CN202576549U - 镀膜靶台 - Google Patents

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郑芳平
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Abstract

一种镀膜靶台,包括:支架;加热装置,设置在所述支架上;电源控制装置,设置所述支架底部,用于控制所述加热装置加热;粘靶台面,层叠地设置在所述加热装置上;靶材夹持件,嵌入式地设置在所述粘靶台面上;以及夹具结构,设置在所述支架上,用于夹持玻璃基板。在粘靶台面上设置靶材夹持件来代替通常的螺钉,能够防止螺钉、螺孔在加热的过程中造成的温度不均匀和可能出现的变形,使得热量能够充分均匀的被靶件吸收,提高了镀膜的效率和质量。

Description

镀膜靶台
技术领域
本实用新型涉及镀膜技术,尤其涉及一种镀膜靶台。
背景技术
目前,许多工业产品表面都镀有功能薄膜以改善产品表面的各种性能,例如TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display)表面也需要进行镀膜工艺。
镀膜工艺的硬件基础是镀膜靶台,传统的镀膜靶台中,铜备板是通过螺丝固定在靶台面上。在加热过程中,螺丝和螺孔会影响整个靶台面的温度分布,导致螺丝容易滑牙造成铜备板在加热过程中变形,进而造成加热过程中靶台面温度不均匀,加热效率差,从而影响镀膜效果。
实用新型内容
基于此,有必要针对靶台面在加热过程中受热不均匀的问题,提供一种热量较均匀的镀膜靶台。
一种镀膜靶台,包括:支架;加热装置,设置在所述支架上;电源控制装置,设置所述支架底部,用于控制所述加热装置加热;粘靶台面,层叠地设置在所述加热装置上;靶材夹持件,嵌入式地设置在所述粘靶台面上;以及夹具结构,设置在所述支架上,用于夹持玻璃基板。
在其中一个实施例中,所述靶材夹持件为双L形,所述L形开口朝内。
在其中一个实施例中,所述加热装置包括:加热件,产生热量的热源;导热件,与所述加热件连接,传导热量。
在其中一个实施例中,所述加热装置还包括:绝缘件,设置在所述加热件的底部,用于隔热。
在其中一个实施例中,所述加热件开设有收容槽,在所述收容槽中安装加热丝。
在其中一个实施例中,所述绝缘件内设有磁绝缘柱。
在其中一个实施例中,所述夹具结构包括:U形夹具,倒扣在所述支架上;玻璃基板夹具,设置在所述U形夹具内;以及紧固件,把所述玻璃基板夹具紧固在所述U形夹具内。
在其中一个实施例中,还包括挡板,所述挡板把所述支架包裹形成柜体。
在其中一个实施例中,还包括转轮,所述转轮设置在所述支架的端部。
在其中一个实施例中,还包括定位支架,所述定位支架设置在所述支架的底部。
在粘靶台面上设置靶材夹持件来代替通常的螺钉,能够防止螺钉、螺孔在加热的过程中造成的温度不均匀和可能出现的变形,使得热量能够充分均匀的被靶件吸收,提高了镀膜的效率和质量。
附图说明
图1为一个实施例中镀膜靶台的横向剖视图;
图2为一个实施例中镀膜靶台的纵向剖视图。
具体实施方式
现结合具体实施例,对镀膜靶台进行全面的阐述。
结合附图1~2,在一个实施例中,镀膜靶台包括:支架10,支架10是支撑镀膜靶台整体重量的框架体。支架10由强度较大的金属或合金制成,例如钢。
加热装置20,设置在支架10底部。加热装置20是在镀膜过程中必备的装置,一般是设置在支架10上。
电源控制装置30,设置支架10上,用于控制加热装置20加热。加热过程是通过电能转换成热能,加热的温度高低则由电源控制装置30进行调节控制,进而达到镀膜所需的温度值。
粘靶台面40,层叠的设置在加热装置20上。粘靶台面40是为靶材提供支持的平面,加热装置20通过粘靶台面40传递热量。
靶材夹持件50,嵌入式的设置在粘靶台面40上。靶材夹持件50设置在粘靶台面40上,用于夹持铜备板(图未示),铜备板也能更好的与粘靶台面40接触。在其它实施例中,靶材夹持件50为双L形,相对设置,L形开口向内,形成卡合的收容空间。采用L形靶材夹持件50,省略了传统的用螺钉把铜备板固定在粘靶台面40的方案,使得铜备板能更好的与粘靶台面40接触,加热速度更快,均匀性更好。另外,L形靶材夹持件50可设置多组,优选的为2组,能够提高加工的速度,减少加工的时间,从而节省加工的成本。
夹具结构60,设置在支架10上,用于夹持玻璃基板。在其它实施例中,夹具结构60包括:
U形夹具61,倒扣在支架10上。具体地,U形夹具61的两端部扣夹在支架10上,内部中空,可用于放置需要镀膜的玻璃基板。
玻璃基板夹具65,设置在U形夹具61内。具体地,玻璃基板夹具65的主体在U形夹具61的内部,用于夹持玻璃基板。
紧固件63,把玻璃基板夹具65紧固在U形夹具61内。具体地,紧固件63穿过U形夹具61的顶部把玻璃基板夹具65紧固在U形夹具61内。
采用本方案的镀膜靶台,省略了螺丝或螺孔把,铜备板也能更好的与粘靶台面40接触,加热速度更快,均匀性更好。而且铜备板也不会发生形变,铜备板与靶材能够更好的粘在一起,掉靶或加热功率加不上的情况也大幅减少。另外,采用L形靶材夹持件50,拆装更加方便,大大提高了工作效率。
在一实施例中,加热装置20包括:
加热件21,产生热量的热源。加热件21是镀膜靶台重要的加热器件,传统的是通过电能转换成热能的方式产生热源。加热件21的材料也会影响影响到加热源热量的传递,一般的应当使用高热导率的材料,例如铝或者铜。
在其它实施例中,加热件21开设有收容槽211,在收容槽211中安装加热丝。加热件21主要是通过加热丝发热产生热量,故可以根据加热的需要开设多个收容了加热丝的收容槽211,该加热丝可以是陶瓷管加热丝。为了能够使陶瓷管加热丝的热量充分而快速的传递,使用的时候,应当在收容槽211内涂一层导热胶。
导热件23,与加热件21连接,传导热量。导热件23传导加热件21所产生的热量,故导热件23一般都是由高热导率的材料做成,例如铜或铝。为了提高热量的传导速度,在加热件21与导热件23的接触面涂一层导热胶。
在其它实施例中,加热装置20还包括绝缘件25,设置在所述加热件21的底部,用于隔热。因为陶瓷管加热丝的非绝缘部分的材料占的比重相对较少,因此陶瓷管加热丝的热导率相对一般的加热源也很高。使用陶瓷管加热丝加热,热量能够快速的传递。为了防止热量的流失,在加热件21底部设置绝缘件25,防止热量从底部流失。在其它实施例中,绝缘件25内设有磁绝缘柱251,能够进一步的提高隔热的效果。
在一实施例中,镀膜靶台还包括挡板70,挡板70把支架10包裹形成柜体。因为支架10内中空,通过挡板70把支架10的四周以及底部包裹形成柜体。柜体的四周的挡板70设置为可灵活开启的活动门,里面可以以放置通常镀膜需要的工具,节省了镀膜设备所占的空间。
在一实施例中,镀膜靶台还包括转轮80,设置在支架10的端部。在支架10四个角的端部分别设置转轮80,该转轮80可以是多角度旋转,方便镀膜靶台的移动。在其它实施例中,可以根据镀膜靶台的设置,支架10可以设置为是三个角,则其端部就设置三个转轮80。
在一实施例中,镀膜靶台还包括定位支架90,设置在支架10的底部。当镀膜靶台移动至确定的位置,需要对镀膜靶台进行固定,防止其滑动,因此需要设置定位支架90。定位支架90通过旋转向地面延伸,把镀膜靶台支撑起来,防止镀膜靶台滑动。
通过在加热件21中安装的加热丝,加热的时候热量能够迅速、高效的从加热丝传递到粘靶台面40,同时,通过在粘靶台面40上设置靶材夹持件50来代替通常的螺钉,能够防止螺钉、螺孔在加热的过程中造成的温度不均匀和可能出现的变形,使得热量能够充分均匀的被靶件吸收,提高了镀膜的效率和质量。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种镀膜靶台,其特征在于,包括:
支架;
加热装置,设置在所述支架上;
电源控制装置,设置所述支架底部,用于控制所述加热装置加热;
粘靶台面,层叠地设置在所述加热装置上;
靶材夹持件,嵌入式地设置在所述粘靶台面上;以及
夹具结构,设置在所述支架上,用于夹持玻璃基板。
2.根据权利要求1所述的镀膜靶台,其特征在于,所述靶材夹持件为双L形,所述L形开口朝内。
3.根据权利要求1所述的镀膜靶台,其特征在于,所述加热装置包括:
加热件,产生热量的热源;
导热件,与所述加热件连接,传导热量。
4.根据权利要求3所述的镀膜靶台,其特征在于,所述加热装置还包括:
绝缘件,设置在所述加热件的底部,用于隔热。
5.根据权利要求4所述的镀膜靶台,其特征在于,所述加热件开设有收容槽,在所述收容槽中安装加热丝。
6.根据权利要求4所述的镀膜靶台,其特征在于,所述绝缘件内设有磁绝缘柱。
7.根据权利要求1所述的镀膜靶台,其特征在于,所述夹具结构包括:
U形夹具,倒扣在所述支架上;
玻璃基板夹具,设置在所述U形夹具内;以及
紧固件,把所述玻璃基板夹具紧固在所述U形夹具内。
8.根据权利要求1所述的镀膜靶台,其特征在于,还包括挡板,所述挡板把所述支架包裹形成柜体。
9.根据权利要求1所述的镀膜靶台,其特征在于,还包括转轮,所述转轮设置在所述支架的端部。
10.根据权利要求1所述的镀膜靶台,其特征在于,还包括定位支架,所述定位支架设置在所述支架的底部。
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CN110017318A (zh) * 2019-03-27 2019-07-16 先导薄膜材料(广东)有限公司 弹性绑定靶材的装置及方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107400862A (zh) * 2017-09-20 2017-11-28 武汉华星光电技术有限公司 靶材固定装置及靶材固定方法
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