CN105603364A - 导热装置与蒸镀坩埚 - Google Patents

导热装置与蒸镀坩埚 Download PDF

Info

Publication number
CN105603364A
CN105603364A CN201610150210.8A CN201610150210A CN105603364A CN 105603364 A CN105603364 A CN 105603364A CN 201610150210 A CN201610150210 A CN 201610150210A CN 105603364 A CN105603364 A CN 105603364A
Authority
CN
China
Prior art keywords
heat
conducting
crucible
several
transfer device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610150210.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105603364B (zh
Inventor
刘扬
刘亚伟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201610150210.8A priority Critical patent/CN105603364B/zh
Priority to PCT/CN2016/080104 priority patent/WO2017156827A1/zh
Priority to US15/108,319 priority patent/US20180148827A1/en
Publication of CN105603364A publication Critical patent/CN105603364A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105603364B publication Critical patent/CN105603364B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12Organic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/26Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供一种导热装置与蒸镀坩埚,所述导热装置包括一导热筒与安装于该导热筒上的数个导热片而呈辐射状,或包括一辐射状的导热筒而呈辐射状,通过在蒸镀坩埚中放入上述导热装置,经由导热装置的传热路径,可以使坩埚壁上的热量均匀的传递至坩埚的内部及中心,有利于提高坩埚内部材料受热的均匀性,使得材料的蒸镀状态保持稳定,提高蒸镀效果;且该导热装置易加工,成本低,导热效果好,安装拆卸方便。

Description

导热装置与蒸镀坩埚
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种导热装置与蒸镀坩埚。
背景技术
OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)显示器,也称为有机电致发光显示器,是一种新兴的平板显示装置,由于其具有制备工艺简单、成本低、功耗低、发光亮度高、工作温度适应范围广、体积轻薄、响应速度快,而且易于实现彩色显示和大屏幕显示、易于实现和集成电路驱动器相匹配、易于实现柔性显示等优点,因而具有广阔的应用前景。目前实现量产的OLED制造技术均是采用真空蒸镀的方法制备OLED材料薄膜。
真空蒸镀时,将OLED材料放置于坩埚中,通过加热将材料汽化,汽化分子从坩埚盖的喷口飞出沉积到基板上形成固态薄膜。OLED材料一般分为升华型和熔融型,升华型材料受热后直接从固体粉末态升华变为气态,熔融型材料受热后先从固体粉末态变为熔融态,再蒸发变为气态。不论是升华型还是熔融型,OLED有机材料的导热性通常都很差,再加上处于真空状态,没有气体分子作为导热介质,热量由坩埚壁传输到坩埚中部通常都很慢,这就在坩埚中造成较大的温度差,即坩埚内部温度场不均匀。
对于升华型材料,温度场不均匀容易造成如图1所示的情形:接近坩埚壁100的材料200所处的温度高,升华快,远离坩埚壁100的材料200所处的温度低,升华慢,升华一定时间后材料200与坩埚壁100之间形成空隙300,空隙300形成后,材料200需要加热到更高的温度才可以达到升华的速率,这对OLED的性能是不利的。
对于熔融型材料,温度场不均匀容易造成如图2所示的情形:接近坩埚壁100的材料200先达到熔融所需温度,变为熔融态,远离坩埚壁100的材料200还处于固体粉末态,熔融态的材料200由于有一定的流动性,将粉末态的材料200包裹在其中,使得材料200整体处于“半熔融态”,半熔融态的材料200被蒸镀到基板上其成膜均匀性不好,对OLED性能不利。
发明内容
本发明的目的在于提供一种导热装置,放置于蒸镀坩埚内部使用,可以将坩埚壁上的热量均匀的传导至坩埚的内部及中心,使得坩埚内部的材料受热均匀。
本发明的目的还在于提供一种蒸镀坩埚,可以使坩埚壁上的热量均匀的传递至坩埚的内部及中心,提高坩埚内部材料受热的均匀性。
为实现上述目的,本发明提供一种导热装置,包括一导热筒与安装于该导热筒上的数个导热片,其中,所述导热筒的侧壁与导热片上均设有数个通孔。
所述导热筒的侧壁上设有位于数个通孔之间的数个条形凹槽,所述数个条形凹槽的延伸方向均平行于所述导热筒的延伸方向,所述数个导热片分别卡合于该数个条形凹槽中。
所述导热筒的横截面为圆形或轴向对称的凸多边形。
所述导热筒与导热片的材质为金属。
本发明还提供一种导热装置,包括一导热筒,所述导热筒的横截面为具有三个角以上的星形,该星形的每个角均由两个导热板围成,从而所述导热筒由6个以上相互连接的导热板组成,其中,每个导热板上均设有数个通孔。
本发明还提供一种蒸镀坩埚,包括坩埚本体、放置于坩埚本体内部的导热装置、及设于所述坩埚本体上方的坩埚盖,所述导热装置包括一导热筒与安装于该导热筒上的数个导热片,其中,所述导热筒的侧壁与导热片上均设有数个通孔。
所述导热筒的侧壁上设有位于数个通孔之间的数个条形凹槽,所述数个条形凹槽的延伸方向均平行于所述导热筒的延伸方向,所述数个导热片分别卡合于该数个条形凹槽中。
所述导热筒的横截面为圆形或轴向对称的凸多边形。
所述导热装置的高度小于所述坩埚本体的内部空间的高度,所述导热装置的径向尺寸小于所述坩埚本体的内部空间的径向尺寸。
本发明还提供一种蒸镀坩埚,包括坩埚本体、放置于坩埚本体内部的导热装置、及设于所述坩埚本体上方的坩埚盖,所述导热装置包括一导热筒,所述导热筒的横截面为具有三个角以上的星形,该星形的每个角均由两个导热板围成,从而所述导热筒由6个以上相互连接的导热板组成,其中,每个导热板上均设有数个通孔。
本发明的有益效果:本发明提供的一种导热装置与蒸镀坩埚,所述导热装置包括一导热筒与安装于该导热筒上的数个导热片而呈辐射状,或包括一辐射状的导热筒而呈辐射状,通过在蒸镀坩埚中放入上述导热装置,经由导热装置的传热路径,可以使坩埚壁上的热量均匀的传递至坩埚的内部及中心,提高坩埚内部材料受热的均匀性,使得材料的蒸镀状态保持稳定,提高蒸镀效果;且该导热装置易加工,成本低,导热效果好,安装拆卸方便。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图,通过对本发明的具体实施方式详细描述,将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中,
图1为现有的蒸镀坩埚中升华型材料由于受热不均匀形成空隙的示意图;
图2为现有的蒸镀坩埚中熔融型材料由于受热不均匀形成半熔融态的示意图;
图3为本发明的导热装置的第一实施例的结构示意图;
图4为本发明的导热装置的第二实施例的结构示意图;
图5为本发明的导热装置的第三实施例的横截面示意图及组成导热筒的一导热板的示意图;
图6为本发明的导热装置的第四实施例的横截面示意图及组成导热筒的一导热板的示意图;
图7为本发明的蒸镀坩埚的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图3-4,本发明提供一种放置于蒸镀坩埚中使用的导热装置,包括一导热筒10与安装于该导热筒10上的数个导热片20,其中,所述导热筒10的侧壁与导热片20上均设有数个通孔30,所述通孔30可以使蒸镀坩埚内的材料联通及流动,提高坩埚内部的导热均匀性。
具体的,所述导热筒10的横截面为轴向对称图形,从而提高导热的均匀性。
具体的,所述导热筒10的横截面可以为圆形,也可以为轴向对称的凸多边形,如等腰三角形、等边三角形、矩形、正方形等;如图3所示的导热装置的第一实施例中,导热筒10的横截面为圆形;如图4所示的导热装置的第二实施例中,导热筒10的横截面为正方形。
具体的,所述导热筒10的侧壁上设有位于数个通孔30之间的数个条形凹槽15,所述数个条形凹槽15的延伸方向均平行于所述导热筒10的延伸方向,所述数个导热片20分别卡合于数个条形凹槽15中,从而安装于导热筒10上,且该安装方式拆卸方便。
优选的,所述数个条形凹槽15均匀的分布于所述导热筒10的侧壁上,从而使得所述数个导热片20均匀的分布于所述导热筒10的四周,提高导热装置传热的均匀性。
如图3-4所示的该第一种的导热装置,通过在导热筒10的周围安装数个导热片20,使得该导热装置呈辐射状,从而可提高导热的均匀性。
具体的,所述通孔30的形状可以为圆形、矩形、三角形、凸多边形、或星形等。优选的,所述导热筒10的侧壁上的数个通孔30分布均匀且形状和尺寸相同,所述导热片20上的数个通孔30分布均匀且形状和尺寸相同。
具体的,所述导热筒10与导热片20的材质一般为金属,如钛合金、铝合金、不锈钢等。
通过在蒸镀坩埚中放入上述导热装置,经由导热筒10与导热片20的传热路径,可以使坩埚壁上的热量均匀的传递至坩埚的内部及中心,有利于提高坩埚内部材料受热的均匀性,使得材料的蒸镀状态保持稳定,提高蒸镀效果;且该导热装置易加工,成本低,导热效果好,安装拆卸方便。
请参阅图5-6,本发明还提供另一种放置于蒸镀坩埚中使用的导热装置,包括一导热筒10,所述导热筒10的横截面为具有三个角以上的星形,该星形的每个角均由两个导热板11围成,从而使得所述导热筒10由6个以上相互连接的导热板11组成,其中,每个导热板11上均设有数个通孔30,以使蒸镀坩埚内的材料联通及流动;如图5所示的导热装置的第三实施例中,导热筒10的横截面为具有四个角的星形;如图6所示的导热装置的第四实施例中,导热筒10的横截面为具有五个角的星形;该第二种的导热装置中,由于导热筒10本身呈辐射状,因此不需要在导热筒10的周围安装导热片,即可实现良好的导热均匀性。
具体的,组成所述导热筒10的数个导热板11可以一体成型,也可以通过焊接等方式固定连接在一起,甚至可通过可拆卸的方式活动连接在一起。
具体的,所述导热筒10的横截面为轴向对称图形,从而提高导热的均匀性。
具体的,所述导热筒10的材质一般为金属,如钛合金、铝合金、不锈钢等。
进一步的,请参阅图7,同时参阅图3至图6,本发明还提供一种蒸镀坩埚,包括坩埚本体50、放置于坩埚本体50内部的导热装置60、及设于所述坩埚本体50上方的坩埚盖70,所述导热装置60可以为如图3-4所示的第一种的导热装置,也可以为如图5-6所示的第二种的导热装置。
具体的,所述导热装置60的高度小于所述坩埚本体50的内部空间的高度,所述导热装置60的径向尺寸小于所述坩埚本体50的内部空间的径向尺寸。
综上所述,本发明提供的一种导热装置与蒸镀坩埚,所述导热装置包括一导热筒与安装于该导热筒上的数个导热片而呈辐射状,或包括一辐射状的导热筒而呈辐射状,通过在蒸镀坩埚中放入上述导热装置,经由导热装置的传热路径,可以使坩埚壁上的热量均匀的传递至坩埚的内部及中心,提高坩埚内部材料受热的均匀性,使得材料的蒸镀状态保持稳定,提高蒸镀效果;且该导热装置易加工,成本低,导热效果好,安装拆卸方便。
以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种导热装置,其特征在于,包括一导热筒(10)与安装于该导热筒(10)上的数个导热片(20),其中,所述导热筒(10)的侧壁与导热片(20)上均设有数个通孔(30)。
2.如权利要求1所述的导热装置,其特征在于,所述导热筒(10)的侧壁上设有位于数个通孔(30)之间的数个条形凹槽(15),所述数个条形凹槽(15)的延伸方向均平行于所述导热筒(10)的延伸方向,所述数个导热片(20)分别卡合于该数个条形凹槽(15)中。
3.如权利要求1所述的导热装置,其特征在于,所述导热筒(10)的横截面为圆形或轴向对称的凸多边形。
4.如权利要求1所述的导热装置,其特征在于,所述导热筒(10)与导热片(20)的材质为金属。
5.一种导热装置,其特征在于,包括一导热筒(10),所述导热筒(10)的横截面为具有三个角以上的星形,该星形的每个角均由两个导热板(11)围成,从而所述导热筒(10)由6个以上相互连接的导热板(11)组成,其中,每个导热板(11)上均设有数个通孔(30)。
6.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括坩埚本体(50)、放置于坩埚本体(50)内部的导热装置(60)、及设于所述坩埚本体(50)上方的坩埚盖(70),所述导热装置(60)包括一导热筒(10)与安装于该导热筒(10)上的数个导热片(20),其中,所述导热筒(10)的侧壁与导热片(20)上均设有数个通孔(30)。
7.如权利要求6所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述导热筒(10)的侧壁上设有位于数个通孔(30)之间的数个条形凹槽(15),所述数个条形凹槽(15)的延伸方向均平行于所述导热筒(10)的延伸方向,所述数个导热片(20)分别卡合于该数个条形凹槽(15)中。
8.如权利要求6所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述导热筒(10)的横截面为为圆形或轴向对称的凸多边形。
9.如权利要求6所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述导热装置(60)的高度小于所述坩埚本体(50)的内部空间的高度,所述导热装置(60)的径向尺寸小于所述坩埚本体(50)的内部空间的径向尺寸。
10.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括坩埚本体(50)、放置于坩埚本体(50)内部的导热装置(60)、及设于所述坩埚本体(50)上方的坩埚盖(70),所述导热装置(60)包括一导热筒(10),所述导热筒(10)的横截面为具有三个角以上的星形,该星形的每个角均由两个导热板(11)围成,从而所述导热筒(10)由6个以上相互连接的导热板(11)组成,其中,每个导热板(11)上均设有数个通孔(30)。
CN201610150210.8A 2016-03-16 2016-03-16 导热装置与蒸镀坩埚 Active CN105603364B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610150210.8A CN105603364B (zh) 2016-03-16 2016-03-16 导热装置与蒸镀坩埚
PCT/CN2016/080104 WO2017156827A1 (zh) 2016-03-16 2016-04-25 导热装置与蒸镀坩埚
US15/108,319 US20180148827A1 (en) 2016-03-16 2016-04-25 Thermal conduction device and vapor deposition crucible

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610150210.8A CN105603364B (zh) 2016-03-16 2016-03-16 导热装置与蒸镀坩埚

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105603364A true CN105603364A (zh) 2016-05-25
CN105603364B CN105603364B (zh) 2018-11-23

Family

ID=55983698

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610150210.8A Active CN105603364B (zh) 2016-03-16 2016-03-16 导热装置与蒸镀坩埚

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20180148827A1 (zh)
CN (1) CN105603364B (zh)
WO (1) WO2017156827A1 (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106947941A (zh) * 2017-04-13 2017-07-14 合肥鑫晟光电科技有限公司 蒸镀系统
CN109680246A (zh) * 2019-02-25 2019-04-26 深圳市华星光电技术有限公司 蒸镀组件
WO2019100557A1 (zh) * 2017-11-27 2019-05-31 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 零件切换装置以及蒸镀系统
CN110359014A (zh) * 2019-06-11 2019-10-22 惠科股份有限公司 一种蒸镀设备和坩埚装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1845313A (zh) * 2005-04-07 2006-10-11 神基科技股份有限公司 散热鳍片结构及其制造方法
KR100809930B1 (ko) * 2006-12-01 2008-03-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 증착원
CN103388123A (zh) * 2013-08-02 2013-11-13 深圳市华星光电技术有限公司 具有导热装置的坩埚
CN103556118A (zh) * 2013-10-12 2014-02-05 深圳市华星光电技术有限公司 蒸镀装置
CN104694883A (zh) * 2015-03-27 2015-06-10 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3960207A (en) * 1973-11-28 1976-06-01 Boer Karl W Heat exchange apparatus
JPH0558774A (ja) * 1991-09-03 1993-03-09 Sanyo Electric Co Ltd 炭化ケイ素単結晶成長装置用容器
JP2002246175A (ja) * 2001-02-16 2002-08-30 Sony Corp 有機材料薄膜の形成方法及びその装置、並びに有機電界発光素子の製造方法
ATE304222T1 (de) * 2001-06-05 2005-09-15 Heat Technology Inc Kühlkörperanordnung und seine herstellungsmethode
US20050211416A1 (en) * 2003-10-17 2005-09-29 Kenya Kawabata Heat sink with fins and a method for manufacturing the same
IL173373A0 (en) * 2006-01-26 2006-09-05 Nuclear Res Ct Negev Thermal energy storage apparatus
TW200934362A (en) * 2008-01-16 2009-08-01 Neng Tyi Prec Ind Co Ltd Method of manufacturing heat dissipaters having heat sinks and structure thereof
TWM337229U (en) * 2008-02-01 2008-07-21 Neng Tyi Prec Ind Co Ltd Heat dissipating element and heat radiator containing the same
US20100288209A1 (en) * 2009-04-08 2010-11-18 Allan Teron heat exchanger for a boiler
JP2011154929A (ja) * 2010-02-15 2011-08-11 Sun-Lite Sockets Industry Inc 排熱装置
US8383946B2 (en) * 2010-05-18 2013-02-26 Joinset, Co., Ltd. Heat sink
US8225527B2 (en) * 2010-07-08 2012-07-24 Aventa Technologies Llc Cooling apparatus for a web deposition system
CN102401358B (zh) * 2010-09-10 2016-08-03 欧司朗股份有限公司 冷却体的制造方法、冷却体以及具有该冷却体的照明装置
JP5185346B2 (ja) * 2010-09-15 2013-04-17 株式会社日本自動車部品総合研究所 ヒートシンク
US8696157B2 (en) * 2010-10-11 2014-04-15 Cool Lumens Heat sink and LED cooling system
US9513059B2 (en) * 2011-02-04 2016-12-06 Lockheed Martin Corporation Radial-flow heat exchanger with foam heat exchange fins
JP5512881B2 (ja) * 2011-03-30 2014-06-04 シャープ株式会社 蒸着処理システム及び蒸着処理方法
CN102760705A (zh) * 2011-04-27 2012-10-31 鼎元光电科技股份有限公司 散热器
TWM423207U (en) * 2011-10-13 2012-02-21 Yi-Ming Chen Heat-dissipation structure for light bulb
US20130118725A1 (en) * 2011-11-10 2013-05-16 Shyh-Ming Chen Heat Sink and Fins Thereof
TWI507860B (zh) * 2012-08-01 2015-11-11 Asia Vital Components Co Ltd 散熱器之結構及其製造方法
TWI475183B (zh) * 2012-08-01 2015-03-01 Asia Vital Components Co Ltd 散熱器結構及其製造方法
US9835390B2 (en) * 2013-01-07 2017-12-05 Nanotek Instruments, Inc. Unitary graphene material-based integrated finned heat sink
US20140284038A1 (en) * 2013-03-21 2014-09-25 Hamilton Sundstrand Corporation Heat exchanger design and fabrication
CN103409720B (zh) * 2013-08-23 2016-02-03 深圳市华星光电技术有限公司 一种镀膜机坩埚
TW201510459A (zh) * 2013-09-05 2015-03-16 Univ Nat Central 固液相變冷卻裝置
CN103938160A (zh) * 2014-03-06 2014-07-23 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚
CN104109834B (zh) * 2014-06-19 2016-06-15 合肥鑫晟光电科技有限公司 蒸镀机的蒸发源装置及蒸镀机

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1845313A (zh) * 2005-04-07 2006-10-11 神基科技股份有限公司 散热鳍片结构及其制造方法
KR100809930B1 (ko) * 2006-12-01 2008-03-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 증착원
CN103388123A (zh) * 2013-08-02 2013-11-13 深圳市华星光电技术有限公司 具有导热装置的坩埚
CN103556118A (zh) * 2013-10-12 2014-02-05 深圳市华星光电技术有限公司 蒸镀装置
CN104694883A (zh) * 2015-03-27 2015-06-10 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106947941A (zh) * 2017-04-13 2017-07-14 合肥鑫晟光电科技有限公司 蒸镀系统
CN106947941B (zh) * 2017-04-13 2019-12-06 合肥鑫晟光电科技有限公司 蒸镀系统
WO2019100557A1 (zh) * 2017-11-27 2019-05-31 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 零件切换装置以及蒸镀系统
CN109680246A (zh) * 2019-02-25 2019-04-26 深圳市华星光电技术有限公司 蒸镀组件
CN109680246B (zh) * 2019-02-25 2020-12-08 深圳市华星光电技术有限公司 蒸镀组件
CN110359014A (zh) * 2019-06-11 2019-10-22 惠科股份有限公司 一种蒸镀设备和坩埚装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN105603364B (zh) 2018-11-23
US20180148827A1 (en) 2018-05-31
WO2017156827A1 (zh) 2017-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105603364A (zh) 导热装置与蒸镀坩埚
CN104078626A (zh) 用于oled材料蒸镀的加热装置
CN203095854U (zh) 保温彩晶玻璃及冰柜
CN201751427U (zh) 一种线性蒸发源
CN104233196A (zh) 蒸镀坩埚和蒸镀装置
US20160260934A1 (en) Crucible for evapration of sublimate oled material
Yu et al. Simultaneous fast deformation and solidification in supercooled liquid gallium at room temperature
CN103263782A (zh) 一种基于半导体制冷片的冷凝装置
CN201614405U (zh) 一种旋转溅射靶
CN204231847U (zh) 一种半主动散热装置
CN103966555B (zh) 蒸镀源加热装置
CN102352981A (zh) 背光模块
CN101556122B (zh) 散热装置及其传热元件
CN103509987B (zh) 一种低熔点金属合金导热材料及其制备方法
CN204963633U (zh) 一种升华式相变换热装置
US20160355925A1 (en) Evaporation source device and evaporation apparatus
CN104864372A (zh) 一种液冷型led灯具
CN206387263U (zh) 一种可常温控温的晶体炉装置
CN103934539A (zh) 一种应用于靶材钎焊的加热平台
CN202555828U (zh) 锌粉熔化蒸发装置
CN106622425A (zh) 一种水浴加热装置
CN202576549U (zh) 镀膜靶台
CN204011401U (zh) 高效散热器具
CN205610365U (zh) 一种液体冷却电机定子
US20180295742A1 (en) Organic light emitting device and fabricating method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant