JP2014188668A - ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】保持孔が形成されたキャリアにガラス基板を保持し、研磨パッドを備える上下の定盤により前記ガラス基板を挟持して研磨する研磨工程を備え、前記キャリアは、厚肉部と、前記厚肉部の厚みよりも厚みの小さい薄肉部とを備え、前記厚肉部および前記薄肉部のいずれか一方は、前記保持孔の周囲に形成される、ガラス基板の製造方法
【選択図】図3B
Description
以下、本発明のガラス基板の製造方法の実施形態について詳細に説明する。本実施形態のガラス基板の製造方法は、第2研磨工程(精密研磨工程)に特徴を有し、その他の工程は特に限定されない。そこで、まずは、第2研磨工程を詳述する。
第2研磨工程は、後述する第1研磨工程を経たガラス基板に対して行う研磨工程である。第2研磨工程では、両面研磨装置(たとえば浜井産業(株)製、16Bタイプ)が使用され、ガラス基板の両主表面が研磨される。
ガラスブランク材準備工程には、ガラス素材を溶融するガラス素材溶融工程と、溶融したガラス素材からガラス基板(ブランクス)を得るプレス成形工程とが含まれる。
ガラス基板形成/研削工程には、第1研削工程と、コアリング(内外周カット)工程と、第2研削工程とが含まれる。
研磨工程には、第1研磨工程(粗研磨工程)と、第2研磨工程(精密研磨工程)とが含まれる。
化学強化工程は、ガラス基板を強化処理液に浸漬し、ガラス基板の耐衝撃性、耐振動性および耐熱性等を向上させる工程である。
洗浄工程は、ガラス基板を洗浄し、清浄にする工程である。洗浄方法としては特に限定されず、ガラス基板の表面を清浄にできる洗浄方法であればよい。
磁気薄膜形成工程は、蒸着装置を用いてガラス基板に磁気薄膜(磁性膜)を形成する工程である。磁性膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。たとえば、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法を採用することができる。スピンコート法での膜厚は約0.3〜1.2μm程度、スパッタリング法での膜厚は0.04〜0.08μm程度、無電解めっき法での膜厚は0.05〜0.1μm程度である。これらの形成方法により磁性膜を成膜する場合、磁性膜の種類によっては、ガラス基板は、100〜500℃程度に保持される。
次に、本発明の他の実施形態について、図面を参照して説明する。本実施形態のガラス基板の製造方法は、研磨工程において使用するキャリア41の形状が、第1の実施形態において上記したキャリア4(図3A参照)と異なる以外は同様である。そのため、キャリア41における形状の相違点を主に説明する。
以下の方法によりガラス基板を作製した。
ガラス素材として、SiO2、Al2O3、R2O(R=K、Na、Li)を主成分としたアルミノシリケートガラスを用い、溶融したガラス素材をプレス成形して、外径が67mmの円板状のブランクスを作製した。ブランクスの厚みは1.0mmとした。
ブランクスの両主表面を、両面研削機(浜井産業(株)製、16Bタイプ)を用いて研削加工した。研削条件として、粒度#600のアルミナ粉末を使用し、荷重は50g/cm2、上定盤の回転数を30rpm、下定盤の回転数を20rpmとした。
(第1研磨工程)
ブランクスの両表面を、両面研磨装置(浜井産業(株)製、16Bタイプ)を用いて粗研磨加工した。研磨パッドには発泡ウレタンパッドを、砥粒には平均一次粒子径1μmの酸化セリウム砥粒を用いた。荷重は100g/cm2とした。
両面研磨装置(浜井産業(株)製、16Bタイプ、図1参照)の下定盤3に、キャリア4を5個(保持孔4aは計125個)配置し、それぞれの保持孔4aにガラス基板5を配置した。キャリア4は、環状に計25個(内周側の同心円上に3個、中央の同心円上に8個、外周側の同心円上に14個)の保持孔4aを有し(図2参照)、図3Aに示される薄肉部4cが形成されたものを使用した。薄肉部4cの厚み(a)は690μmであり、キャリア4の厚み(b)は790μmであり、薄肉部4cの径方向の長さ(c)は1μmである。また、キャリア4の厚みと薄肉部4cの厚みとの差(b−a)は、100μmである。
得られたガラス基板の化学強化処理を行った。化学強化処理液としては、硝酸カリウム(KNO3)と硝酸ナトリウム(NaNO3)との混合溶融塩の水溶液を用いた。混合比は質量比で1:1とした。化学強化処理液の温度は380℃とし、浸漬時間は25分とした。
ガラス基板をスクラブ洗浄した。洗浄液として、KOHとNaOHとを質量比で1:1に混合したものを超純水(DI水)で希釈し、洗浄能力を高めるために非イオン界面活性剤を添加して得られた液体を用いた。洗浄液の供給は、スプレー噴霧によって行った。スクラブ洗浄後、ガラス基板の表面に残る洗浄液を除去するために、水リンス洗浄工程を超音波槽で2分間行い、IPA洗浄工程を超音波槽で2分間行い、最後に、IPA蒸気によりガラス基板の表面を乾燥させた。
第2研磨工程において、薄肉部4cの径方向の長さ(c)が10μmであるキャリアを使用した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。
第2研磨工程において、薄肉部4cの径方向の長さ(c)が100μmであるキャリアを使用した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。
第2研磨工程において、キャリア4として、図4Aに示される薄肉部4cが形成されたものを使用した以外は、実施例3と同様の方法によりガラス基板を作製した。キャリア4において、薄肉部4cのうち、最も厚みの小さい部分の厚み(a)は690μmであり、キャリア4の厚み(b)は790μmであり、薄肉部4cの径方向の長さ(c)は100μmである。また、キャリア4の厚みと薄肉部4cの厚みとの差(b−a)は、100μmである。
第2研磨工程において、薄肉部4cの径方向の長さ(c)が500μmであるキャリアを使用した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。
第2研磨工程において、薄肉部4cの厚み(a)が789μmであり、キャリアの厚み(b)が790μmであり、薄肉部4cの径方向の長さ(c)が100μmであるキャリアを使用した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。キャリアの厚みと薄肉部4cの厚みとの差(b−a)は、1μmである。
第2研磨工程において、キャリア4として、図4Aに示される薄肉部4cが形成されたものを使用した以外は、実施例6と同様の方法によりガラス基板を作製した。キャリア4において、薄肉部4cのうち、最も厚みの小さい部分の厚み(a)は789μmであり、キャリア4の厚み(b)は790μmであり、薄肉部4cの径方向の長さ(c)は100μmである。また、キャリア4の厚みと薄肉部4cの厚みとの差(b−a)は、1μmである。
第2研磨工程において、薄肉部4cの厚み(a)が780μmであり、キャリアの厚み(b)が790μmであり、薄肉部4cの径方向の長さ(c)が100μmであるキャリアを使用した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。キャリアの厚みと薄肉部4cの厚みとの差(b−a)は、10μmである。
第2研磨工程において、薄肉部4cの厚み(a)が740μmであり、キャリアの厚み(b)が790μmであり、薄肉部4cの径方向の長さ(c)が100μmであるキャリアを使用した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。キャリアの厚みと薄肉部4cの厚みとの差(b−a)は、50μmである。
第2研磨工程において、薄肉部4cが形成されていないキャリア(図7A参照)を使用した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。
第2研磨工程において、図5Aに示される厚肉部4bおよび薄肉部4cが形成されたキャリアを使用した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。厚肉部4bの厚み(a)は790μmであり、薄肉部4cの厚み(b)は690μmであり、厚肉部4bの径方向の長さ(c)は1μmであり、薄肉部4cの径方向の長さは100μmである。また、厚肉部4bの厚みと薄肉部4cの厚みとの差(a−b)は、100μmである。
第2研磨工程において、厚肉部4bの径方向の長さ(c)が10μmであるキャリアを使用した以外は、実施例10と同様の方法によりガラス基板を作製した。
第2研磨工程において、厚肉部4bの径方向の長さ(c)が100μmであるキャリアを使用した以外は、実施例10と同様の方法によりガラス基板を作製した。
第2研磨工程において、キャリア4として、図6Aに示される厚肉部4bおよび薄肉部4cが形成されたものを使用した以外は、実施例12と同様の方法によりガラス基板を作製した。キャリア4において、厚肉部4bのうち、最も厚みの大きい部分の厚み(a)は790μmであり、薄肉部4cの厚み(b)は690μmであり、薄肉部4cの径方向の長さ(c)は100μmである。また、厚肉部4bの厚みと薄肉部4cの厚みとの差(a−b)は、100μmである。
第2研磨工程において、厚肉部4bの径方向の長さ(c)が500μmであるキャリアを使用した以外は、実施例10と同様の方法によりガラス基板を作製した。
第2研磨工程において、厚肉部4bの厚み(a)が790μmであり、薄肉部4cの厚み(b)が789μmであり、厚肉部4bの径方向の長さ(c)が100μmであるキャリアを使用した以外は、実施例10と同様の方法によりガラス基板を作製した。厚肉部4bの厚みと薄肉部4cの厚みとの差(a−b)は、1μmである。
第2研磨工程において、厚肉部4bの厚み(a)が790μmであり、薄肉部4cの厚み(b)が780μmであり、厚肉部4bの径方向の長さ(c)が100μmであるキャリアを使用した以外は、実施例10と同様の方法によりガラス基板を作製した。厚肉部4bの厚みと薄肉部4cの厚みとの差(a−b)は、10μmである。
第2研磨工程において、キャリア4として、図6Aに示される厚肉部4bおよび薄肉部4cが形成されたものを使用した以外は、実施例16と同様の方法によりガラス基板を作製した。キャリア4において、厚肉部4bのうち、最も厚みの大きい部分の厚み(a)は790μmであり、薄肉部4cの厚み(b)は780μmであり、薄肉部4cの径方向の長さ(c)は100μmである。また、厚肉部4bの厚みと薄肉部4cの厚みとの差(a−b)は、10μmである。
第2研磨工程において、厚肉部4bの厚み(a)が790μmであり、薄肉部4cの厚み(b)が740μmであり、厚肉部4bの径方向の長さ(c)が100μmであるキャリアを使用した以外は、実施例10と同様の方法によりガラス基板を作製した。厚肉部4bの厚みと薄肉部4cの厚みとの差(a−b)は、50μmである。
非接触表面形状測定機(New View、Zygo社製)を用いて、第2研磨工程を経たガラス基板の端面の形状を測定した。具体的には、ガラス基板(半径32.5mm)の中心から30.0mmから31.7mmを測定範囲とし、半径方向の形状プロファイルを求め、110μmを基準とするローパスフィルタリングを行った後、計測範囲の両端を結ぶ線分からの高さ変位量の最大値を求め、端面形状の標準偏差(Å)を算出した。
ガラス基板を、メディア化し、磁気ドライブに搭載し、記録可能な面内領域を評価し、情報記録媒体の中心から31.7mmの位置において読取エラーが発生せず、良品と評価可能であったガラス基板の割合(%)を算出した。
2 上定盤
2a、3a 研磨パッド
3 下定盤
4、41 キャリア
4a 保持孔
4b 厚肉部
4c 薄肉部
5 ガラス基板
Claims (9)
- 保持孔が形成されたキャリアにガラス基板を保持し、研磨パッドを備える上下の定盤により前記ガラス基板を挟持して研磨する研磨工程を備え、
前記キャリアは、厚肉部と、前記厚肉部の厚みよりも厚みの小さい薄肉部とを備え、
前記厚肉部および前記薄肉部のいずれか一方は、前記保持孔の周囲に形成される、
ガラス基板の製造方法。 - 前記薄肉部は、前記保持孔の周囲に形成され、
前記厚肉部は、前記薄肉部の周囲に形成される、請求項1記載のガラス基板の製造方法。 - 前記薄肉部は、前記キャリアの径方向において、前記保持孔から前記厚肉部にかけて厚みが大きくなるように形成される、請求項2記載のガラス基板の製造方法。
- 前記厚肉部は、前記保持孔の周囲に形成され、
前記薄肉部は、前記厚肉部の周囲に形成される、請求項1記載のガラス基板の製造方法。 - 前記厚肉部は、前記キャリアの径方向において、前記保持孔から前記薄肉部にかけて厚みが小さくなるように形成される、請求項4記載のガラス基板の製造方法。
- 前記厚肉部または前記薄肉部のうち、前記保持孔の周囲に形成される部分の径方向の長さが、1〜500μmである、請求項1記載のガラス基板の製造方法。
- 前記厚肉部のうちもっとも厚みの大きな部分と、前記薄肉部のうちもっとも厚みの小さな部分との厚みの差が、1〜500μmである、請求項1〜6のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記厚肉部は、前記ガラス基板の厚みよりも1〜200μm小さな厚みの部分を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。
- 前記保持孔は、前記キャリアに同心円状に複数形成されている、請求項1〜8のいずれか1項に記載のガラス基板の製造方法。
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JP2014188668A5 JP2014188668A5 (ja) | 2016-05-26 |
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