレタン樹脂(A)、炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)及びアシル化セルロース(C)を含むポリウレタン樹脂シートを含む研磨パッドであって、前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)が、構成単位としてエチレンオキサイドを50質量%以上含み、10,000〜100、000の数平均分子量を有し、且つ前記ポリウレタン樹脂シート中に含まれる全固形分を基にして1〜10質量%の範囲内で含まれ、前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)に対する前記アシル化セルロース(C)の割合((C)/(B))が、質量基準で0.05〜0.5の割合である。
本明細書及び特許請求の範囲において、構成単位とは、重合体又は共重合体を構成するモノマー単位(単量体単位)を意味する。
本明細書及び特許請求の範囲において、ポリウレタン樹脂シートとは、成膜基材上に塗布したポリウレタン樹脂を含む溶液を、凝固法により凝固して形成された樹脂シートをいう。また、本発明のポリウレタン樹脂シートは、ポリウレタン樹脂(A)、炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)及びアシル化セルロース(C)を含む。以下、本発明のポリウレタン樹脂シートの組成及び特性について記載する。
ポリウレタン樹脂の種類に特に制限はなく、種々のポリウレタン樹脂の中から使用目的に応じて選択すればよい。例えば、ポリエステル系、ポリエーテル系、又はポリカーボネート系の樹脂を用いることできる。
ポリエステル系の樹脂としては、エチレングリコールやブチレングリコール等とアジピン酸等とのポリエステルポリオールと、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート等のジイソシアネートとの重合物が挙げられる。ポリエーテル系の樹脂としては、ポリテトラメチレンエーテルグリコールやポリプロピレングリコール等のポリエーテルポリオールと、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート等のイソシアネートとの重合物が挙げられる。ポリカーボネート系の樹脂としては、ポリカーボネートポリオールと、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート等のイソシアネートとの重合物が挙げられる。これらの樹脂は、DIC(株)製の商品名「クリスボン」や、三洋化成工業(株)製の商品名「サンプレン」、大日精化工業(株)製の商品名「レザミン」など、市場で入手可能な樹脂を用いてもよく、所望の特性を有する樹脂を自ら製造してもよい。
凝固価とは、樹脂の親水性を示す指標である。樹脂含有溶液の樹脂が1質量%になるように次工程の樹脂含有溶液で使用される溶媒で希釈した希釈樹脂含有溶液を作成し、この溶液100gを25℃に温度調整しながら、スターラーで攪拌しつつ、25℃の水を滴下し、ポリウレタン樹脂がゲル化して白濁が消えなくなる点に到達するのに要した滴下水量(ml)で表される。この値が高い程、親水性が高い事を意味する。
ポリウレタン樹脂は、凝固価が8以上であることが好ましく、10〜16であることがより好ましい。凝固価が上記範囲内であると、良好な気泡形状が得られやすくなる。
モジュラスとは、樹脂の硬さを表す指標であり、無発泡の樹脂シートを100%伸ばしたとき(元の長さの2倍に伸ばしたとき)に掛かる荷重を単位面積で割った値である(以下、100%モジュラスと呼ぶことがある。)。この値が高い程、硬い樹脂である事を意味する。
ポリウレタン樹脂は、3〜40MPaの樹脂モジュラスを有することが好ましく、8〜35MPaであることがより好ましい。樹脂モジュラスが上記範囲内であると、研磨パッドに求められる適度な弾性特性から、被研磨物を効率良く高品位で研磨できるといった効果が得られる。樹脂モジュラスが低すぎると、被研磨物が研磨パッドに沈み込む等により変形した被研磨物の表面形状に、研磨パッドの表面が追従しすぎてしまうため、研磨均一性が得られにくくなり、その結果、被研磨物の平坦性も損なわれる。逆に高すぎると、スクラッチを招く易くなるので、好ましくない。
本発明の研磨パッドにおけるポリウレタン樹脂シートは、炭素数2〜8のアルキレンオキサイドの共重合体を含む。また、当該アルキレンオキサイド共重合体は、構成単位としてエチレンオキサイドを50質量%以上含むことを特徴とする。したがって、炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体の構成単位がエチレンオキサイドのみからなる場合(エチレンオキサイドのみから構成される重合体)も、「アルキレンオキサイド共重合体」の定義に含まれるものとする。
上記アルキレンオキサイド共重合体は、構成単位としてエチレンオキサイドのみを含むか、あるいはエチレンオキサイドと1種又は複数の炭素数3〜8のアルキレンオキサイドとを含むことが好ましく、該炭素数3〜8のアルキレンオキサイドとしては、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイドが好ましく、プロピレンオキサイドがより好ましい。
また、上記アルキレンオキサイド共重合体を構成する全アルキレンオキサイド中、エチレンオキサイドは50質量%以上含まれ、60質量%以上含まれることが好ましく、70質量%以上含まれることがより好ましく、80質量%以上含まれることが特に好ましい。エチレンオキサイドが100質量%であってもよい。エチレンオキサイドの比率が上記範囲内であると、研磨パッドの濡れ性が向上し研磨時に被研磨物との摩擦抵抗を抑えることができるため、研磨均一性が向上し、スクラッチの発生も抑制できる。
本発明の研磨パッドにおけるポリウレタン樹脂シートは、アシル化セルロースを含む。
アシル化セルロースにおけるアシル基は、下記式(1)を満たすことが好ましい。
CH3(CH2)nC(=O)− ・・・(1)
(式中、nは0〜2である)
すなわち、アシル基は、アセチル基、プロピオニル基又はブチリル基であることが好ましい。これらのなかでも、プロピオニル基が特に好ましい。
また、セルロースは、GPCによる数平均分子量が2,000〜100,000であることが好ましく、5,000〜80,000であることがより好ましい。
なお、本明細書及び特許請求の範囲において、アシル化置換度とは、単位あたりのセルロースにおいて、平均して何個の水酸基がアシル基で置換されているかを意味し、極性溶媒への溶解性を左右する。アシル化度は慣用の方法で測定でき、例えば、酢化度(アセチル化度)は、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験方法)におけるアセチル化度に準じて単位重量あたりのアシル基のモル数を測定するとともに、さらに、ケン化によって遊離した各アシル基の比率を液体クロマトグラフィーで測定することにより算出できる。また、アシル化度は、1H−NMR、13C−NMRで分析することもできる。
炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)に対するアシル化セルロースの割合((C)/(B))は、質量比で0.05〜0.5であることが好ましく、0.07〜0.4であることがより好ましく、0.1〜0.4であることが特に好ましい。アシル化セルロースの割合((C)/(B))が上記範囲内より少ないと、研磨加工中に研磨パッドの研磨面で開口の閉塞現象が発生してしまう。これは開口していない樹脂部分が研磨時の摩擦により引き伸ばされ、伸びた樹脂により開口に蓋がされたような状態を示す。開口が閉塞すると研磨スラリーの保持、および研磨屑の排出がうまくいかず、研磨屑が研磨面に堆積していき被研磨物にスクラッチを与えてしまう。逆に、アシル化セルロースの割合((C)/(B))が上記範囲内を越えると、研磨パッドの濡れ性が低下し被研磨物へスクラッチを与えてしまう。さらには、ポリウレタン樹脂とアシル化セルロースの相溶性に起因して、アシル化セルロースの未溶解成分が生じ、ポリウレタン樹脂シートの成膜性が悪化し、発泡ムラなどが発生し、好ましい研磨パッドが得られない。
アシル化セルロースは、1種類を単独で用いてもよく、2種以上の異なるアシル化セルロースを組み合わせて用いてもよい。
本発明の研磨パッドは、ポリウレタン樹脂シート中に、前記(A)〜(C)成分に加えて、カーボンブラック、発泡助剤、界面活性剤などを添加してもよい。カーボンブラックを用いる場合には、ポリウレタン樹脂シートを構成する全固形分に対して1〜30質量%含まれることが好ましく、5〜25質量%含まれることがより好ましく、10〜20質量%含まれることがさらにより好ましい。カーボンブラックが上記範囲内で含まれていると、発泡形状が安定化され望ましい。
本明細書及び特許請求の範囲において、A硬度とは、JIS K7311に準じて測定した値を意味する。
本発明の研磨パッドにおけるポリウレタン樹脂シートのA硬度は、70度以下が好ましく、0.1〜70度がより好ましく、20〜50度がさらにより好ましく、30〜45度が特により好ましい。A硬度が上記の範囲より小さくなると、弾性が極度に大きくなるため被研磨物と接触した際にパッド自体が大きく変形し、平坦化性能が悪くなる。一方で上記の範囲より大きくなると、弾性が欠如することによりスクラッチが発生するようになる。
本明細書及び特許請求の範囲において、開口面積比率とは、ポリウレタン樹脂シートからなる研磨層の表面の全面積に対する開口面積の割合(%)を意味する。
本発明の研磨パッドにおけるポリウレタン樹脂シートの開口面積比率は、5〜20%の範囲内であることが好ましく、8〜17%がより好ましく、9〜14%がさらにより好ましい。
開口面積比率が上記範囲内であると、スラリーの保持や研磨屑の排出が促されスクラッチを抑制でき、被研磨物の面品位を向上させることができる。
本明細書及び特許請求の範囲において、平均開口径とは、表面研削処理を行っていない研磨パッドの表面画像を二値化処理し、各々の開口部分の面積と個数から算出した円相当径の平均値である。
本発明の研磨パッドにおけるポリウレタン樹脂シートの平均開口径は、2〜100μmの範囲内であることが好ましく、5〜80μmがより好ましく、10〜50μmがさらにより好ましい。
平均開口径が上記範囲内であると、面品位の高い研磨をすることができる。
本発明の研磨パッドにおけるポリウレタン樹脂シートの密度Dは0.15〜0.35g/cm3が好ましく、0.20〜0.30g/cm3であることがより好ましい。密度Dが上記範囲内であると、研磨剤や被研磨物の加工くずなどで研磨層表面が目詰まりすることによる傷も生じにくくなる。逆に、密度Dが下限値より小さくなると、弾性が極度に大きくなるため被研磨物と接触した際にパッド自体が大きく変形し、平坦化性能が悪くなる。一方で上限値より大きくなると、弾性(柔軟性)が欠如することによりスクラッチが発生しやすくなる。
本明細書及び特許請求の範囲において、圧縮率とは、研磨パッドの軟らかさの指標である。
圧縮率は、日本工業規格(JIS L 1021)に従い、ショッパー型厚さ測定器(加圧面:直径1cmの円形)を使用して求めることが出来る。具体的には、以下の通りである。
無荷重状態から初荷重を30秒間かけた後の厚さt0を測定し、次に、厚さt0の状態から最終圧力を30秒間かけた後の厚さt1を測定する。圧縮率は、圧縮率(%)=100×(t0−t1)/t0の式で算出することができる(なお、初荷重は100g/cm2、最終圧力は1120g/cm2である)。
本発明の研磨パッドにおけるポリウレタン樹脂シートは、圧縮率が0.5〜50%であることが好ましく、1〜40%であることがより好ましく、1〜10%であることがさらにより好ましく、1〜5%であることが特に好ましい。圧縮率が上記範囲内であると、研磨均一性が高くスクラッチの発生が抑制される。
本明細書及び特許請求の範囲において、圧縮弾性率とは、研磨パッドの圧縮変形に対する戻りやすさの指標である。
圧縮弾性率は、日本工業規格(JIS L 1021)に従い、ショッパー型厚さ測定器(加圧面:直径1cmの円形)を使用して求めることが出来る。具体的には、以下の通りである。
無荷重状態から初荷重を30秒間かけた後の厚さt0を測定し、次に、厚さt0の状態から最終圧力を30秒間かけた後の厚さt1を測定する。次に、厚さt1の状態から全ての荷重を除き、5分間放置(無荷重状態とした)後、再び初荷重を30秒間かけた後の厚さt0’を測定する。圧縮弾性率は、圧縮弾性率(%)=100×(t0’−t1)/(t0−t1)の式で算出することが出来る(なお、初荷重は100g/cm2、最終圧力は1120g/cm2である)。
本発明の研磨パッドにおけるポリウレタン樹脂シートは、圧縮弾性率が50〜100%であることが好ましく、60〜100%であることがより好ましく、80〜100%であることがさらにより好ましい。圧縮弾性率が上記範囲内であると、経時での物性変化が少なく端部ダレが発生しにくい。
本発明の研磨パッドにおけるポリウレタンポリウレア樹脂成形体の厚みに特に制限はないが、0.3〜2.0mm程度であることが好ましい。
本発明の研磨パッドの製造方法は、以下の工程を含む。
調製工程において、研磨パッドの材料となるポリウレタン樹脂含有溶液を調製する。ポリウレタン樹脂含有溶液には、少なくとも上記で詳しく説明した ポリウレタン樹脂、炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体及びアシル化セルロースが含まれる。また、前記成分の他に、カーボンブラック、発泡助剤、界面活性剤などを添加してもよい。
ポリウレタン樹脂を溶解することのできる水混和性の有機溶媒に、ポリウレタン樹脂を溶解させて、その後、炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体及びアシル化セルロースを添加しポリウレタン樹脂含有溶液を得る。炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体及びアシル化セルロースを添加する際に有機溶媒を更に加えてもよい。
前記有機溶媒としては、ポリウレタン樹脂を溶解することができ且つ水混和性であれば特に制限なく用いることが出来る。例としては、N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、テトラヒドロフラン(THF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチルピロリドン(NMP)、アセトンなどが挙げられる。これらの中でも、DMF又はDMAcが好ましく用いられる。
ポリウレタン樹脂含有溶液中の固形分濃度は、好ましくは15〜50質量%、より好ましくは15〜40質量%である。上記範囲内の濃度であれば、ポリウレタン樹脂含有溶液が適度な流動性を有し、後の塗布工程において成膜基材に均一に塗布することができる。また、ポリウレタン樹脂含有溶液には白濁しない程度に水を樹脂固形分に対して1〜20質量%添加してもよい。
前記調製工程で得られたポリウレタン樹脂含有溶液を、ナイフコーター、リバースコーター等により成膜基材上に略均一となるように、連続的に塗布する。成膜基材としては、本技術分野で通常用いられる基材であれば特に制限なく用いることができる。例としては、ポリエステルフィルム、ポリオレフィンフィルム等の可撓性のある高分子フィルム、弾性樹脂を含浸固着させた不織布等が挙げられ、中でもポリエステルフィルムが好ましく用いられる。
用いられる。
ポリウレタン樹脂含有溶液が塗布された基材を、ポリウレタン樹脂に対して貧溶媒である水を主成分とする凝固液に浸漬する。
凝固液としては、水、水とDMF等の極性溶媒との混合溶液などが用いられる。中でも、水又は水とDMF等の極性溶媒との混合溶液が好ましい。極性溶媒としては、ポリウレタン樹脂を溶解するのに用いた水混和性の有機溶媒、例えばDMF、DMAc、THF、DMSO、NMP、アセトンが挙げられる。また、混合溶媒中の極性溶媒の濃度は0.5〜30質量%が好ましい。
凝固液の温度や浸漬時間に特に制限はなく、例えば5〜80℃で5〜60分間浸漬すればよい。
凝固浴で凝固させて得られたシート状のポリウレタン樹脂を成膜基材から剥離した後又は剥離せずに、洗浄、乾燥処理を行う。
洗浄処理により、ポリウレタン樹脂中に残留する有機溶媒が除去される。洗浄に用いられる洗浄液としては、水が挙げられる。
洗浄後、ポリウレタン樹脂を乾燥処理する。乾燥処理は従来行われている方法で行えばよく、例えば80〜150℃で5〜60分程度乾燥機内で乾燥させればよい。上記の工程を経て、ポリウレタン樹脂シートを得ることができる。
研削処理の方法に特に制限はなく、公知の方法により研削することができる。具体的には、サンドペーパーによる研削が挙げられる。
溝加工及びエンボス加工の形状に特に制限はなく、例えば、格子型、同心円型、放射型などの形状が挙げられる。
本発明の研磨パッドにより加工される被研磨物としては、ハードディスク用ガラス基板やアルミ基板、薄型ディスプレイ用マザーガラス、半導体ウェハ、半導体デバイスなどが挙げられる。中でも、本発明の研磨パッドは、ハードディスク用ガラス基板やアルミ基板を加工するのに好適に用いられる。
ポリウレタン樹脂に対して、アシル化セルロースは、研磨面のポリウレタン樹脂が伸びて開口を閉塞してしまう状態を抑制する役割を持っていると推測される。そのため、アシル化セルロースを含む研磨パッドは、スラリーを保持しやすく、研磨レートが大きい傾向にあると考えられる。しかしながら、該研磨パッドはスラリーとの馴染みが十分ではなく、スクラッチが発生しやすい。また、摩擦抵抗を下げる機能は有していないため、被研磨物の微小な凹凸に追従しやすくなり、研磨均一性に劣り、平坦性が保てないという問題がある(比較例2参照)。
一方、炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体を含む研磨パッドは、適度なスラリーの濡れ性と保持性を付与しつつ低摩擦化することができるが、研磨中に開口が閉塞しやすく被研磨物の研磨均一性が悪化する。また、開口が閉塞することにより、目詰まりが生じやすくなり、スクラッチも発生する(比較例4参照)。
すなわち、アシル化セルロース又はアルキレンオキサイドのいずれかをポリウレタン樹脂シート中に含めただけでは研磨均一性を向上させることが出来ず、さらにはスクラッチの発生を顕著に抑制することも難しい。
一方、本発明の研磨パッドは、ポリウレタン樹脂シート中にアシル化セルロース及びアルキレンオキサイドが一定範囲量で含まれるため、その相乗的な作用により、研磨レートのみならず、研磨均一性及びスクラッチの発生抑制能をも向上させるという予想外且つ顕著な効果を発揮することが出来る。
[実施例1]
下記表1に示すように、凝固価12、100%モジュラス18MPaのポリエステル系ポリウレタン樹脂(30部)及びDMF(70部)を含む溶液100部に、表1に示すプロピレンオキサイド(PO)/エチレンオキサイド(EO)共重合体2.5部(固形分濃度30質量%、溶媒:DMF)、プロピオニル化セルロース0.5部(固形分濃度30質量%、溶媒:DMF)、別途のDMF55部、及びカーボンブラック6部を添加し、混合することにより樹脂含有溶液を得た。得られた樹脂含有溶液を、クリアランス1.5mmに設定したリバースコーターを用いて、ポリエステルフィルム上に1.1mm厚にてキャストした。その後、樹脂含有溶液をキャストしたポリエステルフィルムを凝固浴(凝固液は水)に18℃で30分間浸漬し、該樹脂含有溶液を凝固させた後、洗浄・乾燥させて、樹脂シートを得た。得られた樹脂シートとPET製の基材を有する両面テープとを貼り合わせ研磨パッドを得た。
なお、表1〜6において、特に断りのない限り、「部」とは、質量部を意味する。また、表2〜3において斜体で記した実施例1及び表4〜6において斜体で記した実施例6は、各試験の結果が把握しやすいようにそれぞれ表1の実施例1及び表2の実施例6を再度掲載したものである。
比較例1については、アルキレンオキサイド共重合体及びアシル化セルロースを添加しないこと以外は実施例1と同様にして、研磨パッドを製造した。
実施例2〜4及び比較例2〜3については、アルキレンオキサイド共重合体の量を表1に記載の通り変更した以外は実施例1と同様にして、研磨パッドを製造した。
[実施例5及び比較例4〜6]
アシル化セルロースの量を表2に記載の通り変更した以外は実施例1と同様にして、研磨パッドを製造した。
[実施例6〜8及び比較例7]
アルキレンオキサイド共重合体(B)に対するアシル化セルロース(C)の質量比((C)/(B))を一定に保ちつつ、アルキレンオキサイド共重合体の量及びアシル化セルロースの量をそれぞれ表3に記載の通り変更した以外は実施例1と同様にして、研磨パッドを製造した。
[実施例9〜10及び比較例8]
アルキレンオキサイド共重合体中のエチレンオキサイド比率(EO比率)を表4に記載の通り変更した以外は実施例6と同様にして、研磨パッドを製造した。
[比較例9〜10]
アルキレンオキサイド共重合体の分子量を表5に記載の通り変更した以外は実施例6と同様にして、研磨パッドを製造した。
[実施例11〜12]
アシル化セルロースの種類を表6に記載の通り変更した以外は実施例6と同様にして、研磨パッドを製造した。
(A硬度)
ショアA硬度の測定は、発泡シートから試料片(10cm×10cm)を切り出し、複数枚の試料片を厚さが4.5mm以上となるように重ね、A型硬度計(日本工業規格、JIS K 7311)にて測定した。例えば、1枚の試料片の厚さが1.4mmの場合は、4枚を重ねて測定した。
(平均開口径及び開口面積比率)
平均開口径(μm)および開口面積比率(%)の測定は、走査型電子顕微鏡(日本電子株式会社製、JSM−5500LV)で約5mm四方の範囲を1000倍に拡大し9カ所観察した。この画像を画像処理ソフト(Image Analyzer V20LAB Ver.1.3、ニコン製)により二値化処理して開口個数(気泡個数)を確認し、各々の開口(気泡)の面積から円相当径を算出し、その平均値を平均開口径として算出した。また、5mm四方の範囲における開口(気泡)の面積割合を開口面積比率(%)として算出した。なお、気泡径のカットオフ値(下限)を5μmとし、ノイズ成分を除外した。
(密度)
密度D(g/cm3)は、所定サイズの大きさに切り出した試料の重量(g)を測定し、サイズから体積(cm3)を求めることにより算出した。
(圧縮率)
圧縮率は、日本工業規格(JIS L 1021)に従い、ショッパー型厚さ測定器(製品名No.517厚さ測定器デジタル(株式会社マイズ試験機製);加圧面:直径1cmの円形)を使用して求めた。具体的には、無荷重状態から初荷重を30秒間かけた後の厚さt0を測定し、次に、厚さt0の状態から最終圧力を30秒間かけた後の厚さt1を測定した。圧縮率は、圧縮率(%)=100×(t0−t1)/t0の式で算出した。このとき、初荷重は100g/cm2、最終圧力は1120g/cm2であった。
(圧縮弾性率)
圧縮弾性率は、日本工業規格(JIS L 1021)に従い、ショッパー型厚さ測定器(製品名No.517厚さ測定器デジタル(株式会社マイズ試験機製);加圧面:直径1cmの円形)を使用して求めた。具体的には、無荷重状態から初荷重を30秒間かけた後の厚さt0を測定し、次に、厚さt0の状態から最終圧力を30秒間かけた後の厚さt1を測定した。厚さt1の状態から全ての荷重を除き、5分間放置(無荷重状態とした)後、再び初荷重を30秒間かけた後の厚さt0’を測定した。圧縮弾性率は、圧縮弾性率(%)=100×(t0’−t1)/(t0−t1)の式で算出した。このとき、初荷重は100g/cm2、最終圧力は1120g/cm2であった。
その結果を、表1〜9に示す。
各実施例及び比較例の研磨パッドについて、以下の研磨条件で研磨加工を行い、研磨レート、研磨均一性及びスクラッチの有無を測定した。被研磨物としては、12インチのシリコンウェハ上にテトラエトキシシランをCVDで絶縁膜を1μmの厚さになるように形成した基板(均一性(CV%)が13%)を用いた。25枚の基板を準じ研磨し、1枚目、10枚目、25枚目の研磨レートと研磨均一性を評価した。
(研磨レート)
研磨レートは、研磨速度の処理前後の膜厚の差である研磨量を、研磨時間で除して表したものであり、研磨加工前後の基板の絶縁膜について各々17箇所の厚み測定結果の平均値から求めた。なお、厚み測定は、光学式膜厚膜質測定器(KLAテンコール社製、ASET−F5x)のDBSモードにて測定した。
(研磨均一性)
研磨均一性は、前記の17箇所の厚み測定結果のバラツキ(標準偏差÷平均値)から求めた。
スクラッチの評価では、25枚の基板を繰り返し3回順次研磨し、研磨加工後の21〜25枚目の基板5枚について、パターンなしウェハ表面検査装置(KLAテンコール社製、Surfscan SP1DLS)の高感度測定モードにて測定し、基板表面におけるスクラッチの有無を評価した。
なお、上記試験で用いた研磨条件は以下の通りである。
・使用研磨機:スピードファム社製、9B−5Pポリッシングマシン
・回転数:30rpm
・研磨圧力:120g/cm2(開始10秒間、終了30秒間は10g/cm2)
・研磨剤:酸化セリウム系スラリー(昭和電工株式会社製、品番:A−10(KT)の10wt%水溶液)
・研磨剤吐出量:500ml/min
・使用ワーク(被研磨物):外径65mm、内径20mm、厚み0.657mmのガラス基板
・研磨時間:30分間
・ドレッシング:研磨圧力20g/cm2で10秒間、研磨圧力40g/cm2で120秒間、研磨圧力20g/cm2で30秒間
・ダミー研磨(慣らし研磨):研磨圧力120g/cm2で60分間
研磨レートは200以上(nm/min)を○、190以上〜200未満(nm/min)を△、190未満(nm/min)を×として評価した。
研磨均一性は、7.0以下(CV%)を○、7.0超過〜8.0以下(CV%)を△、8.0超過(CV%)を×として評価した。
スクラッチの有無は、無(0枚)を○、有(1枚以上)を×として評価した。
そして、研磨レート、研磨均一性及びスクラッチの有無の結果全てが○又は△のサンプルを好ましい例(実施例)とし、×が1つでもあるサンプルを本発明において好ましくない例(比較例)として評価した。
(試験1の結果)
試験1では、アルキレンオキサイドの量を増減させて、アルキレンオキサイドの量が研磨レート、研磨均一性、スクラッチの有無にどう影響するかを調べた。
その結果、アルキレンオキサイド共重合物を添加しない比較例1、2では、研磨均一性が悪化し、スクラッチも発生した。これは、研磨パッドの濡れ性が悪く、研磨時の抵抗が高まったこと等によるものと考えられる。一方、アルキレンオキサイド共重合物を樹脂シートの全固形分を基にして10質量%を超えて添加した場合には、研磨抵抗が低くなりすぎてしまい、研磨レートが低下した(比較例3)。
これに対し、アルキレンオキサイド共重合物をポリウレタン樹脂シートの全固形分に対して1〜10質量%含む場合には、研磨レート、研磨均一性がいずれも優れており、スクラッチも発生しなかった(実施例1〜4)。
試験2では、アシル化セルロースの量のみを増減させて、アシル化セルロースの量が研磨レート、研磨均一性、スクラッチの有無にどう影響するかを調べた。
その結果、アシル化セルロースを添加しない比較例4では、被研磨物の研磨均一性が悪く、スクラッチも発生した。これは、研磨時の摩耗により引き延ばされた樹脂で研磨表面の開口が閉塞された状態となり、研磨表面に研磨屑が堆積してしまったことによるものと考えらえる。一方、アシル化セルロースをアルキレンオキサイド共重合体に対して質量基準で1/2を超えて添加した場合には、スクラッチが発生してしまう結果となった(比較例5、6)。これは、アシル化セルロースの量が多すぎてポリウレタン樹脂に均一分散しづらくなり、成膜安定性が低下し、その結果、研磨パッドの発泡形状にムラが生じたことによるものと考えられる。
これに対し、アシル化セルロースをアルキレンオキサイド共重合体に対して質量基準で0.05〜0.5の範囲内で含む場合には、研磨レート、研磨均一性がいずれも優れており、スクラッチも発生しなかった(実施例1、5)。
試験3では、アルキレンオキサイド共重合体(B)に対するアシル化セルロース(C)の質量比((C)/(B))を一定に保ちつつ、アルキレンオキサイド共重合体とアシル化セルロースの量をそれぞれ増減させた場合に、研磨レート、研磨均一性、スクラッチの有無にどう影響するかを調べた。
その結果、アルキレンオキサイド共重合体に対するアシル化セルロースの質量比が一定であっても、樹脂シートに含まれる全固形分に対してアルキレンオキサイド共重合体が10質量%を超える場合には、研磨均一性が悪くなってしまうことが判った(比較例7)。
これに対し、アルキレンオキサイド共重合体(B)に対するアシル化セルロース(C)の質量比((C)/(B))と、樹脂シートに含まれる全固形分に対するアルキレンオキサイド共重合体の割合(質量%)がいずれも本発明の範囲内である場合には、研磨レート、研磨均一性のいずれにも優れ、スクラッチも発生しなかった(実施例6〜8)。以上の結果は、研磨レート、研磨均一性及びスクラッチの発生抑制の全てに優れる研磨パッドは、樹脂シートに含まれる全固形分に対するアルキレンオキサイド共重合体の割合が1〜10質量%の範囲内であること又はアシル化セルロースのアルキレンオキサイド共重合体に対する割合が0.05〜0.5の範囲内であることのいずれか一方のみを満たすだけでは不十分であり、上記両要件を共に満たす必要があることを示している。
試験4では、アルキレンオキサイド共重合体の構成単位として含まれるエチレンオキサイドの割合のみを増減させて、エチレンオキサイドの割合が研磨レート、研磨均一性、スクラッチの有無にどう影響するかを調べた。
その結果、エチレンオキサイドを構成単位として含まない場合には、スクラッチが発生し、研磨均一性も好ましい結果が得られなかった(比較例8)。
これに対し、構成単位としてエチレンオキサイドを50質量%以上含む場合には、研磨レート、研磨均一性がいずれも好ましい範囲に入り、スクラッチも発生しなかった(実施例6、9〜10)。
試験5では、アルキレンオキサイド共重合体の数平均分子量(Mn)のみを増減させた場合に、当該数平均分子量が研磨レート、研磨均一性、スクラッチの有無にどう影響するかを調べた。
その結果、アルキレンオキサイド共重合体の数平均分子量が10,000未満である場合には、当該分子量が小さくなるにつれて研磨均一性が悪くなり、スクラッチが発生した(比較例9、10)。
これに対し、アルキレンオキサイド共重合体の数平均分子量が10,000以上であると、研磨レート、研磨均一性がいずれも優れており、スクラッチも発生しなかった(実施例6)。
試験6では、アシル化セルロースの種類のみを変えて、研磨レート、研磨均一性、スクラッチの有無に対する効果を調べた。
その結果、アシル化セルロースのアシル基としてアセチル基、プロピオニル基、ブリチル基のいずれを用いても研磨レート、研磨均一性及びスクラッチ発生抑制のいずれにも優れた研磨パッドを得ることが出来た(実施例6、11、12)。
Claims (10)
- ポリウレタン樹脂(A)、炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)及びアシル化セルロース(C)を含むポリウレタン樹脂シートを含む研磨パッドであって、
前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)が、構成単位としてエチレンオキサイドを50質量%以上含み、10,000〜100,000の数平均分子量を有し、且つ前記ポリウレタン樹脂シート中に含まれる全固形分を基にして1〜10質量%の範囲内で含まれ、
前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)に対する前記アシル化セルロース(C)の割合((C)/(B))が、質量基準で0.05〜0.5であることを特徴とする、前記研磨パッド。 - 前記アシル化セルロース(C)におけるアシル基が、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基からなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記アシル化セルロース(C)の、セルロースの水酸基に対するアシル化置換度が1〜3の範囲である、請求項1又は2に記載の研磨パッド。
- 前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)が、前記ポリウレタン樹脂シート中に含まれる全固形分を基にして2〜6質量%の範囲内で含まれる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の研磨パッド。
- 前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)が、構成単位として前記エチレンオキサイドを80質量%以上含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の研磨パッド。
- 前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)の数平均分子量が、12,000〜80,000の範囲内である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の研磨パッド。
- 前記ポリウレタン樹脂シートのA硬度が70以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の研磨パッド。
- 前記ポリウレタン樹脂シートの開口面積比率が5〜20%の範囲内である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の研磨パッド。
- 前記ポリウレタン樹脂シートの平均開口径が2〜100μmの範囲内である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の研磨パッド。
- 前記ポリウレタン樹脂(A)、前記炭素数2〜8のアルキレンオキサイド共重合体(B)及び前記アシル化セルロース(C)を有機溶媒に溶解した溶液を成膜基材に塗布する工程、及び
前記溶液が塗布された成膜基材を凝固液に浸漬して前記溶液を凝固する工程
を含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載の研磨パッドの製造方法。
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