CN105424735B - 含硫高分子复合材料中交联密度的测定方法 - Google Patents
含硫高分子复合材料中交联密度的测定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105424735B CN105424735B CN201510500386.7A CN201510500386A CN105424735B CN 105424735 B CN105424735 B CN 105424735B CN 201510500386 A CN201510500386 A CN 201510500386A CN 105424735 B CN105424735 B CN 105424735B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- ray
- sulfur
- crosslink density
- polymer composite
- sulphur atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 132
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 48
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 39
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000000342 Monte Carlo simulation Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000012800 visualization Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 claims description 41
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 9
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 claims 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 abstract description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 36
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 35
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 29
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 21
- 238000000833 X-ray absorption fine structure spectroscopy Methods 0.000 description 19
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 19
- 238000000192 extended X-ray absorption fine structure spectroscopy Methods 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 11
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 10
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 10
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 10
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002795 fluorescence method Methods 0.000 description 9
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 9
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000004636 vulcanized rubber Substances 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 4
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 4
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 4
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 4
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 3
- 238000004998 X ray absorption near edge structure spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- 238000004776 molecular orbital Methods 0.000 description 3
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010084 LiAlH4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000019155 Radiation injury Diseases 0.000 description 2
- 229920005683 SIBR Polymers 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005315 distribution function Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- KJRCEJOSASVSRA-UHFFFAOYSA-N propane-2-thiol Chemical compound CC(C)S KJRCEJOSASVSRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004613 tight binding model Methods 0.000 description 2
- 238000001845 vibrational spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910001148 Al-Li alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 238000000944 Soxhlet extraction Methods 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- FCVHBUFELUXTLR-UHFFFAOYSA-N [Li].[AlH3] Chemical compound [Li].[AlH3] FCVHBUFELUXTLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 description 1
- MAHNFPMIPQKPPI-UHFFFAOYSA-N disulfur Chemical compound S=S MAHNFPMIPQKPPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229920005555 halobutyl Polymers 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)cyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1NSC1=NC2=CC=CC=C2S1 DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005622 photoelectricity Effects 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000010058 rubber compounding Methods 0.000 description 1
- 238000011896 sensitive detection Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- QAZLUNIWYYOJPC-UHFFFAOYSA-M sulfenamide Chemical compound [Cl-].COC1=C(C)C=[N+]2C3=NC4=CC=C(OC)C=C4N3SCC2=C1C QAZLUNIWYYOJPC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000012932 thermodynamic analysis Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/06—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
- G01N23/083—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the radiation being X-rays
- G01N23/087—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the radiation being X-rays using polyenergetic X-rays
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/06—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
- G01N23/083—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption the radiation being X-rays
- G01N23/085—X-ray absorption fine structure [XAFS], e.g. extended XAFS [EXAFS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/44—Resins; Plastics; Rubber; Leather
- G01N33/445—Rubber
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/20—Sources of radiation
- G01N2223/203—Sources of radiation synchrotron
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
本发明提供一种可以给出含硫高分子复合材料中交联密度的详细信息的评价方法。本发明涉及一种测定含硫高分子复合材料中交联密度的方法,该方法包括:使用高强度X射线照射含硫高分子复合材料,并在改变X射线的能量的同时测定该复合材料的X射线吸收谱的测定步骤;通过反向蒙特卡罗方法,基于X射线吸收谱来确定含硫高分子复合材料中硫原子的三维结构的可视化步骤;基于硫原子的三维结构计算硫原子的每种键合数的交联密度的计算步骤。
Description
技术领域
本发明涉及一种测定含硫高分子复合材料中交联密度的方法。
背景技术
一种用于分析使用含硫化合物如硫的硫化剂来交联的硫化橡胶中硫交联结构的已知方法是利用试剂例如,LiAlH4或丙烷-2-硫醇选择性地断裂交联,并根据Flory-Rehner公式(例如,参考非专利文献1)基于断裂前后的膨胀量来计算硫化橡胶中一硫化物键(R-S1-R)、二硫化物键(R-S2-R)以及多硫化物键(R-Sn-R(n≥3))的交联密度(mol/cm3)。
引用文献
非专利文献1:Hideo Nakauchi,及其他四人,"NIPPON GOMU KYOKAISHI",1987,.60卷,第5期,267-272页。
发明内容
技术问题
通常认为如果可以控制含硫高分子复合材料例如使用含硫化合物交联的硫化橡胶中的硫交联结构,则可以精确地控制含硫高分子复合材料所需的性能,例如机械性能。因此,分析含硫高分子复合材料中的硫交联结构对于控制所需的性能来说是非常重要的。
虽然如上所述用于分析硫化橡胶中的硫交联结构的方法是公知的,但是该常规方法仅能计算硫化橡胶中三种硫化物键的交联密度,即一硫化物键(R-S1-R)、二硫化物键(R-S2-R)、多硫化物键(R-Sn-R(n≥3))的交联密度。此外,优先断裂多硫化物键(R-Sn-R(n≥3))的丙烷-2-硫醇,通常由于其气味强烈而无法使用。因此,经常通过计算如下两种硫化物键的交联密度:一硫化物键(R-S1-R)、包括二硫化物键的多硫化物键(R-Sn-R(n≥2)),来分析硫交联结构。然而,这种方法无法揭示多硫化物键(R-Sn-R(n=2,3,4,5,6,7,8))的细节,对于通过控制硫交联结构来控制所需的性能来说是不充足的。因此,对于更详细地分析硫交联结构来说依然存在改善的空间。
本发明旨在解决上述问题并提供一种可以给出含硫高分子复合材料中交联密度的详细信息的评价方法。
解决问题的方法
本发明涉及一种测定含硫高分子复合材料中交联密度的方法,该方法包括:
测定步骤:使用高强度X射线照射含硫高分子复合材料,并在改变X射线的能量的同时测定该复合材料的X射线吸收谱;
可视化步骤:利用反向蒙特卡罗法,基于X射线吸收谱来确定含硫高分子复合材料中硫原子的三维结构;以及
计算步骤:基于硫原子的三维结构计算硫原子的每种键合数的交联密度。
该复合材料优选使用能量范围为2300至4000eV的X射线进行扫描以测定硫的靠近K壳层吸收端的X射线吸收谱。
X射线的光子数优选为107光子/秒以上,其辉度优选为1010光子/s/mrad2/mm2/0.1%bw以上。
发明效果
本发明的方法通过下述步骤测定含硫高分子复合材料中的交联密度:使用高强度X射线照射含硫高分子复合材料,并在改变X射线的能量的同时测定该复合材料的X射线吸收谱;通过反向蒙特卡罗法,基于X射线吸收谱来确定含硫高分子复合材料中硫原子的三维结构;基于硫原子的三维结构计算硫原子的每种键合数的交联密度。因此,能够获得含硫高分子化合物中交联密度的详细信息。
附图说明
图1为显示实施例1中获得的在硫的靠近K壳层吸收端的X射线吸收谱的曲线图。
图2为显示从实施例1中得到的在硫的靠近K壳层吸收端的X射线吸收谱中提取的在K空间中的EXAFS振动光谱的曲线图。
图3为显示通过将实施例1中获取的EXAFS振动光谱与k3相乘获得的光谱的曲线图。
具体实施方式
本发明涉及一种测定含硫高分子复合材料中交联密度的方法,该方法包括:测定步骤,其使用高强度X射线照射含硫高分子复合材料,并在改变X射线的能量的同时测定该复合材料的X射线吸收谱;可视化步骤,其通过反向蒙特卡罗法,基于X射线吸收谱来确定含硫高分子复合材料中硫原子的三维结构;以及计算步骤,其基于硫原子的三维结构计算硫原子的每种键合数的交联密度。本发明中,具有1~8个硫原子的每种不同的硫化物键(R-Sn-R(1≦n≦8))的硫化物键的数量可以通过使用反向蒙特卡罗法拟合在测定步骤中获得的X射线吸收谱来确定。基于获得的数据,可以计算硫的每种键合数的交联密度。因此,能够获得比现有技术更详细的含硫高分子复合材料中交联密度的信息。
本发明的测定方法可以在包括上述步骤的基础上包含其它步骤。
本发明的测定步骤包括使用高强度X射线照射含硫高分子复合材料(以下,也简称为“样品”)并在改变X射线的能量的同时测定该复合材料的X射线吸收谱。在上述测定步骤中,例如,通过XAFS(X-ray absorption fine structure:靠近吸收端的X射线吸收的精细结构)光谱法来测定X射线吸收谱。
硫的靠近K壳层吸收端的XAFS可用于测定含硫高分子复合材料例如使用含硫化合物(例如,硫的硫化剂)形成的橡胶材料中的交联密度。
XAFS光谱法通过使用X射线照射测定目标原子所吸收的X射线的量,其利用X射线能量吸收因化学状态(键合)而改变的事实能详细地分析化学状态(键合)。然而,含硫高分子复合材料包含多种具有不同键长的硫交联,例如一硫化物键、二硫化物键、和多硫化物键。在光谱中检测出的这些键的能量峰彼此接近。此外,当加入氧化锌时,会生成硫化锌,其光谱也可被观察到。如上所述,由于含硫高分子复合材料中硫原子的化学状态很复杂,故从含硫高分子复合材料中获得的XAFS光谱倾向于比那些没有硫组分的高分子材料的光谱更宽。因此,需要更精确的测量方法以分析含硫高分子复合材料。为了通过XSFS光谱获得高度精确的测量,可以使用高强度的X射线。
此外,在XAFS分析中,靠近吸收端的X射线吸收结构(XANES)的区域涉及距吸收端在约50eV以内的峰(观察到吸收上升处的能量)出现的区域,延展的X射线吸收的精细结构(EXAFS)的区域涉及在更高的能量处缓慢震荡的区域。在XANES区域中,当使用在目标原子的靠近吸收端的X射线照射样品时,核心能级(core-level)电子被激发发生跃迁。因此,XANES区域提供了与目标原子键合的原子类型相关的信息(即化学状态)。另一方面,在EXFS区域中,核心电子脱离原子核的束缚,并作为光电子射出。由于射出的光电子可以被视作波,故如果附近存在其它原子,光电子波会被邻近原子散射回来造成干扰。因此,EXAFS区域可以提供围绕中心原子的原子数量、原子种类、原子间的距离等相关的信息。另外,在本发明中,在下述的可视化步骤中使用的X射线吸收谱,优选为通过硫的靠近K壳层吸收端的XAFS测量得到的EXAFS光谱(以下,也称为“EXAFS振动”)。
在本发明的测定方法中使用的含硫高分子复合材料可以是使用含硫化合物如硫的硫化剂交联的任何高分子复合材料,并且具有硫交联结构。其例子包括传统上已知的硫交联的橡胶组合物例如通过交联包含含硫化合物如硫的硫化剂、橡胶组分、和其它混合材料的橡胶组合物得到的硫化橡胶组合物。
含硫化合物的例子包括粉末硫、沉淀硫、胶态硫、不溶性硫、高分散性硫、和其它硫的硫化剂。
橡胶组分的例子包括二烯橡胶例如天然橡胶(NR)、聚异戊二烯橡胶(IR)、聚丁二烯橡胶(BR)、苯乙烯丁二烯橡胶(SBR)、丙烯腈丁二烯橡胶(NBR)、氯丁橡胶(CR)、丁基橡胶(IIR)、卤化丁基橡胶(X-IIR)、和苯乙烯异戊二烯丁二烯橡胶(SIBR)。此外,该橡胶成分可以含有一种或多种改性基团如羟基或氨基。另外,各种弹性体可被用作橡胶组分。
此外,上文列出的橡胶的复合材料和一种或多种树脂也可以用作橡胶组分。所述树脂没有特别的限定,其例子包括橡胶工业领域中通常使用的种类,如C5脂肪族石油树脂、环戊二烯石油树脂、和其它石油树脂。
所述含硫高分子复合材料可以适当地包含在橡胶领域中已知的配合材料,其包括,例如,填料如炭黑或二氧化硅、硅烷偶联剂、氧化锌、硬脂酸、抗氧化剂、蜡、油、除硫之外的硫化剂、硫化促进剂等。这种橡胶材料(橡胶组合物)可通过进行已知的捏合工序、硫化工序等来制备。橡胶材料的例子包括轮胎用硫化橡胶材料(轮胎用硫化橡胶组合物)。
具体来说,例如,下述的透射法、荧光法和电子产额法通常用作使用高强度X射线照射样品并在改变X射线的能量的同时测量X射线吸收谱的方法。
(透射法)
这是一种用于检测透过样品的X射线的强度的方法。例如,为了测定透射光的强度,可以使用光电二极管阵列检测器。
(荧光法)
这是一种用于检测使用X射线照射样品时产生的荧光X射线的方法。该检测中使用莱特尔探测器、半导体检测器等。在透射法中,如果测定少量包含在样品中的元素的X射线吸收,则获得具有较差的S/B比率的光谱,这是因为其信号较弱,同时大量包含在样品中的元素的X射线吸收所导致的背景较强。与此相反,在荧光法中(特别是使用能量色散检测器等时),只能检测到来自目标元素的荧光X射线,而大量包含的元素具有较小的影响。基于这个理由,就测量少量包含的元素的X射线吸收谱来说,这种方法是有效的。另外,由于荧光X射线具有高穿透力(与物质的相互作用低),故样品内部生成的荧光X射线可被检测。因此,该方法是继透射法之后第二个最适合获取整体信息的方法。
(电子产额法)
这是一种用于使用X射线照射样品时检测电流的方法。因此,样品必须是导电材料。该方法特征在于表面灵敏性(样品表面下约几纳米深的信息)。用X射线照射样品引发电子从元素中逃逸。由于电子与物质有很强的相互作用,故它们在物质中的平均自由路径较短。
因此,透射法作为通过检测入射光的强度和透过样品的X射线的强度来测定X射线吸收的基础的XAFS测定方法,提供了关于样品的整体信息。因此,该方法的特点是难以在化合物的测定中使用,除非化合物的浓度不低于一定的水平(例如,百分之几(重量)以上)。作为表面灵敏方法的电子产额法,可以提供在样品表面下约几十个纳米深度处的信息。另一方面,荧光法的特征在于与所述电子产额法相比,提供表面下更深深度处的信息,并且在低浓度下依然能够测定化合物。在本发明中,适于使用荧光法。
然后下文对荧光法进行更详细地说明。
荧光法包括监测使用X射线照射样品时产生的荧光X射线,其根据X射线吸收量和荧光X射线的强度之间的比例关系,由荧光X射线的强度间接地确定X射线吸收。荧光法通常使用电离室或半导体检测器,如硅漂移检测器(SDD)或硅条检测器(SSD)来进行。虽然使用电离室提供了相对容易的测量,但是它难以进行能量分离,并且还会增加背景,这是因为由样品散射的X射线或来自目标元素之外的元素的荧光X射线也可以进入电离室。因此,需要在样品和检测器之间放置太阳能狭缝或过滤器。另一方面,使用SDD或SSD可以实现高灵敏检测和能量分离,因此,它可以仅检测来自于目标元素的荧光X射线,从而提供具有良好的S/B比率的测量。
测定步骤中使用的X射线优选具有107光子/秒以上的光子数。这样的X射线能够进行高精确的测定。X射线的光子数更优选为109光子/秒以上。X射线的光子数的上限没有特别的限定,但所使用的X射线的强度优选足够低以致不会造成辐射损伤。
测定步骤中使用的X射线的辉度优选为1010光子/s/mrad2/mm2/0.1%bw以上。
XAFS光谱,其包括扫描X射线能量,需要连续X射线生成器作为光源。另外,需要具有高S/N比率和S/B比率的X射线吸收谱对化学状态进行详细分析。因此,对于XAFS测定来说最合适的是同步加速器,其是连续的X射线源且发射辉度为1010光子/s/mrad2/mm2/0.1%bw以上的X射线,其中“bw”是指从同步加速器中发射的X射线的频带宽度。X射线的辉度更优选为1011光子/s/mrad2/mm2/0.1%bw以上。X射线的辉度的上限没有特别的限定,但所使用的X射线的强度优选足够低以致不会造成辐射损伤。
在测定步骤中,优选使用能量范围为2300eV至4000eV的X射线扫描复合材料。通过在上述范围内的X射线的扫描可以测定硫的靠近K壳层吸收端的X射线吸收谱,并且可以获得样品中的硫原子的化学状态的信息。能量范围更优选为2350eV至3500eV。
本发明中的可视化步骤包括:通过反向蒙特卡罗方法,由在测定步骤中获得的X射线吸收谱来确定所述含硫高分子复合材料中的硫原子的三维结构。
反向蒙特卡罗方法评估与中子或X射线衍射数据一致的三维结构,并且还可以用于EXAFS光谱。通过硫的靠近K壳层吸收端的XAFS测定获得的EXAFS振动χ(k)由使用EXAFS振动χ1(k,r)的下式(1)表示,EXAFS振动χ1(k,r)对应于单个散射原子在距离r上的贡献。
(gαβ(r):径向分布函数,ρ:电子密度,k:波数
在反向蒙特卡罗法中,首先,将粒子预期的三维配置视作初始配置,由该三维配置计算EXAFS振动Ecalc(k),然后使用随机数等改变粒子的三维配置,接下来计算Ecalc(k)。重复该过程直到Ecalc(k)是与实际的EXAFS振动Eexp(k)相一致。具体来说,通过重复该计算直到如下式(2)所示的X2收敛来确定结构(配置)。
可以基于全电子实空间相对论的Green函数方式如FEFF,使用从头自洽的实空间多散射计算程序,根据基于预先计算的每种三维配置计算Ecalc(k)。
(:标准偏差)
以这种方式,含硫高分子复合材料中的硫原子的三维结构可以通过反向蒙特卡罗方法由测定步骤中获得的X射线吸收谱来确定。
本发明中的计算步骤包括根据可视化步骤中确定的硫原子的三维结构来计算硫原子的每种键合数的交联密度。具体来说,基于可视化步骤中确定的硫原子的三维结构来计算具有1~8个硫原子的每种不同的硫化物键(R-Sn-R(1≤n≤8))的硫化物键的数量,然后根据下式(3)可以计算出不同的硫化物键的交联密度。
式(3)中的BOX的尺寸自动由样品中的硫原子的数量密度和硫粒子的数量来确定。
样品中硫原子的数量密度可以通过样品中参与交联的硫原子的量和样品的密度来计算,如下文实施例所述。
硫粒子的数量可以任意设定。优选较大的数量,因为其导致结果(交联密度)更精确。然而,数量过大将导致复杂和庞大的计算,这是基本上不可能进行的。因此,需要在可以计算的范围内将硫粒子的数量设置得尽可能大。
例如,硫粒子的数量可以通过如下方法进行设定。
由于推定样品包含具有八个硫原子的多硫化物键,故BOX的尺寸需要可以容纳多硫化物键。然后,由于通过分子轨道计算确定的结构稳定的多硫化物键具有的S-S原子间距离,故BOX的一边的长度需要为至少因此,设定粒子的数量使得BOX的一边的尺寸在以上。
如上所述,本发明中用于测定含硫高分子复合材料中的交联密度的方法可以用于提供比现有技术更详细的与含硫高分子复合材料中的交联密度相关的信息。
实施例
本发明将参考实施例进行详细说明,然而,本发明的范围并不限于实施例。
[样品的制备]
按照下列配方,使用除了硫和硫化促进剂之外的材料将KOBE STEEL公司生产的1.7L班伯里密炼机填充至其体积的58%。以80rpm捏合上述材料至温度达到140℃(步骤1)。根据下列配方向步骤1中获得的混合后的物质中加入硫和硫化促进剂,并将它们在160℃下硫化20分钟以获得橡胶样品(步骤2)。
配方如下:50质量份天然橡胶、50质量份聚丁二烯橡胶、60质量份炭黑、5质量份油、2质量份的抗氧化剂、2.5质量份蜡、3质量份氧化锌、2质量份硬脂酸、1.2质量份硫粉、和1质量份的硫化促进剂。所使用的材料列举如下。
天然橡胶:TSR20
聚丁二烯橡胶:BR150B,由宇部兴产株式会社生产。
炭黑:SHOBLACK N351,由卡博特日本KK公司生产
油:操作油X-140,由日本能源株式会社生产
抗氧化剂:NOCRAC 6C(N-1,3-二甲基丁基-N'-苯基-对苯二胺),由大内新兴化学工业株式会社生产
蜡:OZOACE 0355,由日本精蜡株式会社制造
氧化锌:Ginrei R,由东邦氧化锌株式会社制造
硬脂酸:Tsubki,由日油株式会社制造
硫粉(含5%油):经5%油处理的硫粉(含有5质量%油的可溶性硫),由鹤见化学工业株式会社制造
硫化促进剂:Nocceler CZ(N-环己基-2-苯并噻唑亚磺酰胺),由大内新兴化学工业株式会社生产
(实施例1)
(1)XAFS分析
所获得的橡胶样品经历在硫的靠近K壳层吸收端的XAFS测定以获得XAFS光谱。
图1所示为获得的XAFS光谱。在图1中,μ表示吸光度,μ0表示目标原子被孤立时的吸光度。
根据下述测定条件进行XAFS测定
(使用的设备)
XAFS:在SPring-8的BL27SU中B分支的XAFS光谱仪
(测定条件)
辉度:1×1016光子/s/mrad2/mm2/0.1%bw
光子数:5×1010光子/秒
单色器:晶体单色器
检测器:SDD(硅漂移探测器)
测定方法:荧光法
能量范围:2360eV至3500eV
EXAFS振动从获得的XAFS光谱中获取。EXAFS振动χ(k)根据下式(4)从XAFS光谱中获取。
其中,μ(k)表示吸光度,μ0(k)表示目标原子被孤立时的吸光度。
图2所示为在k空间中获得的EXAFS振动。如图2所示,振动随着k值的增加而增大,其导致分析困难。因此,将χ(k)与k3相乘。图3所示为相乘后的光谱。
为了确定原子间的距离或配位数,k空间表示需要被转换成真实空间表示。如图3所示,噪声随着k值增加而增加。因此,在没有噪声部分的范围(即如图3中双头箭头所示的范围)内进行傅立叶变换,以为橡胶样品产生在真实空间中的径向分布函数。
然后,对经傅立叶变换后的光谱进行逆傅立叶变换以获得实际的EXAFS振动Eexp(k)。所得到的光谱与除去噪声的图3中的光谱相对应。
(2)反向蒙特卡罗(RMC)计算
橡胶样品中硫原子的三维结构是通过反向蒙特卡罗方法,根据实际的EXAFS振动Eexp(k)测得的。
反向蒙特卡罗计算在以下计算条件下进行。
程序:RMC_POT
初始配置:7400个粒子随机放置。
硫原子的数量密度:数量密度按照下述方法测得。
可以基于全电子实空间相对论的Green函数方式,使用从头自洽的实空间多散射计算程序(FEFF),根据基于预先计算的每种三维配置计算用于反向蒙特卡罗计算中的Ecalc(k)。
该计算在以下限制条件下进行。
(ⅰ)S-S原子间距离不短于
(ⅱ)硫的配位数为2。
(ⅲ)基于分子轨道计算的结果确定的硫-硫键角为120~145度。
(3)硫原子的数量密度
根据JIS K 6229标准,通过索氏提取法除去橡胶中没有参与成键的化学试剂,如游离硫(未参与交联的硫)、油、蜡、和抗氧化剂。具体地说,在索氏提取器的最下部处设置的提取烧瓶中装满丙酮,将20mg用剪刀精细切割后的橡胶样品放在纸上或放入烧结的玻璃容器中,将其放置在中央部,以及将冷凝器连接到最上部。然后提取24小时。
在通过提取除去橡胶中没有参与成键的化学试剂后,根据JIS K6222,“橡胶配合剂-硫-试验方法”测定参与交联的硫原子的量(质量%)。
另外,在通过提取除去橡胶中没有参与成键的化学试剂后,根据JIS Z8807,“测量固体的密度和比重的方法”测定橡胶样品的密度。
根据参与交联的硫原子的量与橡胶样品的密度确定橡胶样品中硫原子的数量密度[原子
(4)交联密度的计算
基于上述确定的橡胶样品中硫原子的三维结构,对于具有1~8个硫原子的每种不同的硫化物键(R-Sn-R(1≤n≤8))计算出硫化物键的数量,然后根据下式(3)计算出不同的硫化物键(R-Sn-R(1≤n≤8))的交联密度。硫化物键的交联密度表示在表1中。
由于发现通过分子轨道计算确定的结构稳定的多硫化物键的S-S原子间距离为2.0至故认为S-S原子间距离为2.0至的硫原子间形成了S-S键。
式(3)中的BOX的尺寸自动由橡胶样品中硫原子的数量密度和反向蒙特卡罗计算中设定的硫的粒子数确定。
(对照例1)
(1)测定样品的制备
将得到的橡胶样品的测试片(2cm×2cm,厚度为1mm)浸入四氢呋喃和甲苯(1:1)的溶液混合物中一天,以使试验片溶胀。将所得溶胀样品标记为样品(a)。
另外,将得到的橡胶样品的测试片(2cm×2cm,厚度为1mm)浸入溶解了过量的氢化铝锂(的LiAlH4)的四氢呋喃和甲苯(1:1)的溶液混合物中一天,以使试验片溶胀。将所得的溶胀样品标记为样品(b)。
(2)热力学分析(TMA)
使用热力学分析仪(商品名“TMA-50”,由SHIMADZU CORPORATION公司制造)测定溶胀橡胶样品(a)和(b)的压缩性能。
(3)交联密度的计算
利用Flory-Rehner公式,由溶胀橡胶样品(a)的压缩性能计算包括全部交联的总交联密度νT,以及由溶胀橡胶样品(b)的压缩性能计算一硫化物键(R-S1-R)的交联密度νM。然后求出νT和νM之间的差值,并将其用作包括二硫化物键的多硫化物键(R-Sn-R(2≦n≦8)的交联密度νP(νP=νT-νM)。结果表示在表1中。
【表1】
由表1的结果可知,如下结果显示在使用测定含硫高分子复合材料的交联密度的方法的实施例1中:硫原子的每种键合数的交联密度根据通过反向蒙特卡罗方法确定的含硫高分子复合材料中的硫原子的三维结构计算,由此获得了比现有技术更详细的含硫高分子复合材料中交联密度的信息,实施例1中所用的方法包括:使用高强度X射线照射含硫高分子复合材料,并在改变X射线的能量的同时测定该复合材料的X射线吸收谱的测定步骤;通过反向蒙特卡罗方法,基于X射线吸收谱来确定含硫高分子复合材料中硫原子的三维结构的可视化步骤;以及基于硫原子的三维结构计算硫原子的每种键合数的交联密度的计算步骤。
Claims (2)
1.一种测定含硫高分子复合材料中交联密度的方法,该方法包括:
测定步骤:使用能量范围为2300~4000eV的X射线照射所述含硫高分子复合材料,并在改变X射线的能量的同时测定所述复合材料的X射线吸收谱;
可视化步骤:通过反向蒙特卡罗方法,基于X射线吸收谱来确定所述含硫高分子复合材料中硫原子的三维结构;以及
计算步骤:基于硫原子的三维结构计算硫原子的每种键合数的交联密度,
其中,基于可视化步骤中确定的硫原子的三维结构来计算具有1~8个硫原子的每种不同的硫化物键的硫化物键的数量,然后根据式(3)计算出不同的硫化物键的交联密度:
式中,盒子的尺寸自动由所述含硫高分子复合材料中的硫原子的数量密度和反向蒙特卡罗计算中设定的硫粒子的数量来确定,硫化物键的交联密度的单位为mol/cm3,盒子的边的单位为cm。
2.如权利要求1所述的方法,
其中,在测定步骤中,X射线的光子数为107光子/秒以上,以及X射线的辉度为1010光子/s/mrad2/mm2/0.1%bw以上。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014-185411 | 2014-09-11 | ||
JP2014185411 | 2014-09-11 | ||
JP2015-130060 | 2015-06-29 | ||
JP2015130060A JP6374355B2 (ja) | 2014-09-11 | 2015-06-29 | 硫黄含有高分子複合材料における架橋密度の測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105424735A CN105424735A (zh) | 2016-03-23 |
CN105424735B true CN105424735B (zh) | 2019-11-08 |
Family
ID=54325298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510500386.7A Active CN105424735B (zh) | 2014-09-11 | 2015-08-14 | 含硫高分子复合材料中交联密度的测定方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9874530B2 (zh) |
EP (1) | EP2995946B1 (zh) |
CN (1) | CN105424735B (zh) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6912999B2 (ja) * | 2017-10-25 | 2021-08-04 | Toyo Tire株式会社 | 高分子材料の硫黄架橋構造解析方法 |
KR20210094384A (ko) * | 2020-01-21 | 2021-07-29 | 삼성전자주식회사 | 실시간 경화 밀도의 측정 장치 및 측정 방법과 경화물 및 그 제조 방법 |
CN112881662A (zh) * | 2021-02-01 | 2021-06-01 | 中策橡胶集团有限公司 | 一种填料在橡胶补强程度的检测方法及其应用 |
CN113024914A (zh) * | 2021-02-02 | 2021-06-25 | 中策橡胶集团有限公司 | 一种炭黑补强程度检测的标准橡胶组合物体系及其混炼方法和应用 |
CN118465199A (zh) * | 2024-07-11 | 2024-08-09 | 江华新材料科技(江苏)有限公司 | 一种聚乳酸无纺布的抗菌性能检测方法及装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103068893A (zh) * | 2010-08-06 | 2013-04-24 | 住友化学株式会社 | 热塑性聚合物制交联发泡成形体的交联密度的测定方法、及交联发泡成形体 |
CN103250048A (zh) * | 2010-12-16 | 2013-08-14 | 住友橡胶工业株式会社 | 劣化剖析方法 |
CN103890572A (zh) * | 2011-11-18 | 2014-06-25 | 住友橡胶工业株式会社 | 模拟橡胶材料的方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6176945B1 (en) * | 1998-04-01 | 2001-01-23 | University Of Western Ontario | Coating technique |
US7431969B2 (en) * | 2005-08-05 | 2008-10-07 | Massachusetts Institute Of Technology | Chemical vapor deposition of hydrogel films |
US9851342B2 (en) * | 2011-11-04 | 2017-12-26 | Sumitomo Rubber Industries, Ltd. | Deterioration analyzing method |
-
2015
- 2015-08-13 US US14/825,642 patent/US9874530B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2015-08-13 EP EP15180927.4A patent/EP2995946B1/en active Active
- 2015-08-14 CN CN201510500386.7A patent/CN105424735B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103068893A (zh) * | 2010-08-06 | 2013-04-24 | 住友化学株式会社 | 热塑性聚合物制交联发泡成形体的交联密度的测定方法、及交联发泡成形体 |
CN103250048A (zh) * | 2010-12-16 | 2013-08-14 | 住友橡胶工业株式会社 | 劣化剖析方法 |
CN103890572A (zh) * | 2011-11-18 | 2014-06-25 | 住友橡胶工业株式会社 | 模拟橡胶材料的方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
橡胶的交联密度与测定方法;王作龄;《世界橡胶工业》;19981231;第25卷(第4期);41-42 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160077024A1 (en) | 2016-03-17 |
CN105424735A (zh) | 2016-03-23 |
EP2995946A1 (en) | 2016-03-16 |
EP2995946B1 (en) | 2017-05-24 |
US9874530B2 (en) | 2018-01-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105424735B (zh) | 含硫高分子复合材料中交联密度的测定方法 | |
JP6657664B2 (ja) | 化学状態測定方法 | |
JP6544098B2 (ja) | 硫黄含有高分子複合材料における架橋密度の測定方法 | |
JP5964850B2 (ja) | 劣化解析方法 | |
JP6348295B2 (ja) | 硫黄の化学状態を調べる方法 | |
JP5486073B1 (ja) | 劣化解析方法 | |
US10168289B2 (en) | Method for evaluating crosslink concentration in crosslinked rubber | |
US10794893B2 (en) | Method for estimating abrasion resistance and fracture resistance | |
JP6374355B2 (ja) | 硫黄含有高分子複合材料における架橋密度の測定方法 | |
JP6219607B2 (ja) | 化学状態測定方法 | |
JP2018096905A (ja) | 耐摩耗性能予測方法 | |
JP6769123B2 (ja) | 架橋密度の測定方法 | |
JP2019045196A (ja) | フィラー及び硫黄を含有する高分子複合材料における、モノスルフィド結合の結合量、ジスルフィド結合の結合量、ポリスルフィド結合の結合量、及び、フィラー界面の結合量の測定方法 | |
JP7167546B2 (ja) | 架橋構造可視化方法 | |
JP6912999B2 (ja) | 高分子材料の硫黄架橋構造解析方法 | |
JP2015132518A (ja) | 硫黄の化学状態を調べる方法 | |
JP5805043B2 (ja) | 劣化解析方法 | |
JP6822160B2 (ja) | 高分子複合材料のシート切れ評価方法 | |
JP2019078669A (ja) | 高分子材料の硫黄架橋構造解析方法 | |
JP6371174B2 (ja) | 硫黄の化学状態を調べる方法 | |
US20230324315A1 (en) | Method for estimating abrasion resistance | |
JP6050174B2 (ja) | 劣化解析方法 | |
JP6371109B2 (ja) | 硫黄の化学状態を調べる方法 | |
JP2020176900A (ja) | 高分子材料の硫黄架橋密度評価方法 | |
JP2017219438A (ja) | 高分子複合材料中の高分子の配向度を評価する方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |