CN105339455A - 光学膜用粘合剂组合物、光学膜用粘合剂层、带粘合剂层光学膜、液晶显示装置以及层叠体 - Google Patents

光学膜用粘合剂组合物、光学膜用粘合剂层、带粘合剂层光学膜、液晶显示装置以及层叠体 Download PDF

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Abstract

本发明的目的在于提供一种光学膜用粘合剂层和能够形成该光学膜用粘合剂层的光学膜用粘合剂组合物，所述光学膜用粘合剂层即使在加热加湿下对包含在透明导电层上通过粘合剂层层叠偏振板等光学膜而成的构成的层叠体进行保存时，也能够抑制所述透明导电层的表面电阻值上升。此外，本发明的目的还在于提供一种以在光学膜的一个面上具有所述光学膜用粘合剂层为特征的带粘合剂层光学膜、以使用所述带粘合剂层光学膜为特征的液晶显示装置、以将所述带粘合剂层光学膜的粘合剂层与透明导电性膜的透明导电层进行贴合为特征的层叠体。本发明涉及一种光学膜用粘合剂组合物，其特征在于，含有由以(甲基)丙烯酸烷基酯为主要成分的单体成分聚合而得到的(甲基)丙烯酸系聚合物、和磷酸酯系化合物，其中，所述(甲基)丙烯酸烷基酯具有碳原子数4～18的烷基。

Description

光学膜用粘合剂组合物、光学膜用粘合剂层、带粘合剂层光学膜、液晶显示装置以及层叠体
技术领域
本发明涉及光学膜用粘合剂组合物、光学膜用粘合剂层、带粘合剂层光学膜、液晶显示装置以及层叠体。
背景技术
近年来，在包含透明树脂膜或玻璃板的透明基材的一个面，形成有氧化铟锡(ITO)薄膜等透明导电层的透明导电性层叠体被广泛用于各种用途。
例如已知，上述透明导电层是在使用了共面转换(IPS，In-PlaneSwitching)方式等液晶单元的液晶显示装置的与构成液晶单元的透明基板的液晶层接触的一侧的相反侧形成，作为防静电层。此外，也已知在透明树脂膜上形成了上述透明导电层的透明导电性膜可用于触摸面板的电极基板。有时这样的透明导电层上通过粘合剂层形成偏振板。
作为光学元件用粘合剂已知有很多种类，例如已知，以含有侧链上有羟基和环氧烷烃链的丙烯酸系共聚物、离子化合物、固化剂和磷酸酯化合物为特征的防静电丙烯酸系粘合剂(例如，参照专利文献1)。专利文献1的粘合剂适合用作偏振板等光学元件的表面保护粘合膜用的粘合剂。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2007-2111号公报
发明内容
发明要解决的问题
如上所述，透明导电层上有时通过粘合剂层层叠偏振板。作为该偏振板，广泛使用在偏振片的至少单面贴合透明保护膜而得到的碘系偏振板，所述偏振片是将未取向的聚乙烯醇系膜在溶胀浴中溶胀后，使其吸附碘，进一步在含硼酸水溶液中实施交联、拉伸等处理而得到的。但是，ITO薄膜等透明导电层上通过粘合剂层叠碘系偏振板并在加热加湿下保存时，存在透明导电层的表面电阻值变大的问题。
认为这是偏振片中碘移动至透明导电层上，由该碘引起透明导电层腐蚀而发生，该现象在与构成偏振板的偏振片的粘合剂层相接触的一侧不存在透明保护膜，或者即使存在时透明保护膜膜厚薄(例如，50μm以下)的情况下十分显著。
专利文献1对透明导电层的表面电阻值未进行任何研究，此外，专利文献1的防静电丙烯酸系粘合剂用作表面保护粘合膜用的粘合剂用途，作为光学膜用途其在粘接力、粘接可靠性等方面不充分。
因此，本发明的目的在于提供一种光学膜用粘合剂层和能够形成该光学膜用粘合剂层的光学膜用粘合剂组合物，所述光学膜用粘合剂层即使在加热加湿下对包含在透明导电层上通过粘合剂层叠偏振板等光学膜而成的构成的层叠体进行保存时，也能够抑制上述透明导电层的表面电阻值上升。此外，本发明的目的还在于提供一种以在光学膜的一个面具有上述光学膜用粘合剂层为特征的带粘合剂层光学膜、以使用上述带粘合剂层光学膜为特征的液晶显示装置、以将上述带粘合剂层光学膜的粘合剂层与透明导电性膜的透明导电层进行贴合为特征的层叠体。
解决问题的手段
为解决上述问题，本发明的发明人进行了深入研究，结果发现通过制成含磷酸酯系化合物的粘合剂组合物实现了上述目的，从而完成了本发明。
即，本发明所涉及的光学膜用粘合剂组合物，其特征在于，含有：将含有具有碳原子数4～18的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯作为主要成分的单体成分聚合而得到的(甲基)丙烯酸系聚合物、和磷酸酯系化合物。
相对于构成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份，上述磷酸酯系化合物优选0.005～2重量份。
上述单体成分进一步优选含有含磷酸基单体。
相对于构成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份，上述含磷酸基单体优选0.1～10重量份。
此外，本发明涉及一种由以上述光学膜用粘合剂组合物形成为特征的光学膜用粘合剂层，以及在光学膜的至少一个面，以具有上述光学膜用粘合剂层为特征的带粘合剂层光学膜。
上述光学膜优选在偏振片的两面具有保护膜的偏振板，其至少一面的保护膜的厚度为50μm以下，且至少上述光学膜用粘合剂层与该保护膜接触。
上述光学膜是在偏振片的单面具有保护膜的偏振板，至少上述光学膜用粘合剂层与上述偏振片的没有保护膜的面接触。
此外，本发明涉及一种以使用上述带粘合剂层光学膜为特征的液晶显示装置。
进一步涉及一种以贴合上述带粘合剂层光学膜的粘合剂层和透明导电性膜的透明导电层为特征的层叠体。
发明效果
通过由本发明的光学膜用粘合剂组合物形成的光学膜用粘合剂层，将偏振板等光学膜和透明导电层层叠，由此能够抑制透明导电层的表面电阻上升。这可认为是由于本发明的光学膜用粘合剂组合物含有磷酸酯系化合物，因此该磷酸酯系化合物选择性地吸附到透明导电层表面形成被膜，可阻碍碘等能腐蚀透明导电层的物质对透明导电层的腐蚀，因此能够抑制表面电阻值上升。
附图说明
图1：表示本发明的带粘合剂层光学膜的截面图。
图2：表示本发明的液晶显示装置的截面图。
具体实施方式
1.光学膜用粘合剂组合物
本发明光学膜用粘合剂组合物，其特征在于，含有：将含有具有碳原子数4～18的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯作为主要成分的单体成分聚合而得到的(甲基)丙烯酸系聚合物、和磷酸酯系化合物。
作为上述磷酸酯系化合物，例如可列举下述通式(1)所示的磷酸酯系化合物及其盐。
[化1]
(式中，R1是碳原子数2～18的烷基或者烯基，R2是氢原子或-(CH2CH2O)nR3(R3是碳原子数2～18的烷基、或者烯基)，n是0～15的整数。)
R1为碳原子数2～18的烷基或烯基，优选碳原子数2～18的烷基，更优选碳原子数4～15的烷基。此外，R1可为直链状，也可为支链状，但优选直链状。
R2为氢原子或-(CH2CH2O)nR3，作为R3，可列举与R1同样的取代基。如果R2为氢原子，则通式(1)的化合物为单酯，如果R2为-(CH2CH2O)nR3，则通式(1)的化合物为双酯。此外，R2为(CH2CH2O)nR3的情形下，R1与R3可以相同也可以不同。
n为0～15的整数，优选0～10的整数。此外，本发明中，作为通式(1)所示的磷酸酯系化合物，可以混合使用两种以上R1不同的化合物，此外，可以使用单酯(R2：H)与双酯(R2：-(CH2CH2O)nR3)的混合物。一般而言，通式(1)所示的磷酸酯系化合物作为单酯与双酯的混合物得到。
本发明中，也可以优选使用通式(1)所示的磷酸酯化合物的盐(钠、钾和镁等金属盐、铵盐等)。
作为上述通式(1)所示的磷酸酯系化合物的市售品，可列举：大八化学工业株式会社制的“MP-4”(R1＝C4H9、R2＝H、n＝0)、“MP-10”(R1＝C10H21、R2＝H、n＝0)、东邦化学工业株式会社制的“PhosphanolSM-172”(R1＝R3＝C8H17、单·双混合物、n＝0)、“PhosphanolGF-185”(R1＝R3＝C13H27、单·双混合物、n＝0)、“PhosphanolBH-650”(R1＝R3＝C4H9、单·双混合物、n＝1)、“PhosphanolRS-710”(R1＝C13H27、R3＝C13H27、单·双混合物、n＝10)、“PhosphanolML-220”(R1＝R3＝C12H25、单·双混合物、n＝2)、“PhosphanolML-200”(R1＝R3＝C12H25、单·双混合物、n＝0)、“PhosphanolED-200”(R1＝R3＝C8H17、单·双混合物、n＝1)、“PhosphanolRL-210”(R1＝R3＝C18H37、单·双混合物、n＝2)、“PhosphanolRS-410”(R1＝R3＝C13H27、单·双混合物、n＝3)、“PhosphanolGF-339”(R1＝R3＝C6H13～C10H21的混合、单·双混合物、n＝0)、“PhosphanolGF-199”(R1＝R3＝C12H25、单·双混合物、n＝0)、“PhosphanolRL-310”(R1＝R3＝C18H37、单·双混合物、n＝3)、日光化学株式会社制的“NikkolDDP-2”(R1＝R3＝C12H25～C15H31的混合物、n＝2)等以及它们的盐。予以说明，上述“单·双混合物”是表示为单酯(R2＝H)和双酯(R2＝-(CH2CH2O)nR3)的混合物。
本发明中通过由含有上述磷酸酯系化合物的光学膜用粘合剂组合物形成的光学膜用粘合剂层，将偏振板等光学膜和透明导电层层叠，由此能够抑制透明导电层的表面电阻上升。这可认为是由于粘合剂层所含的磷酸酯系化合物选择性地吸附到透明导电层表面形成被膜，因此碘等腐蚀透明导电层的物质不能移动到透明导电层表面，所以其结果是可阻碍对透明导电层的腐蚀。特别是光学膜为碘系偏振板时，上述效果十分显著。
相对于单体成分100重量份，上述磷酸酯系化合物的添加量优选0.005～2重量份，更优选0.01～1.5重量份，进一步优选0.01～1.2重量份。通过磷酸酯系化合物的添加量在上述范围内，可进一步抑制透明导电层的表面电阻值上升，因此优选。
本发明中使用的(甲基)丙烯酸系聚合物是由含有具有碳原子数4～18烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯作为主要成分的单体成分聚合而得的。此处，“主要成分”是指相对于形成(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分100重量份在50重量份以上，优选在60重量份以上，更优选在70重量份以上，进一步优选在80重量份以上，特别优选在90重量份以上。予以说明，(甲基)丙烯酸烷基酯是指丙烯酸烷基酯和/或甲基丙烯酸烷基酯，本发明中的(甲基)也为同样的意思。
作为具有碳原子数4～18的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯中所涉及的烷基，可使用直链状或支链状的各种烷基。作为上述(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例子，例如，可列举(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯(isopentyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸异戊酯(isoamyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸异肉豆蔻酯、(甲基)丙烯酸正十三烷酯、(甲基)丙烯酸十四烷酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸十八烷酯或(甲基)丙烯酸十二烷酯等。这些可以单独或组合使用。其中，优选(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，更优选(甲基)丙烯酸正丁酯。
此外，从透明导电层的表面电阻值上升抑制效果的角度出发，本发明中使用的单体成分中优选含有含磷酸基单体。作为含磷酸基单体，可以没有特别限制地使用具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团，并且具有磷酸基的单体。作为含磷酸基单体，例如可列举下述通式(2)所示的含磷酸基单体。
[化2]
(式中，R4表示氢原子或甲基，R5表示碳原子数1～4的亚烷基、m表示2以上的整数，M1和M2分别独立地表示氢原子或阳离子)。
予以说明，通式(2)中，m为2以上的整数，优选4以上的整数，通常优选40以下的整数。该m表示氧亚烷基的聚合度。此外，作为聚氧亚烷基，例如可列举聚氧亚乙基、聚氧亚丙基等，这些聚氧亚烷基也可为它们的无规、嵌段或接枝单元等。此外，磷酸基的盐所涉及的阳离子没有特别限制，可列举例如钠、钾等碱金属、例如钙、镁等碱土金属等无机阳离子、例如季胺等有机阳离子等。
相对于形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分100重量份，上述含磷酸基单体的添加量优选为10重量份以下，更优选0.1～10重量份，进一步优选0.1～8重量份，特别优选0.2～5重量份。通过含磷酸基单体的添加量在上述范围，可进一步抑制透明导电层的表面电阻值上升，因而优选。
如上所述，本发明中通过使用磷酸酯系化合物，能够抑制透明导电层的表面电阻值上升，通过单体成分中含有含磷酸基单体，能够得到进一步的抑制效果。这可认为是因为无助于聚合的含磷酸基单体、由含有含磷酸基单体的单体成分形成的低聚物或聚合物也与磷酸酯系化合物同样地，吸附到透明导电层表面形成被膜。但是，本发明中，仅含有含磷酸基单体的情形下，得不到充分的抑制效果。
此外，本发明中使用的单体成分中可以含有含羧基单体。作为含磷酸基单体，可以没有特别限制地使用具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的聚合性官能团，并且具有羧基的单体。作为含羧基单体，例如可列举：丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙基酯、(甲基)丙烯酸羧基戊基酯、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸等，这些可以单独或组合使用。其中，优选丙烯酸、甲基丙烯酸，更优选丙烯酸。
相对于形成(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分100重量份，含羧基单体优选0～10重量份，更优选0～8重量份，进一步优选0～6重量份。此外，由于含羧基单体可能成为腐蚀原因之一，因此本发明中进一步优选不添加含羧基单体。
本发明中使用的(甲基)丙烯酸系聚合物是通过将含有上述具有碳原子数4～18烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯作为主要成分、任意地含有上述含磷酸基单体、含羧基单体的单体成分聚合而得到的产物，除了上述具有碳原子数4～18烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯和上述含磷酸基单体以外，还可使用含羧基单体、可与上述单体共聚的共聚单体作为单体成分。
上述共聚单体如果具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基等不饱和双键相关的聚合性官能团就没有特别限制，可列举：例如，具有碳原子数1～3或19以上的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯；(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸冰片酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等(甲基)丙烯酸酯环式烃酯；例如，(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸芳酯；例如，乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯类；例如，苯乙烯等苯乙烯系单体；例如，(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯等含环氧基单体；例如，丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸2-羟丙酯等含羟基单体；例如，(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N-异丙基(甲基)丙烯酰胺、N-丁基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基丙烷(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰基吗啉、(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯等含氮原子单体；例如，(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等含烷氧基单体；例如，丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基单体；例如，2-甲基丙烯酰基氧基乙基异氰酸酯等官能性单体；例如，乙烯、丙烯、异丙烯、丁二烯、异丁烯等烯烃系单体；例如，乙烯基醚等乙烯基醚系单体；例如，氯乙烯等含卤原子单体；其他例如，N-乙烯基吡咯烷酮、N-(1-甲基乙烯基)吡咯烷酮、N-乙烯基吡啶、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌嗪、N-乙烯基吡嗪、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基噁唑、N-乙烯基吗啉等含有乙烯基的杂环化合物；N-乙烯基羧酰胺类等。
此外，作为共聚性单体，可列举：例如，N-环己基马来酰亚胺、N-异丙基马来酰亚胺、N-十二烷基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺等马来酰亚胺系单体；例如，N-甲基衣康酰亚胺、N-乙基衣康酰亚胺、N-丁基衣康酰亚胺、N-辛基衣康酰亚胺、N-2-乙基己基衣康酰亚胺、N-环己基衣康酰亚胺、N-十二烷基衣康酰亚胺等衣康酰亚胺系单体；例如，N-(甲基)丙烯酰氧基亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-6-氧基六亚甲基琥珀酰亚胺、N-(甲基)丙烯酰基-8-氧基八亚甲基琥珀酰亚胺等琥珀酰亚胺系单体；例如，苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯酰胺丙磺酸、磺基丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰氧基萘磺酸等含磺酸基单体。
此外，作为共聚性单体，可列举：例如，(甲基)丙烯酸聚乙二醇、(甲基)丙烯酸聚丙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇等二醇系丙烯酸酯单体；其他例如，(甲基)丙烯酸四氢糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯等杂环、含卤原子的丙烯酸酯系单体等。
进一步，作为共聚性单体，可以使用多官能性单体。作为多官能性单体，可列举(甲基)丙烯酰基、乙烯基等具有两个以上不饱和双键的化合物等。例如可列举：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(单或聚)亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯，除此之外，新戊基二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸与多元醇的酯化物；二乙烯基苯等多官能乙烯基化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯基酯等具有反应性的不饱和双键的化合物等。此外，作为多官能性单体，也可以使用在聚酯、环氧基、聚氨酯等骨架中加成了两个以上作为与单体成分同样的官能团的(甲基)丙烯酰基、乙烯基等不饱和双键后的聚酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。
相对于形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分100重量份，上述含羧基单体、含磷酸基单体以外的共聚单体的比例优选40重量份以下，更优选30重量份以下，进一步优选20重量份以下，特别优选10重量份以下。如果上述共聚单体的比例变得过多，则有可能由本发明的光学膜用粘合剂组合物形成的粘合剂层对于玻璃或膜、透明导电层等各种被粘接体的密合性下降等粘合特性下降。
本发明中使用的(甲基)丙烯酸系聚合物通常使用重均分子量为50万～300万范围的聚合物。如果考虑到耐久性、特别是耐热性，优选重均分子量为70万～270万，更优选80万～250万。重均分子量如果比50万小，则在耐热性的角度上有不优选的情形，此外，重均分子量如果比300万大，则为了调整用于涂布的粘度而需要大量稀释溶剂，从成本的角度出发不优选。上述重均分子量是利用GPC(凝胶渗透色谱法)测定，通过聚苯乙烯换算计算的值。但是，由于一般而言由乳化聚合得到的粘合剂中凝胶成分较多而用GPC难以测定，所以难以通过与分子量相关的实测进行证明的情况较多。
这样的(甲基)丙烯酸系聚合物的制备可适当选择溶液聚合、本体聚合、乳化聚合、各种自由基聚合等公知的制备方法，没有特别限制。例如，本发明中可制成(甲基)丙烯酸系聚合物分散含于水中的水分散液，例如，可使用在后述的乳化剂、自由基聚合引发剂等存在下，将含有具有碳原子数4～18烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯的单体成分通过乳化聚合而得到的聚合物乳液。此外，本发明中也可使用将含有(甲基)丙烯酸酯的单体成分通过溶液聚合而得到的(甲基)丙烯酸系聚合物。
得到的(甲基)丙烯酸系聚合物可为无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任意一种。
予以说明，溶液聚合中，作为聚合溶剂，例如可使用乙酸乙酯、甲苯等。作为具体的溶液聚合例，反应在氮气等惰性气体气流下，加入聚合引发剂，通常在50～70℃左右、5～30小时左右的反应条件下进行。
自由基聚合所使用的聚合引发剂、链转移剂、乳化剂等并无特别限制可适当地选择和使用。予以说明，(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量可通过聚合引发剂、链转移剂的用量、反应条件来控制，根据这些的种类，适当调整其用量。
作为聚合引发剂，例如可列：，2，2’-偶氮双异丁腈、2，2’-偶氮双(2-脒基丙烷)二盐酸盐、2，2’-偶氮双[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二盐酸盐、2，2’-偶氮双(2-甲基丙基脒)二硫酸盐、2，2’-偶氮双(N，N’-二亚甲基异丁基脒)、2，2’-偶氮双[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙基脒]水合物(商品名：VA-057，和光纯药工业株式会社制)等偶氮系引发剂、过硫酸钾、过硫酸铵等过硫酸盐、二(2-乙基己基)过氧二碳酸酯、二(4-叔丁基环己基)过氧二碳酸酯、二仲丁基过氧二碳酸酯、叔丁基过氧新癸酸酯、叔己基过氧特戊酸酯、叔丁基过氧特戊酸酯、二月桂酰过氧化物、二正辛酰过氧化物、1，1，3，3-四甲基丁基过氧-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲酰)过氧化物、二苯甲酰过氧化物、叔丁基过氧异丁酸酯、1，1-二(叔己基过氧)环己烷、叔丁基氢过氧化物、过氧化氢等过氧化物系引发剂、过硫酸盐与亚硫酸氢钠的组合、过氧化物与抗坏血酸钠的组合等将过氧化物与还原剂组合的氧化还原系引发剂等，但不限定于此。
上述聚合引发剂可单独使用，也可两种以上混合使用，但相对于形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分100重量份，其总含量优选0.005～1重量份左右，更优选0.005～0.5重量份左右。
予以说明，作为聚合引发剂，例如，使用2，2’-偶氮双异丁腈制备上述重均分子量的(甲基)丙烯酸系聚合物，相对于形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分100重量份，聚合引发剂的用量优选为0.01～0.2重量份左右。
作为链转移剂，例如可列举：十二烷基甲硫醇、缩水甘油基硫醇、巯基乙酸、2-巯基乙醇、巯基乙酸、巯基乙酸-2-乙基己酯、2，3-二巯基-1-丙醇等。链转移剂可单独使用，也可两种以上混合使用，相对于单体成分的总量100重量份，其总含量为0.1重量份左右以下。
此外，通过乳化聚合制备(甲基)丙烯酸系聚合物时，在水中与上述单体成分一起，适当配合后述的乳化剂、上述自由基聚合引发剂、根据需要的链转移剂等。更具体而言，例如，可采用一次性投料法(一次性聚合法)、单体滴入法、单体乳液滴入法等公知的乳化聚合法。予以说明，单体滴入法可适当选择连续滴入或多次滴入。这些方法可适当进行组合。反应条件等也可适当选择，但聚合温度例如在20～90℃左右。
作为乳化剂，例如可列举十二烷基硫酸钠、十二烷基硫酸铵、十二烷基苯磺酸钠、聚氧亚乙基烷基醚硫酸铵、聚氧亚乙基烷基苯基醚硫酸钠等阴离子乳化剂、聚氧亚乙基烷基醚、聚氧亚乙基烷基苯基醚、聚氧亚乙基脂肪酸酯、聚氧亚乙基-聚氧丙烯嵌段聚合物等非离子乳化剂等。这些乳化剂可单独，也可两种以上并用。
此外，作为乳化剂，也可使用分子内具有一个以上的可自由基聚合的不饱和双键的反应性乳化剂，例如可列举AqualonHS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(上述均为第一工业制药株式会社制)、ADEKAREASOAPSE10N(旭电化工业株式会社制)等。
此外，作为反应性乳化剂，例如，也可优选使用下述通式(3)所示的化合物：
[化3]
M3O3S-R6-CH＝CH2(3)
(式中，R6为含有或不含有3个以下氧亚烷基重复单元且可含有氧原子的二价有机基团，M3为Na、K、NH4)。此处，氧亚烷基重复单元是指
[化4]
(式中，R7为碳原子数1～20的亚烷基)所示的基团，上述反应性乳化剂不含有上述氧亚烷基重复单元，或者上述氧亚烷基重复单元数为3以下(优选2以下)。作为上述二价有机基团，没有特别限制，可举出可含有醚键、酯键的二价烃基等。
作为这样的反应性乳化剂的具体例子，例如可列举，下述通式(4)所示的化合物：
[化5]
(式中，M3与上述相同，R8为碳原子数1～20的烷基)和下述通式(5)所示的化合物：
[化6]
(式中，M3与上述相同，R9为碳原子数1～20的烷基)。
上述通式(3)～(5)中，作为M3，优选Na、K、NH4。此外，作为R8、R9，为碳原子数1～20的烷基，其中，优选碳原子数10～20的烷基。
作为上述通式(3)所示的反应性乳化剂的具体例子，例如可列举ELEMINOLJS-20(三洋化成工业株式会社制)、LATEMULS-180A(花王株式会社制)等。
相对于构成上述(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份，上述乳化剂的配合比例优选10重量份以下，更优选0.1～10重量份，进一步优选0.5～8重量份。
通过这样的乳化聚合，可作为水分散液(乳液)制备水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物。这样的水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物的平均粒径例如优选调整至0.05～3μm，更优选调整至0.05～1μm。
本发明的水分散型光学膜用粘合剂组合物中，除了上述水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物还可含有水溶性碱性成分。水溶性碱性成分是能通过上述水分散型(甲基)丙烯酸系聚合物所具有的羧基与酸/碱的中和反应而形成的盐的化合物，一般而言，是在溶解于水的水溶液的状态下显示出碱性的化合物。作为水溶性碱性成分，例如可列举：2-二甲基氨基乙醇、二乙醇胺、三乙醇胺、氨基甲基丙醇等烷醇胺类；三甲基胺、三乙基胺、丁基胺等烷基胺类；亚乙基二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、四亚乙基五胺等聚亚烷基聚胺类；此外，亚乙基亚胺、聚亚乙基亚胺、咪唑、2-甲基咪唑、吡啶、苯胺、吗啉等有机胺系化合物等。此外，作为水溶性碱性成分，可列举氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属氢氧化物类；氢氧化钡、氢氧化钙、氢氧化铝等化碱土金属氢氧物类等无机碱系化合物、氨等。其中，从基于水溶性碱性成分的添加的中和作用而使上述水分散液的分散稳定化效果、不产生基于水分散型丙烯酸系粘合剂的涂布条纹和不均等的适当的粘度控制的容易度、以及涂布干燥后粘合剂层的耐腐蚀性与耐久性等平衡的角度出发，优选氨。
作为具体例子，对使用氨或氢氧化钠作为水溶性碱性成分的情况进行说明。氨以氨水的形式使用，上述氨水的配合量通常相对于含有上述(甲基)丙烯酸系聚合物的水分散液的水中所含的固体成分100重量份，优选配合使氨水中所含的氨达到0.1～20量部左右，进一步优选达到0.2～5重量份。氢氧化钠以氢氧化钠水溶液的形式使用，上述氢氧化钠水溶液的配合量通常相对于含有上述(甲基)丙烯酸系聚合物的水分散液的水中所含的固体成分100重量份，优选配合使氢氧化钠水溶液所含的氢氧化钠达到0.05～5量部左右，进一步优选达到0.1～3重量份。
为了提高高温多湿条件下的密合性，本发明的光学膜用粘合剂组合物中可以添加各种硅烷偶联剂。作为硅烷偶联剂，可使用具有任意合适的官能团的物质。作为官能团，例如可列举：乙烯基、环氧基、氨基、巯基、(甲基)丙烯酰氧基、乙酰乙酰基、异氰酸酯基、苯乙烯基、多硫醚基等。具体而言，例如可列举：乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三丙氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷、乙烯基三丁氧基硅烷等含有乙烯基的硅烷偶联剂；γ-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷等含有环氧基的硅烷偶联剂；γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-三乙氧基硅烷基-N-(1，3-二甲基丁叉基)丙基胺、N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷等含有氨基的硅烷偶联剂；γ-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷等含有巯基的硅烷偶联剂；对苯乙烯基三甲氧基硅烷等含有苯乙烯基的硅烷偶联剂；γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷等含有(甲基)丙烯酸基的硅烷偶联剂；3-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷等含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂；双(三乙氧基硅烷基丙基)四硫醚等含有多硫醚基的硅烷偶联剂等。
上述硅烷偶联剂中，优选能够通过自由基聚合与乙烯基、(甲基)丙烯酰氧基、苯乙烯基等上述单体成分进行共聚的硅烷偶联剂，特别是从反应性的角度出发，优选具有(甲基)丙烯酰氧基的硅烷偶联剂。可列举例如，(甲基)丙烯酰氧基甲基-三甲氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基-三乙氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-三甲氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-三丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-三异丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-三丁氧基硅烷等(甲基)丙烯酰氧基烷基-三烷氧基硅烷；例如，(甲基)丙烯酰氧基甲基-甲基二甲氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基甲基-甲基二乙氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-甲基二甲氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-甲基二乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-甲基二甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-甲基二乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-甲基二丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-甲基二异丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-甲基二丁氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-乙基二甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-乙基二乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-乙基二丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-乙基二异丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-乙基二丁氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-丙基二甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基-丙基二乙氧基硅烷等(甲基)丙烯酰氧基烷基-烷基二烷氧基硅烷、或与这些对应的(甲基)丙烯酰氧基烷基-二烷基(单)烷氧基硅烷等。
上述硅烷偶联剂可单独使用，也可两种以上混合使用，相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，总含量优选1重量份以下，更优选0.01～1重量份，进一步优选0.02～0.8重量份，特别优选0.05～0.7重量份。如果硅烷偶联剂的配合量超过1重量份，则产生未反应偶联剂成分，从耐久性的角度出发不优选。
予以说明，上述硅烷偶联剂能够通过自由基聚合与上述单体成分进行共聚的情况下，可以将该硅烷偶联剂作为上述单体成分使用。相对于上述(甲基)丙烯酸烷基酯100重量份，其比例优选0.005～0.7重量份。
进一步，在本发明的光学膜用粘合剂组合物中可以根据需要，在不脱离本发明的目的的范围内适当使用如下各种添加剂：粘度调节剂、交联剂、剥离调节剂、增粘剂、增塑剂、软化剂、由玻璃纤维、玻璃珠、金属粉、其他无机粉末等构成的充填剂、颜料、着色剂(颜料、染料等)、pH调节剂(酸或碱)、抗氧化剂、紫外线吸收剂等。这些添加剂也可以以乳液的形式配合。
特别是由于交联剂能够赋予与粘合剂的耐久性有关的凝集力，因此优选。作为交联剂可使用多官能性的化合物，可举出有机系交联剂、多官能性金属螯合剂。作为有机系交联剂，可列举：环氧基系交联剂、异氰酸酯系交联剂、碳化二亚胺系交联剂、亚胺系交联剂、噁唑啉系交联剂、氮丙啶系交联剂等。作为有机系交联剂，优选异氰酸酯系交联剂。多官能性金属螯合剂是多价金属原子与有机化合物形成共价键或配位键的化合物。作为多价金属原子，可列举：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作为形成共价键或配位键的有机化合物中的原子可举出氧原子等，作为有机化合物可列举：烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
异氰酸酯系交联剂是指在一个分子中具有两个以上异氰酸酯基(包含将异氰酸酯基通过嵌段剂或数倍体化等暂时保护的异氰酸酯再生型官能团)的化合物。
作为异氰酸酯系交联剂，可列举：甲苯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯等芳香族异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯等脂环族异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等脂肪族异氰酸酯等。
更具体而言，例如可列举：亚丁基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等低级脂肪族多异氰酸酯类、亚环戊基二异氰酸酯、亚环己基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯等脂环族异氰酸酯类、2，4-甲苯二异氰酸酯、4，4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、亚二甲苯基二异氰酸酯、聚亚甲基聚苯基异氰酸酯等芳香族二异氰酸酯类、三羟甲基丙烷/甲苯二异氰酸酯3聚体加成物(商品名：CORONATEL，日本聚氨酯工业株式会社制)、三羟甲基丙烷/六亚甲基二异氰酸酯3聚体加成物(商品名：CORONATEHL，日本聚氨酯工业株式会社制)、六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(商品名：CORONATEHX，日本聚氨酯工业株式会社制)等异氰酸酯加成物、亚二甲苯基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物(商品名：D110N，三井化学株式会社制)、六亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物(商品名：D160N，三井化学株式会社制)；聚醚多异氰酸酯、聚酯多异氰酸酯、以及以它们与各种多元醇的加成物、异氰脲酸酯键、缩二脲键、脲基甲酸酯键等多官能化的多异氰酸酯等。其中，由于使用脂肪族异氰酸酯的反应速度快，因而优选。
光学膜用粘合剂组合物中的交联剂配合比例没有特别限制，但通常相对于上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固体成分)100重量份，以交联剂(固体成分)10重量份左右以下的比例配合。上述交联剂的配合比例优选0.01～10重量份，进一步优选0.01～5重量份左右。
2.光学膜用粘合剂层
本发明的光学膜用粘合剂层以由上述光学膜用粘合剂组合物形成为特征。
本发明的光学膜用粘合剂层的制备方法没有特别限制，可在各种基材上涂布上述光学膜用粘合剂组合物，通过热烤箱等干燥器干燥，使溶剂、水分、多余的水溶液碱性成分等挥发而形成粘合剂层。作为上述基材，没有特别限制，例如可举出脱模膜、透明树脂膜基材等各种基材，此外，后述的光学膜也能够适合作为基材使用。
作为上述光学膜用粘合剂组合物向基材的涂布方法，可使用各种方法。具体而言，例如可列举：辊涂法、辊舔式涂布法、凹版涂布法、反向涂布法、辊刷法、喷涂法、浸渍辊涂法、棒涂法、刮刀涂布法、气刀涂布法、帘式淋涂法、模唇涂布法、利用模涂机等的挤出涂布法等方法。
干燥条件(温度、时间)没有特别限制，可根据光学膜用粘合剂组合物的组成、浓度等适当设定，例如，在80～170℃左右、优选在90～150℃，1～60分钟、优选2～30分钟。
粘合剂层的厚度(干燥后)，例如优选10～100μm，更优选15～80μm，进一步优选20～60μm。粘合剂层的厚度小于10μm时，对被粘接体的密合性不够，具有在高温、高温多湿下的耐久性不充分的倾向。另一方面，粘合剂层的厚度超过100μm时，在形成粘合剂层时的光学膜用粘合剂组合物的涂布、干燥时不能充分干燥，残留气泡、或在粘合剂层面产生厚度不均，有外观上问题容易变得明显化的倾向。
作为上述脱模膜的构成材料，例如可列举：聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯膜等树脂膜、纸、布、无纺布等多孔质材料、网状物、发泡片、金属箔、及其层压体等适当的薄片体等，从表面平滑性优异的角度出发，优选使用树脂膜。
作为其树脂膜，例如可列举：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯膜、聚氨酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。
上述脱模膜的厚度通常为5～200μm，优选5～100μm左右。也可以根据需要对于上述脱模膜进行基于硅酮系、氟系、长链烷基系或脂肪酸酰胺系的脱模剂、二氧化硅粉等的脱模和防污处理、或涂布型、内加型、蒸镀型等抗静电处理。特别是通过在所述脱模膜的表面适当进行硅酮处理、长链烷基处理、氟处理等剥离处理，可以进一步提高自所述粘合剂层的剥离性。
作为上述透明树脂膜基材，没有特别限制，可使用具有透明性的各种树脂膜。该树脂膜可由一层膜形成而得。例如作为其材料可列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。其中特别优选聚酯系树脂、聚酰亚胺系树脂和聚醚砜系树脂。
上述膜基材的厚度优选15～200μm，更优选25～188μm。
此外，在上述树脂膜基材形成本发明粘合剂层后的带粘合剂层的树脂膜可以通过在不与树脂膜基材的粘合剂层相接触的一侧进一步形成透明导电层而用作触摸面板的电极用途。
3.带粘合剂层光学膜
本发明的带粘合剂层光学膜是在光学膜的至少一个面形成上述光学膜用粘合剂层后的膜。该带粘合剂层光学膜由于具有本发明的粘合剂层，因此即使贴合于由金属氧化物形成的透明导电层，也能够抑制透明导电层的腐蚀。
使用图1详细说明本发明的带粘合剂层光学膜，但图1仅给出本发明的带粘合剂层光学膜的一个例子，本发明并不限定于此。
本发明的带粘合剂层光学膜在光学膜1的一个面具有光学膜用粘合剂层2(以下也称为粘合剂层2)(图1)。
作为本发明的带粘合剂层光学膜所使用的光学膜1，可使用在液晶显示装置等图像显示装置的形成时所用的光学膜，其种类没有特别限制。例如，作为光学膜1可举出偏振板。偏振板一般使用在偏振片的单面或两面具有透明保护膜的偏振板。本发明中，仅偏振片的单侧具有透明保护膜的单面保护偏振板、且上述偏振片的没有保护膜的面与光学膜用粘合剂层相接触的情形时，或偏振片的两面具有保护膜的偏振板、且上述偏振片的与光学膜用粘合剂层接触一侧的保护膜的厚度为50μm以下的情形时，本发明的效果显著。使用单面保护偏振板时，上述粘合剂层可以直接设在没有上述透明保护膜一侧的偏振片表面。
偏振片没有特别限制，可使用各种偏振片。作为偏振片，例如可列举：在聚乙烯醇系膜、部分缩甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜，使碘、二色性染料的二色性物质吸附并单轴拉伸而得的膜；聚乙烯醇的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向膜等。其中，优选由聚乙烯醇系膜和碘等二色性物质构成的偏振片。这些偏振片的厚度没有特别限制，一般为5～80μm左右。
将聚乙烯醇系膜用碘染色并单轴拉伸的偏振片，例如，可以通过将聚乙烯醇浸渍在碘的水溶液中染色，拉伸至原长的3～7倍来制作。根据需要也可以浸渍在可以含有硼酸或硫酸锌、氯化锌等的碘化钾等水溶液中。也可以进一步根据需要在染色前将聚乙烯醇系膜浸渍在水中进行水洗。通过水洗聚乙烯醇系膜，除了可以清洗聚乙烯醇系膜表面的污垢、防粘连剂之外，还具有通过使聚乙烯醇系膜溶胀而防止染色不均等不均匀的效果。拉伸可以在用碘染色后进行，也可以在染色的同时进行拉伸，或者也可以拉伸之后用碘染色。也可以在硼酸、碘化钾等的水溶液或水浴中进行拉伸。
此外，本发明中也可以使用厚度为10μm以下的薄型偏振片。从薄型化的角度出发，优选该厚度为1～7μm。这样的薄型偏振片的厚度不均少，可视性优异，此外尺寸变化少，因此耐久性优异，进一步作为偏振板的厚度在实现薄型化的角度来看也为优选。
作为薄型偏振片，代表性的可举出：日本特开昭51-069644号公报、日本特开2000-338329号公报、国际公开第2010/100917号小册子、国际公开第2010/100917号小册子、或日本专利4751481号说明书、日本特开2012-073563号公报中记载的薄型偏振膜。这些薄型偏振膜可以通过包含对聚乙烯醇系树脂(以下也称为PVA系树脂)层和拉伸用树脂基材以层叠体的状态进行拉伸的工序和染色的工序的制法而得。如果为该制法，则即使PVA系树脂层薄，也可以通过由拉伸用树脂基材支承而进行拉伸而不会有拉伸导致的破裂等不良情况。
作为上述薄型偏振膜，从可以高倍率地进行拉伸且可以提高偏振性能的角度考虑，在包含以层叠体的状态进行拉伸的工序和染色的工序的制法中，优选由国际公开第2010/100917号小册子、国际公开第2010/100917号小册子、或日本专利4751481号说明书、日本特开2012-073563号公报中记载的那样的包含在硼酸水溶液中进行拉伸的工序的制法所得到的薄型偏振膜，特别优选由日本专利4751481号说明书、日本特开2012-073563号公报中记载的那样的包含在硼酸水溶液中拉伸之前辅助性地进行空中拉伸的工序的制法所得到的薄型偏振膜。
作为形成在上述偏振片的单面或两面设置的透明保护膜的材料，优选透明性、机械强度、热稳定性、阻水性、各向同性等优异的材料。例如可列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物；二乙酰纤维素、三乙酰纤维素等纤维素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS树脂)等苯乙烯系聚合物；聚碳酸酯系聚合物等。此外，作为形成上述透明保护膜的聚合物的例子也可列举聚乙烯、聚丙烯、具有环系或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烃系聚合物；氯乙烯系聚合物；尼龙、芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物；酰亚胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯系聚合物、乙烯基缩丁醛系聚合物、丙烯酸酯系聚合物、聚氧亚甲基系聚合物、环氧系聚合物或上述聚合物的混合物等。透明保护膜可以以丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、硅酮系等热固型、紫外线固化型树脂的固化层来形成。
保护膜的厚度可以适当决定，一般从强度、操作性等作业性、薄膜性等角度出发，为1～500μm左右。此外，本发明中即使与光学膜用粘合剂层接触一侧的保护膜的厚度为50μm以下而较薄的情况时，也能充分获得透明导电层的表面电阻值上升抑制效果。
上述偏振片与保护膜通常通过水系粘接剂等进行密合。作为水系粘接剂，可例示异氰酸酯系粘接剂、聚乙烯醇系粘接剂、明胶系粘接剂、乙烯基系胶乳系、水系聚氨酯、水系聚酯等。除上述以外，作为偏振片与透明保护膜的粘接剂，可举出紫外固化型粘接剂、电子束固化型粘接剂等。电子束固化型偏振膜用粘接剂对于上述各种透明保护膜显示出适宜的粘接性。此外本发明中使用的粘接剂中可以含有金属化合物填充剂。
也可以对上述透明保护膜的不粘接偏振片的面实施硬涂层、或防反射处理、以抗粘连、扩散或防眩光为目的的处理。
此外，作为偏振板以外的光学膜，例如可列举：反射板、半透射板、相位差板(包括1/2或1/4等的波长板)、视场角补偿膜、增亮膜等有时成为液晶显示装置等的形成所用的光学层的光学膜。这些除了可以单独作为光学膜使用之外，实际使用时，还可以在上述偏振板层叠一层或两层以上来使用。
此外，可以对上述光学膜实施活性化处理。活性化处理可采用各种方法，可以采用例如电晕处理、低压UV处理、等离子处理等。
向光学膜上的粘合剂层的形成方法如上所述。
另外，在上述粘合剂层露出的情况下，在供给实用之前，可以用脱模膜(隔片)保护粘合剂层。作为脱模膜，可举出上述的膜。在制作上述的粘合剂层时使用脱模膜作为基材时，通过将脱模膜上的粘合剂层与光学膜贴合，由此该脱模膜可以作为带有粘合剂层的光学膜的粘合剂层的脱模膜使用，从而可以实现工序方面的简化
此外，在光学膜1与光学膜用粘合剂层2之间，也可以具有锚固层(未图示)。形成锚固层的材料没有特别限制，例如可列举：各种聚合物类、金属氧化物溶胶、氧化硅溶胶等。其中，特别优选使用聚合物类。上述聚合物类的使用方式可以是溶剂可溶型、水分散型、水溶解型中任意一种。
作为上述聚合物类，例如可列举：聚氨酯系树脂、聚酯系树脂、丙烯酸系树脂、聚醚系树脂、纤维素系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚乙烯基吡咯烷酮、聚苯乙烯系树脂等。其中，特别优选聚氨酯系树脂、聚酯系树脂、丙烯酸系树脂。这些树脂中可以适当配合交联剂。这些其他粘结剂成分可以根据其用途适当使用一种或两种以上。
通过水分散型材料形成锚固层时，使用水分散型聚合物。作为水分散型聚合物，可举出使用乳化剂将聚氨酯、聚酯等各种树脂进行乳化而得的聚合物；在上述树脂中引入水分散性阴离子基团、阳离子基团或非离子基团进行自乳化而得的聚合物等。
此外，上述锚固剂中可以含有防静电剂。防静电剂只要是能够赋予导电性的材料，就没有特别限制，例如可列举：离子性表面活性剂、导电性聚合物、金属氧化物、炭黑和碳纳米材料等，其中，优选导电性聚合物，更优选水分散性导电聚合物。
作为水溶性导电性聚合物，可举出聚苯胺磺酸(根据聚苯乙烯换算的重均分子量为150000，三菱丽阳株式会社制)等，作为水分散性导电聚合物，可举出聚噻吩系导电性聚合物(长濑chemtex公司制，Denatron系列)等。
上述防静电剂的配合量，例如，相对于锚固剂中使用的上述聚合物类100重量份，为70重量份以下，优选50重量份以下。从防静电效果的角度出发，为10重量份以上，进一步优选20重量份以上。
锚固层的厚度没有特别限制，但优选5～300nm。
作为上述锚固层的形成方法，没有特别限定，可以由通常公知的方法来进行。此外，在锚固层的形成中可以对上述光学膜实施活性化处理。活性化处理可以采用各种方法，例如可以采用电晕处理、低压UV处理、等离子体处理等。
向光学膜上的锚固层上的粘合剂层的形成方法如上所述。
此外，本发明的带粘合剂层光学膜的用途除了上述液晶显示装置用途以外，也可用于例如在触摸面板的电极基板所用的透明导电性膜的透明导电层贴附上述带粘合剂层的光学膜的粘合剂层，作为触摸面板用途使用。
4.液晶显示装置
本发明的带粘合剂层光学膜可适合用在各种液晶显示装置中。
液晶显示装置中，特别是在采用了IPS方式液晶单元的液晶显示装置中，有时在构成液晶单元的透明基板的与液晶层接触一侧的相反侧形成透明导电层作为防静电层，通过在该透明导电层上贴附本发明的带粘合剂层光学膜的粘合剂层，能够抑制作为防静电层的透明导电层的腐蚀，因此优选
使用本发明的带粘合剂层光学膜的液晶表装置的一例如图2所示。图2的液晶显示装置包括光学膜1、光学膜用粘合剂层2、透明导电层3、液晶单元4、粘合剂层5、光学膜6。但是，本发明的液晶显示装置并不限定于此，该构成中也包括液晶显示装置中所使用的各种层。
上述光学膜1和透明导电用粘合剂层2相当于上述带粘合剂层光学膜。此外，光学膜6可以举出与上述光学膜1同样的膜。
作为液晶单元没有特别限制，例如，可以适用TN型、STN型、π型、VA型、IPS型等任意类型的液晶单元，但本发明中根据上述理由，特别是使用IPS方式液晶单元时能够发挥出优异效果。
此外，粘合剂层5可为本发明的粘合剂层，只要是液晶图像显示装置中通常使用的粘合剂层即可，没有特别限制。例如，可以使用包含以丙烯酸系聚合物、硅酮系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚醚、氟系、合成橡胶系等聚合物为基础聚合物的粘合剂的粘合剂层，其中，丙烯酸系粘合剂特别优选使用光学透明性优异，显示出适度的润湿性、凝聚性、以及粘接性的粘合特性，耐候性、耐热性等优异的粘合剂。
此外，作为设在液晶单元上的透明导电层3构成材料没有特别限制，例如可举出金属氧化物。作为金属氧化物优选含有氧化锡的氧化铟。该金属氧化物优选含有氧化铟80～99重量％和氧化锡1～20重量％。
透明导电层3的厚度没有特别限制，优选厚度为10nm以上。膜厚如果过厚，则导致透明性下降等，因此优选15～35nm，更优选20～30nm的范围内。厚度如果小于15nm，则表面电阻变大，且难以成为连续被膜。此外，如果超过35nm，则导致透明性下降等。
作为透明导电层3的形成方法，没有特别限制，可采用以往公知的方法。具体而言，例如可例示：真空蒸镀法、溅射法、离子镀法。此外，也可以根据需要的膜厚而采用适当的方法。
此外，形成透明导电层3时，也可设置底涂层，底涂层可由无机物、有机物或无机物与有机物的混合物来形成。例如，作为无机物，可列举NaF(1.3)、Na3AlF6(1.35)、LiF(1.36)、MgF2(1.38)、CaF2(1.4)、BaF2(1.3)、SiO2(1.46)、LaF3(1.55)、CeF3(1.63)、Al2O3(1.63)等无机物〔上述各材料的()内的数值表示光的折射率〕。其中，优选使用SiO2、MgF2、Al2O3等。特别优选SiO2。除此之外，相对于氧化铟，可以使用含有10～40重量份左右的氧化铈和0～20重量份左右的氧化锡的复合氧化物。
由无机物形成的底涂层可以由真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等干式工艺、或湿式法(涂布法)等来形成。作为形成底涂层的无机物，如上所述，优选SiO2。湿式法中，通过涂布二氧化硅溶胶等可以形成SiO2膜。
另外，本发明的液晶显示装置中，除上述构成以外，还可以在图2所示的各层间和/或外侧包括任意的光学补偿层、粘接层等一般在液晶显示装置中使用的各种层。
5.层叠体
本发明的层叠体的特征在于，将上述带粘合剂层光学膜的粘合剂层与透明导电性膜的透明导电层贴合而成。
上述带粘合剂层光学膜可以使用上述光学膜。
作为上述透明导电性膜，没有特别限制，可使用公知的导电性膜，一般使用在透明基材上具有透明导电性层的导电性膜。
作为透明基材，只要是具有透明性的基材即可，例如可列举包含树脂膜、玻璃等的基材(例如，片状或膜状、板状的基材等)等，特别优选树脂膜。透明基材的厚度没有特别限制，但优选10～200μm左右，更优选15～150μm左右。
作为上述树脂膜的材料，没有特别限制，可举出具有透明性的各种塑料材料。例如，作为其材料，可列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂、乙酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。其中特别优选聚酯系树脂、聚酰亚胺系树脂和聚醚砜系树脂。
此外，可以对所述透明基材的表面预先实施溅射、电晕放电、火焰、紫外线照射、电子束照射、化成、氧化等蚀刻处理或底涂处理，使在其上设置的透明导电膜对所述透明基材的密合性提高。此外，在设置透明导电膜前，可以根据需要通过溶剂清洗、超声波清洗等进行除尘、清洁化。
作为上述透明导电性层，可以举出与在“4.液晶显示装置”说明的透明导电层同样的导电性层。
实施例
以下，利用实施例对本发明加以详细说明，但本发明只要不超出其要点就不限于以下的实施例。此外，各例中的份、％均为重量基准。
实施例1
(单体乳液的制备)
容器内加入作为原料的丙烯酸丁酯785份、甲基丙烯酸甲酯160份、含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)5份、含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)1份、丙烯酸50份、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三乙氧基硅烷(商品名：KBM-503，信越化学工业株式会社制)0.5份、ELEMINOLJS-20(三洋化成工业株式会社制)20份和水1381份，用均质机(特殊机化工业株式会社制)，以6000rpm搅拌5分钟，制备了单体乳液。
(水分散型丙烯酸系粘合剂的制备)
接着，在具备冷凝管、氮气导入管、温度计、滴液漏斗和搅拌叶轮的反应容器中，加入由上述制备的单体乳液，接着，对反应容器进行充分地氮气置换后，调整内部浴温至65℃，添加铵过氧硫酸钠(APS)0.1份，聚合5小时，得到固体成分浓度40％的水分散液(乳液)。向该水分散液(乳液)100重量份中，添加浓度10％的氨水3份，制备了水分散型丙烯酸系粘合剂。
(光学膜用粘合剂层的形成)
利用涂布机将上述水分散型丙烯酸系粘合剂以干燥后的厚度为25μm的方式涂布到脱模膜(商品名：DiafoilMRF-38，聚对苯二甲酸乙二醇酯基材，三菱化学聚酯株式会社制)上后，利用热风循环式烤箱在135℃下干燥2分钟，形成光学膜用粘合剂层。
(带粘合剂层偏振板的制作)
通过对A-PET(非晶性聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜(商品名：NovaclearSH046，厚度：200μm，三菱树脂株式会社制)制膜有9μm厚PVA层的层叠体在拉伸温度130℃和拉伸倍率为2倍的空中辅助拉伸而生成拉伸层叠体，接着，通过对拉伸层叠体染色而生成着色层叠体，进一步通过对着色层叠体在拉伸温度65℃的硼酸水中拉伸，由此生成包含与A-PET膜一体地拉伸至总拉伸倍率达到5.94倍的4μm厚PVA层的光学膜层叠体。通过这样的两步拉伸，在A-PET膜上制膜的PVA层的PVA分子发生高度取向，通过染色吸附的碘与PVA形成络合物，以PVA-碘络合物的形式构成单向高度取向的高功能偏振层，可生成包含厚度4μm的PVA层的光学膜层叠体。进一步，在该光学膜层叠体的偏振层表面通过聚乙烯醇系粘接剂贴合40μm厚的丙烯酸膜后，剥离A-PET膜，制作了使用薄型偏振层的偏振板。称为单面保护偏振板(1)。
将由上述(光学膜用粘合剂层的形成)得到的光学膜用粘合剂层贴合于上述单面保护偏振板(1)的偏振片(没有层叠保护膜的面)，制作了带粘合剂层偏振板。
实施例2
实施例1的(带粘合剂层偏振板的制作)中，使用以下的两面保护偏振板(1)，而且在上述两面保护偏振板的偏振片厚度40μm的保护膜侧，贴合由上述(光学膜用粘合剂层的形成)得到的光学膜用粘合剂层的粘合剂层，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
(两面保护偏振板(1)的制作)
通过对A-PET(非晶性聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜(商品名：NovaclearSH046，厚度：200μm，三菱树脂株式会社制)制膜有12μm厚PVA层的层叠体在拉伸温度130℃和拉伸倍率为2倍的空中辅助拉伸而生成拉伸层叠体，接着，通过对拉伸层叠体染色生成着色层叠体，进一步通过对着色层叠体在拉伸温度65℃的硼酸水中拉伸，由此生成包含与A-PET膜一体地拉伸至总拉伸倍率达到5.94倍的5μm厚PVA层的光学膜层叠体。通过这样的两步拉伸，在A-PET膜制膜的PVA层的PVA分子发生高度取向，通过染色吸附的碘与PVA形成络合物，以PVA-碘络合物的形式构成单向高度取向的高功能偏振层，可生成包含厚度5μm的PVA层的光学膜层叠体。进一步，在该光学膜层叠体的偏振层表面通过聚乙烯醇系粘接剂贴合40μm厚的丙烯酸膜后，剥离A-PET膜，制作了使用薄型偏振片的单面保护偏振板(2)。在制作的单面保护偏振板(2)的偏振片面通过UV固化型粘接剂贴合25μm厚的降冰片烯系膜(商品名：ARTON，JSR株式会社制)而制作了两面保护偏振板(1)。
实施例3
实施例1的(单体乳液的制备)中，将含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)从1份变更为10份，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例4
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为790份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为0份，将含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)从1份变更为2份，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例5
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为790份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为0份，将含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)从1份变更为10份，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例6
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为770份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为20份，将含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)从1份变更为0.3份，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例7
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为770份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为20份，将含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)从1份变更为10份，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例8
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为740份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社)从5份变更为50份，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例9
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为780份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为10份，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为MP-4(商品名，大八化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例10
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为770份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为20份，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为MP-4(商品名，大八化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例11
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为790份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为0份，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为PhosphanolGF-185(商品名，东邦化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例12
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为780份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为10份，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为PhosphanolGF-185(商品名，东邦化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例13
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为790份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为0份，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为PhosphanolBH-650(商品名，东邦化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例14
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为780份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为10份，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为PhosphanolBH-650(商品名，东邦化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例15
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为780份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为10份，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为PhosphanolRS-710(商品名，东邦化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例16
(单体乳液(1)制备)
容器内加入作为原料的丙烯酸丁酯180份、甲基丙烯酸甲酯800份、丙烯酸20份、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三乙氧基硅烷(商品名：KBM-503，信越化学工业株式会社制)0.5份、ELEMINOLJS-20(三洋化成工业株式会社制)75份和水4150份，用均质机(特殊机化工业株式会社制)，以6000rpm搅拌5分钟，制备了单体乳液(1)。
(单体乳液(2)制备)
容器内加入作为原料的丙烯酸丁酯917.5份、含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)25份、含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)1.25份、丙烯酸57.5份、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三乙氧基硅烷(商品名：KBM-503，信越化学工业株式会社制)0.5份、ELEMINOLJS-20(三洋化成工业株式会社制)6.25份和水1080份，用均质机(特殊机化工业株式会社制)，以6000rpm搅拌5分钟，制备了单体乳液(2)。
(水分散型丙烯酸系粘合剂的制作)
接着，在具备冷凝管、氮气导入管、温度计、滴液漏斗和搅拌叶轮的反应容器中，加入由上述制备的单体乳液(1)中的860份，接着，对反应容器进行充分地氮气置换后，调整内部浴温至65℃，添加铵过硫酸钠(APS)0.1份，聚合2小时。接着，添加铵过硫酸钠(APS)0.5份后、在保持内部浴温65℃的同时，用3小时滴加单体乳液(2)中的1643份后，进一步聚合3小时，得到固体成分浓度40％的水分散液(乳液)。向该水分散液(乳液)100重量份中，添加浓度10％的氨水3份，制备了水分散型丙烯酸系粘合剂。
(光学膜用粘合剂层的形成)
利用涂布机将上述水分散型丙烯酸系粘合剂以干燥后的厚度为25μm的方式涂布到脱模膜(商品名：DiafoilMRF-38，聚对苯二甲酸乙二醇酯基材，三菱化学聚酯株式会社制)上后，利用热风循环式烤箱在150℃下干燥10分钟，形成光学膜用粘合剂层。
(带粘合剂层偏振板的制作)
实施例1的(带粘合剂层偏振板的制作)中，使用上述得到的光学膜用粘合剂层，除此以外，与实施例同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例17
实施例16的(单体乳液(2)的制备)中，将丙烯酸丁酯从917.5份变更为942.5份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从25份变更为0份，除此以外，与实施例16同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例18
实施例16的(单体乳液(2)的制备)中，将丙烯酸丁酯从917.5份变更为930份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从25份变更为12.5份，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为MP-4(商品名，大八化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例16同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例19
实施例16的(单体乳液(2)的制备)中，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为MP-4(商品名，大八化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例16同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例20
(粘合剂溶液的制备)
向具备搅拌叶轮、温度计、氮气导入管、冷凝器的四颈烧瓶中，加入含有丙烯酸丁酯944份、丙烯酸50份、含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)5份、丙烯酸2-羟乙酯1份的单体混合物。进一步，相对于上述单体混合物(固体成分)100份，投入作为聚合引发剂的2，2’-偶氮双异丁腈0.2重量份和作为聚合溶剂的乙酸乙酯133重量份，边缓慢搅拌边导入氮气而进行氮气置换后，将烧瓶内液温保持在60℃附近进行7小时聚合反应，制备了固体成分浓度30％的丙烯酸系聚合物溶液。向上述丙烯酸系聚合物溶液中，相对于聚合物固体成分100份加入含异氰酸酯基化合物(商品名：CORONATEL，日本聚氨酯工业株式会社制)0.6份、相对于聚合物固体成分100份加入硅烷偶联剂(商品名：KBM-403，信越化学工业株式会社制)0.075份、相对于聚合物固体成分100份加入含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)0.1份、用于粘度调整的溶剂(乙酸乙酯)，制备了粘合剂溶液(固体成分11％)。
(光学膜用粘合剂层的形成)
利用反向辊涂布法将该粘合剂溶液以干燥后的厚度为25μm的方式涂布到脱模膜(商品名：DiafoilMRF-38，聚对苯二甲酸乙二醇酯基材，三菱化学聚酯株式会社制)上后，利用热风循环式烤箱在130℃下干燥3分钟，形成光学膜用粘合剂层。
(带粘合剂层偏振板的制作)
实施例1的(带粘合剂层偏振板的制作)中，除了使用由上述得到的光学膜用粘合剂层以外，与实施例同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例21
实施例20(带粘合剂层偏振板的制作)中，使用实施例2得到的两面保护偏振板(1)，而且在上述两面保护偏振板的偏振片的厚度40μm的保护膜侧贴合由上述(光学膜用粘合剂层的形成)得到的光学膜用粘合剂层的粘合剂层，除此以外，与实施例20同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例22
实施例20中，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为PhosphanolGF-185(商品名，东邦化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例20同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例23
实施例20中，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为PhosphanolBH-650(商品名，东邦化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例20同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例24
实施例20中，将丙烯酸丁酯从944份变更为949份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为0份，将含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)从0.1份变更为0.03份，除此以外，与实施例20同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例25
实施例20中，将丙烯酸丁酯从944份变更为949份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为0份，将含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)从0.1份变更为1份，除此以外，与实施例20同样地制作了带粘合剂层偏振板。
实施例26
实施例20中，将丙烯酸丁酯从944份变更为949份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为0份，将含磷酸基酯的种类从PhosphanolSM-172(商品名，东邦化学工业株式会社制)变更为MP-4(商品名，大八化学工业株式会社制)，除此以外，与实施例20同样地制作了带粘合剂层偏振板。
比较例1
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为790份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为0份，将含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)从1份变更为0份，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
比较例2
用与比较例1同样的组成，形成光学膜用粘合剂层。将得到的光学膜用粘合剂层的粘合剂层贴合于在实施例2得到的两面保护偏振板(1)的厚度40μm的保护膜侧，制作了带粘合剂层偏振板。
比较例3
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为770份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为20份，将含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)从1份变更为0份，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
比较例4
实施例1的(单体乳液的制备)中，将丙烯酸丁酯从785份变更为740份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为50份，将含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)从1份变更为0份，除此以外，与实施例1同样地制作了带粘合剂层偏振板。
比较例5
实施例20中，将丙烯酸丁酯从944份变更为949份，将含磷酸基单体(商品名：SimpomerPAM200，罗地亚日华株式会社制)从5份变更为0份，将含磷酸基酯(商品名：PhosphanolSM-172，东邦化学工业株式会社制)从0.1份变更为0份，除此以外，与实施例20同样地制作了带粘合剂层偏振板。
对实施例和比较例中得到的光学膜用粘合剂层的厚度、耐腐蚀性进行评价。结果如表1、2所示。
<对结晶性ITO薄膜的耐腐蚀性>
作为膜基材，在厚度25μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(下面称为PET膜)的一个面，通过三聚氰胺树脂∶醇酸树脂∶有机硅烷缩合物的重量比2∶2∶1的热固化型树脂，形成厚度180nm的第一层底涂层。接着，第一层底涂层上，利用电子束加热法将SiO2在1.33×10-2～2.67×10-2pa的真空度下真空蒸镀，形成厚度40nm的第二层底涂层(SiO2膜)。
接着，在第二层底涂层上，在由氩气80％和氧气20％组成的5.33×10-2pa的气氛中，利用反应性溅射法，使用氧化铟90重量％、氧化锡10重量％形成厚度22nm的ITO膜，得到具有ITO薄膜的膜。得到的ITO膜为非晶性。将具有上述ITO薄膜的膜在140℃加热处理90分钟使其结晶化，得到结晶化ITO薄膜。
将由实施例和比较例得到的带粘合剂层偏振板切成8mm×8mm。此外，在具有上述结晶化ITO薄膜的膜(15mm×15mm)的结晶化ITO膜上，制备层叠了带粘合剂层偏振板的粘合剂层面的样品。该样品中，利用霍尔效应测定装置(制品名：HL5500PC，nanometrics公司制)测定具有结晶化ITO薄膜的膜的结晶化ITO膜的电阻值(将其称为投入前电阻值)。此外，将该样品在60℃、95％RH的气氛中放置500小时。对上述放置后样品与上述同样地测定具有结晶化ITO薄膜的膜的结晶化ITO膜的电阻值(将其称为投入后电阻值)。用上述结果通过下式计算出在上述气氛下投入样品前后的电阻值的上升率。
电阻值的上升率(％)＝(投入后电阻值/投入前电阻值)×100
上述电阻值的上升率越低越优选，上述电阻值的上升率如果在120％以下，则判断为满足耐腐蚀性，通过下述标准进行评价。
○：电阻值的上升率在120％以下
×：电阻值的上升率超过120％
<对非晶性ITO薄膜的耐腐蚀性>
作为具有厚度22nm的非晶性的ITO薄膜的膜，使用日东电工株式会社制的ELECRYSTAP400L-TNME。该具有非晶性ITO薄膜的膜在评价试验之前进行在140℃加热90分钟处理。处理后膜的ITO薄膜为非晶性。
将实施例1、9、16、18、20和比较例1、5中得到的带粘合剂层偏振板切成8mm×8mm。此外，在具有上述非晶性的ITO薄膜的膜的非晶性ITO薄膜上，制备层叠了带粘合剂层偏振板的粘合剂层面的样品。该样品中，利用霍尔效应测定装置(制品名：HL5500PC，nanometrics公司制)测定具有非晶性的ITO薄膜的膜的非晶性ITO薄膜的电阻值(将其称为投入前电阻值)。此外，将该样品在60℃、95％RH的气氛下放置500小时。对上述放置后的样品，与上述相同地测定具有非晶性ITO薄膜的膜的ITO薄膜的电阻值(将其称为投入后电阻值)。用上述结果，通过下式计算出上述气氛下投入样品前后的电阻值的上升率。
电阻值的上升率(％)＝(投入后电阻值/投入前电阻值)×100
上述电阻值的上升率越低越优选，上述电阻值的上升率如果在130％以下，则可判断为满足耐腐蚀性。
○：电阻值的上升率在130％以下
×：电阻值的上升率超过130％
[表1]
[表2]
表1、2中的省略记载分别如下所示。
SM-172：PhosphanolSM-172(东邦化学工业株式会社制)
GF-185：PhosphanolGF-185(东邦化学工业株式会社制)
BH-650：PhosphanolBH-650(东邦化学工业株式会社制)
RS-710：PhosphanolRS-710(东邦化学工业株式会社制)
MP-4：商品名，大八化学工业株式会社制
此外，表1、2中的添加量(重量份)是相对于单体成分100重量份的量。但是，表1、2的实施例20～26的酯添加量(重量份)是相对于(甲基)丙烯酸系聚合物固体成分100重量份的量。
符号说明
1光学膜
2光学膜用粘合剂层
3透明导电层
4液晶单元
5粘合剂层
6光学膜

Claims (10)

1.一种光学膜用粘合剂组合物，其特征在于，含有：将含有具有碳原子数4～18的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯作为主要成分的单体成分聚合而得到的(甲基)丙烯酸系聚合物、和磷酸酯系化合物。
2.如权利要求1所述的光学膜用粘合剂组合物，其特征在于，相对于构成所述(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份，所述磷酸酯系化合物为0.005～2重量份。
3.如权利要求1或2所述的光学膜用粘合剂组合物，其特征在于，所述单体成分进一步含有含磷酸基单体。
4.如权利要求3所述的光学膜用粘合剂组合物，其特征在于，相对于构成所述(甲基)丙烯酸系聚合物的全部单体成分100重量份，所述含磷酸基单体为0.1～10重量份。
5.一种光学膜用粘合剂层，其特征在于，由权利要求1～4中任意一项所述的光学膜用粘合剂组合物形成。
6.一种带粘合剂层光学膜，其特征在于，在光学膜的至少一个面具有权利要求5所述的光学膜用粘合剂层。
7.如权利要求6所述的带粘合剂层光学膜，其特征在于，所述光学膜是在偏振片的两面具有保护膜的偏振板，其至少单侧的保护膜的厚度为50μm以下，至少所述光学膜用粘合剂层与该保护膜接触。
8.如权利要求6所述的带粘合剂层光学膜，其特征在于，所述光学膜是在偏振片的单面具有保护膜的偏振板，至少所述光学膜用粘合剂层与所述偏振片的没有保护膜的面接触。
9.一种液晶显示装置，其特征在于，使用权利要求6～8中任意一项所述的带粘合剂层光学膜。
10.一种层叠体，其特征在于，是使权利要求6～8中任意一项所述的带粘合剂层光学膜的粘合剂层与透明导电性膜的透明导电层贴合而成。
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