CN103728837B - 感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法 - Google Patents

感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN103728837B
CN103728837B CN201310744287.4A CN201310744287A CN103728837B CN 103728837 B CN103728837 B CN 103728837B CN 201310744287 A CN201310744287 A CN 201310744287A CN 103728837 B CN103728837 B CN 103728837B
Authority
CN
China
Prior art keywords
resin composition
quantum dot
photosensitve resin
ether
methyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201310744287.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103728837A (zh
Inventor
谷敬霞
舒适
张锋
惠官宝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201310744287.4A priority Critical patent/CN103728837B/zh
Publication of CN103728837A publication Critical patent/CN103728837A/zh
Priority to PCT/CN2014/080493 priority patent/WO2015100968A1/zh
Priority to US14/437,047 priority patent/US10108089B2/en
Application granted granted Critical
Publication of CN103728837B publication Critical patent/CN103728837B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0048Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means

Abstract

本发明公开了一种感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法。感光树脂组合物,包括分散在其中的具有修饰层的量子点。用感光树脂组合物制备量子点图案的方法包括以该感光树脂组合物作为光刻胶,通过涂覆、曝光、显影得到量子点图案。本发明的用感光树脂组合物制备量子点图案的方法具有制备工艺简单,图形精细,与基板结合稳定,不易脱落,分辨率高等优点,并且基于现有的设备,可实现量产,大大提高了量子点的应用潜力。

Description

感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法
技术领域
本发明涉及一种感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法。
背景技术
量子点(quantum dots),又称半导体纳米晶体,是一种新型的半导体纳米材料,尺寸在1-10nm。由于量子尺寸效应和介电限域效应使它们具有独特的光致发光(EL)和电致发光(PL)性能。与传统的有机荧光染料相比,量子点具有量子产率高,光化学稳定性高,不易光解,以及宽激发、窄发射,高色纯度,发光颜色可通过控制量子点大小进行调节等优良的光学特性。因此量子点在显示、照明、太阳能电池、生物标记等领域的应用已经成为全世界研究的热点。
在显示领域,量子点(作为EL和PL)具有高色域值、高亮度、低能耗(高量子效率)等优点。然而量子点的图案化方法是目前急需解决的难点之一。目前形成阵列量子点薄膜的方法主要有印刷法:转移印刷和微接触印刷。印刷法制备量子点薄膜存在的主要问题有:量子点容易脱落;模板图案不能精确转移到基板;分辨率低,尺寸在100μm级;印墨的扩散容易引起图形变宽;难以实现大规模生产等。
发明内容
本发明的目的是提供一种感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法。
本发明所提供的感光树脂组合物,包括分散在其中的具有修饰层的量子点
其中,所述修饰层为有机配体修饰层、无机物修饰层或聚合物修饰层。
所述有机配体为长烷基链烷烃、二硫代氨基甲酸类或者多官能团巯基小分子。
所述无机物为二氧化硅或柠檬酸钠。
所述聚合物为聚苯乙烯、聚丙烯酸或聚乙二醇。
所述感光树脂组合物,包括:
所述含乙烯基不饱和双键的感光性树脂或单体选自如下至少两种:1,6-己二醇双丙烯酸酯、二缩丙二醇双丙烯酸酯、三缩丙二醇双丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二缩三羟甲基丙烷四丙烯酸酯和双季戊四醇五丙烯酸酯。
所述碱可溶性树脂为芳香酸(甲基)丙烯酸半酯或苯乙烯与马来酸酐共聚物。所述量子点为红色量子点、黄色量子点、橙色量子点、绿色量子点、蓝色量子点或者它们的混合物。
所述光起始剂选自如下至少一种:苯甲酰、苯甲酰基甲醚、苯甲酰基乙醚、苯甲酰基异丙醚、苯甲酰基异丁醚、2,4,6-三甲基苯甲酰二苯膦氧化物、2,2’-二(o-氯苯)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2-乙基蒽醌、联苯酰、莰醌、苯基乙醛酸甲酯(methyl benzoylformate)、4-羟基苯二甲基锍p-甲苯磺酸盐、三苯锍六氟锑酸盐、二苯碘鎓六氟锑酸盐、苯甲酰甲苯磺酸酯、2-羟基-2-甲基-1-苯丙基-1-酮、二乙氧基乙酰苯酚、2-甲基-2-吗啉代-1-(4-甲基苯硫基)、2-羟基-2-甲基-1-[4-(甲基乙稀)苯基]丙基-1-酮、2,4-二(三氯甲烷基)-6-(四-甲氧基苯)-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-胡椒基1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲烷)-6-[2-(5-甲基呋喃)-乙烯基]-1、3,5三嗪、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮。
所述溶剂选自如下至少一种:甲酸、乙酸、氯仿、丙酮、丁酮、脂肪醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇二乙醚乙酸乙酯、甲乙酮、甲基异丁基酮、单甲基醚乙二醇酯、γ-丁内酯、丙酸-3-乙醚乙酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇醋酸酯、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚醋酸酯、环己烷、二甲苯和和异丙醇。
所述助剂为分散剂或流平剂。
本发明所提供的用感光树脂组合物制备量子点图案的方法,包括将上述感光树脂组合物作为光刻胶,通过涂覆、曝光、显影,得到量子点图案。
本发明的感光树脂组合物作为光刻胶通过涂覆、曝光、显影,得到量子点图案。该方法具有制备工艺简单,图形精细,与基板结合稳定,不易脱落,分辨率高等优点,并且基于现有的设备,可实现量产,大大提高了量子点的应用潜力。
附图说明
图1表示涂覆有本发明的感光树脂组合物的玻璃基板;
图2表示对图1所示的基板进行曝光;
图3表示对图2所示的基板进行显影除去未曝光部分得到的量子点图案。
图4表示实施例1的感光树脂组合物作为光刻胶形成的量子点图案的照片。
图5表示实施例1的感光树脂组合物的百格刀测试结果的照片。
具体实施方式
本发明的感光树脂组合物,包括分散在其中的具有修饰层的量子点。
“量子点”是指在纳米尺度上的原子和分子的集合体,既可由一种半导体材料组成,如由II-VI族元素(如由II族元素Zn、Cd、Hg和Ⅵ族元素S、Se、Te所形成的化合物半导体材料,其表示式为A(II)B(VI),例如,ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、HgS、HgSe或HgTe)或III-V族元素(如由III族的B、Al、Ga、In和V族的N、P,As、Sb形成的化合物,其表示式为C(III)D(V),例如BN、BP、Bas、BSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InAs、InN、InP或InSb)组成,也可以由两种或两种以上的半导体材料组成。
所述修饰层为有机配体修饰层、无机物修饰层或聚合物修饰层,所述修饰层用于稳定量子点。
所述有机配体为长烷基链烷烃,例如十八烯胺(oleyl amine),十八烯酸(oleic acid),三辛基氧化膦(TOPO),三辛基膦(TOP),十二胺(DDA),十八碳烯(ODE),十六胺(HAD)”;二硫代氨基甲酸类(DTC),例如脯氨酸二硫代氨基甲酸钠盐(ProDTC)”;或者多官能团巯基小分子,例如巯基乙醇、巯基乙酸、巯基乙胺、谷胱甘肽、半胱氨酸、L-半胱氨酸盐,3-巯基-1,2-丙二醇;
所述无机物为二氧化硅或柠檬酸钠等。
所述聚合物为聚苯乙烯(PSt)、聚丙烯酸(PAA)、聚乙二醇(PEG)等。
详细的,具有修饰层的量子点均可以通过商业途径购买,例如可以为:
表面配体为TOPO(三正辛基氧化膦)和HAD(1-十六胺)的CdSe/ZnS,可购自武汉珈源量子点公司,其中蓝色量子点为Q1515、Q1545,绿色为Q1565、Q1585,红色为:Q1605、Q1625。
表面配体为Oleyl Amine(油胺)的CdSe/ZnS量子点,可购自美国大洋纳米科技公司(Ocean Nanotech),其中蓝色量子点为QSP-460-05,绿色量子点为QSP-580-05,红色量子点为QSP-620-05。
表面配体为羧基-COOH的CdSe/ZnS量子点,可购自武汉珈源量子点公司,其中蓝绿色量子点采用Q2525和Q2565,红色量子点采用Q2625;
本发明中,所述感光树脂组合物,包括:
所述含乙烯基不饱和双键的感光性树脂或单体选自如下至少两种:1,6-己二醇双丙烯酸酯、二缩丙二醇双丙烯酸酯、三缩丙二醇双丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二缩三羟甲基丙烷四丙烯酸酯和双季戊四醇五丙烯酸酯。
所述碱可溶性树脂为芳香酸(甲基)丙烯酸半酯或苯乙烯与马来酸酐共聚物。所述量子点为红色量子点、黄色量子点、橙色量子点、绿色量子点、蓝色量子点或者它们的混合物。
所述光起始剂选自如下至少一种:苯甲酰、苯甲酰基甲醚、苯甲酰基乙醚、苯甲酰基异丙醚、苯甲酰基异丁醚、2,4,6-三甲基苯甲酰二苯膦氧化物、2,2’-二(o-氯苯)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2-乙基蒽醌、联苯酰、莰醌、苯基乙醛酸甲酯(methyl benzoylformate)、4-羟基苯二甲基锍p-甲苯磺酸盐、三苯锍六氟锑酸盐、二苯碘鎓六氟锑酸盐、苯甲酰甲苯磺酸酯、2-羟基-2-甲基-1-苯丙基-1-酮、二乙氧基乙酰苯酚、2-甲基-2-吗啉代-1-(4-甲基苯硫基)、2-羟基-2-甲基-1-[4-(甲基乙稀)苯基]丙基-1-酮、2,4-二(三氯甲烷基)-6-(四-甲氧基苯)-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-胡椒基1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲烷)-6-[2-(5-甲基呋喃)-乙烯基]-1、3,5三嗪、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮。
所述溶剂选自如下至少一种:甲酸、乙酸、氯仿、丙酮、丁酮、脂肪醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇二乙醚乙酸乙酯、甲乙酮、甲基异丁基酮、单甲基醚乙二醇酯、γ-丁内酯、丙酸-3-乙醚乙酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇醋酸酯、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚醋酸酯、环己烷、二甲苯和和异丙醇。
所述助剂为分散剂或流平剂。
本发明所提供的量子点的图案化方法,包括以感光树脂组合物作为光刻胶,通过涂覆、曝光、显影,得到量子点图案。
实施例1
将20%重量百分比的碱可溶树脂SB400,10%重量百分比的含乙烯基不饱和双键的感光性树脂或单体(商品名:SR494),15%重量百分比的量子点,2%重量百分比的光起始剂(商品名:CIBA369),0.1%重量份的硅烷偶联剂(商品名:KH550),0.1%重量份的分散剂(商品名:DisperBYK160),作为助剂,52.8%重量份的溶剂丙二醇甲醚醋酸酯混合均匀得到感光树脂组合物。
实施例2
将45%重量百分比的碱可溶树脂SB400,0.5%重量百分比的含乙烯基不饱和双键的感光性树脂或单体(商品名:SR494),4%重量百分比的量子点,0.1%重量百分比的光起始剂(商品名:CIBA369),7%重量份的硅烷偶联剂(商品名:KH560),1%重量份的分散剂(商品名:DisperBYK2000),作为助剂,42.4%重量份的溶剂丙二醇甲醚醋酸酯,混合均匀得到感光树脂组合物。
实施例3
将5%重量百分比的碱可溶树脂SB401,18%重量百分比的含乙烯基不饱和双键的感光性树脂或单体(商品名:SR295),3%重量百分比的量子点,3%重量百分比的光起始剂(商品名:CIBA369),6%重量份的硅烷偶联剂(商品名:KH570),0.6%重量份的流平剂(商品名:EB350),64.4%重量份的溶剂丙二醇甲醚醋酸酯混合均匀得到感光树脂组合物。
性能测试:
将实施例1-3的感光树脂组合物作为光刻胶形成量子点的图案。
将感光树脂组合物涂覆到玻璃基板1表面,如图1所示;使用具有一定图案的掩膜版对涂覆后的基板进行曝光,如图2所示;对曝光后的基板进行显影除去未曝光部分,得到量子点图案,如图3所示。
由实施例1-3的感光树脂组合物作为光刻胶形成的量子点图案图形精细。图4给出了实施例1的感光树脂组合物作为光刻胶形成的量子点图案的照片,其中线宽可以达到10μm。
通过百格刀测试测定实施例1-3的感光树脂组合物与基板的结合稳定性。
百格刀测试是用百格刀均匀划出一定规格尺寸的方格,通过评定方格内涂膜的完整程度来评定涂膜对基材附着程度,以“级”表示。其中,切口的边缘完全光滑,格子边缘没有任何剥落为ASTM等级5级。
实施例1-3的感光树脂组合物形成的量子点图案与基板的附着力都为ASTM等级5级。如图5给出了实施例1的感光树脂组合物的百格刀测试结果的照片。
百格刀测试结果说明实施例1-3的感光树脂组合物形成的量子点图案与基板结合稳定,不易脱落。
实施例1-3的感光树脂组合物形成的量子点图案还具有优良的耐化学性,在N-甲基吡咯烷酮(NMP)、异丙醇(IPA)、四甲基氢氧化氨(TMAH)和丙酮中25℃下浸泡30min图案保持完整。
以上实施方式仅用于说明本发明,而并非对本发明的限制,有关技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围的情况下,还可以做出各种变化和变型,因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴,本发明的专利保护范围应由权利要求限定。

Claims (11)

1.一种感光树脂组合物,其特征在于,包括分散在其中的具有修饰层的量子点,具体包括:
2.根据权利要求1所述的感光树脂组合物,其特征在于:所述修饰层为无机物修饰层或聚合物修饰层。
3.根据权利要求2所述的感光树脂组合物,其特征在于,所述无机物为二氧化硅或柠檬酸钠。
4.根据权利要求2所述的感光树脂组合物,其特征在于,所述聚合物为聚苯乙烯、聚丙烯酸或聚乙二醇。
5.根据权利要求1或2所述的感光树脂组合物,其特征在于,所述含乙烯基不饱和双键的感光性树脂或单体选自如下至少两种:1,6-己二醇双丙烯酸酯、二缩丙二醇双丙烯酸酯、三缩丙二醇双丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二缩三羟甲基丙烷四丙烯酸酯和双季戊四醇五丙烯酸酯。
6.根据权利要求1或2所述的感光树脂组合物,其特征在于,所述碱可溶性树脂为芳香酸(甲基)丙烯酸半酯或苯乙烯与马来酸酐共聚物。
7.根据权利要求1或2所述的感光树脂组合物,其特征在于,所述光起始剂选自如下至少一种:苯甲酰、苯甲酰基甲醚、苯甲酰基乙醚、苯甲酰基异丙醚、苯甲酰基异丁醚、2,4,6-三甲基苯甲酰二苯膦氧化物、2,2’-二(o-氯苯)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-联咪唑、2-乙基蒽醌、联苯酰、莰醌、苯基乙醛酸甲酯、4-羟基苯二甲基锍p-甲苯磺酸盐、三苯锍六氟锑酸盐、二苯碘鎓六氟锑酸盐、苯甲酰甲苯磺酸酯、2-羟基-2-甲基-1-苯丙基-1-酮、二乙氧基乙酰苯酚、2-甲基-2-吗啉代-1-(4-甲基苯硫基)、2-羟基-2-甲基-1-[4-(甲基乙稀)苯基]丙基-1-酮、2,4-二(三氯甲烷基)-6-(四-甲氧基苯)-1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲基)-6-胡椒基1,3,5-三嗪、2,4-二(三氯甲烷)-6-[2-(5-甲基呋喃)-乙烯基]-1、3,5三嗪、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮。
8.根据权利要求1或2所述的感光树脂组合物,其特征在于,所述溶剂选自如下至少一种:甲酸、乙酸、氯仿、丙酮、丁酮、脂肪醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇二乙醚乙酸乙酯、甲乙酮、甲基异丁基酮、单甲基醚乙二醇酯、γ-丁内酯、丙酸-3-乙醚乙酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇醋酸酯、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚醋酸酯、环己烷、二甲苯和异丙醇。
9.根据权利要求1或2所述的感光树脂组合物,其特征在于,所述助剂为分散剂或流平剂。
10.根据权利要求1或2所述的感光树脂组合物,其特征在于,所述量子点为红色量子点、黄色量子点、橙色量子点、绿色量子点、蓝色量子点或者它们的混合物。
11.一种用感光树脂组合物制备量子点图案的方法,包括以权利要求1-10中任一所述的感光树脂组合物作为光刻胶,通过涂覆、曝光、显影得到量子点图案。
CN201310744287.4A 2013-12-30 2013-12-30 感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法 Active CN103728837B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310744287.4A CN103728837B (zh) 2013-12-30 2013-12-30 感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法
PCT/CN2014/080493 WO2015100968A1 (zh) 2013-12-30 2014-06-23 感光性树脂组合物及使用其制备量子点图案的方法
US14/437,047 US10108089B2 (en) 2013-12-30 2014-06-23 Photosensitive resin composition and method for forming quantum dot pattern using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310744287.4A CN103728837B (zh) 2013-12-30 2013-12-30 感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103728837A CN103728837A (zh) 2014-04-16
CN103728837B true CN103728837B (zh) 2016-08-31

Family

ID=50452968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310744287.4A Active CN103728837B (zh) 2013-12-30 2013-12-30 感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10108089B2 (zh)
CN (1) CN103728837B (zh)
WO (1) WO2015100968A1 (zh)

Families Citing this family (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103728837B (zh) 2013-12-30 2016-08-31 京东方科技集团股份有限公司 感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法
JP2016000803A (ja) * 2014-05-19 2016-01-07 富士フイルム株式会社 量子ドット含有重合性組成物、波長変換部材、バックライトユニット、液晶表示装置、および波長変換部材の製造方法
CN106795228B (zh) * 2014-09-05 2019-08-30 住友化学株式会社 固化性组合物
KR101879016B1 (ko) * 2014-11-21 2018-07-16 동우 화인켐 주식회사 자발광 감광성 수지 조성물, 이로부터 제조된 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 화상표시장치
CN104330918A (zh) * 2014-11-28 2015-02-04 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板和显示装置
US9835944B2 (en) 2014-12-10 2017-12-05 Goo Chemical Co., Ltd. Liquid solder resist composition and covered-printed wiring board
CN104516039B (zh) * 2014-12-23 2018-04-27 深圳市华星光电技术有限公司 量子点彩色滤光片的制作方法及液晶显示装置
CN107431111A (zh) 2014-12-26 2017-12-01 Ns材料株式会社 波长转换构件及其制造方法
KR20160097445A (ko) * 2015-02-06 2016-08-18 삼성디스플레이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 표시 패널
KR101995930B1 (ko) * 2015-02-25 2019-07-03 동우 화인켐 주식회사 양자점을 포함하는 경화 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치
KR102052101B1 (ko) * 2015-02-25 2019-12-04 동우 화인켐 주식회사 자발광 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치
WO2016134820A1 (en) * 2015-02-27 2016-09-01 Merck Patent Gmbh A photosensitive composition and color converting film
KR102206910B1 (ko) * 2015-03-05 2021-01-25 동우 화인켐 주식회사 자발광 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 화상표시장치
CN105098002B (zh) 2015-06-16 2018-04-03 京东方科技集团股份有限公司 一种光刻胶、量子点层图案化的方法及qled、量子点彩膜和显示装置
WO2016201823A1 (zh) * 2015-06-16 2016-12-22 京东方科技集团股份有限公司 亲水光刻胶、量子点层图案化的方法及量子点发光二极管
CN105062462A (zh) * 2015-07-13 2015-11-18 京东方科技集团股份有限公司 发光复合物、发光材料、显示用基板及制备方法、显示装置
KR101811103B1 (ko) * 2015-08-11 2018-01-25 동우 화인켐 주식회사 자발광 감광성 수지 조성물, 이로부터 제조된 컬러필터 및 상기 컬러필터를 구비한 화상표시장치
EP3147708B1 (en) * 2015-08-21 2018-11-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Photosensitive compositions, preparation methods thereof and quantum dot polymer composite prepared therefrom
EP3564750B1 (en) * 2015-08-21 2021-05-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Photosensitive compositions, preparation methods thereof, and quantum dot polymer composite prepared therefrom
US10983432B2 (en) 2015-08-24 2021-04-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Photosensitive compositions, preparation methods thereof, quantum dot polymer composite prepared therefrom
KR102581926B1 (ko) * 2015-08-24 2023-09-22 삼성전자주식회사 감광성 조성물, 이를 제조하기 위한 방법, 및 이로부터 제조된 양자점-폴리머 복합체 패턴
KR102583352B1 (ko) 2015-09-29 2023-09-26 메르크 파텐트 게엠베하 감광성 조성물 및 색 변환 필름
KR20170043084A (ko) * 2015-10-12 2017-04-20 동우 화인켐 주식회사 자발광 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 표시장치
CN106569389B (zh) * 2015-10-12 2021-07-16 东友精细化工有限公司 自发光感光树脂组合物、滤色器和包括滤色器的显示设备
US10246634B2 (en) * 2015-10-26 2019-04-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Quantum dot having polymeric outer layer, photosensitive compositions including the same, and quantum dot polymer composite pattern produced therefrom
CN105319765B (zh) * 2015-11-16 2018-08-14 深圳市华星光电技术有限公司 量子点显示面板的制作方法
KR102527764B1 (ko) * 2015-12-17 2023-05-02 삼성전자주식회사 감광성 조성물, 이를 제조하기 위한 방법, 및 이로부터 제조된 양자점-폴리머 복합체 패턴
CN105425540B (zh) * 2016-01-04 2019-11-05 京东方科技集团股份有限公司 量子点膜及其制备方法、量子点膜的图案化方法及显示器
KR102333141B1 (ko) * 2016-02-22 2021-11-30 삼성디스플레이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 사용하여 제조된 색변환층을 포함하는 표시 장치
KR20170101005A (ko) * 2016-02-26 2017-09-05 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR102601102B1 (ko) 2016-08-09 2023-11-10 삼성전자주식회사 조성물, 이로부터 제조된 양자점-폴리머 복합체 및 이를 포함하는 소자
CN106324992B (zh) * 2016-08-23 2019-09-13 杭州福斯特应用材料股份有限公司 一种感光树脂组合物
KR102497282B1 (ko) * 2016-09-13 2023-02-08 삼성디스플레이 주식회사 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 컬러 필터
KR20180042508A (ko) 2016-10-17 2018-04-26 삼성디스플레이 주식회사 색변환 패널 및 이를 포함하는 표시 장치
US11034884B2 (en) * 2016-10-19 2021-06-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Quantum dot-polymer composite film, method of manufacturing the same, and device including the same
KR101840347B1 (ko) * 2016-10-26 2018-03-20 동우 화인켐 주식회사 자발광 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치
KR102511820B1 (ko) * 2016-11-15 2023-03-17 동우 화인켐 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
CN108110144B (zh) * 2016-11-25 2021-11-26 三星电子株式会社 包括量子点的发光器件和显示器件
KR101976659B1 (ko) * 2016-12-12 2019-05-09 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR20180073502A (ko) * 2016-12-21 2018-07-02 삼성전자주식회사 적층 구조물, 그의 제조방법, 및 이를 포함하는 액정 표시장치
CN106597813B (zh) * 2016-12-22 2018-08-14 深圳市华星光电技术有限公司 量子点发光层图案化的方法、量子点彩膜及显示装置
JP7152854B2 (ja) * 2016-12-28 2022-10-13 東京応化工業株式会社 ケイ素含有樹脂組成物、ケイ素含有樹脂フィルム、シリカフィルム、発光表示素子パネル、及び発光表示装置
WO2018123821A1 (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 Dic株式会社 分散体及びそれを用いたインクジェット用インク組成物、光変換層、及び液晶表示素子
KR102317627B1 (ko) * 2016-12-28 2021-10-26 디아이씨 가부시끼가이샤 잉크 조성물, 광변환층 및 컬러 필터
KR102554285B1 (ko) * 2017-02-03 2023-07-10 동우 화인켐 주식회사 양자점 분산액, 자발광 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치
JP6630754B2 (ja) * 2017-02-16 2020-01-15 住友化学株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化膜及び表示装置
US11268023B2 (en) * 2017-03-13 2022-03-08 Sumitomo Chemical Company, Limited Mixture containing perovskite compound
JP7011055B2 (ja) * 2017-10-27 2022-01-26 サムスン エスディアイ カンパニー,リミテッド 量子ドット含有組成物、量子ドット製造方法およびカラーフィルタ
US11926750B2 (en) 2017-11-10 2024-03-12 Dic Corporation Ink composition and method for producing the same, light conversion layer, and color filter
CN109976089B (zh) * 2017-12-27 2021-01-12 Tcl科技集团股份有限公司 一种量子点光刻胶及其制备方法、量子点彩膜的制备方法
CN109988338B (zh) * 2017-12-29 2021-03-12 深圳Tcl工业研究院有限公司 纳米复合材料及其制备方法和应用
KR20200006652A (ko) * 2018-07-10 2020-01-21 삼성디스플레이 주식회사 잉크조성물, 그 제조 방법, 및 이를 이용한 양자점-폴리머 복합체 패턴 제조방법
US11152536B2 (en) 2018-09-17 2021-10-19 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Photoresist contact patterning of quantum dot films
CN109343267B (zh) * 2018-11-30 2021-02-26 武汉华星光电技术有限公司 量子点彩膜基板及其制备方法
KR102419673B1 (ko) * 2019-01-21 2022-07-08 삼성에스디아이 주식회사 양자점, 이를 포함하는 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터, 디스플레이 장치 및 상기 경화막의 제조방법
KR102296792B1 (ko) 2019-02-01 2021-08-31 삼성에스디아이 주식회사 무용매형 경화성 조성물, 이를 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터, 디스플레이 장치 및 상기 경화막의 제조방법
DE202019101134U1 (de) * 2019-02-27 2020-05-28 Schwan-Stabilo Cosmetics Gmbh & Co. Kg Wässrige pigmentierte Tinte
KR102360987B1 (ko) 2019-04-24 2022-02-08 삼성에스디아이 주식회사 양자점 함유 경화성 조성물, 이를 이용한 수지막 및 디스플레이 장치
KR20200135688A (ko) 2019-05-24 2020-12-03 삼성디스플레이 주식회사 양자점-폴리머 복합체 패턴, 그 제조방법, 및 이를 포함하는 전자 소자
KR102504790B1 (ko) 2019-07-26 2023-02-27 삼성에스디아이 주식회사 양자점, 이를 포함하는 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터, 디스플레이 장치
CN113943410B (zh) * 2020-07-17 2024-02-06 Tcl科技集团股份有限公司 量子点薄膜及其制备方法和量子点发光二极管
WO2022222049A1 (zh) * 2021-04-20 2022-10-27 京东方科技集团股份有限公司 量子点图案、量子点发光器件、显示装置及制作方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1688938A (zh) * 2002-10-02 2005-10-26 3M创新有限公司 多光子光敏化体系
CN101512754B (zh) * 2006-07-28 2011-12-28 奈米系统股份有限公司 用来形成纳米结构单层的方法和器件,以及包括该单层的器件
US20120135235A1 (en) * 2006-10-25 2012-05-31 Massachusetts Institute Of Technology Lock-Release Polymerization

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7323275B2 (en) * 2001-02-09 2008-01-29 Dai Nippon Printing Co., Ltd Photosensitive composition for volume hologram recording and photosensitive medium for volume hologram recording
WO2003010602A1 (en) * 2001-07-26 2003-02-06 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photosensitive resin composition
US7015256B2 (en) * 2002-01-28 2006-03-21 Jsr Corporation Composition for forming photosensitive dielectric material, and transfer film, dielectric material and electronic parts using the same
JP4036440B2 (ja) * 2002-03-29 2008-01-23 東洋合成工業株式会社 新規な感光性化合物及び感光性樹脂並びに感光性組成物
WO2006129665A1 (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Sekisui Chemical Co., Ltd. カラムスペーサ用硬化性樹脂組成物、カラムスペーサ及び液晶表示素子
JP5097410B2 (ja) * 2006-04-04 2012-12-12 株式会社リコー 画像形成装置及び画像形成方法
EP2210616A1 (en) * 2009-01-21 2010-07-28 Centre National de la Recherche Scientifique Multifunctional stealth nanoparticles for biomedical use
US8808948B2 (en) * 2009-02-19 2014-08-19 Fujifilm Corporation Dispersion composition, photosensitive resin composition for light-shielding color filter, light-shielding color filter, method of producing the same, and solid-state image sensor having the color filter
US9482726B2 (en) * 2010-03-03 2016-11-01 Snu R&Db Foundation Fabricating method of magnetic axis controlled structure
CN102559191A (zh) * 2010-12-27 2012-07-11 中国科学院深圳先进技术研究院 多元量子点及其水相合成方法
US8632858B2 (en) * 2011-02-14 2014-01-21 Eastman Kodak Company Methods of photocuring and imaging
KR20130015847A (ko) * 2011-08-05 2013-02-14 삼성전자주식회사 발광장치, 백라이트 유닛과 디스플레이 장치 및 그 제조방법
US20130105440A1 (en) * 2011-11-01 2013-05-02 Az Electronic Materials Usa Corp. Nanocomposite negative photosensitive composition and use thereof
KR102223504B1 (ko) * 2013-09-25 2021-03-04 삼성전자주식회사 양자점-수지 나노복합체 및 그 제조 방법
CN103728837B (zh) 2013-12-30 2016-08-31 京东方科技集团股份有限公司 感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1688938A (zh) * 2002-10-02 2005-10-26 3M创新有限公司 多光子光敏化体系
CN101512754B (zh) * 2006-07-28 2011-12-28 奈米系统股份有限公司 用来形成纳米结构单层的方法和器件,以及包括该单层的器件
US20120135235A1 (en) * 2006-10-25 2012-05-31 Massachusetts Institute Of Technology Lock-Release Polymerization

Also Published As

Publication number Publication date
US10108089B2 (en) 2018-10-23
US20160011506A1 (en) 2016-01-14
WO2015100968A1 (zh) 2015-07-09
CN103728837A (zh) 2014-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103728837B (zh) 感光树脂组合物及用感光树脂组合物制备量子点图案的方法
JP6966358B2 (ja) 有機配位子を有する量子ドット及びその用途
CN105629661B (zh) 自发光感光性树脂组合物、彩色滤光器和图像显示装置
KR102638805B1 (ko) 감광성 조성물 및 색 변환 필름
CN105652594B (zh) 自发光感光性树脂组合物、彩色滤光器和图像显示装置
JP6570937B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP7008699B2 (ja) 自発光感光性樹脂組成物、これを利用して製造されたカラーフィルターおよび画像表示装置
EP3385355B1 (en) Methods for fabricating quantum dot polymer films
KR20160028276A (ko) 감광성 수지 조성물
TWI652332B (zh) 自發光感光性樹脂組成物、及使用其製備之彩色濾光片與影像顯示裝置
CN106569389B (zh) 自发光感光树脂组合物、滤色器和包括滤色器的显示设备
TWI680352B (zh) 自發光感光性樹脂組合物、濾色器和圖像顯示裝置
KR102413718B1 (ko) 유기 리간드를 갖는 양자점
WO2017059627A1 (zh) 量子点层图形化的方法及量子点彩膜的制备方法
JP2020506442A (ja) カラーフィルタ、及び画像表示装置
JP2023541808A (ja) マイクロledの色変換層中の量子ドット前駆体材料のためのキレート剤
KR20190034312A (ko) 감광성 조성물, 색 변환 매체, 광학 디바이스 및 그의 제조 방법
JP6793253B2 (ja) 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、及び画像表示装置
KR102396109B1 (ko) 유기 리간드를 갖는 양자점
TWI705297B (zh) 自發光感光樹脂組合物、用其製造的彩色濾光片及圖像顯示裝置
TW201732017A (zh) 自發光感光樹脂組合物、濾色器和包括濾色器的顯示設備
KR20230085156A (ko) 방법
WO2020127188A1 (en) Surface modified semiconducting light emitting nanoparticles and process for preparing such
KR20230017624A (ko) 양자점 조성물, 이로부터 형성된 경화 패턴, 및 이를 포함하는 화상 표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant