CN102874828A - 一种干胶法合成纳米slicalite-2分子筛的方法及其制得的产品 - Google Patents
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Abstract
一种干胶法合成纳米slicalite-2分子筛的方法,先在模板剂四丁基氢氧化铵(TBAOH)中,缓慢加入正硅酸乙酯(TEOS),再加入计量的水,搅拌形成均匀凝胶,老化一段时间,水浴加热蒸干凝胶,得干胶,然后干胶转入带有水套隔层的晶化釜中进行晶化处理,最后经常规的过滤、洗涤、干燥、焙烧,得纳米slicalite-2分子筛,本方法使用模板剂用量少,合成成本低,合成时间短,在合成slicalite-2分子筛膜领域具有广阔的使用前景。
Description
技术领域
本发明涉及无机化学合成技术领域,具体涉及一种干胶法合成纳米slicalite-2分子筛的方法及其制得的产品。
背景技术
分子筛具有优良的热稳定性水热稳定性与突出的择形选择性,超细分子筛还拥有高比表面积和较短的扩散途径等优点,在催化与吸附分离等领域有广泛的应用。现有的制备纳米slicalite-2方法是水热合成法,该方法模拟自然界中分子筛生长所需的高温高压强碱环境,但通常合成时间较长,合成条件相对苛刻,过程复杂,会产生大量的强碱废液,造成了排放污染。干胶法(DGC)同样也是制备沸石分子筛的有效方法,自被首次用于制备ZSM-5分子筛以来,该方法己被用于各种不同结沸石分子筛的合成,如slicalite-1、FER、MOR、ZSM-48、含磷酸铝系列分子筛等沸石分子筛和钛硅分子筛等。
与水热合成法相比,干胶法合成沸石分子筛有减少模板剂使用量、省去了产品和母液分离的步骤、不会产生大量的废液,对环境友好、便于控制反应产物中各元素的比例等优点。另外,由于干胶法自身的特点,在制备分子筛成型方面有潜在的重要作用。
发明内容
本发明要解决的技术问题是一种利用干胶法简单、快捷合成纳米slicalite-2分子筛的方法及其制得的产品。
本发明的技术方案是:一种干胶法合成纳米slicalite-2分子筛的方法,其特征在于包括如下步骤:
第一步:干胶的制备
按摩尔比硅源中的SiO2∶有机碱模板剂∶H2O为 1∶0.05~0.45∶25,将硅源在有机碱模板剂中水解,然后加入水,形成均匀凝胶,老化5~10天,于80℃水浴蒸干凝胶,得干胶,所述的硅源为正硅酸乙酯,所述的有机模板剂为四丁基氢氧化铵;
第二步:晶化
将第一步制备的干胶转入带有水套隔层的晶化釜中,按照重量比水∶干胶为1~5.2:1,然后密封晶化釜,对釜内的干胶进行晶化处理,晶化温度为130~180℃,晶化时间为24~96小时,最后经常规的过滤、洗涤、干燥和焙烧,获得平均粒径小于100nm的椭球状slicalite-2分子筛。
所述第一步中硅源中的SiO2∶有机碱模板剂∶H2O摩尔比的优化值为 1∶0.35∶25。
所述第一步中老化时间的优化值为8天。
所述第二步中水∶干胶重量比的优化值为2.6:1。
所述第二步中晶化温度和时间的优化值分别为150~170℃和48~72小时。
一种根据权利要求1所述干胶法合成的纳米slicalite-2分子筛产品。
所述第一步中老化是将凝胶在常温下静置,使凝胶内部充分反应,促进多孔材料的骨架结构通过微小的重构(主要是溶解和再结晶)更加稳定化。
本发明所制备的纳米slicalite-2分子筛,拥有高比表面积和较短的扩散途径等优点,制备过程中省去了产品和母液分离的步骤、不会产生大量的废液,对环境基本无害、具有广泛的工业应用价值。
附图说明
图1为实施例1制得的纳米slicalite-2分子筛X射线衍射分析图片。
图2为实施例1制得的纳米slicalite-2分子筛场发射扫描电镜图片。
图3为实施例1制得的纳米slicalite-2分子筛红外光谱图。
具体实施方式
实施例1:
第一步 干胶的制备,按摩尔比硅源中的SiO2∶有机碱模板剂∶H2O为 1∶0.35∶25,所述的硅源为正硅酸乙酯,所述的有机模板剂为四丁基氢氧化铵。将正硅酸乙酯(TEOS)在四丁基氢氧化铵溶液中水解,然后加入计量的水,形成均匀凝胶,老化8天,于80℃水浴蒸干凝胶,得干胶;
第二步将第一步制备的干胶转入带有水套隔层的晶化釜中,按照重量比水∶干胶为2.6:1,然后密封晶化釜,对釜内的干胶进行晶化处理,晶化温度为170℃,晶化时间为48小时,可得slicalite-2分子筛前驱体;
第三步 将slicalite-2分子筛前驱体过滤,洗涤至中性、100℃干燥后,在马弗炉中以1℃/min升温至550℃焙烧3小时,获得平均粒径小于100nm的椭球状slicalite-2分子筛。
实施例2:
第一步 干胶的制备,按摩尔比硅源中的SiO2∶有机碱模板剂∶H2O为 1∶0.25∶25,所述的硅源为正硅酸乙酯,所述的有机模板剂为四丁基氢氧化铵。将正硅酸乙酯(TEOS)在四丁基氢氧化铵溶液中水解,然后加入计量的水,形成均匀凝胶,老化6天,于80℃水浴蒸干凝胶,得干胶;
第二步将第一步制备的干胶转入带有水套隔层的晶化釜中,按照重量比水∶干胶为4:1,然后密封晶化釜,对釜内的干胶进行晶化处理,晶化温度为150℃,晶化时间为72小时,可得slicalite-2分子筛前驱体;
第三步 将slicalite-2分子筛前驱体过滤,洗涤至中性、100℃干燥,在马弗炉中以1℃/min升温至550℃焙烧3小时,获得平均粒径小于100nm的椭球状slicalite-2分子筛。
使用日本电子公司JSM-6700F冷场发射扫描电子显微镜对上述实施例1制得的样品进行晶粒形貌、颗粒大小的检测分析。采用德国Bruker公司D8 Advance X射线衍射仪分析上述实施例1制得的样品的晶体结构。使用美国热电公司Nicolet5700型红外光谱仪分析上述实施例1制得的样品的红外光谱,检测结果及分析如下:
从附图1所示纳米slicalite-2分子筛X射线衍射分析图片中,可以看出6.6°、8.8°、15°、23°、24°、30°、45°左右处出现的特征峰,特别是6.6°、8.8°、23°、24°处是典型的MEL分子筛的特征峰。23°、24°处峰较宽,可初步判断合成的slicalite-2分子筛粒径较小;
从附图2所示纳米slicalite-2分子筛场发射电镜照片中,可清晰地看出, 合成的slicalite-2分子筛呈较规则的蚕茧状,类椭球状,粒径均小于100nm;
从附图3所示纳米slicalite-2分子筛红外光谱基本保持了MEL结构分子筛谱图的特征,约1109.5和807.4 cm-1处为内部Si-O四面体单位的反对称和对称伸缩振动,457.4 cm-1附近为Si-O键的弯曲振动,1229.2 cm-1处为分子筛外部连接的振动,是由Si-O键反对称伸缩振动引起的,551.5 cm-1处是分子筛骨架的次级结构单元的特征振动带。960 cm-1附近的峰由具有多羟基的表面[SiO4]单元不对称伸缩振动引起,归属于与SiO4四面体的Si原子直接相连的末端羟基。在红外谱图中的550 cm-1和460 cm-1处的吸收峰强度之比I550/I460可用来计算沸石的结晶度。本发明合成的纳米slicalite-2分子筛的I550/I460>0.7,说明样品的结晶度接近100%。
Claims (6)
1.一种干胶法合成纳米slicalite-2分子筛的方法,其特征在于包括如下步骤:
第一步:干胶的制备
按摩尔比硅源中的SiO2∶有机碱模板剂∶H2O为 1∶0.05~0.45∶25,将硅源在有机碱模板剂中水解,然后加入水,形成均匀凝胶,老化5~10天,于80℃水浴蒸干凝胶,得干胶,所述的硅源为正硅酸乙酯,所述的有机模板剂为四丁基氢氧化铵;
第二步:晶化
将第一步制备的干胶转入带有水套隔层的晶化釜中,按照重量比水∶干胶为1~5.2:1,然后密封晶化釜,对釜内的干胶进行晶化处理,晶化温度为130~180℃,晶化时间为24~96小时,最后经常规的过滤、洗涤、干燥和焙烧,获得平均粒径小于100nm的椭球状slicalite-2分子筛。
2.根据权利要求1所述的干胶法合成纳米slicalite-2分子筛的方法,其特征在于:所述第一步中硅源中的SiO2∶有机碱模板剂∶H2O摩尔比的优化值为 1∶0.35∶25。
3.根据权利要求1所述的干胶法合成纳米slicalite-2分子筛的方法,其特征在于:所述第一步中老化时间的优化值为8天。
4.根据权利要求1所述的干胶法合成纳米slicalite-2分子筛的方法,其特征在于:所述第二步中水∶干胶重量比的优化值为2.6:1。
5.根据权利要求1所述的干胶法合成纳米slicalite-2分子筛的方法,其特征在于:所述第二步中晶化温度和时间的优化值分别为150~170℃和48~72小时。
6.一种根据权利要求1所述干胶法合成的纳米slicalite-2分子筛产品。
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