CN103941539A - Euv光刻部件、制备方法和掺杂二氧化钛的石英玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及EUV光刻部件、制备方法和掺杂二氧化钛的石英玻璃。具体地，本发明涉及一种由掺杂二氧化钛的石英玻璃制成的部件，其中在垂直于EUV反射表面的表面中条纹具有至少150毫米的曲率半径。该部件没有暴露的条纹并且具有高的平整度，在EUV光刻中是有用的。

Description

EUV光刻部件、制备方法和掺杂二氧化钛的石英玻璃
技术领域
本发明涉及一种EUV光刻部件，用于制造该光刻部件的方法，以及用于EUV光刻的掺杂二氧化钛的石英玻璃。
背景技术
在用于制造半导体装置的先进的光刻工艺中，使用更短波长的光源来曝光。随后转变为使用远紫外（EUV）的光刻被认为是有前途的。
在使用具有13.5纳米的短波长的EUV光的EUV光刻中，因为不能得到在如此短的波长具有高透射率的材料，因此采用反射光学系统。EUV光的反射是由溅射在低热膨胀材料基板上的硅/钼多层涂层来进行。
在实践中，在能够实现EUV光刻之前，必须克服的最严重的问题之一是制造无缺陷的光掩模。尽管在传统的依靠折射光学系统的KrF光刻（波长248.3纳米）和ArF光刻（波长193.4纳米）中，在光掩模基板表面上的如不规则物的缺陷是允许的，但是相同级别的缺陷在EUV光刻中是不可忽略的，因为短的波长和其中使用的反射光学系统。
此外，EUV光刻部件，尤其是光掩模基板，要求是完全平坦的。在实用的水平，光掩模基板必须具有在142×142平方毫米的中央区域内最高30纳米的非常高的平整度。
作为EUV光刻部件的已知有用的低热膨胀材料包括掺杂二氧化钛的石英玻璃。然而，当玻璃具有不均匀的二氧化钛浓度时，很难用掺杂二氧化钛的石英玻璃制造具有高平整度的基板。当抛光具有不均匀的二氧化钛浓度的玻璃基板时，由于与抛光浆料不同的反应性和有差别的研磨速度，基板的表面变得不规则。在这一点上。专利文献1中，例如，公开了作为EUV光刻部件，具有窄的二氧化钛浓度分布的掺杂二氧化钛的石英玻璃是有用的。
专利文献2提到了掺杂二氧化钛的石英玻璃的折射率分布，该分布是通过考虑到抛光机构来确定的，使得可以容易地由其制造高平整度的基板。
在制造掺杂二氧化钛的石英玻璃的过程中，由于在生长面上的温度变化，反应性气体组成的变化，以及其他因素，可垂直于掺杂二氧化钛的石英玻璃的生长方向形成被称为条纹的、具有不均匀的二氧化钛浓度的区域。条纹一般为几微米至几毫米间隔的二氧化钛浓度的变化，并且在条纹内存在结构上应变的位点。因为掺杂二氧化钛的石英玻璃内的应变的位点在结构上是不稳定的，在抛光过程中在该处会发生选择性地磨损，导致平整度恶化。基于条纹应变的位点被转换成应力的数值的发现，专利文献3公开了作为EUV光刻部件所允许的应力水平和减小该应力的方法。
专利文献4公开了使用其中条纹面平行于板的表面的板部件来防止条纹暴露并且将它的影响最小化。
专利文献5公开了通过使用区域熔融法来向玻璃施加剪切应力，从而从掺杂二氧化钛的石英玻璃中除去条纹的方法。
引用列表
专利文献1：JP-A2004-315351
(USP7462574,EP1608599)
专利文献2：JP-A2010-013335
(USP8105734,EP2145865)
专利文献3：JP-A2010-135732（USP8012653）
专利文献4：WO02/032622
专利文献5：JP-A2006-240979
发明内容
没有现有技术已经成功地从掺杂二氧化钛的石英玻璃中彻底去除条纹。专利文献4没有描述如何制备其中条纹面平行于板表面的板部件。对于排除条纹的影响、且作为EUV光学部件有用的掺杂二氧化钛的石英玻璃仍然存在需求。
本发明的一个目的是提供一种EUV光刻部件，在其上没有条纹暴露，用于制备该部件的方法，以及适合于制造该部件的掺杂二氧化钛的石英玻璃。
发明人已经发现作为EUV光刻部件有用的掺杂二氧化钛的石英玻璃。
在一个方面，本发明提供一种具有反射EUV光的表面的EUV光刻部件，它由掺杂二氧化钛的石英玻璃制成，该玻璃包含在垂直于EUV反射表面的表面中具有至少为150毫米的曲率半径的条纹。
在一个优选实施方案中，该部件在没有热成形的情况下直接由掺杂二氧化钛的石英玻璃形成，该石英玻璃已经通过区域熔融法进行了均质化处理。
大多数情况下，该部件是EUV光刻光掩模基板。
在另一个方面，本发明提供了一种制备EUV光刻部件的方法，包括通过区域熔融法对掺杂二氧化钛的石英玻璃进行均质化处理，以及在没有热成形的情况下，将它形成为部件的步骤。
优选地，均质化处理后的掺杂二氧化钛的石英玻璃具有至少220毫米的直径。
在另一个方面，本发明提供了一种用于EUV光刻的掺杂二氧化钛的石英玻璃，其包含在垂直于EUV光反射表面的表面中具有至少150毫米的曲率半径的条纹。
在一个优选的实施方案中，掺杂二氧化钛的石英玻璃具有等于或低于850℃的假想温度，和/或等于或小于20℃的假想温度分布。
发明效果
可得到具有高平整度的掺杂二氧化钛的石英玻璃的EUV光刻部件。在该部件上没有条纹暴露。
附图说明
图1是在通过区域熔融法进行的均质化处理中使用的燃烧器的横截面图。
图2是说明通过区域熔融法进行均质化处理的示意图。
图3说明了用于制造掺杂二氧化钛的石英玻璃锭的系统，图3a是示意图，图3b是其中所用的氢氧焰燃烧器的横截面。
图4是石英玻璃样品的俯视图，指示出在实施例中进行物理性能测量的位置。
具体实施方式
本发明涉及具有反射EUV光的表面的掺杂二氧化钛的石英玻璃。该掺杂二氧化钛的石英玻璃包含条纹，该条纹在垂直于EUV反射表面的表面中具有至少150毫米，优选至少200毫米，并更优选至少250毫米的曲率半径。该条纹在与EUV反射表面垂直的表面中具有大的曲率半径，并且平行于或基本平行于该EUV反射表面延伸，这表明很少或没有条纹暴露在EUV反射表面上。因为条纹是平的，并且具有大的曲率半径，结果使由条纹在EUV反射表面上形成的凹凸最小化。可得到具有改善了的平整度的EUV光学部件。即使当条纹暴露在EUV反射表面上时，由于条纹在与EUV反射表面垂直的表面中具有大的曲率半径，并且平行于或基本平行于该EUV反射表面延伸，使得该条纹可以以接近平行的角度暴露在EUV反射表面上，因此平坦度的恶化也被最小化。
即使当具有大的曲率半径的条纹以接近平行的角度暴露在EUV反射表面上，由此平整度下降时，也可以通过选择地研磨平整度恶化的那些区域来容易地改善平整度。另一方面，当具有小曲率半径的条纹暴露在EUV反射表面上时，由于许多条纹暴露在EVU反射表面的狭窄区域内，因此恢复平整度是困难的。
可以将由本发明制造的掺杂二氧化钛的石英玻璃通过在双侧抛光机上进行抛光而加工为用于光掩模基板的、在132×132平方毫米的中心区域中100纳米或更低的平整度。平整度可以通过使用被称为“局部抛光技术”的、选择性地抛光基板表面上的凸部的技术得到进一步改善。
如本文所使用的，掺杂二氧化钛的石英玻璃中的“条纹”指掺杂二氧化钛的石英玻璃组成中的微观变化，像TiO2浓度的变化和OH浓度的变化，并可以作为折射率的变化而被检测到。
可以通过使用配备有波长为632.8纳米的He-Ne激光光源的斐佐（Fizeau）干涉仪（ZYGO MARK IV），以板上涂油（oil-on-plate）的模式，来测量折射率，由折射率计算条纹的曲率半径。具体地，将具有与石英玻璃同等折射率的油填充在两个具有低折射率分布的平行石英玻璃板之间，并且事先测量平行板的折射率分布。然后将具有抛光的相对表面的掺杂二氧化钛的石英玻璃部件夹在两个平行板之间，在平行板和部件之间填充油，对掺杂二氧化钛的石英玻璃部件的夹层板的折射率分布进行测量。通过从掺杂二氧化钛的石英玻璃部件的夹层板的折射率分布中减去平行板的折射率分布，来确定掺杂二氧化钛的石英玻璃部件的折射率分布。关于折射率分布的测量，微小的区域的折射率分布可以通过使用用于放大的25毫米孔径转换器来测量，由此可以调查局部条纹的曲率半径。当在垂直于EUV反射表面的一个表面中的整个区域测量折射率分布时，将曲率半径的最小值指定为在与EUV反射表面垂直的表面中的条纹的曲率半径。即使在和与EUV反射表面垂直的一个表面正交的表面中，同样优选条纹的曲率半径为至少150毫米，更优选至少200毫米，甚至更优选至少250毫米。测量条纹的曲率半径使用的样品是0.7毫米厚的、两面抛光的掺杂二氧化钛的石英玻璃板。
本发明的另一个实施方案是用于制备掺杂二氧化钛的石英玻璃的EUV光刻部件的方法，该石英玻璃包含在垂直于EUV反射表面的表面中具有至少150毫米的曲率半径的条纹。该方法包括通过区域熔融法对掺杂二氧化钛的石英玻璃进行均质化处理，和在没有热成形的情况下，将它形成为部件的步骤。通过区域熔融法的均质化处理使在掺杂二氧化钛的石英玻璃中的条纹可以平行排列，这使当将该掺杂二氧化钛的石英玻璃加工成EUV光刻部件时，条纹在EUV反射表面上的暴露最小化。掺杂二氧化钛的石英玻璃中的条纹取决于在掺杂二氧化钛的石英玻璃锭的制备过程中掺杂二氧化钛的石英玻璃锭的生长面的几何形状。不依赖于制备锭的特定的方法，掺杂二氧化钛的石英玻璃锭的生长面的几何形状具有一定的曲率。因此，如果省略了通过区域熔融法的均质化处理，条纹具有至少150毫米的曲率半径是不可能的。
在本发明中，热成形是如下的步骤：在真空熔融炉中，向由高纯度的碳材料或类似材料制成的模具中填充该锭，并且在惰性气体如氩气的炉气氛中，在略低于大气压的压力下，和1700-1900℃的温度范围中，将组件保持30-120分钟。
热成形起到降低在掺杂二氧化钛的石英玻璃的外周部分中的条纹的曲率半径的作用。这导致条纹暴露在EUV反射表面上的可能性。在这个意义上说，在没有热成形的情况下制备EUV光刻部件是理想的。
为了在没有热定形的情况下制备EUV光刻部件，必须扩大通过区域熔融法均质化后的掺杂二氧化钛的石英玻璃锭的形状。例如，如果希望具有一个光掩模基板，掺杂二氧化钛的石英玻璃锭的必须具有至少220毫米的直径。为此，区域熔融法优选使用至少两个，更优选至少三个加热燃烧器。用单一加热燃烧器，加热不充分，使得会阻碍通过区域熔融法对大直径的掺杂二氧化钛的石英玻璃锭进行的均质化，并且扩展熔化区的宽度，使得也会阻碍掺杂二氧化钛的石英玻璃中的条纹曲率半径的增大。
用于通过区域熔融均质化的可燃气体优选为氢。使用氢允许局部加热，能够限制熔化区，并有利于增大掺杂二氧化钛的石英玻璃中的条纹的曲率半径。图1显示了用于通过区域熔融进行均质化的燃烧器的一个示例。具有内径3的燃烧器包括沿周向布置的用于喷射助燃气体的喷嘴1和用于喷射可燃气体的剩余空间2。燃烧器内径3（即，可燃气体喷射口的直径）优选为最大60毫米，更优选最大50毫米，甚至更优选最大40毫米。还优选该燃烧器内径3为至少20毫米。若内径小于20毫米，则可能难以维持熔化区。如果内径超过60毫米，则可能难以缩小熔化区，且因此难以增大条纹的曲率半径。
优选该掺杂二氧化钛的石英玻璃具有小于或等于20℃，更优选小于或等于10℃，甚至更优选小于或等于5℃的假想温度分布。如果假想温度分布更宽，在掺杂二氧化钛的石英玻璃中可能存在热膨胀特性的分布，它可能不适合用作EUV光刻部件。
进一步，优选该掺杂二氧化钛的石英玻璃具有低于或等于850℃，更优选低于或等于800℃，甚至更优选低于或等于775℃，且最优选低于或等于760℃的假想温度。由于随着假想温度变低，玻璃展示出低的热膨胀的温度范围变得更宽，所以具有较低假想温度的掺杂二氧化钛的石英玻璃适合作为预期会遇到较高温度的大规模制造用的EUV光刻曝光工具中的光学部件。虽然下限不是关键，掺杂二氧化钛的石英玻璃的假想温度通常为至少500℃。值得注意的是，掺杂二氧化钛的石英玻璃的假想温度可以通过在J.Non-Cryst.Solids,185,191(1995)中描述的方法测量。
掺杂二氧化钛的石英玻璃的假想温度可以通过退火处理来降低。优选的退火处理包括在空气中、在700-1300℃温度下保持1-200小时，并且缓慢冷却到300℃，优选冷却到200℃。合适的缓慢冷却速度为1-20℃/小时，更优选为1-10℃/小时的范围。特别是，可通过将在从850℃至700℃温度范围的缓慢冷却速度设定为低于1℃/小时来获得假想温度低于760℃。
当为了控制假想温度分布而对掺杂二氧化钛的石英玻璃进行退火-缓慢冷却处理时，玻璃的厚度优选最多10厘米，更优选最多5厘米，且甚至更优选最多1厘米。
现在，描述如何制备根据本发明的用于EUV光刻的掺杂二氧化钛的石英玻璃和EUV光刻部件。可通过提供具有燃烧器的石英玻璃制造炉，将含氢可燃气体和含氧助燃气体供给燃烧器，燃烧这些气体，在燃烧器端部形成氢氧焰，将提供硅的反应性气体和提供钛的反应性气体供给到火焰中，由此将反应性气体进行水解以形成氧化硅、氧化钛和它们的复合物的微细颗粒，将该微细颗粒沉积在置于燃烧器端部前的靶上，并且让掺杂二氧化钛的石英玻璃在靶上生长来制造掺杂二氧化钛的石英玻璃锭。例如，可以通过直接的方法制造该锭。
本文使用的提供硅的反应性气体可以选自公知的有机硅化合物，例如四氯化硅、氯硅烷如二甲基二氯硅烷和甲基三氯硅烷，和烷氧基硅烷如四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、以及甲基三甲氧基硅烷。
本文使用的提供钛的反应性气体也可以选自公知的化合物，例如卤化钛如四氯化钛和四溴化钛，以及烷氧基钛，如四乙氧基钛、四异丙氧基钛、四正丙氧基钛、四正丁氧基钛、四仲丁氧基钛，和四叔丁氧基钛。
优选该掺杂二氧化钛的石英玻璃具有2-11重量％，尤其5-8.5重量％的二氧化钛含量。
本文所用的可燃气体通常是氢气或含氢气体，任选地与一氧化碳、甲烷、丙烷或类似物组合。助燃气体通常是氧气或含氧气体。
通过区域熔融法对这样制造出的掺杂二氧化钛的石英玻璃锭进行均质化处理。图2在原理上示意性示出了通过区域熔融法的均质化处理。具有生长轴4a的掺杂二氧化钛的石英玻璃锭4，在相对的两端由一对可转动的夹持装置夹持，该加持装置典型地为车床卡盘5a、5b。将燃烧器6点燃以强烈加热锭4的一部分从而产生熔融区7。此后，使燃烧器6在轴向上移动，同时将锭4通过左卡盘5a和右卡盘5b的差动旋转而扭转。然后，为了搅拌熔融区以除去条纹并使二氧化钛的浓度均匀的均质化处理，在熔融区7中在垂直于燃烧器6的移动方向的方向上产生剪切应力。在图2中，均质化处理的轴8基本上与锭生长的轴4a一致。在通过区域熔融的均质化处理中，优选使用多个燃烧器。在使用多个燃烧器的场合，优选将它们相对于均质化处理轴8对称地布置。在使用三个燃烧器的场合，例如，将它们以120°角布置在均质化处理轴8的周围。另外，在使用多个燃烧器的场合，将它们布置在均质化处理轴的周围的相同的圆上，以产生一个窄的熔化区。
对于通过区域熔融的均质化处理，所用的可燃气体通常是氢气或含氢气体，任选地与一氧化碳、甲烷、丙烷或类似物组合。助燃气体通常是氧气或含氧气体。
当通过一对车床卡盘5a、5b将掺杂二氧化钛的石英玻璃锭4在相对的端部夹持时，支撑杆9优选插入锭4和卡盘5a、5b之间，如图2所示。支撑杆9由在0℃-900℃的温度范围内线性膨胀系数为0×10-7/℃-6×10-7/℃的玻璃制成。最优选将掺杂二氧化钛的石英玻璃作为支撑杆。
用于提供左卡盘5a和右卡盘5b之间差动旋转的手段是，例如，通过逆向旋转卡盘5a和5b。均质化处理可以进行一次或两次或更多次。重复均质化处理两次或更多次对于条纹去除和改善组成的均匀性或均质性是更有效的。虽然均质化处理可以重复任何期望的次数，但是从经济方面考虑，重复优选限制在10次以下。
一旦通过区域熔融对掺杂二氧化钛的石英玻璃锭进行均质化处理后，对它进行机械加工或以其它方式处理，以在没有热成形的情况下形成EUV光刻部件。如果掺杂二氧化钛的石英玻璃是热成形的，在石英玻璃的外周部分中的条纹的曲率半径会减小。为了避免热成形，该均匀化处理后的掺杂二氧化钛的石英玻璃锭应当优选具有至少220毫米的直径。因为在通过区域熔融的均质化处理过程中，可能在掺杂二氧化钛的石英玻璃锭的外周部引入微小气泡，更优选均质化处理后的石英玻璃锭应具有至少250毫米的直径。均质化处理后的掺杂二氧化钛的石英玻璃锭应优选具有最大600毫米的直径，虽然其上限不是关键的。
通过研磨或切割，将通过区域熔融的均质化处理后的掺杂二氧化钛的石英玻璃锭机械加工为预定尺寸。在这之后，用具有磨料，如氧化硅、氧化铝、氧化钼、碳化硅、金刚石、氧化铈或胶体二氧化硅的双面研磨机上进行精研，和研磨等类似加工，直到完成EUV光刻部件。
在通过区域熔融的均质化处理后，为了降低假想温度及其分布的目的，优选对掺杂二氧化钛的石英玻璃锭进行退火-缓慢冷却处理。只要通过区域熔融的均质化处理已经结束，在机械加工成为EUV光刻部件步骤的过程中的任一点上都可以对石英玻璃进行退火-缓慢冷却处理。当为了抑制假想温度分布的目的进行退火-缓慢冷却处理时，该掺杂二氧化钛的石英玻璃应该优选具有减小的厚度。
实施例
下面给出实施例和比较例用来说明本发明，虽然本发明不限于此。
实施例1
[锭的制造]
通过图3所示和JP-A H08-031723中描述的使用燃烧器的直接方法，制造掺杂二氧化钛的石英玻璃锭。在图3a中，该系统包括SiCl4供料管10、TiCl4供料管11、流量计12、氢气供料管13、14和15、氧气供料管16、17、18和19、用于产生氢氧焰21的石英的主燃烧器20、其上沉积掺杂二氧化钛的二氧化硅微细颗粒22的靶或支撑件23、和锭4。在图3b的横截面图中说明了主燃烧器20，包括由喷嘴24到28组成的五重管29、包围五重管29的外壳30、和设置在外壳30内的喷嘴31。中央或第一喷嘴24接收来自供料管10和11的SiCl4和TiCl4以及来自供料管19的氧气。如果需要，可以一起供给惰性气体如氩气。第二和第四喷嘴25和27接收来自供料管16和17的氧气，且第三和第五喷嘴26和28接收来自供料管13和14的氢气。外壳30接收来自供料管15的氢气，且喷嘴31接收来自供料管18的氧气。
通过将表1中所示的气体供给主燃烧器的各个喷嘴，将四氯化硅和四氯化钛在氢氧焰中进行水解，产生SiO2和TiO2颗粒，并且将该颗粒沉积在向着石英燃烧器而设置的靶上，来制造掺杂二氧化钛的石英玻璃锭。以10毫米/小时的速度缩回靶，同时以50rpm进行旋转。石英玻璃锭具有140毫米的直径和650毫米的长度。
表1
[通过区域熔融法的均质化处理]
将掺杂二氧化钛的石英玻璃锭焊接到（类似制造的）掺杂二氧化钛的石英玻璃的支撑杆上，并通过支撑杆由车床卡盘牢固地固定（见图2）。
通过区域熔融的第一均质化
当车床卡盘以20rpm同步旋转时，靠近左支撑棒的石英玻璃锭的端部被氢氧燃烧器组件强烈加热。具体而言，将三个具有40毫米内径的氢气喷射孔的燃烧器在同一个径向平面内以120°角布置在均质化轴8的周围。在证实石英玻璃锭部分熔融后，将右卡盘的旋转加速到40rpm，以在卡盘之间产生不同的转速，由此来适度地扭转石英玻璃锭；为了使石英玻璃锭变薄，将卡盘之间的距离扩大；燃烧器组件以10毫米/分钟的速度向右移动。以这种方式，将掺杂二氧化钛的石英玻璃锭成形为具有80毫米直径的圆柱体。在成形为具有80毫米直径的圆柱体后，将卡盘以50rpm同步同向旋转；并且将燃烧器组件移回到石英玻璃锭的左端。通过强烈加热形成熔融区域，在此之后，使右卡盘的旋转方向与左卡盘的旋转方向相反，即，将右卡盘以60rpm逆向旋转，以在熔融区引起搅动。与此同时，将燃烧器组件以10毫米/分钟的速度向右移动，使石英玻璃锭均质化。在相同的方向重复相同的操作，总计完成两次均质化处理。
通过区域熔融的第二均质化
接着，将卡盘以50rpm同步同向旋转；并且将燃烧器组件移回到石英玻璃锭的左端。通过强烈加热形成熔融区域。在证实熔融后，将左卡盘固定，将右卡盘缓慢地移向左卡盘，以减小卡盘之间的距离，由此成形为具有180毫米直径的球体。
将成形为球形的掺杂二氧化钛的石英玻璃体在相对的两端与支撑杆切断。在一个切割面位于底部的情况下将该石英玻璃体搁置在平台上，并且在水平相对的两侧将支撑杆再次焊接至石英玻璃体。结果，均质化轴被改变为直角。
用与通过区域熔融的第一均质化处理相同的操作，进行均质化处理。
进一步，将卡盘以50rpm同步同向旋转；并且将燃烧器组件移回到石英玻璃锭的左端。通过强烈加热形成熔融区域。在证实熔融后，将右卡盘缓慢地移向左卡盘，以减小它们之间的距离，并且将燃烧器组件向右移动，由此将石英玻璃体成形为具有250毫米直径的直筒的板状物（tablet）。将成形为板状物的掺杂二氧化钛的石英玻璃体在相对的两端与支撑杆切断。
[部件制备步骤1]
在通过区域熔融的第二均质化处理的过程中，垂直于均质化处理轴，切割成形为板状物的掺杂二氧化钛的石英玻璃体的直筒的两相对端，获得具有250毫米直径和150毫米长度的圆柱形掺杂二氧化钛的石英玻璃体。切割下圆柱体的侧表面，形成155×155×150毫米的矩形块。将矩形块切成6.8毫米厚的基板，对其进行精研。
[退火步骤]
将掺杂二氧化钛的石英玻璃基板放置在由高纯度的多孔碳化硅绝缘材料制成的炉中，在空气中，在850℃加热150小时，并且以0.75℃/小时的速度缓慢冷却到700℃，且以2℃/小时的速度冷却到200℃。
[部件制备步骤2]
将经退火的掺杂二氧化钛的石英玻璃基板的端面进行抛光。在主表面，用二氧化铈磨料进行粗抛光，并且使用软绒面革作为抛光垫和SiO2浓度为40重量％的胶体二氧化硅水分散液作为抛光浆料，进行精细抛光。抛光步骤之后进行洗涤和干燥，得到152.4×152.4×6.35毫米的经抛光的基板。
[物理性能的测量]
测量经抛光的基板在132×132平方毫米的中央区域的平整度，结果显示在表2中。通过EPMA方法在图4中显示的九个位置测量TiO2的浓度。也测量这些位置的假想温度。表2报告了TiO2浓度和假想温度的最大值和最小值以及它们的分布（最大值减去最小值）。
从经抛光的基板沿一个对角线并且垂直于经抛光的表面，切割下用于条纹曲率半径测量的厚1毫米的样品（曲率样品1），并且将其相对的表面抛光，之后用板上涂油（oil on plate）的方法测量条纹的曲率半径。表2报告了最小曲率半径（曲率半径1）。相似地从经抛光的基板沿另一条与上述曲率样品1正交的对角线并且垂直该经抛光的表面，切割下另一个样品（曲率样品2）。测量条纹的曲率半径。表2报告了最小曲率半径（曲率半径2）。
实施例2
[退火步骤]
除了省略退火步骤之外，用与实施例1中相同的工序制备石英玻璃基板。
实施例3
[退火步骤]
除了包括的退火步骤为在空气中在850℃下保持150小时，并且以2℃/小时的速度缓慢冷却到200℃之外，用与实施例1中相同的工序制备石英玻璃基板。
实施例4
[通过区域熔融的均质化]
除了使用三个具有内径为60毫米的氢气喷射孔的燃烧器，通过区域熔融进行均质化处理之外，用与实施例1中相同的工序制备石英玻璃基板。
比较例1
[通过区域熔融的均质化]
在通过区域熔融的第二均质化处理之后，将卡盘以50rpm同步同向旋转；并且将燃烧器组件移回到掺杂二氧化钛的石英玻璃锭的左端。通过强烈加热形成熔融区域。在证实熔融后，将左卡盘固定，将右卡盘缓慢地移向左卡盘，以减小它们之间的距离，由此成形为具有130毫米直径的直筒的板状物。将成形为板状物的掺杂二氧化钛的石英玻璃体在相对的两端与支撑杆切断。
[部件制备步骤1]
在通过区域熔融的第二均质化处理的过程中，垂直于均质化处理轴，切割成形为板状物的掺杂二氧化钛的石英玻璃体的直筒的两相对端，获得具有130毫米直径和700毫米长度的圆柱形掺杂二氧化钛的石英玻璃体。在碳坩锅中，将圆柱体的一个切割面置于底部，并在1700℃加热6小时，由此将它热成形为155毫米×155毫米的柱形块。将该块切割成6.8毫米厚的基板，对其进行精研。
除了通过区域熔融的均质化处理和部件制备步骤1，该方法与实施例1相同。
参考实施例
[通过区域熔融的均质化]
使用具有60毫米内径的氢气喷射孔的单一燃烧器。在通过区域熔融的第二均质化后，将卡盘以50rpm同步同向旋转；并且将燃烧器移回到掺杂二氧化钛的石英玻璃锭的左端。通过强烈加热形成熔融区域。在证实熔融后，将左卡盘固定，将右卡盘缓慢地移向左卡盘，以减小它们之间的距离。这个步骤的目的是形成成形为板状物的掺杂二氧化钛的石英玻璃体，但没能使板状直筒的直径扩大到250毫米。
比较例2
在观察超低膨胀玻璃（Corning公司）中的条纹之后，在这样的方向切出155×155毫米的柱形块，使条纹没有暴露在155×155平方毫米的平面中。将该块切割成6.8毫米厚的基板，对其进行精研。在精研后的玻璃基板的端面进行抛光。在主表面，用二氧化铈磨料进行粗抛光，并且使用软绒面革作为抛光垫和SiO2浓度为40重量％的胶体二氧化硅水分散液作为抛光浆料进行精细抛光。抛光步骤后进行洗涤和干燥，得到152.4×152.4×6.35毫米的经抛光的基板。
[物理性能的测量]
测量经抛光的基板在132×132平方毫米的中央区域的平整度，结果显示在表2中。用EPMA方法在图4中显示的九个位置测量TiO2的浓度。也测量这些位置的假想温度。表2报告了最大值和最小值以及它们的分布。
从经抛光的基板沿一个对角线并且垂直于经抛光的表面，切割下厚1毫米的用于条纹曲率半径测量的样品（曲率样品1），并且将其相对的表面抛光，之后通过板上涂油的方法测量条纹的曲率半径。表2报告了最小曲率半径（曲率半径1）。相似地，从经抛光的基板沿另一条与曲率样品1正交的对角线且与该抛光表面垂直，切割下另一个样品（曲率样品2）。测量条纹的曲率半径。表2报告了最小曲率半径（曲率半径2）。
表2

Claims (10)

1.一种由掺杂二氧化钛的石英玻璃制成的EUV光刻部件，该石英玻璃包含在垂直于EUV光反射表面的表面中具有至少150毫米的曲率半径的条纹。
2.权利要求1的部件，其在没有热成形的情况下直接由掺杂二氧化钛的石英玻璃形成，该石英玻璃已经通过区域熔融法进行了均质化处理。
3.权利要求1的部件，其中该掺杂二氧化钛的石英玻璃具有最高850℃的假想温度。
4.权利要求1的部件，其中该掺杂二氧化钛的石英玻璃具有最高20℃的假想温度分布。
5.权利要求1的部件，其是EUV光刻光掩模基板。
6.一种用于制备EUV光刻部件的方法，包括通过区域熔融法对掺杂二氧化钛的石英玻璃进行均质化处理，和在没有热成形的情况下将它形成为部件的步骤。
7.权利要求6的方法，其中进行均质化处理后的掺杂二氧化钛的石英玻璃具有至少220毫米的直径。
8.一种用于EUV光刻的掺杂二氧化钛的石英玻璃，其包含在垂直于EUV光反射表面的表面中具有至少150毫米的曲率半径的条纹。
9.权利要求8的掺杂二氧化钛的石英玻璃，其具有最高850℃的假想温度。
10.权利要求8的掺杂二氧化钛的石英玻璃，其具有最高20℃的假想温度分布。
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