CN107671605A - 一种光学镜片抛光装置及抛光工艺 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种光学镜片抛光装置，包括：抛光垫、抛光垫基底、旋转驱动装置、分离器、压块和抛光机；抛光垫设置在抛光垫基底上，抛光垫基底连接在旋转驱动装置上；分离器设置在抛光垫上，分离器上设置有多个载物槽，压块设置在分离器的载物槽内；分离器的中间设置有孔，分离器通过孔连接在抛光机上。还公开了一种抛光工艺，具体步骤如下：修整修正模；用修正模来修整抛光垫；清洗抛光垫；将抛光垫固定在抛光垫基底上；配制抛光液；将抛光液放置在抛光机的抛光液循环缸内；将镜片放置在分离器的载物槽中；将压块放置在镜片上；启动抛光机和旋转驱动装置进行抛光。通过上述方式，本发明能够保证产品的加工面在同一平面上，受力均匀，提高抛光效果。

Description

一种光学镜片抛光装置及抛光工艺

技术领域

本发明涉及镜片加工技术领域，特别是涉及一种光学镜片抛光装置及抛光工艺。

背景技术

由于超薄激光光学镜片非常容易变形，在进行光学加工的过程中，经常会因热变化或者不均匀受力等原因造成镜片的面型变化。

传统的光学镜片抛光工艺是通过粘结剂将镜片粘结在底盘上，再将底盘放到抛光模上抛光，抛光结束后通过加热熔化粘结剂，待粘结剂完全融化后取下镜片完成镜片的抛光。

传统光学镜片抛光工艺的缺点是，操作繁琐，效率低，由于上下盘的不同状况，在上下盘的过程中容易因弹性形变导致镜片变形，难以保证镜片的面型和抛光精度。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种光学镜片抛光装置及抛光工艺，能够保证产品的加工面在同一平面上，受力均匀。

为达到上述目的，本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种光学镜片抛光装置，包括：抛光垫、抛光垫基底、旋转旋转驱动装置、分离器、压块和抛光机；所述抛光垫设置在所述抛光垫基底上，所述抛光垫基底连接在所述旋转驱动装置上；所述分离器设置在所述抛光垫上，所述分离器上设置有多个载物槽，所述压块设置在所述分离器的载物槽内；所述分离器的中间设置有孔，所述分离器通过所述孔连接在所述抛光机上。

将产品放置在分离器的载物槽内，产品受载物槽槽壁的驱动力运动，通过压块对产品的垂直作用力使产品与抛光垫充分接触，保证产品的加工面在同一平面上，受力均匀。产品可以在分离器的载物槽内自由无规则运动，分离器自身也是自由运动，通过分离器和产品的双运动轨迹，提高抛光效果。压块为自由压块，便于调节压力的大小，可以一定程度地纠正产品本身的面型误差。

优选的，所述载物槽以所述分离器上的孔为中心环状阵列分布。

优选的，所述载物槽以所述分离器的中心轴为轴线对称分布。

优选的，所述分离器与抛光垫接触的一面设置有与镜片材料相同的垫片，所述垫片的面型精度小于0.2波长。

优选的，所述抛光垫通过胶粘剂设置在所述抛光垫基底上。

优选的，所述胶粘剂为热固性胶粘剂。

一种采用上述光学镜片抛光装置进行的抛光方法，具体步骤如下：

修整修正模；

用修整后的所述修正模来修整抛光垫；

清洗所述抛光垫；

将所述抛光垫固定在所述抛光垫基底上；

配制抛光液；

将配制好的抛光液放置在所述抛光机的抛光液循环缸内；

将镜片放置在所述分离器的载物槽中；

将所述压块放置在镜片上；

启动所述抛光机和所述旋转驱动装置进行抛光。

优选的，所述抛光液包括水、氧化铝抛光粉和悬浮液，所述水、氧化铝抛光粉和悬浮液的比例为5：1：0.5。

优选的，所述氧化铝抛光粉的粒度为0.2～0.8μm。

优选的，所述悬浮液为弱碱性溶液，其PH值为7.5～8.5。

按照上述方法配制的抛光液可以使得抛光粉有良好的悬浮和均匀分布的效果。通过金刚石修整抛光垫，保证抛光垫表面具有一定的粗糙度，使得抛光粉可以保存于抛光垫表面上，更好地对镜片起到研磨作用。

附图说明

图1是本发明一种光学镜片抛光装置一较佳实施例的结构示意图。

附图说明：1抛光垫、2抛光垫基底、3旋转驱动装置、4分离器、5压块、6抛光机、7载物槽。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

参阅附图，在本发明的一种实施方式中：一种光学镜片抛光装置，包括：抛光垫1、抛光垫基底2、旋转驱动装置3、分离器4、压块5和抛光机6。抛光垫1为聚氨酯材料，通过环氧树脂或有机硅等热固性胶粘剂粘结在抛光垫基底2上，抛光垫基底2在旋转驱动装置3的带动下运动，旋转驱动装置3可以是普通的电机。分离器4放置在抛光垫1上，分离器4上设置有多个载物槽7，载物槽7可以为方形或圆形等任意形状，载物槽7的内壁上设置有保护套；压块5活动放置在分离器4的载物槽内，利用压块5自身的重力施加在镜片上；分离器4的中间设置有孔，抛光机6上的顶针插在分离器4的孔中。抛光垫基底2与抛光机6形成相反方向的运动轨迹，如：抛光机基底在旋转驱动装置的带动下顺时针转动，抛光机带动分离器逆时针运动。采用上述技术方案的有益效果是：提供了一种光学镜片抛光装置，将产品放置在分离器的载物槽内，产品受载物槽槽壁的驱动力运动，通过压块对产品的垂直作用力使产品与抛光垫充分接触，保证产品的加工面在同一平面上，受力均匀。产品可以在分离器的载物槽内自由无规则运动，分离器自身也是自由运动，通过分离器和产品的双运动轨迹，提高抛光效果。压块为自由压块，利用其自身重力来施加压力，便于调节压力的大小，可以一定程度地纠正产品本身的面型误差。

在本发明的一种实施方式中：载物槽以分离器上的孔为中心环状阵列分布。在本发明的另一种实施方式中：载物槽以分离器的中心轴为轴线对称分布。采用上述技术方案的有益效果是：保证每个载物槽内的产品都受力均匀。

在本发明的一种实施方式中：分离器与抛光垫接触的一面设置有与镜片材料相同的薄片，薄片表面的面型精度小于0.2波长，用以纠正镜片本身的面型误差。采用上述技术方案的有益效果是：在抛光过程中，分离器可以有效对抛光垫进行实时修正，使产品的面型精度达到薄片的面型精度。

一种采用上述光学镜片抛光装置进行的抛光工艺，具体步骤如下：

修整修正模，修正模可采用金刚石等坚硬材质制成，用金刚砂将金刚石修正模表面修整到需要的面型，其中金刚石丸片采用270#的颗粒度，即颗粒度为50um，金刚石丸片用以修整抛光垫，将修正模修整为满足需要的面型要求；

用修整后的修正模来修整抛光垫；

将抛光垫清洗干净；

加工后的抛光垫基底初始状态为平面，将抛光垫通过粘结剂固定在抛光垫基底上；

以水、氧化铝抛光粉和悬浮液为5：1：0.5的比例配制抛光液，其中，氧化铝抛光粉为超细粉末，其粒度为0.2～0.8μm，悬浮液为弱碱性溶液，如氢氧化钠溶液，其PH值为7.5～8.5，配制好的抛光液连续搅拌约2个小时；

将配制好的抛光液放置在抛光机的抛光液循环缸内；

将镜片放置在分离器的载物槽中；

选取合适的压块，将压块放置在镜片上；

启动抛光机和旋转驱动装置进行抛光。

采用上述抛光工艺技术方案的有益效果是：按照上述方法配制的抛光液可以使得抛光粉有良好的悬浮和均匀分布的效果。通过金刚石修整抛光垫，保证抛光垫表面具有一定的粗糙度，使得抛光粉可以保存于抛光垫表面上，更好地对镜片起到研磨作用。

以上仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种光学镜片抛光装置，其特征在于，包括：抛光垫、抛光垫基底、旋转旋转驱动装置、分离器、压块和抛光机；

所述抛光垫设置在所述抛光垫基底上，所述抛光垫基底连接在所述旋转驱动装置上；所述分离器设置在所述抛光垫上，所述分离器上设置有多个载物槽，所述压块设置在所述分离器的载物槽内；所述分离器的中间设置有孔，所述分离器通过所述孔连接在所述抛光机上。

2.根据权利要求1所述的一种光学镜片抛光装置，其特征在于：所述载物槽以所述分离器上的孔为中心环状阵列分布。

3.根据权利要求1所述的一种光学镜片抛光装置，其特征在于：所述载物槽以所述分离器的中心轴为轴线对称分布。

4.根据权利要求1所述的一种光学镜片抛光装置，其特征在于：所述分离器与抛光垫接触的一面设置有与镜片材料相同的垫片，所述垫片的面型精度小于0.2波长。

5.根据权利要求1所述的一种光学镜片抛光装置，其特征在于：所述抛光垫通过胶粘剂设置在所述抛光垫基底上。

6.根据权利要求5所述的一种光学镜片抛光装置，其特征在于：所述胶粘剂为热固性胶粘剂。

7.一种采用如权利要求1至6任一项所述的一种光学镜片抛光装置进行的抛光方法，其特征在于，具体步骤如下：

修整修正模；

用修整后的所述修正模来修整抛光垫；

清洗所述抛光垫；

将所述抛光垫固定在所述抛光垫基底上；

配制抛光液；

将配制好的抛光液放置在所述抛光机的抛光液循环缸内；

将镜片放置在所述分离器的载物槽中；

将所述压块放置在镜片上；

启动所述抛光机和所述旋转驱动装置进行抛光。

8.根据权利要求7所述的一种光学镜片抛光方法，其特征在于：所述抛光液包括水、氧化铝抛光粉和悬浮液，所述水、氧化铝抛光粉和悬浮液的重量比例为5：1：0.5。

9.根据权利要求8所述的一种光学镜片抛光方法，其特征在于：所述氧化铝抛光粉的粒度为0.2～0.8μm。

10.根据权利要求8所述的一种光学镜片抛光方法，其特征在于：所述悬浮液为弱碱性溶液，其PH值为7.5～8.5。