CN103771451A - 一种以超细二氧化硅诱导制备纯相dd3r沸石分子筛的合成方法 - Google Patents

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朱伟东
彭安娜
许春慧
叶向荣
钟依均
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Abstract

一种以超细二氧化硅诱导制备纯相DD3R沸石分子筛的合成方法,按摩尔比:n(金刚烷胺):n(硅溶胶):n(氟化钾):n(去离子水)=47:100:100:8000,将硅溶胶和金刚烷胺加入到去离子水中,充分搅拌后,加入氟化钾,然后按体系质量的0.1wt.%加入超细二氧化硅,室温下搅拌2小时后,将混合液转入水热合成反应釜中,170℃下晶化3天;将所得到的样品抽滤并洗涤,在110℃下干燥12小时,之后置于马弗炉中在700℃下焙烧8小时得到纯相DD3R分子筛,该法不再受限于DD3R晶种的获取,重复率及DD3R产率较高,获得的产物晶体形貌规整、大小均一。

Description

一种以超细二氧化硅诱导制备纯相DD3R沸石分子筛的合成方法
技术领域
本发明属于微孔材料技术领域,具体涉及一种以超细二氧化硅诱导制备纯相DD3R沸石分子筛的合成方法。
背景技术
全硅型沸石分子筛DD3R的骨架结构(Gies,Z.Kristallogr.1986,175,93-104)是由十面体[435661]、十二面体[512]及十九面体[435126183]三种基本结构组成,其晶胞结构为六方晶系。共角的[SiO4]4-与共面的五边十二面体[512]组成的假六方面层相连接。这些面层以ABCABC的顺序堆积。在层与层之间由另外的[SiO4]4-构成的六元环相通。较大的十九面体结构基元通过其中的八元环相通,在十二面体构成的平面之间组成二维孔道结构。其中十九面体中的八元环主孔道大小为0.36nm×0.44nm,能选择性地吸附分离丙烯和丙烷混合物及丁烯混合物(朱伟东等,Chem.Commun.1999,2453-2454;朱伟东等,Langmuir2000,16,3322-3329;朱伟东等,Phys.Chem.Chem.Phys.2000,2,1773-1779)。此外,在天然气净化分离中,DD3R有潜在的应用价值(J.van den Bergh等,J.Membrane Sci.2008,316,35-45)。基于沸石分子筛工业应用的要求,所合成的沸石分子筛晶体应纯度高、形貌一致、大小均匀,且能快速合成。但是,在DD3R的合成过程中极易产生杂晶相Sigma-2,且难以获得晶体形貌一致、大小均匀的DD3R分子筛,无法达到工业化生产的要求,这一合成中的瓶颈技术问题限制了对DD3R的研究和应用开发。因此,如何在DD3R的合成过程中避免杂晶相的生成,获得大小均一的纯相DD3R晶体,并简化合成工艺、提高产率,是解决DD3R分子筛合成的关键技术问题,也是深入研究DD3R的吸附及扩散性能和其工业应用的前提条件。
DD3R单晶是由Gies首次合成[J.Inclusion Phenom.1984,2(1),275-278],目前关于DD3R研究的文献报道多采用den Exter等(Stud.Surf.Sci.Catal.1994,84,1159-1166)提出的动态合成方法,即采用乙二胺为矿化剂(助剂),将结构导向剂金刚烷胺、矿化剂乙二胺、硅源和水按一定的配比经过振荡、超声、冰浴冷却及高温老化等繁琐的流程,在160℃下动态晶化25-42天得到DD3R分子筛,但合成所得的DD3R晶体的形貌和大小不均一。之后,Gascon等[Microporous Mesoporous Mater.2008,115(3),585-593]优化了该方法,向体系中加入少量的DD3R晶种,将晶化时间缩短至2天。该方法采用低沸点(116.5℃)的有机物乙二胺为矿化剂,因其在晶化过程中易挥发而与合成液相分离,须采用动态晶化步骤使其不断溶于合成液相中。因此,该法合成的DD3R成本昂贵,难以工业化生产。此外,重复率较低,获得的产物品质较差(含杂晶相且晶体形貌和大小不均一)。2009年杨启亮等[无机化学学报2009,25(2),191-194]将氟离子引入DD3R合成体系,采用KF为矿化剂,将结构导向剂金刚烷胺、矿化剂KF、硅源和水按一定的配比混合老化2小时,静态晶化9天得到DD3R分子筛。在此合成方法基础上引入微量DD3R晶种,在晶化1天的情况下可快速获得DD3R分子筛。该法突破了传统方法中所须采用的动态晶化步骤,简化了工艺,降低了合成成本。但该合成方法仍然未避免杂晶相Sigma-2的生成,所合成的DD3R晶粒大小也不均一[Gücüyener等,J.Mater.Chem.2011,21(45),18386-18397]。朱伟东和彭安娜(中国发明专利,201210297472.9)采用未晶化完全的DD3R粉末作为晶种和KF为矿化剂,制备了纯相、晶体形貌和尺寸均一的全硅型DD3R沸石分子筛,是目前合成DD3R分子筛最为理想的一种方法。但是,该合成方法中所采用的未晶化完全的DD3R粉末作为晶种,是从传统方法(den Exter等,Stud.Surf.Sci.Catal.1994,84,1159-1166)中获得的,因此整个合成方法极大地受限于晶种的制备,实际上也并未真正快速地合成DD3R。
发明内容
本发明的目的是针对目前合成DD3R过程中存在的上述问题,提出一种工艺简单、重复性好,并且不再受限于晶种制备这一步,而是以商业化的超细二氧化硅作为“晶种”的DD3R沸石分子筛的合成新方法。
一种以超细二氧化硅诱导制备纯相DD3R沸石分子筛的合成方法,其特征在于该制备方法的具体步骤为:按摩尔比:n(金刚烷胺):n(硅溶胶):n(氟化钾):n(去离子水)=47:100:100:8000,将硅溶胶(
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AS-30)和金刚烷胺(ADA)加入到去离子水中,充分搅拌后,加入氟化钾(KF),然后按体系质量的0.1wt.%加入晶种;室温下搅拌2小时后,将混合液转入水热合成反应釜中,170℃下晶化3天;将所得到的样品抽滤并洗涤,在110℃下干燥12小时,之后置于马弗炉中在700℃下焙烧8小时得到晶体形貌和大小均一的纯相DD3R分子筛。
所述的“晶种”为商业化生产的超细二氧化硅(Fumed SiO2,0.2-0.3μm,从Sigma-Aldrich公司购买)。
本发明避免了采用DD3R晶体或未晶化完全的DD3R粉末作为晶种,以超细二氧化硅为诱导,有效地缩短了合成所需时间。同时,也克服了传统合成方法中极易产生杂晶相Sigma-2、所得DD3R晶体大小不均、重复性不好等缺点,得到了品质优良的纯相DD3R分子筛。
附图说明:
图1为DD3R标准谱图及实施例、对比例的XRD谱图。
图2为实施例及对比例的SEM显微照片。
具体实施方式:
实施例
取3mL的硅溶胶溶于30mL的去离子水中,剧烈搅拌,并加入1.6g的金刚烷胺,搅拌片刻后,加入1.3g的氟化钾,得到混合溶液。向上述步骤得到的混合体系中加入0.036g的超细二氧化硅“晶种”(Fumed SiO2,0.2-0.3μm,从Sigma-Aldrich公司购买)。混合搅拌2小时后,移入50mL的水热反应釜中,置于170℃下晶化3天;将所得到的样品抽滤并用去离子水洗涤,在110℃下干燥12小时,之后置于马弗炉中在700℃下焙烧8小时得到样品。样品的XRD谱图见图1-实施例,从表征图可知,在2θ=7.68°,15.39°及17.13°出现了DD3R分子筛的特征衍射峰,表明所合成的样品为DD3R分子筛;SEM照片见图2-实施例,图中DD3R分子筛晶体为平行六面体,形貌规整、均一,晶粒大小约为20μm;未有杂晶相Sigma-2的出现,表明所合成的样品为纯相、晶体尺寸均一的DD3R分子筛。
对比例
取3mL的硅源溶于30mL的去离子水中,剧烈搅拌,并加入1.6g的金刚烷胺,搅拌片刻后,加入1.3g的氟化钾,得到混合溶液。不加入任何晶种或粉体二氧化硅,混合搅拌2小时后,移入50mL的水热反应釜中,置于170℃下晶化3天;将所得到的样品抽滤并用去离子水洗涤,在110℃下干燥12小时,之后置于马弗炉中在700℃下焙烧8小时得到样品。样品的XRD谱图见图1-对比例,在2θ=19.56°,19.76°处出现了Sigma-2的特征衍射峰,表明所合成的样品为Sigma-2分子筛。SEM照片见图2-对比例,图中样品多为Sigma-2分子筛形貌,未有明显DD3R晶粒出现。

Claims (1)

1.一种以超细二氧化硅诱导制备纯相DD3R沸石分子筛的合成方法,其特征在于该制备方法的具体步骤为:按摩尔比:n(金刚烷胺):n(硅溶胶):n(氟化钾):n(去离子水)=47:100:100:8000,将硅溶胶和金刚烷胺加入到去离子水中,充分搅拌后,加入氟化钾,然后按体系质量的0.1wt.%加入晶种;室温下搅拌2小时后,将混合液转入水热合成反应釜中,170℃下晶化3天;将所得到的样品抽滤并洗涤,在110℃下干燥12小时,之后置于马弗炉中在700℃下焙烧8小时得到纯相DD3R分子筛,所述晶种为超细二氧化硅。
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